JPH06304860A - 薄膜磁気ヘッドのポリッシング法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】薄膜磁気ヘッドの浮動面のポリッシング加工に
おいて、ポールリセッションを低減し、定盤の工具寿命
を半永久的にするポリッシング法を提供すること。 【構成】錫製のポリッシング定盤２１のポリッシング基
準面２２に、溝幅０．３ｍｍ以内，溝間隔ピッチ０．４
ｍｍ以内の細目の螺旋状溝２３と定盤半径方向に放射状
で前記螺旋状溝と交差する放射状溝２４とを設け、遊離
砥粒を含有させたポリッシング液１１をポリッシング基
準面２２に供給しながら薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリ
ッシングする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録再生用装置に
用いられる薄膜磁気ヘッドの製造工程中で、薄膜磁気ヘ
ッドの浮動面をポリッシングする方法に関する。さらに
詳しくは、薄膜磁気ヘッドの記録再生特性を低下させる
一因となる薄膜磁気ヘッドの浮動面とポールとの段差
（以下、ポールリセッションという）を低減させるため
の薄膜磁気ヘッドの浮動面のポリッシング法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポールリセッションは前記したように、
薄膜磁気ヘッドの記録再生特性を低下させる一因とし
て、従来から問題視されているものである。具体的に
は、薄膜磁気ヘッドの浮動面とポールとの段差のことで
あって、薄膜磁気ヘッドの浮動面を基準面とし浮動面か
らみたポールのくぼみ（ｒｅｃｅｓｓｉｏｎ）であるこ
とから、薄膜磁気ヘッドに携わる人々からは一般的に
「ポール・リセッション」と呼ばれている。ちなみに、
薄膜磁気ヘッドの記録再生特性の低下を招かぬよう理想
的には、薄膜磁気ヘッドの浮動面とポールとの段差は無
いのが望ましく、ポールリセッションが無いのが良いと
されている。

【０００３】ここで、ポールリセッションについて図面
を基に説明しておく。図４は、薄膜磁気ヘッドを示して
いる。（ａ）は、薄膜磁気ヘッドの斜視図である。
（ｂ）は、ポールリセッションを示しており、（ａ）中
に示したＦ部のＹ―Ｙ要部断面図である。図４の（ｂ）
に示した浮動面４１と保護膜４３との段差を含めた、浮
動面４１とポール４２との段差がポールリセッションで
ある。

【０００４】薄膜磁気ヘッド４０の浮動面４１の端部に
は、保護膜４３に周囲を囲まれたポール４２がある。ま
た、薄膜磁気ヘッド４０の浮動面４１は、鏡面状態であ
ることが要求されるため、通常は、遊離砥粒を含んだポ
リッシング液を軟質金属製のポリッシング定盤上に供給
しながらポリッシングを施し仕上げる。ポリッシング定
盤に軟質金属を使用するのは、面粗度を小さくすること
が可能で、鏡面状態に仕上げることが可能なためであ
る。浮動面４１にポリッシングを施すときには、薄膜磁
気ヘッド４０の浮動面４１の端部にある保護膜４３と保
護膜４３に周囲を囲まれたポール４２も、浮動面４１と
同時にポリッシングが施されることになる。

【０００５】ところで、遊離砥粒を含んだポリッシング
液を軟質金属製のポリッシング定盤上に供給しながら行
うポリッシングにおける遊離砥粒の被加工物に対する加
工作用は、遊離砥粒がポリッシング定盤上に埋め込まれ
た状態での加工作用と、遊離砥粒がポリッシング定盤上
で遊離したままでの加工作用との複合的な加工作用であ
るが、遊離砥粒がポリッシング定盤上で遊離したままの
加工作用が働いた状態で、薄膜磁気ヘッド４０の浮動面
４１と浮動面４１の端部にあるポール４２と保護膜４３
とを同時にポリッシングすると、薄膜磁気ヘッド４０の
浮動面４１と保護膜４３との境界部分で段差が生じ、さ
らには、保護膜４３の面内でポール４２が窪んでしま
い、図４の（ｂ）に示すような段差（浮動面４１とポー
ル４２との段差）、すなわち、ポールリセッションが生
じる。

