JPH06306580A - Method of forming pattern on substrate - Google Patents
Method of forming pattern on substrateInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、次のコーティングを阻
止する媒体によりサブストレートを部分的コーティング
し、次いで少なくとも1つの機能層を特許(特許出願P
4310 0856)に従って、設けることにより、サ
ブストレートにパターンを形成する方法と装置に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention partially coats a substrate with a medium that prevents subsequent coating, and then patents at least one functional layer (Patent Application P).
4310 0856) to provide a method and apparatus for forming a pattern on a substrate by providing it.
【0002】[0002]
【従来の技術】前記出願の発明は、フォイル・ウエブ
に、コーティングを阻止する媒体から成る特定のパター
ンを設ける問題を解決するものである。その目的のため
に、パターン保持体には、形成されるパターンに応じて
凹版のパターンが備えられ、この凹版パターンにおいて
凹所の空間的分配が、コーティングされてはならないフ
ォイル・ウエブ表面区域に合致しており、更に、その目
的のために凹所にはコーティングを阻止する媒体の蒸気
が充填され、かつまたサブストレートが事実上パターン
保持体と同時的に移動せしめられ、しかも凹所の開放側
がサブストレート表面に向けられており、それによっ
て、凹所内に充填されている蒸気がサブストレート上で
凝縮するようにされ、最後に、この蒸気の少なくとも一
部が凝縮したのち、サブストレートは少なくとも1つの
機能層を有することになる。The invention of the aforementioned application solves the problem of providing a foil web with a particular pattern of media which prevents the coating. For that purpose, the pattern carrier is provided with a pattern of intaglios, depending on the pattern to be formed, in which the spatial distribution of the recesses corresponds to the foil web surface areas which must not be coated. In addition, for that purpose, the recess is filled with vapor of a medium that prevents the coating, and also the substrate is moved virtually simultaneously with the pattern carrier, and the open side of the recess is Directed to the surface of the substrate, such that the vapor filling the recess is allowed to condense on the substrate, and finally at least a portion of this vapor has condensed, after which the substrate has at least 1 Will have two functional layers.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明の根底をなす課
題は、コーティングを阻止する媒体をフォイル・ウエブ
に蒸着する場合、蒸着の度合を調節することにより、サ
ブストレートの特定部分が蒸着されるが、きわめて僅か
の量の潤滑剤でのみ蒸着されることにより、前記特定部
分には、きわめて薄手の層とはいえ、更に金属層が蒸着
され得るようにすることにある。加えて、パターンは、
中断なしに反復される一様なパターンがストリップに形
成されるように構成され、かつまた最初のパターンでの
ストリップの潤滑化過程が進行する間に、次のパターン
へ移行できるように構成されるようにする。SUMMARY OF THE INVENTION The problem underlying the present invention is that when a coating blocking medium is deposited on a foil web, a particular portion of the substrate is deposited by adjusting the degree of deposition. However, by depositing only a very small amount of lubricant, it is possible to deposit an additional metal layer, albeit an extremely thin layer, on the specific portion. In addition, the pattern is
A uniform pattern is formed on the strip that repeats without interruption, and is also adapted to allow the transition to the next pattern while the lubrication process of the strip in the first pattern proceeds. To do so.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば次のような方法により解決された。すなわち、パタ
ーン保持体が周期的に断続的に運動する一方、サブスト
レートは連続的にパターン保持体のところを通過し、し
かも、凹所の開放側がサブストレート表面に向くように
され、それによって、凹所内に含まれていた蒸気がサブ
ストレート上で凝縮し、更に、この蒸気の少なくとも一
部が凝縮後、サブストレートに少なくとも1つの機能層
が設けられるようにする方法である。According to the present invention, this problem has been solved by the following method. That is, the pattern carrier moves periodically and intermittently, while the substrate passes continuously at the pattern carrier, and the open side of the recess is directed toward the substrate surface, whereby In this method, the vapor contained in the recess is condensed on the substrate, and after at least a part of the vapor is condensed, the substrate is provided with at least one functional layer.
