JPH06303052A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH06303052A
JPH06303052A JP5089887A JP8988793A JPH06303052A JP H06303052 A JPH06303052 A JP H06303052A JP 5089887 A JP5089887 A JP 5089887A JP 8988793 A JP8988793 A JP 8988793A JP H06303052 A JPH06303052 A JP H06303052A
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    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is DC
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/26Current mirrors
    • G05F3/262Current mirrors using field-effect transistors only

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 低い電源電圧で安定に動作し、基準電流にほ
ぼ等しい出力電流を得ることが可能な半導体集積回路を
提供することを目的とする。 【構成】 トランジスタ10、11は同一特性の横型の
pnpトランジスタである。トランジスタ12はトラン
ジスタ10、11とほぼ同じ面積に形成され、逆トラン
ジスタとして使用される縦型のnpnトランジスタであ
る。電流源13はトランジスタ10、11のベース電
流、およびトランジスタ12のコレクタ電流を供給す
る。その構造上、トランジスタ12はトランジスタ1
0、11に比べてベース面積、電流増幅率を大きくする
ことが可能である。トランジスタ12のエミッタ面積は
大きいので、逆トランジスタとして機能させてもその電
流増幅率は大きい。このトランジスタ12を逆トランジ
スタとして機能させることによりトランジスタ10、1
1のベース電流が基準電流に与える影響を小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は低電圧で動作し、しかも
高精度なカレントミラー動作を行う半導体集積回路に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路において、カレントミラ
ー回路は、従来以下のように実現されていた。以下、第
一の従来例を説明する。図6は、従来のカレントミラー
回路5の回路図である。カレントミラー回路5は、横型
のpnpトランジスタ(Q’1)51、および、トラン
ジスタ51と同じ特性を有する横型のpnpトランジス
タ(Q’2)52から構成され、図に示すように接続さ
れている。尚、55は電流源である。
【0003】カレントミラー回路5においては、図6に
示す各電流について以下の各式が成り立つ。 Iin=Io +2IB ・・・(1) IB =Io /HFE ・・・(2) ただし、Iinは、基準電流、Io は、出力電流、I
B は、トランジスタ51、52のベース電流、HFEは、
トランジスタ51、52の電流増幅率である。
【0004】上記式1、式2を変形すると、基準電流I
inと出力電流Io には、次式で示す関係が成り立つ。 Io =Iin・HFE/(HFE+2) ・・・(3) 式3より、トランジスタ51、52の電流増幅率HFE
充分に大きい場合には次式が成り立つので、ほぼ基準電
流Iinと出力電流Io との値は等しくなる。 HFE/(HFE+2)≒1 ・・・(4)
【0005】以下、第二の従来例を説明する。図7は、
従来のカレントミラー回路6の回路図である。カレント
ミラー回路6は、同一の特性を有する横型のpnpトラ
ンジスタ(Q’1〜Q’3)51〜53から構成され、
これらが図に示すように接続されている。尚、56は電
流源である。
【0006】図7に示す各電流には以下の式が成り立
つ。 Iin=Io +IB2 ・・・(5) IB1=Io /HFE ・・・(6) IB2=2IB1/HFE ・・・(7) ただし、Iinは、基準電流、Io は、出力電流、I
B1は、トランジスタ51、52のベース電流、IB2は、
トランジスタ53のベース電流、HFEは、トランジスタ
51、52の電流増幅率である。
【0007】上記式5〜7を変形すると、カレントミラ
ー回路6の基準電流Iinと出力電流Io には、次式の関
係が成り立つ。 Io =Iin・HFE 2 /(HFE 2 +2) ・・・(8) 式8より、HFEが充分に大きい場合、次式が成り立つの
でほぼ基準電流Iinと出力電流Io との値は等しくな
る。 HFE 2 /(HFE 2 +2)≒1 ・・・(9)
【0008】式9は、式4よりも収束条件がよいので、
同一の電流増幅率HFEのトランジスタで構成した場合、
カレントミラー回路6の出力電流Io はカレントミラー
回路5の出力電流Io よりも、基準電流Iinにより近く
