JPH06306580A - サブストレート上にパターンを形成する方法 - Google Patents

サブストレート上にパターンを形成する方法

Info

Publication number
JPH06306580A
JPH06306580A JP6974194A JP6974194A JPH06306580A JP H06306580 A JPH06306580 A JP H06306580A JP 6974194 A JP6974194 A JP 6974194A JP 6974194 A JP6974194 A JP 6974194A JP H06306580 A JPH06306580 A JP H06306580A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
substrate
chamber
coating
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6974194A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2683215B2 (ja
Inventor
Siegfried Kleyer
クライヤー ジークフリート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19934311581 external-priority patent/DE4311581A1/de
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Publication of JPH06306580A publication Critical patent/JPH06306580A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2683215B2 publication Critical patent/JP2683215B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 コーティングを阻止する媒体でフォイル・ウ
エブを湿潤化する場合、湿潤化の度合を調節して、サブ
ストレートを部分的に僅かの量の湿潤媒体で湿潤し、そ
れらの部分にも金属層が蒸着できるようにする。 【構成】 パターン保持体58が断続的に回転する一
方、サブストレートのウエブ50は連続的に保持体58
のところを通過し、凹所42,42′…の開放側がウエ
ブ表面に向いているようにされ、凹所内の蒸気がウエブ
表面で凝縮し、この蒸気の一部が凝縮後、サブストレー
トに少なくとも1つの機能層が設けられるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、次のコーティングを阻
止する媒体によりサブストレートを部分的コーティング
し、次いで少なくとも1つの機能層を特許(特許出願P
4310 0856)に従って、設けることにより、サ
ブストレートにパターンを形成する方法と装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】前記出願の発明は、フォイル・ウエブ
に、コーティングを阻止する媒体から成る特定のパター
ンを設ける問題を解決するものである。その目的のため
に、パターン保持体には、形成されるパターンに応じて
凹版のパターンが備えられ、この凹版パターンにおいて
凹所の空間的分配が、コーティングされてはならないフ
ォイル・ウエブ表面区域に合致しており、更に、その目
的のために凹所にはコーティングを阻止する媒体の蒸気
が充填され、かつまたサブストレートが事実上パターン
保持体と同時的に移動せしめられ、しかも凹所の開放側
がサブストレート表面に向けられており、それによっ
て、凹所内に充填されている蒸気がサブストレート上で
凝縮するようにされ、最後に、この蒸気の少なくとも一
部が凝縮したのち、サブストレートは少なくとも1つの
機能層を有することになる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の根底をなす課
題は、コーティングを阻止する媒体をフォイル・ウエブ
に蒸着する場合、蒸着の度合を調節することにより、サ
ブストレートの特定部分が蒸着されるが、きわめて僅か
の量の潤滑剤でのみ蒸着されることにより、前記特定部
分には、きわめて薄手の層とはいえ、更に金属層が蒸着
され得るようにすることにある。加えて、パターンは、
中断なしに反復される一様なパターンがストリップに形
成されるように構成され、かつまた最初のパターンでの
ストリップの潤滑化過程が進行する間に、次のパターン
へ移行できるように構成されるようにする。
【0004】
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば次のような方法により解決された。すなわち、パタ
ーン保持体が周期的に断続的に運動する一方、サブスト
レートは連続的にパターン保持体のところを通過し、し
かも、凹所の開放側がサブストレート表面に向くように
され、それによって、凹所内に含まれていた蒸気がサブ
ストレート上で凝縮し、更に、この蒸気の少なくとも一
部が凝縮後、サブストレートに少なくとも1つの機能層
が設けられるようにする方法である。
【0005】本発明によれば次のような装置が提供され
る。すなわち、サブストレートが、連続的にパターン保