【0005】本発明によれば次のような装置が提供され
る。すなわち、サブストレートが、連続的にパターン保
持体のところを通過可能であり、かつまた掻取り条片又
は遮蔽部材と協働して、蒸発した分離媒体を凹版パター
ン内に閉じ込めるか、ないしは余分の分離媒体蒸気を調
量して、蒸気器が配置されているチャンバ内に抑留する
ような装置である。According to the present invention, the following device is provided. That is, the substrate is capable of continuously passing at the pattern carrier and also cooperates with the scraping strips or shields to entrap the vaporized separation medium within the intaglio pattern or to prevent excess A device for metering the separation medium vapor and retaining it in the chamber in which the vaporizer is arranged.
【0006】このほかの特徴及び詳細は請求項2以下の
各項に記載の通りである。[0006] Other features and details are as described in each of the following claims.
【0007】[0007]
【実施例】本発明は、きわめて種々の実施例が可能であ
る。そのうちの1実施例が添付図面に略示されている。The present invention can be applied to various embodiments. One embodiment of which is schematically illustrated in the accompanying drawings.
【0008】図示のウエブ・コーティング装置は、実質
的に、2つのプレート3,4間に支承された変向ロー
ラ、テンション測定ローラ、伸しローラ、張りローラ5
〜10ないし11〜17、冷却されたコーティングロー
ラ18、繰出しローラ37、巻上げローラ35′、パタ
ーン保持体58、中空シリンダ32により形成されたコ
ーティング・チャンバ28内に配置された蒸発容器2
1、コーティング過程観察用テレビカメラ22から成っ
ている。支持架台52に固定された2個のプレート3,
4は、キャスタ26,27を介して走行レール24,2
5上を、ローラ5〜10,11〜17及びコーティング
ローラ18と一緒に走行し、矢印方向Rでコーティング
・チャンバ28に出入する。これらのローラは巻取り装
置29を形成している。巻取り装置29が走入する場
合、支持架台52に固定配置されたディスク状のふた3
0が、その縁区域を中空シリンダ32のフランジ状端面
31に対し当付けられ、詳細には図示されていないクラ
ンプ部材により中空シリンダ32に固定されるか、ない
しは作業段階でチャンバ45内を支配する負圧のため、
大気圧により端面31の方向へ引付けられる。The web coating device shown is essentially a deflection roller, a tension measuring roller, a stretching roller and a tensioning roller 5 which are mounted between two plates 3 and 4.
-10 to 11-17, cooled coating roller 18, feeding roller 37, winding roller 35 ', pattern holder 58, evaporation container 2 arranged in coating chamber 28 formed by hollow cylinder 32
1. A TV camera 22 for observing the coating process. Two plates 3, which are fixed to the support base 52,
4 is traveling rails 24, 2 via casters 26, 27.
5 travels with rollers 5-10, 11-17 and coating roller 18 in and out of coating chamber 28 in the direction of arrow R. These rollers form the winding device 29. When the winding device 29 runs, the disk-shaped lid 3 fixedly arranged on the support frame 52
0 is applied at its edge area to the flange-like end face 31 of the hollow cylinder 32 and is fixed to the hollow cylinder 32 by a clamping member not shown in detail, or it prevails in the chamber 45 in the working stage. Because of negative pressure,
It is attracted toward the end face 31 by the atmospheric pressure.
【0009】蒸発器34は中空成形体により形成され、
その両端は端部材によって閉じられている。蒸発器34
の内部には、ロッド状の加熱部材が配置され、この加熱
部材の周囲が分離媒体により完全に取囲まれている。蒸
発した分離媒体はノズル36を介してパターン保持体5
8の方向へ放出される。掻取り条片又は遮蔽部材43,
44により、分離媒体が、印刷パターンを形成する凹所
42,42′…内に残される。凹所42,42′…はパ
ターン保持体58の円筒形外とう面に設けられている。The evaporator 34 is formed of a hollow molded body,
Both ends thereof are closed by end members. Evaporator 34
A rod-shaped heating member is arranged inside the heating element, and the circumference of the heating member is completely surrounded by the separation medium. The evaporated separation medium passes through the nozzle 36 and the pattern holder 5
Emitted in the direction of 8. Scraping strips or shielding members 43,
By 44, the separation medium is left in the recesses 42, 42 '... Which form the printed pattern. The recesses 42, 42 '... Are provided in the cylindrical outer surface of the pattern holder 58.