(精度が高く)なる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、半導体集積回
路のpnpトランジスタとしては、上述のように横形の
ものが多く使用されている。この横型のpnpトランジ
スタには、流れる電流が大きい領域での電流増幅率HFE
の低下が著しい(10以下になる)という欠点がある。
【0010】つまり、第一の従来例に示した回路におい
てトランジスタに流す電流が大きくなった場合には、ト
ランジスタの電流増幅率が低下し(HFE<10)、式3
からわかるように出力電流が基準電流よりも10%〜2
0%も小さくなるという問題がある。
【0011】第二の従来例に示す回路は、トランジスタ
の電流増幅率が低い場合でも出力電流を基準電流に等し
くするものであり、基準電流に対して精度の高い出力電
流を得ることが可能である。しかし、電源(VCC)と電
源グラウンド(GND)との間にトランジスタが2個直
列に接続されることとなり、トランジスタのベース・エ
ミッタ間電圧(通常0.6V程度)の2倍以上の電源電
圧が必要となるという問題がある。
【0012】この問題は、例えばニッケル/カドミウム
電池(電圧1.2V)1本を電源とした動作を要求され
る半導体集積回路においては重大な問題である。つま
り、このカレントミラー回路を1.2V程度の電圧で使
用した場合、電源電圧に余裕がないため動作が不安定と
なり、あるいは、少しでも電源電圧が下がると動作しな
くなる可能性があるという問題がある。
【0013】本発明は以上述べた従来技術の問題点に鑑
みてなされたものであり、低い電源電圧で安定に動作
し、基準電流にほぼ等しい出力電流を得ることができ、
しかもその製造プロセスにおける工程を増やすことなく
形成できる半導体集積回路を提供することを目的とす
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の半導体集積回路は、電源印加端子および制御
端子がそれぞれ共通接続された同じ導電性の第一のトラ
ンジスタおよび第二のトランジスタと、前記第一のトラ
ンジスタおよび第二のトランジスタの導電性と逆の導電
性を有し、制御端子が第一のトランジスタの出力端子、
電源印加端子が前記第一のトランジスタおよび第二のト
ランジスタの電源印加端子、出力端子が第一のトランジ
スタおよび第二のトランジスタの制御端子に接続された
第三のトランジスタとを有する。
【0015】また、前記第一のトランジスタおよび第二
のトランジスタはpnp型であり、前記第三のトランジ
スタはnpn型であることを特徴とする。
【0016】また、前記第一のトランジスタおよび第二
のトランジスタは横型構造であり、前記第三のトランジ
スタは縦型構造であることを特徴とする。
【0017】
【作用】縦型のnpnトランジスタをコレクタとエミッ
タを逆に接続して(逆トランジスタとして)使用し、こ
の縦型のnpnトランジスタにより2つの横型のpnp
トランジスタのベース電流と基準電流とを分離して、前
記ベース電流が基準電流に与える影響を少なくする。
【0018】また、縦型のnpnトランジスタのエミッ
タ面積を比較的大きめにすることにより、逆方向の電流
増幅率を大きくして、基準電流と前記ベース電流の分離
効果を高めるとともに、ベース・コレクタ間電圧を横型
のpnpトランジスタのベース・エミッタ間電圧よりも
低く抑え、縦型のpnpトランジスタの動作電圧を確保
している。
【0019】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図1は、
本発明のカレントミラー回路1の回路図である。図1に
おいて、第一のトランジスタ(Q1)10は、横型のp
npトランジスタである。第二のトランジスタ(Q2)
11は、トランジスタ10と同一特性の横型のpnpト
ランジスタである。
【0020】ここで、トランジスタ10、11は、その
コレクタ・エミッタ間電圧が0.1V以上であれば飽和
せずに動作する。なお、必要に応じてトランジスタ10
とトランジスタ11に特性の異なるトランジスタを使用
してもよい。
【0021】第三のトランジスタ(Q3)12は、トラ
ンジスタ10、11とほぼ同じ面積に作られた縦型のn
pnトランジスタである。トランジスタ12は、横型ト
ランジスタであるトランジスタ10、11とほぼ同じ面
積であるため、構造上横型トランジスタのベース・エミ
ッタ接合面積よりもそのベース・コレクタ接合面積が大
きい。よって、トランジスタ12のコレクタ・ベース間
電圧は、トランジスタ10のベース・エミッタ間電圧よ
りも低い値となる。
【0022】電流源13は、トランジスタ10、11の
ベース電流、トランジスタ12のコレクタ電流を供給す
る。カレントミラー回路1の各部分は、図に示すように
接続されており、トランジスタ12はエミッタとコレク
タが本来と逆の状態で(逆トランジスタとして)使用さ
れている。なお、図中に矢印とともに示した記号は、そ
の部分の電流を示している。
【0023】以下、トランジスタ10、11の構造を説
明する。図2(A)は、トランジスタ10、11の構造
