JPH06308319A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
- Publication number
- JPH06308319A JPH06308319A JP10131493A JP10131493A JPH06308319A JP H06308319 A JPH06308319 A JP H06308319A JP 10131493 A JP10131493 A JP 10131493A JP 10131493 A JP10131493 A JP 10131493A JP H06308319 A JPH06308319 A JP H06308319A
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- transparent
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Abstract
(57)【要約】
【目的】高品質且つ高信頼性のカラーフィルタ製品
【構成】所定形状の金属遮光膜を形成した透明基板上に
酸化物から成る絶縁性透明膜を被覆するように塗布し、
その後に透明膜を４５０℃以下で熱処理し、しかる後に
色画素を形成し、更にその上に透明平滑膜を形成したカ
ラーフィルタの製造方法。あるいは所定形状の金属遮光
膜を形成した透明基板上に、酸化物から成るターゲット
を用いてスパッタリング法により絶縁性透明膜を被覆す
るように被着させ、その後に透明膜の上に色画素を形成
し、しかる後にその上に透明平滑膜を形成したカラーフ
ィルタの製造方法。
酸化物から成る絶縁性透明膜を被覆するように塗布し、
その後に透明膜を４５０℃以下で熱処理し、しかる後に
色画素を形成し、更にその上に透明平滑膜を形成したカ
ラーフィルタの製造方法。あるいは所定形状の金属遮光
膜を形成した透明基板上に、酸化物から成るターゲット
を用いてスパッタリング法により絶縁性透明膜を被覆す
るように被着させ、その後に透明膜の上に色画素を形成
し、しかる後にその上に透明平滑膜を形成したカラーフ
ィルタの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶等のカラー表示装置
を構成する場合に用いられるカラーフィルタの製造方法
に関するものである。
を構成する場合に用いられるカラーフィルタの製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルタを用いたカラー表示装置
として、２枚の電極基板間に液晶を保持し、一方の電極
基板側に対応する他方の電極基板にカラー表示用の複数
の色フィルタと遮光膜を形成させ、これら両電極間に印
加する電圧を制御して表示部の光透過率を選択的に変化
させ、これにより、上記複数の色フィルタによる各種色
表示を行う技術が提案されている（特開昭５８−１０２
９７６号参照）。
として、２枚の電極基板間に液晶を保持し、一方の電極
基板側に対応する他方の電極基板にカラー表示用の複数
の色フィルタと遮光膜を形成させ、これら両電極間に印
加する電圧を制御して表示部の光透過率を選択的に変化
させ、これにより、上記複数の色フィルタによる各種色
表示を行う技術が提案されている（特開昭５８−１０２
９７６号参照）。
【０００３】また、カラーフィルタの改良として、視角
による混色防止、およびコントラストの向上を目的とし
て色画素の境界部に遮光膜を形成することも提案されて
いる（特開昭５７−２０１２８８号参照）。
による混色防止、およびコントラストの向上を目的とし
て色画素の境界部に遮光膜を形成することも提案されて
いる（特開昭５７−２０１２８８号参照）。
【０００４】その他、この遮光膜の形成方法に関して各
種改良が提案されているが（特開昭５７−２２２０９
号、特開平１−１５２４４９号、特開平２−３４８０３
号等参照）、遮光性、カラーフィルタ表面の平坦性の点
では金属薄膜を使用するのが有利であり、その金属薄膜
として一般的にＣｒ等が使用されている。
種改良が提案されているが（特開昭５７−２２２０９
号、特開平１−１５２４４９号、特開平２−３４８０３
号等参照）、遮光性、カラーフィルタ表面の平坦性の点
では金属薄膜を使用するのが有利であり、その金属薄膜
として一般的にＣｒ等が使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、金属
薄膜で遮光膜を形成した場合、２枚の基板上に形成した
ストライプ状の透明電極を直交するように重ね合わせて
配置し、その重なり部分を画素とするような時分割駆動
による液晶表示装置においては、透明電極に印加すべき
電圧が遮光膜にリークするという問題点があった。この