【0010】更に、蒸発器34はチャンバ39内に配置
されている。チャンバ39は、この区域内での分離媒体
の凝縮を防止する圧力を有している。チャンバ39は、
一方ではチャンバ壁により、他方ではパターン保持体5
8により制限されている。Further, the evaporator 34 is arranged in the chamber 39. The chamber 39 has a pressure that prevents condensation of the separation medium in this area. The chamber 39 is
On the one hand, the chamber wall, and on the other hand, the pattern carrier 5.
Limited by 8.
【0011】蒸発器34には、更に、温度センサを備え
ておくのが有利である。この温度センサによって分離媒
体温度の精密な監視と維持が可能になる(加熱回路の監
視と調整に必要な接続回路は図示されていない)。Advantageously, the evaporator 34 is further equipped with a temperature sensor. This temperature sensor allows precise monitoring and maintenance of the separation medium temperature (connection circuits necessary for monitoring and regulation of the heating circuit are not shown).
【0012】蒸発器34はアングル部材53,53′を
介して双方のプレート3,4の間に保持されている。こ
の保持形式は、ノズル36の噴出方向が、湿潤化される
パターン保持体面に向くようにされる。The evaporator 34 is held between both plates 3 and 4 via angle members 53 and 53 '. In this holding method, the ejection direction of the nozzle 36 is directed to the surface of the pattern holder to be wetted.
【0013】図1に示されているように、ノズル36
は、フォイル・ウエブ50の近く、それもコーティング
ローラ18の直ぐ近くに配置されているので、通過する
フォイル・ウエブ50を分離媒体による湿潤化の直後
に、本来のコーティング過程を実施できる。分離媒体
(たとえばシリコンオイル)で湿潤化されるフォイル・
ウエブ部分には、蒸発容器21内で蒸発した金属は、全
く蒸着しないか、もしくは、極めて薄い湿潤化膜の場合
には、蒸着が著しく制限される。この結果、フォイル・
ウエブ50のどの部分が金属蒸着ないし金属コーティン
グされないままか、もしくは薄膜コーティングされるか
は、パターン保持体58の凹所42,42′…の数と寸
法、更には形状に従って決まる。As shown in FIG. 1, the nozzle 36
Is located near the foil web 50, also in the immediate vicinity of the coating roller 18, so that the passing coating of the foil web 50 can be carried out immediately after wetting with the separating medium. Foil moistened with a separation medium (eg silicone oil)
On the web portion, the metal evaporated in the evaporation container 21 is not vapor-deposited at all, or in the case of an extremely thin wetting film, vapor deposition is significantly limited. As a result, the foil
Which portion of the web 50 is left without metal vapor deposition or metal coating or with thin film coating depends on the number and size of the recesses 42, 42 '... Of the pattern holder 58, and also on the shape.
【0014】図1及び図2に示された装置の場合、ロー
ラ5〜10は、フォイル・ウエブ50の搬送と案内のた
め、次のように配置されている。すなわち、コーティン
グ・ローラ18の直ぐ前方に位置するフォイル・ウエブ
部分が、急角度で、すなわちほとんど垂直にパターン保
持体58から下方へ走行するように配置される。In the case of the device shown in FIGS. 1 and 2, the rollers 5-10 are arranged as follows for conveying and guiding the foil web 50. That is, the foil web portion located immediately in front of the coating roller 18 is arranged to run downward from the pattern holder 58 at a steep angle, that is, almost vertically.
【0015】フォイル・ウエブのこの部分は別様に案内
することも可能であるのは、言うまでもない。その場合
には、たとえばほぼ水平平面内でコーティングローラ1
8上を走行し、しかも、図3に示した分離媒体を蒸着す
るパターン保持体58の位置や寸法を変更する必要がな
いようにする。It goes without saying that this part of the foil web can also be guided differently. In that case, for example, the coating roller 1 in a substantially horizontal plane.