【０００６】このようなポールリセッションの発生は、
薄膜磁気ヘッド４０の浮動面４１の材質と、保護膜４３
の材質と、ポール４２の材質との機械的性質の差、硬度
差に起因する。一般的に、薄膜磁気ヘッド４０の浮動面
４１の材質はアルミナチタンカーバイド系セラミックス
で、保護膜４３の材質はアルミナであり、薄膜磁気ヘッ
ド４０のポール４２の材質は軟質磁性金属である。これ
ら３つ材質の硬度を比べると、薄膜磁気ヘッド４０のポ
ール４２の材質である軟質磁性金属、保護膜４３の材質
であるアルミナ、浮動面４１の主材質であるアルミナチ
タンカーバイド系セラミックスの順に低硬度であるた
め、遊離砥粒がポリッシング定盤上で遊離したままでの
加工作用が働く状態での薄膜磁気ヘッド４０の浮動面４
１をポリッシングすると、材質が低硬度な部分ほど、遊
離した状態の遊離砥粒が掘り起こすように侵食加工さ
れ、図４の（ｂ）に示すような段差、すなわち、ポール
リセッションが生じる。

【０００７】したがって、従来の薄膜磁気ヘッドの製造
におけるポールリセッションを低減させるための浮動面
のポリッシング法には、遊離砥粒がポリッシング定盤上
で遊離したままでの加工作用が働かないように抑えた方
法として、例えば、特開昭６２―２９２３５８号公報に
示されているように、まず、ポリッシング定盤上に遊離
砥粒を埋め込む作業を行い、その後、ポリッシング定盤
上に埋め込まれずに残留した遊離砥粒を除去する作業を
行い、あらかじめ遊離砥粒を固着させたポリッシング定
盤を作成しておき、その遊離砥粒が固着したポリッシン
グ定盤に希釈液（遊離砥粒を含有しないポリッシング
液）のみを供給して浮動面をポリッシングする方法があ
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の方法では、ポリッシング定盤上に遊離砥粒を埋め込
む作業とポリッシング定盤上に埋め込まれずに残留した
遊離砥粒を除去する作業とを行うことにより、あらかじ
めポリッシング定盤上に遊離砥粒を固着させておかなけ
ればならなかった。

【０００９】さらに、前記従来の方法では、ポリッシン
グ定盤上にあらかじめ固着させた遊離砥粒（以下、固定
砥粒という）だけの切れ刃により浮動面をポリッシング
することになる。このため、薄膜磁気ヘッドの量産工程
で多数の浮動面をポリッシングする場合、遊離砥粒を固
着させたポリッシング定盤の累積使用時間が増加する
と、次第に固定砥粒の切れ刃が摩滅したり破砕したり、
またあるいは、固定砥粒がポリッシング定盤上から脱落
したりポリッシング定盤内に深く潜り込んでしまったり
もする。これらの要因により、遊離砥粒を固着させたポ
リッシング定盤の加工能力は、ポリッシング定盤の累積
使用時間の増加に伴い徐々に低下していくことになる。
すなわち、遊離砥粒を固着させたポリッシング定盤の加
工能力の持続時間には寿命があった。用意されたポリッ
シング定盤１枚あたりの工具寿命が短いため薄膜磁気ヘ
ッドの量産のためには、頻繁に遊離砥粒を固着させたポ
リッシング定盤を作成したり、予備の遊離砥粒を固着さ
せたポリッシング定盤を常時準備しておかなければなら
なかった。

【００１０】これらの課題を解決するため本発明の目的
は、遊離砥粒を固着させたポリッシング定盤をあらかじ
め作成しておかなくとも、主に固定砥粒の切れ刃による
浮動面のポリッシングを実現可能とする薄膜磁気ヘッド
の浮動面のポリッシング法を提供することである。さら
には、薄膜磁気ヘッドのポールリセッションを低減させ
たうえに、工具寿命を半永久的にする薄膜磁気ヘッドの
浮動面の最終仕上げポリッシング法を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、浮動面を有する薄膜磁気ヘッドの製造に
おける浮動面の最終仕上げポリッシング法において、ポ
リッシング定盤のポリッシング基準面に、溝間隔ピッチ
０．４ｍｍ以内であり溝幅０．３ｍｍ以内の螺旋状溝
と、該螺旋状溝と交差する放射状溝とを設けたポリッシ
ング定盤を用いて、遊離砥粒を含んだポリッシング液
を、該ポリッシング定盤のポリッシング基準面に供給し
ながら、薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシングする。