問題点を図２により説明する。
薄膜で遮光膜を形成した場合、２枚の基板上に形成した
ストライプ状の透明電極を直交するように重ね合わせて
配置し、その重なり部分を画素とするような時分割駆動
による液晶表示装置においては、透明電極に印加すべき
電圧が遮光膜にリークするという問題点があった。この
問題点を図２により説明する。
【０００６】同図のカラーフィルタＢにおいて、透明基
板１の上には金属遮光膜２が所定形状に形成され、この
遮光膜２の間に色画素４が配置され、更に平滑膜５と透
明電極６が順次積層されている。しかしながら、色画素
４の中に、または平滑膜５の中に導電性異物７が混入し
ていた場合、その上に積層させる透明電極６と遮光膜２
とが短絡し、その状態で液晶表示装置を構成した場合、
透明電極６に印加すべき電圧が遮光膜２にリークしてい
まい、重大な表示欠陥を生じていた。
板１の上には金属遮光膜２が所定形状に形成され、この
遮光膜２の間に色画素４が配置され、更に平滑膜５と透
明電極６が順次積層されている。しかしながら、色画素
４の中に、または平滑膜５の中に導電性異物７が混入し
ていた場合、その上に積層させる透明電極６と遮光膜２
とが短絡し、その状態で液晶表示装置を構成した場合、
透明電極６に印加すべき電圧が遮光膜２にリークしてい
まい、重大な表示欠陥を生じていた。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】本発明のカラーフィル
タの製造方法は、所定形状の遮光膜を形成した透明基板
上に酸化物から成る絶縁性透明膜を被覆するように塗布
し、その後にその透明膜を４５０℃以下で熱処理し、し
かる後に色画素を形成し、更にその上に有機系樹脂から
成る透明平滑膜を形成したことを特徴とする。
タの製造方法は、所定形状の遮光膜を形成した透明基板
上に酸化物から成る絶縁性透明膜を被覆するように塗布
し、その後にその透明膜を４５０℃以下で熱処理し、し
かる後に色画素を形成し、更にその上に有機系樹脂から
成る透明平滑膜を形成したことを特徴とする。
【０００８】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、所定形状の金属遮光膜を形成した透明基板上に、酸
化物から成るターゲットを用いてスパッタリング法によ
り絶縁性透明膜を被覆するように被着させ、その後に絶
縁性透明膜の上に色画素を形成し、しかる後にその上に
有機系樹脂から成る透明平滑膜を形成したことを特徴と
する。
は、所定形状の金属遮光膜を形成した透明基板上に、酸
化物から成るターゲットを用いてスパッタリング法によ
り絶縁性透明膜を被覆するように被着させ、その後に絶
縁性透明膜の上に色画素を形成し、しかる後にその上に
有機系樹脂から成る透明平滑膜を形成したことを特徴と
する。
【０００９】
【作用】図２のカラーフィルタＢに示すように、色画素
４や平滑膜５の中に導電性異物７が混在していたとして
も、金属遮光膜上に絶縁性透明膜が形成されているた
め、透明平滑膜上に透明電極を形成しても金属遮光膜と
透明電極とが短絡しなくなる。
４や平滑膜５の中に導電性異物７が混在していたとして
も、金属遮光膜上に絶縁性透明膜が形成されているた
め、透明平滑膜上に透明電極を形成しても金属遮光膜と
透明電極とが短絡しなくなる。
【００１０】
（例１）図１は本発明の製造方法により得られたカラー
フィルタＡである。同図において、透明基板１の上には
金属遮光膜２が所定形状に形成され、この遮光膜２を被
覆するように絶縁性透明膜３が形成されている。また、
この絶縁性透明膜３の上には遮光膜２の間に位置するよ
うに色画素４が配置され、更に平滑膜５と透明電極６が
順次積層されている。
フィルタＡである。同図において、透明基板１の上には
金属遮光膜２が所定形状に形成され、この遮光膜２を被
覆するように絶縁性透明膜３が形成されている。また、
この絶縁性透明膜３の上には遮光膜２の間に位置するよ
うに色画素４が配置され、更に平滑膜５と透明電極６が
順次積層されている。
【００１１】次に上記カラーフィルタＡの製造工程を記
述する。予め洗浄した３００ｍｍ×３００ｍｍの透明基
板１に遮光用の金属薄膜としてスパッタによりＣｒを１
０００Ａ成膜し、フォトリソグラフィによりマトリクス
状のパターンを形成し、金属遮光膜２を所定形状に形成
した。
述する。予め洗浄した３００ｍｍ×３００ｍｍの透明基
板１に遮光用の金属薄膜としてスパッタによりＣｒを１
０００Ａ成膜し、フォトリソグラフィによりマトリクス
状のパターンを形成し、金属遮光膜２を所定形状に形成
した。
【００１２】次いで、上記所定形状の金属遮光膜２を形
成した透明基板１を、アルコールを主体とする溶剤に水
酸化シリコンを希釈した溶液中に浸漬し、引き上げた後
