JPH0630179B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH0630179B2 JPH0630179B2 JP9687984A JP9687984A JPH0630179B2 JP H0630179 B2 JPH0630179 B2 JP H0630179B2 JP 9687984 A JP9687984 A JP 9687984A JP 9687984 A JP9687984 A JP 9687984A JP H0630179 B2 JPH0630179 B2 JP H0630179B2
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスク等の記録膜を形成する真空蒸着装
置に関するものである。
置に関するものである。
従来例の構成とその問題点 現在、情報記録媒体として録音用テープ，ビデオテー
プ，ビデオディスク等が市販され普及しているが、近
年、レーザ光を用いて記録再生が可能な光ディスクが高
密度情報記録媒体として注目されている。画像，音声の
情報以外にもコンピューターのデータメモリ媒体として
利用が拡大されようとしており記録，再生時にエラーの
ない高品質な光ディスクが要求されており、中でも光デ
ィスクの膜特性をつくりだす薄膜作成方法の代表とされ
る真空蒸着装置が注目されている。
プ，ビデオディスク等が市販され普及しているが、近
年、レーザ光を用いて記録再生が可能な光ディスクが高
密度情報記録媒体として注目されている。画像，音声の
情報以外にもコンピューターのデータメモリ媒体として
利用が拡大されようとしており記録，再生時にエラーの
ない高品質な光ディスクが要求されており、中でも光デ
ィスクの膜特性をつくりだす薄膜作成方法の代表とされ
る真空蒸着装置が注目されている。
以下図面を参照しながら従来の真空蒸着装置について説
明する。第１図は従来の真空蒸着装置の真空蒸着槽内の
簡単な構成図である。第１図において、１は真空槽、２
は被蒸着基材、３は回転軸、４はモーター、５は蒸気、
６ａは規制板、７は規制板６ａで規制された蒸気の付着
膜、８は被蒸着基材２に形成された蒸着膜、９は蒸発
源、１０は通電加熱部、１１は真空ポンプ、１２はリー
クポートである。
明する。第１図は従来の真空蒸着装置の真空蒸着槽内の
簡単な構成図である。第１図において、１は真空槽、２
は被蒸着基材、３は回転軸、４はモーター、５は蒸気、
６ａは規制板、７は規制板６ａで規制された蒸気の付着
膜、８は被蒸着基材２に形成された蒸着膜、９は蒸発
源、１０は通電加熱部、１１は真空ポンプ、１２はリー
クポートである。
以上のように構成された真空蒸着装置についてその蒸着
方法を説明する。一般的に光ディスクの記録膜形成を行
う蒸着作業は膜にピンホール等の欠陥を発生させないた
めクリーン度１０００以下の室で行なわれている。クリ
ーンな状態が確認された真空槽１内にクリーンな被蒸着
基材２及び規制板６ａをセットする。真空槽１内を真空
ポンプ１１で排気し、真空度１０-5〜１０-6Torrに保っ
た状態で通電加熱部１０にセットした蒸発源９を加熱す
ることにより蒸発源９の一部は蒸気５となり飛び出し、
被蒸着基材２に蒸着膜８が形成される。被蒸着基材以外
に飛んだ蒸気は規制板６ａの内壁面に付着積層し付着膜
７を形成する。このように規制板６ａを設けることによ
り真空槽１の内壁全体に蒸気が付着するのを防ぐ。尚、
膜厚分布を均一にするため蒸着中被蒸着基材２はモータ
ー４によって回転している。
方法を説明する。一般的に光ディスクの記録膜形成を行
う蒸着作業は膜にピンホール等の欠陥を発生させないた
めクリーン度１０００以下の室で行なわれている。クリ
ーンな状態が確認された真空槽１内にクリーンな被蒸着
基材２及び規制板６ａをセットする。真空槽１内を真空
ポンプ１１で排気し、真空度１０-5〜１０-6Torrに保っ
た状態で通電加熱部１０にセットした蒸発源９を加熱す
ることにより蒸発源９の一部は蒸気５となり飛び出し、
被蒸着基材２に蒸着膜８が形成される。被蒸着基材以外