【００１２】

【作用】本発明の薄膜磁気ヘッドの浮動面のポリッシン
グ法で用いるポリッシング定盤のポリッシング基準面に
設ける螺旋状溝を上記のごとく細目に形成することによ
り、ポリッシング基準面において溝部分が占める面積が
有効ポリッシング基準面（溝以外の部分，溝の凹凸形状
の凸部の先端のフラットな部分）が占める面積よりも大
きくなっており、このため、ポリッシング基準面に埋め
込まれず遊離状態にある遊離砥粒は効率良く螺旋状溝の
中に除去される。

【００１３】また、ポリッシング定盤のポリッシング基
準面に細目に螺旋状溝を設けたため、ポリッシング時に
おいては、ポリッシング基準面と薄膜磁気ヘッドの浮動
面とが接触する面積が小さくなり、ポリッシング基準面
と浮動面とに相互にかかる圧力を増大させて、遊離砥粒
がポリッシング基準面に埋め込まれる作用を促進させ
る。そして、ポリッシング定盤のポリッシング基準面に
遊離砥粒を含んだポリッシング液を供給しながら、薄膜
磁気ヘッドの浮動面をポリッシングするので、ポリッシ
ング定盤のポリッシング基準面には次々と新しい切れ刃
を持った遊離砥粒が埋め込まれる。したがって、本発明
による薄膜磁気ヘッドの浮動面の最終仕上げ用ポリッシ
ング法では、遊離砥粒を効率良く除去して、主に固定砥
粒によるポリッシングが行われる。

【００１４】このように、本発明による薄膜磁気ヘッド
のポリッシング法に用いられるポリッシング定盤は遊離
砥粒をポリッシング基準面に埋め込む作用を促進し、さ
らに、本発明によるポリッシング法では、遊離砥粒を含
んだポリッシング液をポリッシング定盤のポリッシング
基準面に供給しながら薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッ
シングするので、ポリッシング定盤のポリッシング基準
面には次々と新しい切れ刃を持った遊離砥粒が埋め込ま
れる。よって、薄膜磁気ヘッドを量産する場合、多数の
薄膜磁気ヘッドの浮動面を同一のポリッシング定盤でポ
リッシングして、ポリッシング定盤の累積使用時間が増
加しても、ポリッシング定盤の加工能力が低下すること
はない。したがって、本発明によるポリッシング法を用
いれば、ポリッシング定盤の加工能力は半永久的に持続
し、工具寿命が半永久的となる。すなわち、前記の従来
技術における遊離砥粒を固着させたポリッシング定盤を
用いた場合、加工能力の持続時間に寿命があり、薄膜磁
気ヘッドの量産などで、多数の薄膜磁気ヘッドの浮動面
をポリッシングするには、用意されたポリッシング定盤
１枚あたりの工具寿命が短いため、あらかじめ遊離砥粒
を固着させたポリッシング定盤を頻繁に作成したり、遊
離砥粒を固着させた予備のポリッシング定盤を常時準備
しておく必要があったが、本発明のポリッシング法では
その必要がなくなる。

【００１５】また、本発明の薄膜磁気ヘッドのポリッシ
ング法で用いるポリッシング定盤のポリッシング基準面
に設けた放射状溝は、前記細目の螺旋状溝と交差し、ポ
リッシング定盤の半径方向に放射状となっているため、
細目の螺旋状溝の中に除去された遊離砥粒をポリッシン
グ定盤の外周部へ導く通路として作用する。ポリッシン
グの際、ポリッシング定盤を回転するので、遊離砥粒
は、ポリッシング液と共にポリッシング定盤の回転によ
る遠心力を受け、放射状溝を通路としてポリッシング定
盤の外周部に向い流れて行き、ポリッシング定盤の外部
へ効率良く排出される。