持体のところを通過可能であり、かつまた掻取り条片又
は遮蔽部材と協働して、蒸発した分離媒体を凹版パター
ン内に閉じ込めるか、ないしは余分の分離媒体蒸気を調
量して、蒸気器が配置されているチャンバ内に抑留する
ような装置である。
【0006】このほかの特徴及び詳細は請求項2以下の
各項に記載の通りである。
【0007】
【実施例】本発明は、きわめて種々の実施例が可能であ
る。そのうちの1実施例が添付図面に略示されている。
【0008】図示のウエブ・コーティング装置は、実質
的に、2つのプレート3,4間に支承された変向ロー
ラ、テンション測定ローラ、伸しローラ、張りローラ5
〜10ないし11〜17、冷却されたコーティングロー
ラ18、繰出しローラ37、巻上げローラ35′、パタ
ーン保持体58、中空シリンダ32により形成されたコ
ーティング・チャンバ28内に配置された蒸発容器2
1、コーティング過程観察用テレビカメラ22から成っ
ている。支持架台52に固定された2個のプレート3,
4は、キャスタ26,27を介して走行レール24,2
5上を、ローラ5〜10,11〜17及びコーティング
ローラ18と一緒に走行し、矢印方向Rでコーティング
・チャンバ28に出入する。これらのローラは巻取り装
置29を形成している。巻取り装置29が走入する場
合、支持架台52に固定配置されたディスク状のふた3
0が、その縁区域を中空シリンダ32のフランジ状端面
31に対し当付けられ、詳細には図示されていないクラ
ンプ部材により中空シリンダ32に固定されるか、ない
しは作業段階でチャンバ45内を支配する負圧のため、
大気圧により端面31の方向へ引付けられる。
【0009】蒸発器34は中空成形体により形成され、
その両端は端部材によって閉じられている。蒸発器34
の内部には、ロッド状の加熱部材が配置され、この加熱
部材の周囲が分離媒体により完全に取囲まれている。蒸
発した分離媒体はノズル36を介してパターン保持体5
8の方向へ放出される。掻取り条片又は遮蔽部材43,
44により、分離媒体が、印刷パターンを形成する凹所
42,42′…内に残される。凹所42,42′…はパ
ターン保持体58の円筒形外とう面に設けられている。
【0010】更に、蒸発器34はチャンバ39内に配置
されている。チャンバ39は、この区域内での分離媒体
の凝縮を防止する圧力を有している。チャンバ39は、
一方ではチャンバ壁により、他方ではパターン保持体5
8により制限されている。
【0011】蒸発器34には、更に、温度センサを備え
ておくのが有利である。この温度センサによって分離媒
体温度の精密な監視と維持が可能になる(加熱回路の監
視と調整に必要な接続回路は図示されていない)。
【0012】蒸発器34はアングル部材53,53′を
介して双方のプレート3,4の間に保持されている。こ
の保持形式は、ノズル36の噴出方向が、湿潤化される
パターン保持体面に向くようにされる。
【0013】図1に示されているように、ノズル36
は、フォイル・ウエブ50の近く、それもコーティング
ローラ18の直ぐ近くに配置されているので、通過する
フォイル・ウエブ50を分離媒体による湿潤化の直後
に、本来のコーティング過程を実施できる。分離媒体
(たとえばシリコンオイル)で湿潤化されるフォイル・
ウエブ部分には、蒸発容器21内で蒸発した金属は、全
く蒸着しないか、もしくは、極めて薄い湿潤化膜の場合
には、蒸着が著しく制限される。この結果、フォイル・
ウエブ50のどの部分が金属蒸着ないし金属コーティン
グされないままか、もしくは薄膜コーティングされるか
は、パターン保持体58の凹所42,42′…の数と寸
法、更には形状に従って決まる。
【0014】図1及び図2に示された装置の場合、ロー
ラ5〜10は、フォイル・ウエブ50の搬送と案内のた
め、次のように配置されている。すなわち、コーティン
グ・ローラ18の直ぐ前方に位置するフォイル・ウエブ
部分が、急角度で、すなわちほとんど垂直にパターン保
持体58から下方へ走行するように配置される。
【0015】フォイル・ウエブのこの部分は別様に案内
することも可能であるのは、言うまでもない。その場合
には、たとえばほぼ水平平面内でコーティングローラ1
8上を走行し、しかも、図3に示した分離媒体を蒸着す
るパターン保持体58の位置や寸法を変更する必要がな
いようにする。
【0016】図3に示したように、パターン保持体は中
空ローラとして構成され、個々の凹所42,42′,4
2″…により凹版のパターンが生ぜしめられる。ノズル
36から出る分離媒体蒸気は、チャンバ39に充満する
ので、チャンバ39に向って開いている凹所42,4
2′…にも充満する。パターン保持体58は矢印方向に
ステップ式に継続回転できるので、遮蔽部材43,44
により過剰な蒸気が阻止される。言いかえると、凹所内
に集められない蒸気は、フォイル・ウエブの方向へ放出
される。
【0017】フォイル・ウエブ50は、パターン保持体
58に対し間隔bを隔てて走行する一方、パターン保持
体58は一定位置に静止しているので、調節可能の遮蔽
部材43,44と、遮蔽部材開口aの区域に向けられる
凹所42との間で、幅ないし湿潤度に多少の差はあれ湿
潤媒体の蒸着されたストリップがウエブ50上に残され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウエブ・コーティング装置の一部分の平面図
で、巻取り装置が装着過程時に中空シリンダとして構成
されたコーティング・チャンバから送出された状態を示