に飛んだ蒸気は規制板６ａの内壁面に付着積層し付着膜
７を形成する。このように規制板６ａを設けることによ
り真空槽１の内壁全体に蒸気が付着するのを防ぐ。尚、
膜厚分布を均一にするため蒸着中被蒸着基材２はモータ
ー４によって回転している。
しかしながら、上記のような構成においては規制板６ａ
に積層した付着膜７が蒸着中に剥離し真空槽１内に剥離
片が散らばり被蒸着基材２の蒸着域に付着する。剥離片
が付着した被蒸着基材２に記録膜が蒸着されるとピンホ
ール等になってあらわれるため規制板６ａに積層した付
着膜７が剥離する前にクリーニングされた別の規制板に
取替える必要がある。特に光ディスクの記録膜材料とな
る金属の酸化物等を蒸着した場合、ディスクにして１０
枚程度蒸着すれば剥離しておりその都度真空槽１内の真
空状態を大気圧に戻し規制板６ａを取替えなければなら
ず非能率であり量産性に欠けるという問題点を有してい
た。
に積層した付着膜７が蒸着中に剥離し真空槽１内に剥離
片が散らばり被蒸着基材２の蒸着域に付着する。剥離片
が付着した被蒸着基材２に記録膜が蒸着されるとピンホ
ール等になってあらわれるため規制板６ａに積層した付
着膜７が剥離する前にクリーニングされた別の規制板に
取替える必要がある。特に光ディスクの記録膜材料とな
る金属の酸化物等を蒸着した場合、ディスクにして１０
枚程度蒸着すれば剥離しておりその都度真空槽１内の真
空状態を大気圧に戻し規制板６ａを取替えなければなら
ず非能率であり量産性に欠けるという問題点を有してい
た。
発明の目的 本発明の目的は上記従来の蒸着中に飛ぶ蒸気を規制する
方法の欠点をなくし、真空蒸着装置を長時間稼動しても
真空蒸着槽内を高クリーン度に保ちピンホール等の欠陥
のない蒸着膜を形成出来る真空蒸着装置を提供するもの
である。
方法の欠点をなくし、真空蒸着装置を長時間稼動しても
真空蒸着槽内を高クリーン度に保ちピンホール等の欠陥
のない蒸着膜を形成出来る真空蒸着装置を提供するもの
である。
発明の構成 本発明の真空蒸着装置は、蒸着時に発生する被蒸着基材
以外に飛散する蒸気を帯状シート材で囲み、帯状シート
材で囲まれた面に付着させ帯状シート材を順次巻取るこ
とにより積層した付着膜を連続的に処理するように構成
したものであり、これにより蒸着中に被蒸着物以外に飛
散する蒸気を規制すると共に規制付着させた蒸気を、帯
状シート材を巻取ることにより処理し真空槽内の蒸発物
規制範囲を常にクリーンな帯状シート材で囲むことが出
来るため、帯状シート材に積層した付着膜が蒸着時に剥
離して真空槽内を汚すことはなく、真空槽内を常にクリ
ーン状態で維持でき、ピンホール等の欠陥のない蒸着膜
が得られる。
以外に飛散する蒸気を帯状シート材で囲み、帯状シート
材で囲まれた面に付着させ帯状シート材を順次巻取るこ
とにより積層した付着膜を連続的に処理するように構成
したものであり、これにより蒸着中に被蒸着物以外に飛
散する蒸気を規制すると共に規制付着させた蒸気を、帯
状シート材を巻取ることにより処理し真空槽内の蒸発物
規制範囲を常にクリーンな帯状シート材で囲むことが出
来るため、帯状シート材に積層した付着膜が蒸着時に剥
離して真空槽内を汚すことはなく、真空槽内を常にクリ
ーン状態で維持でき、ピンホール等の欠陥のない蒸着膜
が得られる。
実施例の説明 以下本発明の一実施例について、図面を参照にしながら
説明する。
説明する。
第２図は本発明の一実施例における真空蒸着装置の真空
蒸着槽内の構成図を示すものである。第２図において１
３は真空槽、１４は被蒸着基材、１５は回転軸、１６は
モーター、１７は蒸気、１８は帯状シート材、１９は帯
状シート材１８で規制された蒸気の付着膜、２０は被蒸
着基材１４に形成された蒸着膜、２１は蒸発源、２２は
通電加熱部、２３は真空ポンプ、２４はリークポート、
２５は帯状シート材１８の供給リール、２６は帯状シー
ト材１８の巻取りリール、２７は帯状シート材１８の送
りガイドローラー、２８は遮へい板である。
蒸着槽内の構成図を示すものである。第２図において１
３は真空槽、１４は被蒸着基材、１５は回転軸、１６は
モーター、１７は蒸気、１８は帯状シート材、１９は帯