【００１６】

【実施例】以下、本発明による一実施例を図面を基に説
明する。図２は、本発明で用いるポリッシング定盤を示
しており、（ａ）はポリッシング定盤２１のポリッシン
グ基準面２２の平面図であり、（ｂ）は（ａ）中に示し
たＥ部のＸ―Ｘ要部断面図であり、細目の螺旋状溝２３
の溝幅と溝間隔ピッチの寸法を示している。ポリッシン
グ定盤２１のポリッシング基準面２２には、細かい溝間
隔ピッチの細目の螺旋状溝２３と、前記細目の螺旋状溝
２３と交差し、ポリッシング定盤２１の半径方向に放射
状とした放射状溝２４とを設けている。なお、ポリッシ
ング定盤２１の材質は、ポリッシング時における遊離砥
粒の埋め込まれ易さと、薄膜磁気ヘッドの浮動面に要求
される鏡面状の仕上げ面質とを考慮して、軟質金属であ
る錫にしている。しかし、前記のごとくポリッシング定
盤２１の材質が軟質材の錫であるがゆえに、一般的にポ
リッシング定盤に溝を形成する方法として簡単な手段で
あるため通常よく行われる切削加工では、溝の切削形成
時に切削工具の先端の切れ刃部に切り屑が付着し易かっ
たり、あるいは溝形状が塑性変形し易くバリが生じ易い
ために、形状精度が高くて細かい目の溝は形成し難い。
そこで、本実施例では、溝の形状精度に悪影響を与える
ことなく切削加工で容易に形成可能な範囲内で、溝間隔
ピッチを細かくし、切削加工によって前記細目の螺旋状
溝２３を形成している。本実施例の細目の螺旋状溝２３
の具体的な溝幅の寸法は０．３ｍｍであり、溝間隔ピッ
チの寸法は０．４ｍｍである。

【００１７】図１は、本発明による薄膜磁気ヘッドの浮
動面のポリッシング法の説明図であり、一般的に単一ラ
ップ型のラップ盤と呼ばれる研磨装置１０を用いて、本
発明による薄膜磁気ヘッドのポリッシング法で、薄膜磁
気ヘッド４０の浮動面をポリッシングしている状態を示
している。ポリッシング定盤２１は、図２に示したポリ
ッシング定盤であり、ポリッシング定盤２１のポリッシ
ング基準面２２には、細目の螺旋状溝２３と、前記細目
の螺旋状溝２３と交差してポリッシング定盤２１の半径
方向に放射状の放射状溝２４とを設けている。薄膜磁気
ヘッド４０の浮動面をポリッシングする時には、ポリッ
シング定盤２１が図示しないモータによって、反時計方
向（矢印Ａ方向）に回転し、ポリッシング基準面２２に
は遊離砥粒を含んだポリッシング液１１が、ポンプ１２
によりチューブ１８を通じて連続的に供給される。な
お、遊離砥粒を含んだポリッシング液１１は、瓶１６に
入れており、遊離砥粒がポリッシング液中で沈澱しない
ように攪拌機１７で常時攪拌している。また、研磨装置
１０の上には支柱１９ａを設けており、支柱１９ａの上
端の先端には「へ」の字形のローラアーム１９ｂを取り
付けてある。さらに、「へ」の字形のローラアーム１９
ｂの２つの先端には、時計方向（矢印Ｂ方向）に回転可
能な外輪を持つ一対のローラ１４が取り付けてある。ロ
ーラ１４の配置としては、ローラ１４の時計方向（矢印
Ｂ方向）に回転可能な外輪が、ポリッシング定盤２１の
ポリッシング基準面２２上に乗せた中空円筒形のワーク
キャリア１３ａの外側円筒面に接し、ワークキャリア１
３ａの外側円筒面をローラ１４が受けるような位置に配
置している。

【００１８】ワークキャリア１３ａは、反時計方向（矢
印Ａ方向）に回転しているポリッシング定盤２１のポリ
ッシング基準面２２上に乗せてあり、また、それと同時
に、ワークキャリア１３ａの外側円筒面を時計方向（矢
印Ｂ方向）に回転可能な外輪付きのローラ１４が受け
て、ワークキャリア１３ａがポリッシング定盤２１上に
乗ったままポリッシング定盤２１と共に連れ回らないよ
うにして、研磨装置１０上でのワークキャリア１３ａの
配置位置を固定している。ポリッシング定盤２１の回転
時において、ワークキャリア１３ａの下面がポリッシン
グ定盤２１に接しているポリッシング定盤２１のポリッ
シング基準面２２には、内側部分と外側部分とで回転半
径の大きさの違いにより周速差が生じる。ポリッシング
基準面２２の回転半径は、当然、内側部分よりも外側部
分のほうが大きいので、そのぶん外側部分の周速の方が
内側部分の周速よりも速くなる。このポリッシング基準
面２２の内側部分と外側部分との周速差、すなわち、ポ
リッシング基準面２２の内側部分の周速より外側部分の
周速の方が速いことにより、ポリッシング定盤２１が時
計方向（矢印Ａ方向）に回転すると、ワークキャリア１
３ａには反時計方向（矢印Ｃ方向）の回転力が加わり、
ワークキャリア１３ａは反時計方向（矢印Ｃ方向）に自
転運動をする。この際、ローラ１４の時計方向（矢印Ｂ
方向）に回転可能な外輪は、ワークキャリア１３ａが反
時計方向（矢印Ｃ方向）に自転運動をするためのガイド
としても働く。