に４００℃で焼成して絶縁性透明膜３である約１１００
Ａの酸化ケイ素膜を形成した。そして、顔料分散法によ
り色画素の形成を行った。この色画素の形成について
は、富士写真フィルム製の着色レジストＣＲ−２０００
（赤）、ＣＧ−２０００（緑）、ＣＢ−２０００（青）
の材料を使用し、最初に赤色画素４として着色レジスト
ＣＲ−２０００をスピンナーにて基板に塗布し、フォト
リソグラフィにより幅１００μｍの微細なストライプパ
ターンを形成し、同様に青色画素４と緑色画素４とを順
次色形成した。その後に平滑膜５として日本合成ゴム製
の平滑膜オプトマーＳＳ−７１８５を塗布した。次いで
透明電極６として酸化インジウムに酸化スズを混合させ
た膜をスパッタ法にて２０００Ａ成膜し、パターニング
形成した。
成した透明基板１を、アルコールを主体とする溶剤に水
酸化シリコンを希釈した溶液中に浸漬し、引き上げた後
に４００℃で焼成して絶縁性透明膜３である約１１００
Ａの酸化ケイ素膜を形成した。そして、顔料分散法によ
り色画素の形成を行った。この色画素の形成について
は、富士写真フィルム製の着色レジストＣＲ−２０００
（赤）、ＣＧ−２０００（緑）、ＣＢ−２０００（青）
の材料を使用し、最初に赤色画素４として着色レジスト
ＣＲ−２０００をスピンナーにて基板に塗布し、フォト
リソグラフィにより幅１００μｍの微細なストライプパ
ターンを形成し、同様に青色画素４と緑色画素４とを順
次色形成した。その後に平滑膜５として日本合成ゴム製
の平滑膜オプトマーＳＳ−７１８５を塗布した。次いで
透明電極６として酸化インジウムに酸化スズを混合させ
た膜をスパッタ法にて２０００Ａ成膜し、パターニング
形成した。
【００１３】かくして上記構成のカラーフィルタＡであ
れば、金属遮光膜２を被覆するように絶縁性透明膜３が
形成されていので、この金属遮光膜２と透明電極６とが
短絡することがなくなった。
れば、金属遮光膜２を被覆するように絶縁性透明膜３が
形成されていので、この金属遮光膜２と透明電極６とが
短絡することがなくなった。
【００１４】（例２） （例１）のカラーフィルタＡを製造するに当たって、同
様に金属遮光膜２を形成した後に、アルコールを主体と
する溶剤に水酸化シリコンと水酸化アルミニウムを５：
１の比率で混合したのち、希釈した溶液中に浸漬し、引
き上げた後に４００℃で焼成して絶縁性透明膜３である
約１０００Ａの酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合物
よりなる膜を形成した。その後、（例１）と同様に色画
素４と平滑膜５を形成した。
様に金属遮光膜２を形成した後に、アルコールを主体と
する溶剤に水酸化シリコンと水酸化アルミニウムを５：
１の比率で混合したのち、希釈した溶液中に浸漬し、引
き上げた後に４００℃で焼成して絶縁性透明膜３である
約１０００Ａの酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合物
よりなる膜を形成した。その後、（例１）と同様に色画
素４と平滑膜５を形成した。
【００１５】かくして得られた上記構成のカラーフィル
タＡであっても、金属遮光膜２を被覆するように絶縁性
透明膜３が形成されていので、この金属遮光膜２と透明
電極６とが短絡することがなくなった。
タＡであっても、金属遮光膜２を被覆するように絶縁性
透明膜３が形成されていので、この金属遮光膜２と透明
電極６とが短絡することがなくなった。
【００１６】（例３） （例１）のカラーフィルタＡを製造するに当たって、同
様に金属遮光膜２を形成した後に、アルコールを主体と
する溶剤に塩化チタンを希釈した溶液中に浸漬し、引き
上げた後に４００℃で焼成して絶縁性透明膜３である約
９００Ａの酸化チタン膜を形成した。その後（例１）と
同様に色画素４と平滑膜５を形成した。かくして得られ
た上記構成のカラーフィルタＡであっても、金属遮光膜
２を被覆するように絶縁性透明膜３が形成されていの
で、この金属遮光膜２と透明電極６とが短絡することが
なくなった。
様に金属遮光膜２を形成した後に、アルコールを主体と
する溶剤に塩化チタンを希釈した溶液中に浸漬し、引き
上げた後に４００℃で焼成して絶縁性透明膜３である約
９００Ａの酸化チタン膜を形成した。その後（例１）と
同様に色画素４と平滑膜５を形成した。かくして得られ
た上記構成のカラーフィルタＡであっても、金属遮光膜
２を被覆するように絶縁性透明膜３が形成されていの
で、この金属遮光膜２と透明電極６とが短絡することが
なくなった。
【００１７】（例４） （例１）のカラーフィルタＡを製造するに当たって、同
様に金属遮光膜２を形成した後に、基板を３００℃に加
熱し高周波スパッタ法によりＳｉＯ2 を１０００Ａの厚
