JPH06304064A - セラミックス製加熱容器 - Google Patents
セラミックス製加熱容器Info
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- Cookers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 セラミックス製の容器（１１）の外側もしく
は内側の少なくとも一方に、ニッケル膜（１３）を形成
させた加熱容器。ニッケル膜（１３）の下地として、ニ
ッケルにアルミニウムもしくはクロムを１〜３０重量％
添加した合金あるいは複合材の膜（１２）をセラミック
ス製容器に形成する。また、好適には、ニッケル膜（１
３）として、ニッケルに元素周期表の３Ａから２Ｂ族の
元素と元素周期表３Ｂと４Ｂ族の元素及び元素周期表５
Ｂと６Ｂの元素の少なくとも１種類を０．１〜５０重量
％添加したものを用いる。 【効果】 膜の剥離の問題や酸化の問題を解決して、さ
らにガスコンロの直火による加熱も可能な誘電加熱用の
セラミックス容器を安価に作製することが可能になっ
た。
は内側の少なくとも一方に、ニッケル膜（１３）を形成
させた加熱容器。ニッケル膜（１３）の下地として、ニ
ッケルにアルミニウムもしくはクロムを１〜３０重量％
添加した合金あるいは複合材の膜（１２）をセラミック
ス製容器に形成する。また、好適には、ニッケル膜（１
３）として、ニッケルに元素周期表の３Ａから２Ｂ族の
元素と元素周期表３Ｂと４Ｂ族の元素及び元素周期表５
Ｂと６Ｂの元素の少なくとも１種類を０．１〜５０重量
％添加したものを用いる。 【効果】 膜の剥離の問題や酸化の問題を解決して、さ
らにガスコンロの直火による加熱も可能な誘電加熱用の
セラミックス容器を安価に作製することが可能になっ
た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電磁調理器用もしくは
電磁誘導加熱装置用のセラミックス製加熱容器に関す
る。
電磁誘導加熱装置用のセラミックス製加熱容器に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】電磁誘導加熱装置は、その加熱原理か
ら、鉄やステンレス等の金属しか加熱できないために、
セラミックスやガラスの容器を加熱する場合は、その容
器の外側もしくは内側に銀あるいはアルミニウムの薄膜
を形成させていた。
ら、鉄やステンレス等の金属しか加熱できないために、
セラミックスやガラスの容器を加熱する場合は、その容
器の外側もしくは内側に銀あるいはアルミニウムの薄膜
を形成させていた。
【０００３】しかしながら、銀薄膜はセラミックスとの
付着力が弱く、剥離してしまうという問題があり、この
ため、この銀薄膜の上にさらに保護膜を形成しなければ
ならず、製造工程の複雑化やコストが向上するという問
題がある。
付着力が弱く、剥離してしまうという問題があり、この
ため、この銀薄膜の上にさらに保護膜を形成しなければ
ならず、製造工程の複雑化やコストが向上するという問
題がある。
【０００４】一方、アルミニウム粉をセラミックス容器
の表面に溶射し薄膜を形成させるという方法がある（実
開昭６１−１６６４９７号公報参照）。この方法によっ
て、セラミックス容器表面に、強い付着力のアルミニウ
ム薄膜を安価に形成することができるが、この容器はア
ルミニウムの融点が低いため、ガスコンロの直火による
加熱ができなかった。さらに、空炊きなどの過酷な条件
で電磁誘導加熱装置での使用を続けたい場合、形成させ
たアルミニウムが薄膜（約２８μｍ）であるため、薄膜
が融点近い温度（約６００℃）に達してしまい、膜が酸
化して加熱ができなくなるという問題がある。
の表面に溶射し薄膜を形成させるという方法がある（実
開昭６１−１６６４９７号公報参照）。この方法によっ
て、セラミックス容器表面に、強い付着力のアルミニウ
ム薄膜を安価に形成することができるが、この容器はア
ルミニウムの融点が低いため、ガスコンロの直火による
加熱ができなかった。さらに、空炊きなどの過酷な条件
で電磁誘導加熱装置での使用を続けたい場合、形成させ
たアルミニウムが薄膜（約２８μｍ）であるため、薄膜
が融点近い温度（約６００℃）に達してしまい、膜が酸
化して加熱ができなくなるという問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決すべき課
題は、セラミックス容器表面へ形成した銀の薄膜の剥離
やコスト等の問題の解消、アルミニウム溶射による薄膜
の酸化等の問題の解消を図ることにある。
題は、セラミックス容器表面へ形成した銀の薄膜の剥離
やコスト等の問題の解消、アルミニウム溶射による薄膜
の酸化等の問題の解消を図ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の加熱容器は、セラミックス製の容器の外側
もしくは内側の少なくとも一方に、ニッケル膜を形成さ
せたものである。
め、本発明の加熱容器は、セラミックス製の容器の外側
もしくは内側の少なくとも一方に、ニッケル膜を形成さ
せたものである。
【０００７】
【作用】ニッケルのキュリー点は３６０℃であるため、
電磁誘導による加熱ではこの温度で制御され、ニッケル