した図。この場合、図2に示されている変向ローラ及び
張りローラのうちの向個かが、見易くするために省略さ
れている。
【図2】図1のA−B線に沿って切断して示した側断面
図。
【図3】分離媒体によりフォイル・ウエブを湿潤化する
ためのパターン保持体を切断して示した斜視図。
【図4】図1の分離媒体蒸発器及びパターン保持体の拡
大側面図。
【符号の説明】
3,4 プレート 5,7,8,10,14,17 変向ローラ 6 張りローラ 9,15 伸しローラ 11,16 テンション測定ローラ 12 テンションローラ 13 測定ローラ 18 コーティングローラ 19 蒸発源 20 アルミニウム・ワイヤリール 21 蒸発容器 22 テレビカメラ 23 ワイヤ案内 24,25 走行レール 26,27 キャスタ 28 コーティング・チャンバ 29 巻取り装置 30 ふた 31 端面 32 中空シリンダ 34 蒸発器 35 巻き体 35′ 巻上げローラ 36 ノズル 37′ 繰出しローラ 40,41,41′ ケーシング壁 42,42′,42″ 凹所 43,44 遮蔽部材 45 チャンバ 50 フォイル・ウエブ 52 支持架台 58 パターン保持体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次のコーティングを阻止する媒体を用い
    てサブストレート(50)を部分的にコーティングし、
    かつまた少なくとも1つの機能層を次に設けることによ
    り、サブストレート(50)上にパターンを形成する方
    法であって、その目的のために、造出されるべきパター
    ンに従って、パターン保持体(58)に凹版のパターン
    が設けられており、このパターン保持体(58)におい
    ては凹所(42,42′,42″)の空間的分配が、サ
    ブストレート(50)の、コーティングされない表面区
    域に合致し、更に、凹所(42,42′,42″…)に
    はコーティングを阻止する媒体の蒸気が、特許(特許出
    願P…に従って充填されている形式のものにおいて、た
    とえばステップバイステップ・スイッチ機構により回転
    可能のパターン保持体(58)が、周期的に断続的に運
    動を続ける一方、サブストレートが連続的にパターン保
    持体(58)のところを通過し、そのさい皿状の凹所の
    開放側が、サブストレート表面に向くようにされてお
    り、それによって凹所内に含まれている蒸気がサブスト
    レート(50)上に凝縮し、更に、最後的には、凝縮後
    にこの蒸気の一部が、サブストレート(50)に少なく
    とも1つの機能層を形成することを特徴とする、サブス
    トレート上にパターンを形成する方法。
  2. 【請求項2】 真空内でコーティングされるフォイル・
    ウエブ(50)の場合に、特にコンデンサ用の、金属を
    有さないストリップを製造する装置であって、ケーシン
    グ(32)から成り、このケーシング(32)には、ケ
    ーシングを圧力密に閉じるふた(30)と巻取り装置
    (29)が備えられ、更に、回転可能に支承された変向
    及び張りローラ(5〜10ないし11〜17,33)
    と、少なくとも1個のコーティングローラ(18)と、
    巻上げローラ(35′)と、繰出しローラ(37′)
    と、ケーシング(32)内に保持されたコーティング源
    (19)と、分離媒体、特にオイルを受容する蒸発器
    (34)と、蒸発器(34)から蒸発する分離媒体を放
    出する少なくとも1つのノズル(36)とが備えられて
    おり、しかも、コーティングローラ(18)には、有利
    には円筒体として構成され、凹版のパターン(53)を
    有するパターン保持体(53)が前置されており、更
    に、放出ノズル(36)がパターン保持体(58)に、
    特許(特許出願P…)に従って向けられている形式のも
    のにおいて、 パターン保持体(58)が周期的に断続して可動である
    のに対し、サブストレートは連続的にパターン保持体
    (58)のところを通過可能であり、更に、掻取り条片
    又は遮蔽部材(43,44)が備えられ、それら(4
    3,44)が、蒸発した分離媒体を凹版パターン(5
    3)内へ閉じ込め、余分な分離媒体蒸気は、蒸発器(3
    4)が配置されている別個のチャンバ(39,55)内
    に抑留されるか、ないしは調量されてサブストレート
    (50)上へ流されるかすることを特徴とする、金属を
    有さないストリップを製造する装置。
  3. 【請求項3】 放出ノズル(36)がスリッド又は穴列
    として構成されており、しかも、このノズルから放出さ
    れる分離媒体蒸気がチャンバ(39)内へ流入し、この
    チャンバ(39)が、一方では遮蔽部材(43,44)
    により制限され、他方ではチャンバ(39)のケーシン
    グ壁により制限されており、更に、パターン保持体(5
    8)がケーシング開口(a)との間に狭い間隙を形成
    し、チャンバ(39)が隣接チャンバ(45)より高い
    圧力を有していることを特徴とする、請求項2記載の装
    置。
  4. 【請求項4】 遮蔽部材(43,44)が、ばね(4
    6,54)等の弾性部材、又は磁石によってケーシング
    壁(40)に押付けられるが、ケーシング開口(a)の