を示す断面図である。図2(B)は、トランジスタ1
0、11の構造を示す平面図である。トランジスタ1
0、11は、n型基板に形成された半導体集積回路にお
いて一般的に使用されている横型のpnpトランジスタ
と同じ構造を有する。
【0024】図2(A)において、第一のP+ 領域21
は、低抵抗のp型シリコンの領域であり、トランジスタ
10、11のコレクタとなっている。なお、図2(B)
に示すように、P+ 領域21は、第二のP+ 領域22の
周囲を取り囲むように形成されている。
【0025】第二のP+ 領域22は、低抵抗のp型シリ
コンの領域であり、トランジスタ10、11のエミッタ
となっている。n領域23は、n型シリコンの領域であ
り、トランジスタ10、11のベースとなっている。
【0026】第一のn+ 領域24は、ベース電極取り付
けのために形成された低抵抗のn型シリコンの領域であ
る。第二のn+ 領域25は、埋め込み拡散n+ 領域であ
る。Si02 領域26は、トランジスタ10、11の分
離のために形成された絶縁領域である。
【0027】トランジスタ10、11は、以上述べたよ
うな構造になっており、同一面積の縦型トランジスタに
比べてベース面積が狭くなり、コレクタ・ベース間電圧
を小さくすることができない。
【0028】図3は、トランジスタ12の構造を示す図
である。トランジスタ12は、n形基板に形成された半
導体集積回路において一般的に使用されている縦型のn
pnトランジスタと同じ構造を有する。n領域31は、
n型シリコンの領域であり、トランジスタ12のコレク
タとなっている。
【0029】第一のn+ 領域32は、低抵抗のn型シリ
コンの領域であり、トランジスタ12のエミッタとなっ
ている。p領域33は、p型シリコンの領域であり、ト
ランジスタ12のベースとなっている。なお、p領域3
3は、その一部に低抵抗のp型シリコンの領域を有し、
この部分にベース電極が配設されている。
【0030】第二のn+ 領域34は、コレクタ電極取り
付けのために形成された低抵抗のn型シリコンの領域で
ある。第二のn+ 領域35は、埋め込み拡散n+ 領域で
ある。Si02 領域36は、トランジスタ12の分離の
ために形成された絶縁領域である。
【0031】トランジスタ12は、以上述べたような構
造になっており、同一面積の横型トランジスタに比べて
ベース・コレクタ接合面積が広くなり、逆トランジスタ
として動作させた場合ベース・エミッタ間電圧(VBE
を小さくすることができる。また、コレクタとエミッタ
とを逆に接続して使用しても(逆トランジスタとして使
用しても)、エミッタ面積が大きいので高い電流増幅率
(逆HFE≧30程度)を得ることができる。
【0032】なお、図1に点線で示したように、トラン
ジスタ12には、寄生トランジスタ14が生じる。この
寄生トランジスタ14が動作しないようにするために、
トランジスタ12のベースの周囲、すなわち、p領域3
3の周囲を低抵抗のn+ 型シリコン領域とするとより好
適である。
【0033】以下、カレントミラー回路1の動作を説明
する。図1に示す、カレントミラー回路1において、ト
ランジスタ10が飽和せずに動作する条件は、次式の通
りである。 VBE1 −VBC3 >0.1 ・・・(10) ただし、VBE1 は、トランジスタ10のベース・エミッ
タ間電圧、VBC3 は、トランジスタ12のベース・コレ
クタ間電圧である。
【0034】ここで、電圧VBC3 は、電圧VBE1 よりも
低い電圧であり、カレントミラー回路1は、 VCC>VBE1 ・・・(11) 以上の電源電圧(VCC)で動作可能である。後述するよ
うに、カレントミラー回路1は0.9Vの電源電圧で動
作し、第二の従来例として述べたカレントミラー回路6
では動作不可能であった低い電源電圧で動作可能となっ
ている。
【0035】式10の条件を満たす電源電圧において、
カレントミラー回路1の各電流の間には、以下のような
関係が成立する。 Iin=Io −IB2 ・・・(12) IB2=(IBIAS−2IB1)/HFE2 ・・・(13) HFE1 =Io /IB1 ・・・(14) ただし、Iinは、基準電流、Io は、出力電流、I
B1は、トランジスタ10、11のベース電流、IB2は、
トランジスタ12のベース電流、IBIASは、電流源13
の電流、HFE1 は、トランジスタ10、11の電流増幅
率、HFE2 は、トランジスタ12の電流増幅率である。
【0036】上記式12〜14を変形して、基準電流I
inと出力電流Io の間に次式の関係を得る。 Io =(Iin+IBIAS/HFE2 )/(1+2/(HFE1 ・HFE2 )) ・・・(15) ここで例えば、HFE1 =10、HFE2 =30、電流源1
3の電流IBIAS=50μA(=Iin/2)、および、基
準電流Iin=100μAとし、式15に代入すると、 Io ≒1.01・Iin ・・・(16) となり、出力電流と基準電流との差は約1%の誤差とな
る。
【0037】以上述べたように、カレントミラー回路1
の使用により、第一の従来例として上述したカレントミ
ラー回路5に比べて、高精度の出力電流を得ることが可