膜の温度が必要以上に上がるのを抑える効果がある。ま
た、ニッケルに元素周期表の３Ａから２Ｂ族の元素（金
属，遷移金属全体）、元素周期表３Ｂと４Ｂ族の元素
（半金属）及び元素周期表５Ｂと６Ｂ族の元素（非金
属）の少なくとも一種類を０．１〜５０重量％の範囲で
適量を添加することでキュリー点を変化させると、膜の
加熱温度が制御される。これらの元素の添加量が０．１
重量％以下であるとキュリー点温度の変化が小さくてニ
ッケル膜に対する温度抑制効果が余りなくなり、５０重
量％以上であるとキュリー点が下がり過ぎてニッケル膜
の特性が得られなくなるため、０．１〜５０重量％の範
囲が好適である。
電磁誘導による加熱ではこの温度で制御され、ニッケル
膜の温度が必要以上に上がるのを抑える効果がある。ま
た、ニッケルに元素周期表の３Ａから２Ｂ族の元素（金
属，遷移金属全体）、元素周期表３Ｂと４Ｂ族の元素
（半金属）及び元素周期表５Ｂと６Ｂ族の元素（非金
属）の少なくとも一種類を０．１〜５０重量％の範囲で
適量を添加することでキュリー点を変化させると、膜の
加熱温度が制御される。これらの元素の添加量が０．１
重量％以下であるとキュリー点温度の変化が小さくてニ
ッケル膜に対する温度抑制効果が余りなくなり、５０重
量％以上であるとキュリー点が下がり過ぎてニッケル膜
の特性が得られなくなるため、０．１〜５０重量％の範
囲が好適である。
【０００８】さらに、ニッケルの融点は１４５５℃であ
り、アルミニウム（融点６６０℃）と比べ耐熱性が高
い。また、ニッケルは酸化しにくい金属である。これら
のことから、ニッケルの膜は電磁誘導加熱用の発熱体に
適していることがわかる。
り、アルミニウム（融点６６０℃）と比べ耐熱性が高
い。また、ニッケルは酸化しにくい金属である。これら
のことから、ニッケルの膜は電磁誘導加熱用の発熱体に
適していることがわかる。
【０００９】また、ニッケル膜の下地として、ニッケル
にアルミニウムもしくはクロムを１〜３０重量％添加し
た合金もしくは複合材の膜を形成することでセラミック
ス容器と膜の密着性を上げ、剥離を抑えている。添加量
が１重量％以下では密着性がニッケルのときと余り変わ
らなくなり、３０重量％以上であると密着性がそれほど
変化しないため、１〜３０重量％の範囲が好適である。
にアルミニウムもしくはクロムを１〜３０重量％添加し
た合金もしくは複合材の膜を形成することでセラミック
ス容器と膜の密着性を上げ、剥離を抑えている。添加量
が１重量％以下では密着性がニッケルのときと余り変わ
らなくなり、３０重量％以上であると密着性がそれほど
変化しないため、１〜３０重量％の範囲が好適である。
【００１０】この下地はキュリー点がニッケルより低く
なっているために、加熱面であるニッケル膜の温度制御
に影響を与えない。
なっているために、加熱面であるニッケル膜の温度制御
に影響を与えない。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を示して説明する。
【００１２】〔実施例１〕図１に示すように、内径が１
８ｃｍのセラミックス容器１の外側底部表面上に厚さ２
００μｍのニッケル膜２をガス溶射によって形成させ、
電磁誘導加熱（電磁調理器）用加熱容器を作製した。こ
れを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で使用すると、容
器の加熱面はニッケルのキュリー点である３６０℃で制
御された。
８ｃｍのセラミックス容器１の外側底部表面上に厚さ２
００μｍのニッケル膜２をガス溶射によって形成させ、
電磁誘導加熱（電磁調理器）用加熱容器を作製した。こ
れを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で使用すると、容
器の加熱面はニッケルのキュリー点である３６０℃で制
御された。
【００１３】〔実施例２〕図２に示すように、内径が１
８ｃｍのセラミックス容器１１の外側底部表面にまず下
地としてニッケル９５％とアルミニウム５％の合金膜１
２をガス溶射で形成し（厚さ１００μｍ）、その上に厚
さ２００μｍのニッケル膜１３を溶射で形成して電磁誘
導加熱用容器を作製した。この下地１２を設けることで
滑らかなセラミックス容器１１の表面にも接着力が強い
ニッケル膜１３を形成することができ、また「実施例
１」同様、この容器の加熱面はニッケルのキュリー点で
ある３６０℃で制御された。
８ｃｍのセラミックス容器１１の外側底部表面にまず下
地としてニッケル９５％とアルミニウム５％の合金膜１
２をガス溶射で形成し（厚さ１００μｍ）、その上に厚
さ２００μｍのニッケル膜１３を溶射で形成して電磁誘
導加熱用容器を作製した。この下地１２を設けることで
滑らかなセラミックス容器１１の表面にも接着力が強い
ニッケル膜１３を形成することができ、また「実施例
１」同様、この容器の加熱面はニッケルのキュリー点で
ある３６０℃で制御された。
【００１４】〔実施例３〕図３に示すように、内径が１
８ｃｍのセラミックス容器２１の外側底部表面にまず下
地としてニッケル９５％とクロム５％の合金膜２２をガ
ス溶射で形成し（厚さ１００μｍ）、その上に厚さ２０
０μｍのニッケル膜２３を溶射で形成して電磁誘導加熱