【００１９】中空円筒形のワークキャリア１３ａの内側
には、下面に薄膜磁気ヘッド４０の浮動面を下向きに接
着したポリッシングプレート治具１５が配置してある
が、このポリッシングプレート治具１５は、ポリッシン
グ基準面２２上に乗せてあるため、ポリッシング定盤２
１の反時計方向（矢印Ａ方向）の回転運動により反時計
方向（矢印Ａ方向）に動き、ワークキャリア１３ａの内
側円筒面に衝突する。衝突後、同じくポリッシング定盤
２１の回転運動により、ポリッシングプレート治具１５
の外周部はワークキャリア１３ａの内側円筒面に押しつ
けられる。また、ワークキャリア１３ａは、前記のよう
に反時計方向（矢印Ｃ方向）に自転運動しているので、
ポリッシングプレート治具１５も反時計方向（矢印Ｄ方
向）に連れ回されて回転運動を始める。

【００２０】前記したように、ポリッシングプレート治
具１５は、ポリッシング定盤２１のポリッシング基準面
２２上に配置されており、そのポリッシングプレート治
具１５の下面には薄膜磁気ヘッド４０が浮動面を下向き
にして接着されており、さらに、そのポリッシングプレ
ート治具１５は、反時計方向（矢印Ａ方向）に回転して
いるポリッシング定盤２１のポリッシング基準面２２上
で反時計方向（矢印Ｃ方向）に自転運動するワークキャ
リア１３ａにより反時計方向（矢印Ｄ方向）に回転運動
を与えられる。したがって、薄膜磁気ヘッド４０の浮動
面とポリッシング定盤２１のポリッシング基準面２２と
は、相対的に摺動運動をすることになり、ポリッシング
基準面２２には遊離砥粒を含んだポリッシング液１１
が、ポンプ１２によってチューブ１８を通じ、連続的に
供給されているので、薄膜磁気ヘッド４０の浮動面がポ
リッシングされる。

【００２１】ワークキャリア１３ａの下面には、薄膜磁
気ヘッド４０の浮動面材質と等しい加工性を持ったセラ
ミックス製、あるいは薄膜磁気ヘッド４０の浮動面と同
材質であるアルミナチタンカーバイド系セラミックス製
の複数のセラミックスチップ１３ｂを一定間隔毎に接着
している。また、これらセラミックスチップ１３ｂの下
面、すなわち、ポリッシング定盤２１のポリッシング基
準面２２と接する面は、ワークキャリア１３ａの下面に
接着した後に平面度を良くして仕上げられており、個々
の面は同一平面内で揃えられている。セラミックスチッ
プ１３ｂは、ポリッシング基準面２２上の遊離砥粒をポ
リッシング基準面２２に埋め込む働きがある。さらに
は、ポリッシング定盤２１の累積使用時間が増加してい
っても、ポリッシング基準面２２に部分的な摩耗（偏摩
耗）が生じるのを防ぎ、ポリッシング基準面２２の平坦
度を維持する働きもしている。セラミックスチップ１３
ｂはワークキャリア１３ａの下面に接着されているが、
ワークキャリア１３ａの外径はポリッシング定盤２１の
半径方向の幅寸法よりも大きく、ワークキャリア１３ａ
はポリッシング定盤２１のポリッシング基準面２２の内
側、外側でオーバーハングしている。したがってポリッ
シング時に、セラミックスチップ１３ｂはポリッシング
基準面２２上を全面にわたって均等に摺動し、ポリッシ
ング基準面２２の部分的な摩耗（偏摩耗）を防ぎ、ポリ
ッシング基準面２２の平坦度を維持する。また、セラミ
ックスチップ１３ｂに加わる圧力を薄膜磁気ヘッド４０
に加わる圧力よりも大きく設定することによってもポリ
ッシング基準面２２の平坦度維持効果をあげている。ポ
リッシング基準面２２の摩耗において、薄膜磁気ヘッド
４０との部分的な摺動によって生じる部分的な摩耗より
も、セラミックスチップ１３ｂとの全面にわたる均等な
摺動によって生じる全面的で均等な摩耗が大きくなる。
したがって、ポリッシング基準面２２に、薄膜磁気ヘッ
ド４０との部分的な摺動により部分的な摩耗が生じたと
しても、それ以上に大きな摩耗、すなわちセラミックス
チップ１３ｂが全面にわたって均等に摺動することによ
って生じる全面的で均等な摩耗が、部分的な摩耗をキャ
ンセルして、ポリッシング基準面２２の平坦度が維持さ
れる。