みでもって基板全面に成膜した。その後（例１）と同様
に色画素４と平滑膜５を形成した。
様に金属遮光膜２を形成した後に、基板を３００℃に加
熱し高周波スパッタ法によりＳｉＯ2 を１０００Ａの厚
みでもって基板全面に成膜した。その後（例１）と同様
に色画素４と平滑膜５を形成した。
【００１８】かくして得られた上記構成のカラーフィル
タＡであっても、金属遮光膜２を被覆するように絶縁性
透明膜３が形成されていので、この金属遮光膜２と透明
電極６とが短絡することがなくなった。
タＡであっても、金属遮光膜２を被覆するように絶縁性
透明膜３が形成されていので、この金属遮光膜２と透明
電極６とが短絡することがなくなった。
【００１９】また、本発明者等が繰り返し行った実験に
よれば、（例１）〜（例３）のカラーフィルタＡを製造
するに当たって、絶縁性透明膜３の塗布後の４５０℃以
下で熱処理について、次のような実験結果が得られた。
よれば、（例１）〜（例３）のカラーフィルタＡを製造
するに当たって、絶縁性透明膜３の塗布後の４５０℃以
下で熱処理について、次のような実験結果が得られた。
【００２０】（実験）金属遮光膜上に形成する酸化物形
成時の焼成温度については、５００℃前後で焼成するの
が一般的であるが、４５０℃を越える温度で焼成した場
合、３００ｍｍ×３００ｍｍの基板において、２０〜３
０μｍ程度の基板の収縮が認められることが判明した。
即ち、色画素形成時に図３の色画素４の平面図が示すよ
うなパターンに設定しなくてはならないが、これに対し
て、４５０℃を越える温度で焼成した場合には、そのパ
ターンが図４に示すようににズレが発生し、白抜け８と
なることが確認された。
成時の焼成温度については、５００℃前後で焼成するの
が一般的であるが、４５０℃を越える温度で焼成した場
合、３００ｍｍ×３００ｍｍの基板において、２０〜３
０μｍ程度の基板の収縮が認められることが判明した。
即ち、色画素形成時に図３の色画素４の平面図が示すよ
うなパターンに設定しなくてはならないが、これに対し
て、４５０℃を越える温度で焼成した場合には、そのパ
ターンが図４に示すようににズレが発生し、白抜け８と
なることが確認された。
【００２１】本発明者等は、４００℃の焼成での基板収
縮量は５μｍ以下であり、実用上問題ないことを確認し
た。また、焼成温度を下げたことにより、耐薬品性の低
下が懸念されたが、耐酸性、耐アルカリ性等、実用上問
題のないことも確認した。
縮量は５μｍ以下であり、実用上問題ないことを確認し
た。また、焼成温度を下げたことにより、耐薬品性の低
下が懸念されたが、耐酸性、耐アルカリ性等、実用上問
題のないことも確認した。
【００２２】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変
更、改良等は何ら差し支えない。
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変
更、改良等は何ら差し支えない。
【００２３】
【発明の効果】以上のように、本発明のカラーフィルタ
の製造方法によれば、金属遮光膜を形成したカラーフル
タにおいて、遮光膜形成後に絶縁性透明膜を形成するこ
とによって遮光膜と透明電極との短絡が防止でき、製造
歩留りの向上し、これにより、カラーフィルタを用いた
高品質且つ高信頼性のカラー表示装置が低コストの提供
できた。
の製造方法によれば、金属遮光膜を形成したカラーフル
タにおいて、遮光膜形成後に絶縁性透明膜を形成するこ
とによって遮光膜と透明電極との短絡が防止でき、製造
歩留りの向上し、これにより、カラーフィルタを用いた
高品質且つ高信頼性のカラー表示装置が低コストの提供
できた。
【図１】本発明に係るカラーフィルタの断面概略図であ
る。
る。
【図２】従来のカラーフィルタの断面概略図である。
【図３】カラーフィルタの要部平面図である。
【図４】カラーフィルタの要部平面図である。
１ 透明基板 ２ 金属遮光膜 ３ 絶縁性透明膜 ４ 色画素 ５ 平滑膜 ６ 透明電極
Claims (2)
- 【請求項１】 所定形状の金属遮光膜を形成した透明基
板上に酸化物から成る絶縁性透明膜を被覆するように塗
布し、その後に該透明膜を４５０℃以下で熱処理し、し
かる後に色画素を形成し、更にその上に有機系樹脂から
成る透明平滑膜を形成したことを特徴とするカラーフィ
ルタの製造方法。 - 【請求項２】 所定形状の金属遮光膜を形成した透明基
板上に、酸化物から成るターゲットを用いてスパッタリ
ング法により絶縁性透明膜を被覆するように被着させ、
その後に絶縁性透明膜の上に色画素を形成し、しかる後