用容器を作製した。この下地２２を設けることで滑らか
なセラミックス容器２１の表面にも接着力が強いニッケ
ル膜２３を形成することができ、また「実施例１」同
様、この容器の加熱面はニッケルのキュリー点である３
６０℃で制御された。
８ｃｍのセラミックス容器２１の外側底部表面にまず下
地としてニッケル９５％とクロム５％の合金膜２２をガ
ス溶射で形成し（厚さ１００μｍ）、その上に厚さ２０
０μｍのニッケル膜２３を溶射で形成して電磁誘導加熱
用容器を作製した。この下地２２を設けることで滑らか
なセラミックス容器２１の表面にも接着力が強いニッケ
ル膜２３を形成することができ、また「実施例１」同
様、この容器の加熱面はニッケルのキュリー点である３
６０℃で制御された。
【００１５】〔実施例４〕同様に、セラミックス容器の
外側表面にニッケル８７％と鉄３％の合金膜をガス溶射
で形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作
製した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱
するとこの容器の加熱面は約４００℃で制御された。
外側表面にニッケル８７％と鉄３％の合金膜をガス溶射
で形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作
製した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱
するとこの容器の加熱面は約４００℃で制御された。
【００１６】〔実施例５〕セラミックス容器の外側表面
にニッケル９６％とチタン４％の合金膜をガス溶射で形
成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作製し
た。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱する
とこの容器の加熱面は約２００℃で制御された。
にニッケル９６％とチタン４％の合金膜をガス溶射で形
成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作製し
た。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱する
とこの容器の加熱面は約２００℃で制御された。
【００１７】〔実施例６〕セラミックス容器の外側表面
にニッケル９５％と銅５％の合金膜をガス溶射で形成し
（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作製した。
これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱すると、
この容器の加熱面は約３００℃で制御された。
にニッケル９５％と銅５％の合金膜をガス溶射で形成し
（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作製した。
これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱すると、
この容器の加熱面は約３００℃で制御された。
【００１８】〔実施例７〕セラミックス容器の外側表面
にニッケル９７％とシリコン３％の合金膜をガス溶射で
形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作製
した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱す
るとこの容器の加熱面は約１００℃で制御された。
にニッケル９７％とシリコン３％の合金膜をガス溶射で
形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作製
した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱す
るとこの容器の加熱面は約１００℃で制御された。
【００１９】〔実施例８〕セラミックス容器の外側表面
にニッケル９５％とアンチモン５％の合金膜をガス溶射
で形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作
製した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱
するとこの容器の加熱面は約２５０℃で制御された。
にニッケル９５％とアンチモン５％の合金膜をガス溶射
で形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を作
製した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加熱
するとこの容器の加熱面は約２５０℃で制御された。
【００２０】〔実施例９〕セラミックス容器の外側表面
にニッケル９７％とアルミニウム３％の合金膜をガス溶
射で形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を
作製した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加
熱するとこの容器の加熱面は約２５０℃で制御された。