【００２２】本発明でのポリッシング法では、上述した
ように図２に示したポリッシング定盤、すなわち、溝間
隔ピッチの細かい細目の螺旋状溝２３と、前記細目の螺
旋状溝２３と交差する放射状溝２４とをポリッシング基
準面２２に設けたポリッシング定盤２１を用いている。
したがって、遊離砥粒を含んだポリッシング液１１を供
給しながら、薄膜磁気ヘッド４０の浮動面をポリッシン
グする際、遊離砥粒をポリッシング基準面２２から除去
する作用、ならびに遊離砥粒をポリッシング基準面２２
に埋め込む作用が促進されるので、主にポリッシング基
準面２２に固着した砥粒による浮動面のポリッシング加
工がなされて、ポールリセッションが低減化される。

【００２３】図３は、螺旋状溝を細かく細目に形成する
ことによって、遊離砥粒をポリッシング基準面から除去
する作用、ならびに遊離砥粒をポリッシング基準面に埋
め込む作用が促進され、実際にポールリセッションが低
減されることを確認した実験結果のグラフであり、螺旋
状溝の溝間隔ピッチ寸法とポールリセッションとの関係
を示している。なお、ここでの実験では、市販のポリッ
シング用油剤に市販のポリッシング用ダイヤモンドペー
スト（粒径１／４μｍのダイヤモンド砥粒を含んだ油性
ペースト）を濃度１０％で含有させた液をポリッシング
液とした。そして、前記研磨砥粒を含有させたポリッシ
ング液をポリッシング定盤のポリッシング基準面に供給
しながら、薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシングし
た。また、ポリッシング時に薄膜磁気ヘッドの浮動面に
かかる力は、１平方センチメートルあたり約１１００ｇ
とした。図３のグラフの縦軸は薄膜磁気ヘッドの浮動面
をポリッシングした後に実測したポールリセッションで
あり、グラフの横軸は実験条件として設定した螺旋状溝
の溝間隔ピッチ寸法である。なお、本実験では、実験条
件の螺旋状溝の溝間隔ピッチ寸法を２．０ｍｍ，０．８
ｍｍ，０．４ｍｍの３条件としたが、いずれの溝間隔ピ
ッチ寸法条件下においても溝幅寸法は０．３ｍｍで一定
とした。したがって、グラフの横軸に示した螺旋状溝の
溝間隔ピッチ寸法が小さければ小さいほど、ポリッシン
グ基準面に細かく細目の螺旋状溝を形成したことにな
る。図３の実験結果のグラフは、薄膜磁気ヘッドの浮動
面のポリッシングを行う際に、ポリッシング定盤のポリ
ッシング基準面に、より細かい細目の螺旋状溝を形成す
ると、ポールリセッションが低減されるということを示
している。具体的には、溝幅寸法０．３ｍｍの螺旋状溝
で、溝間隔ピッチ寸法が２．０ｍｍのとき５０ｎｍあっ
たポールリセッションが、溝間隔ピッチ寸法を０．４ｍ
ｍに細かく細目化したことで２０ｎｍまでに低減され
た。

