JPH06304558A - 低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生成抑制方法 - Google Patents
低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生成抑制方法Info
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- JPH06304558A JPH06304558A JP12059993A JP12059993A JPH06304558A JP H06304558 A JPH06304558 A JP H06304558A JP 12059993 A JP12059993 A JP 12059993A JP 12059993 A JP12059993 A JP 12059993A JP H06304558 A JPH06304558 A JP H06304558A
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Abstract
水、井戸水等を水源とする飲料水製造プラントにおい
て、トリハロメタン前駆体を分解することなく、バクテ
リアを殺菌状態に保ち、トリハロメタン前駆体を除去す
ることにより、トリハロメタンの生成を抑制する方法を
提供する。 【構成】 トリハロメタン前駆体を含む原水中に銅イオ
ンを添加した後、この原水を低圧逆浸透膜に通してトリ
ハロメタン前駆体を除去する。
Description
を含む河川水、湖沼水、井戸水等を水源とする飲料水製
造プラントにおいて、トリハロメタン前駆体を分解する
ことなく、バクテリアを殺菌状態に保ち、低圧逆浸透膜
を用いてトリハロメタン前駆体を除去することにより、
トリハロメタンの生成を抑制する方法に関するものであ
る。
の水質基準の規制対象に加えられる物質であり、その処
理方法が種々検討されている。トリハロメタンは、その
前駆体(フミン酸、フルボ酸、ヒマトメラミン酸等)が
塩素により分解されて生成する物質であり、分子量が小
さく、分離が非常に困難であった(1983年10月3
0日に技報堂から発行された「水道とトリハロメタン」
参照)。
策としては、殺菌剤として塩素の代わりにオゾンを使用
して、トリハロメタン前駆体を低分子量の炭化水素化合
物に分解し、この低分子化合物を活性炭で吸着する方法
があった。なお、逆浸透膜によるトリハロメタンの生成
抑制及び除去方法について、従来技術を調査したが、該
当する公報は検索できなかった。
オゾンを使用し活性炭で吸着する従来の方法では、オゾ
ン発生装置を使用するので、装置が複雑になり、廃オゾ
ン処理も必要となる。また、活性炭を定期的に交換する
必要があり、メンテナンスコストが高くなるという問題
点もあった。
小さく、低圧逆浸透膜を用いても分離効率が低いので、
トリハロメタン前駆体からトリハロメタンが生成してし
まうと分離が非常に困難となっていた。一方、トリハロ
メタン前駆体は分子量が大きく、低圧逆浸透膜を用いれ
ば95%以上の分離効率が得られる。したがって、トリ
ハロメタンを除去するためには、その前駆体を低圧逆浸
透膜を用いて分離することが得策である。なお、低圧逆
浸透膜とは、海水淡水化用逆浸透膜とUF(限外ろ過
膜)の中間膜であって、別名、ルーズ逆浸透膜とかナノ
メンブレンとも呼ばれている。
多く含む河川、湖沼中には、バクテリアが多量に存在
し、低圧逆浸透膜の膜面にバクテリアが繁殖するため
に、装置の運転が不可能になることがあった。一方、低
圧逆浸透膜の膜面にバクテリアが繁殖するのを防止する
ために、塩素の代わりにオゾンを用いて殺菌することも
考えられるが、トリハロメタン前駆体が、オゾンにより
低分子量の炭化水素化合物に分解されてしまい、低圧逆
浸透膜での分離効率が大幅に低下し、その後、塩素で殺
菌すれば、トリハロメタンが生成する可能性があった。
で、トリハロメタン前駆体を含む河川水、湖沼水、井戸
水等から飲料水を製造するに際し、低圧逆浸透膜を用い
てトリハロメタン前駆体の除去を行ない、低圧逆浸透膜
の膜面にバクテリアが繁殖するのを防止するために、銅
イオンを添加する低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生
成抑制方法を提供することを目的としている。
めに、本発明の低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生成
抑制方法は、図1に示すように、トリハロメタン前駆体
を含む原水中に銅イオンを添加した後、この原水を低圧
逆浸透膜に通してトリハロメタン前駆体を除去すること
を特徴としている。
0.5ppmであることが好ましい。すなわち、銅イオン
の添加量が0.1ppm未満の場合は、低圧逆浸透膜の膜
面にバクテリアが繁殖しやすいという不都合があり、一
方、銅イオンの添加量が0.5ppmを越える場合は、逆
浸透膜の濃縮水側(排水側)の銅イオン濃度が高くな
り、環境省の排水排出基準をクリアできないという不都
合がある。
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 実施例1 図1は、本発明の方法を実施する装置の一例を示してい
る。本設備は、浅井戸を水源とする簡易水道であり、原
水中には、トリハロメタン前駆体を多量に含んでいる。
図1において、原水ポンプ10により供給された原水
は、まず、メディアフィルター等のろ過器12で濁質が
除去され、その後、トリハロメタン前駆体を分解するこ