にニッケル９７％とアルミニウム３％の合金膜をガス溶
射で形成し（厚さ２００μｍ）、電磁誘導加熱用容器を
作製した。これを電磁誘導加熱装置（電磁調理器）で加
熱するとこの容器の加熱面は約２５０℃で制御された。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、膜
の剥離の問題や酸化の問題を解決して、さらにガスコン
ロの直火による加熱も可能な誘電加熱用のセラミックス
容器を安価に作製することが可能になった。
の剥離の問題や酸化の問題を解決して、さらにガスコン
ロの直火による加熱も可能な誘電加熱用のセラミックス
容器を安価に作製することが可能になった。
【図１】 本発明の実施例１の構造を示す平面図及び断
面図である。
面図である。
【図２】 本発明の実施例２の構造を示す平面図及び断
面図である。
面図である。
【図３】 本発明の実施例３の構造を示す平面図及び断
面図である。
面図である。
１，１１，２１ セラミックス製容器、２，１３，２３
ニッケル膜、１２，２２ 合金膜（下地）
ニッケル膜、１２，２２ 合金膜（下地）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中尾 浩 佐賀県西松浦郡有田町中部田ノ平3100−５ 佐賀県窯業技術センター内 (72)発明者 坂口 庭見 佐賀県杵島郡山内町大字鳥海18−811
Claims (3)
- 【請求項１】 セラミックス製の容器の外側もしくは内
側の少なくとも一方に、ニッケル膜を形成させた加熱容
器。 - 【請求項２】 ニッケル膜の下地として、ニッケルにア
ルミニウムもしくはクロムを１〜３０重量％添加した合
金あるいは複合材の膜をセラミックス製容器に形成した
請求項１記載の加熱容器。 - 【請求項３】 ニッケル膜として、ニッケルに元素周期
表の３Ａから２Ｂ族の元素と元素周期表３Ｂと４Ｂ族の
元素及び元素周期表５Ｂと６Ｂの元素の少なくとも１種
類を０．１〜５０重量％添加したものを用いた請求項１
記載の加熱容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5093410A JP2544076B2 (ja) | 1993-04-20 | 1993-04-20 | セラミックス製加熱容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5093410A JP2544076B2 (ja) | 1993-04-20 | 1993-04-20 | セラミックス製加熱容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06304064A true JPH06304064A (ja) | 1994-11-01 |
| JP2544076B2 JP2544076B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=14081533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5093410A Expired - Lifetime JP2544076B2 (ja) | 1993-04-20 | 1993-04-20 | セラミックス製加熱容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2544076B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2323388A (en) * | 1997-03-21 | 1998-09-23 | Tokuyama Corp | Container for holding isopropyl alcohol |
| WO2005060802A1 (de) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Empa | Keramisches kochgefäss, insbesondere ein fondue-caquelon |
| JP2007261842A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Shiga Pref Gov | Ｎｉセラミック複合体及びその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6166393A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-05 | 河村碍子工業株式会社 | 電磁調理器用陶磁器 |
-
1993
- 1993-04-20 JP JP5093410A patent/JP2544076B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6166393A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-05 | 河村碍子工業株式会社 | 電磁調理器用陶磁器 |
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