【００２４】通常、理想的には、薄膜磁気ヘッドの記録
再生特性の低下を招かぬように、薄膜磁気ヘッドの浮動
面とポールとの段差、すなわち、ポールリセッションは
無いのが良いとされている。しかし、ポールリセッショ
ンのある薄膜磁気ヘッドが、全て実用不可能な不良品で
あるというわけではない。実用上は、薄膜磁気ヘッドが
組み込まれる磁気記録再生用装置に求められる総合的な
記録再生特性の性能にもよるが、ポールリセッションの
ある薄膜磁気ヘッドでも、そのポールリセッションの量
によっては実用可能な良品の薄膜磁気ヘッドとなる。具
体的には、現状の薄膜磁気ヘッドの量産においては、通
常、一般的にポールリセッションが３０ｎｍ以上ある薄
膜磁気ヘッドは不良品で、ポールリセッションがあって
も３０ｎｍ未満の薄膜磁気ヘッドは良品とされている。
したがって、前記した実験結果、すなわち、溝幅の寸法
が０．３ｍｍで溝間隔ピッチの寸法が０．４ｍｍの螺旋
状をポリッシング定盤のポリッシング基準面に設けて、
遊離砥粒を含んだポリッシング液をポリッシング定盤の
ポリッシング基準面に供給しながら薄膜磁気ヘッドの浮
動面をポリッシングすることで、ポールリセッションが
２０ｎｍまでに低減された実験結果を薄膜磁気ヘッドの
量産に導入すれば、薄膜磁気ヘッドの製造における浮動
面の最終仕上げポリッシング工程で、ポールリセッショ
ンが３０ｎｍ以上に達する不良品の発生が無くなり、薄
膜磁気ヘッドの製造歩留まりが向上する。

【００２５】

【発明の効果】本発明による薄膜磁気ヘッドの浮動面の
最終仕上げのためのポリッシング法に用いるポリッシン
グ定盤には、溝幅０．３ｍｍ以内，溝間隔ピッチ０．４
ｍｍ以内の細目の螺旋状溝をポリッシング定盤のポリッ
シング基準面に設け、さらには、前記細目の螺旋状溝と
交差し、ポリッシング定盤の半径方向に放射状の放射状
溝をも設けた。このため、ポリッシング基準面内で溝部
分が占める面積は有効ポリッシング基準面（溝以外の部
分，溝の凹凸形状の凸部の先端のフラットな部分）の面
積よりも大きくなり、ポリッシング時においては、ポリ
ッシング基準面に埋め込まれず遊離状態にある遊離砥粒
が効率良く螺旋状溝の中に落ちてポリッシング基準面の
表面上から除去される。また、螺旋状溝の中に落ちた遊
離砥粒は、ポリッシング時のポリッシング定盤の回転に
より生じる遠心力を受けて、放射状溝を通路としてポリ
ッシング定盤の外周部に向かって流れて行き、ポリッシ
ング定盤の外部へ効率良く排出される。したがって、本
発明による薄膜磁気ヘッドのポリッシング法によれば、
あらかじめ、ポリッシング基準面に遊離砥粒を埋め込む
作業と埋め込まれずに残留した遊離砥粒を除去する作業
とを行って遊離砥粒が固着したポリッシング定盤を作成
しておかなくとも良い。また、遊離砥粒を含んだポリッ
シング液を供給しながら薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリ
ッシングすることで、主に固定砥粒の切れ刃による浮動
面のポリッシングがなされ、薄膜磁気ヘッドのポールリ
セッションの低減が可能となり、薄膜磁気ヘッドの製造
における浮動面の最終仕上げポリッシング工程ではポー
ルリセッションが３０ｎｍ以上に達する不良品の発生が
無くなる。したがって、薄膜磁気ヘッドの製造における
歩留まりを向上することができる。

【００２６】また、本発明による薄膜磁気ヘッドの浮動
面最終仕上げポリッシング法では、溝幅０．３ｍｍ以
内，溝間隔ピッチ０．４ｍｍ以内の螺旋状溝をポリッシ
ング定盤のポリッシング基準面に設けることにより、ポ
リッシング基準面と薄膜磁気ヘッドの浮動面とにかかる
圧力を増大させ、遊離砥粒をポリッシング基準面に埋め
込む作用を促進させることができる。さらには、本発明
による薄膜磁気ヘッドの浮動面の最終仕上げポリッシン
グ法では、遊離砥粒を含んだポリッシング液を供給しな
がら浮動面のポリッシングを行う。したがって、ポリッ
シング定盤のポリッシング基準面には、次々に新しい切
れ刃を持った遊離砥粒が埋め込まれる。よって、本発明
による薄膜磁気ヘッドの浮動面の最終仕上げポリッシン
グ法では、多数の薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシン
グし、ポリッシング定盤の累積使用時間が増加していっ
てもポリッシング定盤の加工能力が低下しない。すなわ
ち、ポリッシング定盤の工具寿命を半永久的にすること
ができる。