It is arranged so that it is not necessary to change the position or size of the pattern holder 58 which runs on the upper surface of the pattern holder 58 and which deposits the separation medium shown in FIG.
【0016】図3に示したように、パターン保持体は中
空ローラとして構成され、個々の凹所42,42′,4
2″…により凹版のパターンが生ぜしめられる。ノズル
36から出る分離媒体蒸気は、チャンバ39に充満する
ので、チャンバ39に向って開いている凹所42,4
2′…にも充満する。パターン保持体58は矢印方向に
ステップ式に継続回転できるので、遮蔽部材43,44
により過剰な蒸気が阻止される。言いかえると、凹所内
に集められない蒸気は、フォイル・ウエブの方向へ放出
される。As shown in FIG. 3, the pattern carrier is constructed as a hollow roller and has individual recesses 42, 42 'and 4'.
2 ″ ... produces an intaglio pattern. The separating medium vapor emerging from the nozzle 36 fills the chamber 39, so that the recesses 42, 4 open towards the chamber 39.
It also fills 2 '... Since the pattern holder 58 can be continuously rotated stepwise in the direction of the arrow, the shield members 43, 44 can be rotated.
Prevents excessive steam. In other words, the vapor that is not collected in the recess is discharged towards the foil web.
【0017】フォイル・ウエブ50は、パターン保持体
58に対し間隔bを隔てて走行する一方、パターン保持
体58は一定位置に静止しているので、調節可能の遮蔽
部材43,44と、遮蔽部材開口aの区域に向けられる
凹所42との間で、幅ないし湿潤度に多少の差はあれ湿
潤媒体の蒸着されたストリップがウエブ50上に残され
る。The foil web 50 runs at a distance b with respect to the pattern holder 58, while the pattern holder 58 is stationary at a fixed position, so that the adjustable shield members 43 and 44 and the shield member. With respect to the recess 42 directed towards the area of the opening a, a strip of vapor of wetting medium is left on the web 50 with some difference in width or wetting.
【図1】ウエブ・コーティング装置の一部分の平面図
で、巻取り装置が装着過程時に中空シリンダとして構成
されたコーティング・チャンバから送出された状態を示
した図。この場合、図2に示されている変向ローラ及び
張りローラのうちの向個かが、見易くするために省略さ
れている。FIG. 1 is a plan view of a portion of a web coating device, showing the take-up device delivered from a coating chamber configured as a hollow cylinder during the loading process. In this case, one of the deflecting roller and the tensioning roller shown in FIG. 2 is omitted for clarity.
【図2】図1のA−B線に沿って切断して示した側断面
図。FIG. 2 is a side sectional view cut along the line AB of FIG.
【図3】分離媒体によりフォイル・ウエブを湿潤化する
ためのパターン保持体を切断して示した斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a cut pattern holder for wetting the foil web with a separation medium.
【図4】図1の分離媒体蒸発器及びパターン保持体の拡
大側面図。4 is an enlarged side view of the separation medium evaporator and the pattern holder of FIG.