    方向へ可動に保持されていることを特徴とする、請求項
    2又は3記載の装置。
  5. 【請求項5】 フォイル・ウエブ(50)が、遮蔽部材
    (43,44)により制限された間隙(a)のところ
    を、パターン保持体(58)に対し間隔をおいて通過す
    ることを特徴とする、請求項2から4のいずれか1項に
    記載の装置。
JP6974194A 1993-04-08 1994-04-07 サブストレート上にパターンを形成する方法 Expired - Lifetime JP2683215B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4311581.0 1993-04-08
DE19934311581 DE4311581A1 (de) 1993-03-27 1993-04-08 Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Muster auf Substraten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06306580A true JPH06306580A (ja) 1994-11-01
JP2683215B2 JP2683215B2 (ja) 1997-11-26

Family

ID=6485047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6974194A Expired - Lifetime JP2683215B2 (ja) 1993-04-08 1994-04-07 サブストレート上にパターンを形成する方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2683215B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2683215B2 (ja) 1997-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5350598A (en) Apparatus and method for selectively coating a substrate in strip form
US5652022A (en) Method and apparatus for the production of metal-free areas during metal vapor deposition
KR101450339B1 (ko) 증발원 및 이것을 이용한 진공 증착 장치
US20110297087A1 (en) Vacuum metallization device with means to create metal-free areas
DE69406084T2 (de) Vakuumbeschichtung von Bahnen
BR0008745A (pt) Aparelho para deposição de material de filme fino sobre um substrato, processo para fabricar uma pilha de interferÈmetro depositada sobre um substrato e dispositivo de microondas ampliado
JPH0661113A (ja) フィルムに無金属縞を製造する装置
CN103502502A (zh) 反应沉积工艺的气体系统
KR102896631B1 (ko) 진공 챔버에서 기판을 코팅하기 위한 기상 증착 장치 및 방법
JP2683215B2 (ja) サブストレート上にパターンを形成する方法
US20070089676A1 (en) Arrangement for the vapor deposition on substrates
JP2021527168A (ja) 基板コーティング用真空蒸着設備及び方法
CN115698370B (zh) 用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法
CN111479950B (zh) 真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
US7767591B2 (en) Method and device for producing electronic components
JP2007119916A (ja) 気化させる材料を受け入れるレセプタクルを有する気化装置
JP2004176111A (ja) 樹脂蒸着成膜方法及び装置
JP2000282221A (ja) 真空蒸着方法
EP1151803A3 (en) Apparatus and method for vapor depositing lubricant coating on a web
DE4311581A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Muster auf Substraten
JPH09143692A (ja) 高蒸気圧金属の気相メッキ装置及び方法
JP3098969B2 (ja) 溶融めっき鋼帯の製造装置及び製造方法
JP2000243672A (ja) 蒸着装置
JP7503398B2 (ja) 真空成膜装置用の部品
JPH04346652A (ja) 真空蒸着装置