【００２７】前記従来技術における遊離砥粒を固着させ
たポリッシング定盤では、加工能力の持続時間に限界が
あって、薄膜磁気ヘッドを量産する場合には、ポリッシ
ング定盤の工具寿命が短いために、あらかじめ遊離砥粒
を固着させたポリッシング定盤を頻繁に作成したり、予
備の遊離砥粒を固着させたポリッシング定盤を常時準備
しておく必要があった。しかし、本発明によれば、遊離
砥粒を含有させたポリッシング液を供給しながら浮動面
のポリッシングを行うのでポリッシング定盤のポリッシ
ング基準面には次々に新しい切れ刃を持った遊離砥粒が
供給される。さらに本発明では前記のごとく、遊離砥粒
がポリッシング基準面に埋め込まれる作用を促進させる
こともできるので、ポリッシング定盤のポリッシング基
準面には次々と新しい切れ刃を持った遊離砥粒が埋め込
まれる。したがって、ポリッシング定盤の累積使用時間
が増加していってもポリッシング定盤の加工能力は低下
せず、ポリッシング定盤の工具寿命が半永久的になるた
め、前記従来技術のように、あらかじめ遊離砥粒を固着
させたポリッシング定盤を頻繁に作成したり、予備の遊
離砥粒を固着させたポリッシング定盤を常時準備してお
く必要が無い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による一実施例を示す薄膜磁気ヘッドの
浮動面のポリッシング法を示す説明図である。

【図２】本発明によるポリッシング法で用いるポリッシ
ング定盤を示す図である。（ａ）は、ポリッシング定盤
のポリッシング基準面の平面図である。（ｂ）は、
（ａ）中に図示したＥ部のＸ―Ｘ要部断面図である。

【図３】ポリッシング定盤上の螺旋状溝の溝間隔ピッチ
とポールリセッションとの関係を示すグラフである。

【図４】薄膜磁気ヘッドの外観形状を示す図である。
（ａ）は薄膜磁気ヘッドの斜視図である。（ｂ）は、
（ａ）中に図示したＦ部のＹ―Ｙ要部断面図である。

【符号の説明】

１１ ポリッシング液 ２１ ポリッシング定盤 ２２ ポリッシング基準面 ２３ 螺旋状溝 ２４ 放射状溝

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浮動面を有する薄膜磁気ヘッドの製造に
   おける浮動面の最終仕上げポリッシング法において、ポ
   リッシング定盤のポリッシング基準面に、溝を設けたポ
   リッシング定盤を用いて、遊離砥粒を含有させたポリッ
   シング液を、該ポリッシング定盤のポリッシング基準面
   に供給しながら、薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシン
   グすることを特徴とする薄膜磁気ヘッドのポリッシング
   法。
2. 【請求項２】 前記溝の間隔をピッチ０．４ｍｍ以内と
   し、溝幅を０．３ｍｍ以内としたことを特徴とする請求
   項１に記載の薄膜磁気ヘッドのポリッシング法。
3. 【請求項３】 前記溝はポリッシング定盤の中心から外
   周へ向かう螺旋状溝であることを特徴とする請求項１ま
   たは請求項２に記載の薄膜磁気ヘッドのポリッシング
   法。
4. 【請求項４】 浮動面を有する薄膜磁気ヘッドの製造に
   おける浮動面の最終仕上げポリッシング法にあって、ポ
   リッシング定盤のポリッシング基準面に、溝を設けたポ
   リッシング定盤を用いて、遊離砥粒を含有させたポリッ
   シング液を、該ポリッシング定盤のポリッシング基準面
   に供給しながら、薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシン
   グする薄膜磁気ヘッドのポリッシング法において、前記
   溝と交差し、前記ポリッシング定盤の中心から外周へ向
   かう方向に遊離砥粒を排出するための排出用溝を前記溝
   とは別に設けたポリッシング定盤を用いることを特徴と
   する薄膜磁気ヘッドのポリッシング法。
5. 【請求項５】 前記溝の間隔をピッチ０．４ｍｍ以内と
   し、溝幅を０．３ｍｍ以内としたことを特徴とする請求
   項４に記載の薄膜磁気ヘッドのポリッシング法。
6. 【請求項６】 前記溝はポリッシング定盤の中心から外
   周へ向かう螺旋状溝であることを特徴とする請求項４ま
   たは請求項５に記載の薄膜磁気ヘッドのポリッシング
   法。
7. 【請求項７】 前記排出用溝をポリッシング定盤の半径
   方向に放射状とした放射状溝としたことを特徴とする請
   求項４または請求項５または請求項６に記載の薄膜磁気
   ヘッドのポリッシング法。