3,4 プレート 5,7,8,10,14,17 変向ローラ 6 張りローラ 9,15 伸しローラ 11,16 テンション測定ローラ 12 テンションローラ 13 測定ローラ 18 コーティングローラ 19 蒸発源 20 アルミニウム・ワイヤリール 21 蒸発容器 22 テレビカメラ 23 ワイヤ案内 24,25 走行レール 26,27 キャスタ 28 コーティング・チャンバ 29 巻取り装置 30 ふた 31 端面 32 中空シリンダ 34 蒸発器 35 巻き体 35′ 巻上げローラ 36 ノズル 37′ 繰出しローラ 40,41,41′ ケーシング壁 42,42′,42″ 凹所 43,44 遮蔽部材 45 チャンバ 50 フォイル・ウエブ 52 支持架台 58 パターン保持体 3,4 Plates 5,7,8,10,14,17 Deflection roller 6 Tension roller 9,15 Stretching roller 11,16 Tension measuring roller 12 Tension roller 13 Measuring roller 18 Coating roller 19 Evaporation source 20 Aluminum wire reel 21 Evaporation Container 22 Television Camera 23 Wire Guide 24, 25 Traveling Rails 26, 27 Casters 28 Coating Chamber 29 Winding Device 30 Lid 31 End Face 32 Hollow Cylinder 34 Evaporator 35 Rolling Body 35 'Rolling Roller 36 Nozzle 37' Feeding Roller 40 , 41, 41 'Casing wall 42, 42', 42 "Recess 43, 44 Shielding member 45 Chamber 50 Foil web 52 Support frame 58 Pattern holder
Claims (5)
てサブストレート(50)を部分的にコーティングし、
かつまた少なくとも1つの機能層を次に設けることによ
り、サブストレート(50)上にパターンを形成する方
法であって、その目的のために、造出されるべきパター
ンに従って、パターン保持体(58)に凹版のパターン
が設けられており、このパターン保持体(58)におい
ては凹所(42,42′,42″)の空間的分配が、サ
ブストレート(50)の、コーティングされない表面区
域に合致し、更に、凹所(42,42′,42″…)に
はコーティングを阻止する媒体の蒸気が、特許(特許出
願P…に従って充填されている形式のものにおいて、た
とえばステップバイステップ・スイッチ機構により回転
可能のパターン保持体(58)が、周期的に断続的に運
動を続ける一方、サブストレートが連続的にパターン保
持体(58)のところを通過し、そのさい皿状の凹所の
開放側が、サブストレート表面に向くようにされてお
り、それによって凹所内に含まれている蒸気がサブスト
レート(50)上に凝縮し、更に、最後的には、凝縮後
にこの蒸気の一部が、サブストレート(50)に少なく
とも1つの機能層を形成することを特徴とする、サブス
トレート上にパターンを形成する方法。1. A substrate (50) is partially coated with a medium that prevents subsequent coating,
And also a method of forming a pattern on a substrate (50) by subsequently providing at least one functional layer, for which purpose a pattern carrier (58) according to the pattern to be created. In this pattern carrier (58), the spatial distribution of the recesses (42, 42 ', 42 ") corresponds to the uncoated surface area of the substrate (50). Furthermore, in the type in which the recesses (42, 42 ', 42 "...) Are filled with vapors which prevent the coating according to the patent (patent application P ...) While the rotatable pattern holder (58) continues to move periodically and intermittently, the substrate continuously moves to the pattern holder (58). The open side of the dish-shaped recess passing through the filter is directed toward the substrate surface, whereby the vapor contained in the recess is condensed on the substrate (50), and further, Finally, a method for forming a pattern on a substrate, characterized in that after condensation part of this vapor forms at least one functional layer on the substrate (50).
ウエブ(50)の場合に、特にコンデンサ用の、金属を
有さないストリップを製造する装置であって、ケーシン
グ(32)から成り、このケーシング(32)には、ケ
ーシングを圧力密に閉じるふた(30)と巻取り装置
(29)が備えられ、更に、回転可能に支承された変向
及び張りローラ(5〜10ないし11〜17,33)
と、少なくとも1個のコーティングローラ(18)と、
巻上げローラ(35′)と、繰出しローラ(37′)
と、ケーシング(32)内に保持されたコーティング源
(19)と、分離媒体、特にオイルを受容する蒸発器
(34)と、蒸発器(34)から蒸発する分離媒体を放
出する少なくとも1つのノズル(36)とが備えられて
おり、しかも、コーティングローラ(18)には、有利
には円筒体として構成され、凹版のパターン(53)を
有するパターン保持体(53)が前置されており、更
に、放出ノズル(36)がパターン保持体(58)に、
特許(特許出願P…)に従って向けられている形式のも
のにおいて、 パターン保持体(58)が周期的に断続して可動である
のに対し、サブストレートは連続的にパターン保持体
(58)のところを通過可能であり、更に、掻取り条片
又は遮蔽部材(43,44)が備えられ、それら(4
3,44)が、蒸発した分離媒体を凹版パターン(5
3)内へ閉じ込め、余分な分離媒体蒸気は、蒸発器(3
4)が配置されている別個のチャンバ(39,55)内
に抑留されるか、ないしは調量されてサブストレート
(50)上へ流されるかすることを特徴とする、金属を
有さないストリップを製造する装置。2. A foil coated in a vacuum
Device for producing strips free of metal, in particular in the case of webs (50), for capacitors, which consists of a casing (32), which has a lid (which closes it in a pressure-tight manner). 30) and a winding device (29), and further rotatably supported deflecting and tensioning rollers (5-10 to 11-17, 33).