能である。また、縦型のトランジスタ12は横型のトラ
ンジスタ10、11と同時に形成可能なので、製造工程
を増やす必要はない。
【0038】以下、本発明のカレントミラー回路1と従
来のカレントミラー回路5のシュミレーション結果につ
いて説明する。図4は、本発明のカレントミラー回路1
のシュミレーション結果を示す図である。図5は、第一
の従来例のカレントミラー回路5のシュミレーション結
果を示す図である。
【0039】図4において、(A)で示す線は、カレン
トミラー回路1の出力電流を示している。
【0040】カレントミラー回路1の基準電流と出力電
流との誤差は、+1%〜+5%程度となっており、基準
電流にほぼ等しい出力電流を得ることが可能である。こ
こで、実際の回路においては、各トランジスタのコレク
タ・エミッタ間電圧にはバラツキがあり、トランジスタ
10のコレクタ・エミッタ間電圧(VCE)は、0.1V
程度である。また、トランジスタの電流増幅率には、コ
レクタ・エミッタ間電圧に対する依存性(アーリー効
果)がある。従って、理論的には式15が成立するが、
上述の事項を考慮すると、そのシュミレーションは図4
のようになる。シュミレーションは常温(25°C)の
条件で行っているので0.8Vの電源電圧においても動
作することが示されているが、低温になるとトランジス
タのベース・エミッタ間電圧が大きくなるので、実際の
デバイス(製品)においては0.9V程度の電源電圧が
必要となる。尚、−10°Cにおけるトランジスタのベ
ース・エミッタ間電圧は、25°Cの場合に比べて約
0.1V大きい。
【0041】一方、図5において、(A)で示す線はカ
レントミラー回路5の出力電流を示す。ここでは、出力
電流と基準電流との間に約−20%の誤差が生じてい
る。なお、シュミレーションの条件は、カレントミラー
回路1についてのものと、トランジスタ(Q3)12お
よび電流源13を除いて同じである。
【0042】以上述べた実施例の他、本発明の半導体集
積回路は種々の構成をとることができる。
【0043】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、カレ
ントミラー回路を低い電源電圧で安定に動作させること
ができる。また、従来の低電圧用のカレントミラー回路
に比べて、基準電流にほぼ一致した出力電流を得ること
が可能である。更には、本発明のカレントミラー回路
は、従来のカレントミラー回路と同じ製造工程で製造す
ることができ、縦型トランジスタのための製造工程を追
加する必要がない。本発明の半導体集積回路は、例えば
低い電源電圧を使用して高い周波数を扱うECL回路の
カレントミラー回路として使用すると特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のカレントミラー回路の回路図である。
【図2】横型のpnpトランジスタの構造を示す断面図
である。
【図3】縦型のnpnトランジスタの構造を示す図であ
る。
【図4】本発明のカレントミラー回路のシュミレーショ
ン結果を示す図である。
【図5】第一の従来例のカレントミラー回路5のシュミ
レーション結果を示す図である。
【図6】第一の従来例のカレントミラー回路の回路図で
ある。
【図7】第二の従来例のカレントミラー回路の回路図で
ある。
【符号の説明】
1・・・カレントミラー回路 10、11・・・横型のpnpトランジスタ 21、22・・・P+ 領域 23・・・n領域 24、25・・・n+ 領域 26・・・Si02 領域 12・・・縦型のnpnトランジスタ 31・・・n領域 32、34、35・・・n+ 領域 33・・・p領域 36・・・Si02 領域 13・・・電流源 14・・・寄生トランジスタ 15・・・電流源

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電源印加端子および制御端子がそれぞれ共
    通接続された同じ導電性の第一のトランジスタおよび第
    二のトランジスタと、 前記第一のトランジスタおよび第二のトランジスタの導
    電性と逆の導電性を有し、これらのトランジスタの電流
    利得よりも大きな電流利得を有し、制御端子が第一のト
    ランジスタの出力端子、電源印加端子が前記第一のトラ
    ンジスタおよび第二のトランジスタの電源印加端子、出
    力端子が第一のトランジスタおよび第二のトランジスタ
    の制御端子に接続された第三のトランジスタとを有する
    半導体集積回路。
  2. 【請求項2】前記第一のトランジスタおよび第二のトラ
    ンジスタはpnp型であり、前記第三のトランジスタは
    npn型であることを特徴とする請求項1に記載の半導
    体集積回路。
  3. 【請求項3】前記第一のトランジスタおよび第二のトラ
    ンジスタは横型構造であり、前記第三のトランジスタは
    縦型構造であることを特徴とする請求項2に記載の半導
    体集積回路。
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