状シート材１８で規制された蒸気の付着膜、２０は被蒸
着基材１４に形成された蒸着膜、２１は蒸発源、２２は
通電加熱部、２３は真空ポンプ、２４はリークポート、
２５は帯状シート材１８の供給リール、２６は帯状シー
ト材１８の巻取りリール、２７は帯状シート材１８の送
りガイドローラー、２８は遮へい板である。
以上のように構成された本実施例の真空蒸着装置につい
て以下その蒸着方法を説明する。光ディスクの記録膜等
の蒸着はピンホールの発生が重大欠陥となるため蒸着作
業はクリーンルーム内で行なわれている。そのため真空
槽１３内も常にクリーンな状態に管理されている。第２
図においてまずアルミ箔，銅箔等の金属箔またはフィル
ムを使用した帯状シート材１８を供給リール２５にセッ
トし送りガイドローラー２７に添わせて巻取りリール２
６に巻取らせるように準備する。被蒸着基材１４を回転
軸１５にセットした状態で真空槽１３内を真空ポンプ２
３で真空度10-5〜10-6Torr程度まで排気し、蒸発源２１
を通電加熱することにより蒸発源２１の表面から蒸気１
７が放射線状に飛び被蒸着基材１４に蒸着膜２０が形成
される。被蒸着基材１４以外に飛散した蒸気１７は巻取
りリール２６を回転させることにより順次送られてくる
帯状シート材１８に付着膜７として積層する。帯状シー
ト材１８に積層した付着膜１９は帯状シート材１８に付
着したまま巻取りリール２６により巻取られるため真空
槽１３内の蒸気規制範囲には常にクリーンな帯状シート
材１８が配備される。よって蒸着中の真空槽１３内で規
制された付着膜１９が剥離し散ばることがないため真空
槽１３内を連続かつ長時間クリーン状態に維持出来る。
て以下その蒸着方法を説明する。光ディスクの記録膜等
の蒸着はピンホールの発生が重大欠陥となるため蒸着作
業はクリーンルーム内で行なわれている。そのため真空
槽１３内も常にクリーンな状態に管理されている。第２
図においてまずアルミ箔，銅箔等の金属箔またはフィル
ムを使用した帯状シート材１８を供給リール２５にセッ
トし送りガイドローラー２７に添わせて巻取りリール２
６に巻取らせるように準備する。被蒸着基材１４を回転
軸１５にセットした状態で真空槽１３内を真空ポンプ２
３で真空度10-5〜10-6Torr程度まで排気し、蒸発源２１
を通電加熱することにより蒸発源２１の表面から蒸気１
７が放射線状に飛び被蒸着基材１４に蒸着膜２０が形成
される。被蒸着基材１４以外に飛散した蒸気１７は巻取
りリール２６を回転させることにより順次送られてくる
帯状シート材１８に付着膜７として積層する。帯状シー
ト材１８に積層した付着膜１９は帯状シート材１８に付
着したまま巻取りリール２６により巻取られるため真空
槽１３内の蒸気規制範囲には常にクリーンな帯状シート
材１８が配備される。よって蒸着中の真空槽１３内で規
制された付着膜１９が剥離し散ばることがないため真空
槽１３内を連続かつ長時間クリーン状態に維持出来る。
以上のように本実施例によれば蒸着中の蒸気１７は巻取
り可能な帯状シート材１８で規制したことにより、真空
蒸着装置を長時間連続運転しても真空蒸着槽内を高クリ
ーン度に保ちピンホール等の欠陥のない蒸着膜の形成を
実現している。
り可能な帯状シート材１８で規制したことにより、真空
蒸着装置を長時間連続運転しても真空蒸着槽内を高クリ
ーン度に保ちピンホール等の欠陥のない蒸着膜の形成を
実現している。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明は被蒸着物以外
に飛散する蒸気で真空槽の内壁全体を汚さないように設
けられた規制板を巻取り可能な帯状シート材で構成して
いるので飛散した蒸気を巻取りながら連続的に処理する
ことにより、真空槽内を常にクリーンな状態に維持出来
るという優れた効果が得られる。その効果により被蒸着
基材に形成された蒸着膜にピンホール等の欠陥がなくな
り高品質な膜が安定して供給出来る。また連続蒸着装置
においては蒸気の付着した規制板を頻繁に取替える必要
がないため長時間連続的な蒸着が可能となり生産性が向
上するという効果が得られる。