And at least one coating roller (18),
Winding roller (35 ') and feeding roller (37')
A coating source (19) held in a casing (32), an evaporator (34) for receiving a separation medium, in particular oil, and at least one nozzle for discharging the separation medium evaporated from the evaporator (34). (36), and the coating roller (18) is preceded by a pattern holder (53), preferably in the form of a cylinder and having an intaglio pattern (53), Further, the discharge nozzle (36) is attached to the pattern holder (58),
In the type oriented according to the patent (patent application P ...), the pattern carrier (58) is cyclically movable, whereas the substrate is continuous with the pattern carrier (58). However, a scraping strip or a shielding member (43, 44) is provided and these (4
3, 44), the evaporated separation medium is treated with an intaglio pattern (5
3) trapped in the excess separation medium vapor,
4) A strip without metal, characterized in that it is retained in a separate chamber (39, 55) in which it is arranged or is metered and flowed onto a substrate (50). Equipment for manufacturing.
として構成されており、しかも、このノズルから放出さ
れる分離媒体蒸気がチャンバ(39)内へ流入し、この
チャンバ(39)が、一方では遮蔽部材(43,44)
により制限され、他方ではチャンバ(39)のケーシン
グ壁により制限されており、更に、パターン保持体(5
8)がケーシング開口(a)との間に狭い間隙を形成
し、チャンバ(39)が隣接チャンバ(45)より高い
圧力を有していることを特徴とする、請求項2記載の装
置。3. The discharge nozzle (36) is configured as a slit or row of holes, and the separation medium vapor discharged from this nozzle flows into a chamber (39), which chamber (39) Then, the shielding member (43, 44)
By the casing wall of the chamber (39) and on the other hand by the pattern holder (5
Device according to claim 2, characterized in that 8) forms a narrow gap with the casing opening (a) and the chamber (39) has a higher pressure than the adjacent chamber (45).
6,54)等の弾性部材、又は磁石によってケーシング
壁(40)に押付けられるが、ケーシング開口(a)の
方向へ可動に保持されていることを特徴とする、請求項
2又は3記載の装置。4. The shield member (43, 44) is a spring (4).
Device according to claim 2 or 3, characterized in that it is pressed against the casing wall (40) by an elastic member such as 6, 54) or by a magnet, but is held movably in the direction of the casing opening (a). .
(43,44)により制限された間隙(a)のところ
を、パターン保持体(58)に対し間隔をおいて通過す
ることを特徴とする、請求項2から4のいずれか1項に
記載の装置。5. The foil web (50) passes through the gap (a) defined by the shielding members (43, 44) at a distance from the pattern holder (58). The device according to any one of claims 2 to 4, which comprises:
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4311581.0 | 1993-04-08 | ||
| DE19934311581 DE4311581A1 (en) | 1993-03-27 | 1993-04-08 | Method and device for producing patterns on substrates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06306580A true JPH06306580A (en) | 1994-11-01 |
| JP2683215B2 JP2683215B2 (en) | 1997-11-26 |
Family
ID=6485047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6974194A Expired - Lifetime JP2683215B2 (en) | 1993-04-08 | 1994-04-07 | Method of forming a pattern on a substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2683215B2 (en) |
-
1994
- 1994-04-07 JP JP6974194A patent/JP2683215B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2683215B2 (en) | 1997-11-26 |
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