となくバクテリアを殺菌するために、硫酸銅が添加され
る。なお、濁質が除去される前に、あるいは濁質除去の
前及び後に、硫酸銅が添加される場合もある。硫酸銅が
添加された原水は、ブースターポンプ14を経て、低圧
逆浸透膜16に導入される。この場合の運転圧力は、例
えば15〜20kg/cm2である。低圧逆浸透膜16によ
り、原水は、透過水(飲料水)と濃縮水(排水)とに分
離され、透過水(飲料水)には、後塩素剤が塩素で約
0.5mg/l添加され、最終処理がなされる。
ン前駆体を分解せずに、バクテリアの殺菌効果がある硫
酸銅を銅イオンで0.2ppm添加したところ、その後に
低圧逆浸透膜の膜面でバクテリアが繁殖することはな
く、銅イオンによる膜性能の劣化もほとんど起こらなか
った。表1に、実施例1における装置の処理結果を示
す。なお、トリハロメタン生成能は、原水及び透過水に
それぞれ10mg/lの次亜塩素酸ソーダを注入したとき
に生成する総トリハロメタン濃度で示している。
ンを注入するための装置と低圧逆浸透膜装置を必要とす
るのみであるので、設備がコンパクトで済み、操作も簡
単であり、中小の簡易水道にも容易に適用することがで
きる。なお、銅イオンも厚生省の水質基準の規制対象に
入っているが、注入された銅イオンは、低圧逆浸透膜に
より90%以上が分離除去可能であるので、厚生省の水
質基準は十分クリアすることができる。
転後1週間で低圧逆浸透膜の膜面にスライムが発生し、
運転が不可能となったので、中性洗剤を用いて化学洗浄
を行なってスライムを除去し、運転を再開したが、再び
スライムが発生し、運転が不可能となった。
で、つぎのような効果を奏する。 (1) トリハロメタンを生成する前の前駆体の形で除
去するので、前駆体除去率も高く、また、膜面でのバク
テリアの繁殖も防止することができるので、トリハロメ
タン前駆体を多く含む、いわゆる汚れた水源でも飲料水
源として使用することができる。 (2) 装置が簡単であるので、簡易水道のような小型
飲料水プラントのトリハロメタン除去対策にも適用する
ことができる。 (3) 低圧逆浸透膜の寿命は3年程度と長いので、ラ
ンニングコスト、メンテナンスコストが低い。 (4) 操作が簡単なので、特別な技能を必要とするこ
となく、簡単に装置を運転することができる。
図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 トリハロメタン前駆体を含む原水中に銅
イオンを添加した後、この原水を低圧逆浸透膜に通して
トリハロメタン前駆体を除去することを特徴とする低圧
逆浸透膜によるトリハロメタン生成抑制方法。 - 【請求項2】 銅イオンの添加量が0.1〜0.5ppm
であることを特徴とする請求項1記載の低圧逆浸透膜に
よるトリハロメタン生成抑制方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12059993A JP2732190B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生成抑制方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12059993A JP2732190B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生成抑制方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06304558A true JPH06304558A (ja) | 1994-11-01 |
| JP2732190B2 JP2732190B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=14790252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12059993A Expired - Fee Related JP2732190B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 低圧逆浸透膜によるトリハロメタン生成抑制方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2732190B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12056501B2 (en) | 2022-09-21 | 2024-08-06 | Ncr Voyix Corporation | Peripheral device communication |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP12059993A patent/JP2732190B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12056501B2 (en) | 2022-09-21 | 2024-08-06 | Ncr Voyix Corporation | Peripheral device communication |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2732190B2 (ja) | 1998-03-25 |
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