にその上に有機系樹脂から成る透明平滑膜を形成したこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10131493A JPH06308319A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10131493A JPH06308319A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06308319A true JPH06308319A (ja) | 1994-11-04 |
Family
ID=14297360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10131493A Pending JPH06308319A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06308319A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100313248B1 (ko) * | 1999-12-14 | 2001-11-07 | 구본준, 론 위라하디락사 | 칼라필터 |
| WO2011158287A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | パナソニック株式会社 | El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 |
| WO2011158288A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | パナソニック株式会社 | El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 |
-
1993
- 1993-04-27 JP JP10131493A patent/JPH06308319A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100313248B1 (ko) * | 1999-12-14 | 2001-11-07 | 구본준, 론 위라하디락사 | 칼라필터 |
| WO2011158287A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | パナソニック株式会社 | El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 |
| WO2011158288A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | パナソニック株式会社 | El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 |
| US8350471B2 (en) | 2010-06-16 | 2013-01-08 | Panasonic Corporation | EL display panel, EL display device provided with EL display panel, organic EL display device, and method for manufacturing EL display panel |
| KR101356871B1 (ko) * | 2010-06-16 | 2014-01-28 | 파나소닉 주식회사 | Ｅｌ 표시 패널, ｅｌ 표시 패널을 구비한 ｅｌ 표시 장치, 유기 ｅｌ 표시 장치, 및 ｅｌ 표시 패널의 제조 방법 |
| KR101356865B1 (ko) * | 2010-06-16 | 2014-01-28 | 파나소닉 주식회사 | Ｅｌ 표시 패널, ｅｌ 표시 패널을 구비한 ｅｌ 표시 장치, 유기 ｅｌ 표시 장치, 및 ｅｌ 표시 패널의 제조 방법 |
| US8717260B2 (en) | 2010-06-16 | 2014-05-06 | Panasonic Corporation | EL display panel, EL display device provided with EL display panel, organic EL display device, and method for manufacturing EL display panel |
| JP5654591B2 (ja) * | 2010-06-16 | 2015-01-14 | パナソニック株式会社 | Ｅｌ表示パネル、ｅｌ表示パネルを備えたｅｌ表示装置、有機ｅｌ表示装置、およびｅｌ表示パネルの製造方法 |
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