に飛散する蒸気で真空槽の内壁全体を汚さないように設
けられた規制板を巻取り可能な帯状シート材で構成して
いるので飛散した蒸気を巻取りながら連続的に処理する
ことにより、真空槽内を常にクリーンな状態に維持出来
るという優れた効果が得られる。その効果により被蒸着
基材に形成された蒸着膜にピンホール等の欠陥がなくな
り高品質な膜が安定して供給出来る。また連続蒸着装置
においては蒸気の付着した規制板を頻繁に取替える必要
がないため長時間連続的な蒸着が可能となり生産性が向
上するという効果が得られる。
第１図は従来の真空蒸着装置の真空槽内の構成図、第２
図は本発明の一実施例における真空蒸着装置の真空槽内
の構成図である。 １３……真空槽、１４……被蒸着基材、１５……回転
軸、１６……モーター、１７……蒸気、１８……帯状シ
ート材、１９……付着膜、２１……蒸発源、２２……通
電加熱部、２３……真空ポンプ、２５……供給リール、
２６……巻取りリール、２７……ガイドローラー。
図は本発明の一実施例における真空蒸着装置の真空槽内
の構成図である。 １３……真空槽、１４……被蒸着基材、１５……回転
軸、１６……モーター、１７……蒸気、１８……帯状シ
ート材、１９……付着膜、２１……蒸発源、２２……通
電加熱部、２３……真空ポンプ、２５……供給リール、
２６……巻取りリール、２７……ガイドローラー。
Claims (1)
- 【請求項１】被蒸着基材の保持回転部と蒸発源の通電加
熱部とを有する真空槽と、前記真空槽内に設けられた帯
状シート部材を供給する供給部と、前記供給部から供給
される前記帯状シート部材を順次巻取る巻取り部とを有
し、前記被蒸着基材以外に飛散する蒸気を前記帯状シー
ト部材に付着させるように規制して前記蒸気を順次巻取
って処理することを特徴とした真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9687984A JPH0630179B2 (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9687984A JPH0630179B2 (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60239951A JPS60239951A (ja) | 1985-11-28 |
| JPH0630179B2 true JPH0630179B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=14176698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9687984A Expired - Lifetime JPH0630179B2 (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630179B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002038253A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Futaba Corp | 防着板及びこれを用いた真空成膜装置 |
| JP2007126727A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着用防着装置 |
| JP5803488B2 (ja) * | 2011-09-22 | 2015-11-04 | 凸版印刷株式会社 | 原子層堆積法によるフレキシブル基板への成膜方法及び成膜装置 |
-
1984
- 1984-05-15 JP JP9687984A patent/JPH0630179B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60239951A (ja) | 1985-11-28 |
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