JPH06310037A - Dielectric composition and plasma display panel - Google Patents

Dielectric composition and plasma display panel

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JPH06310037A
JPH06310037A JP5114176A JP11417693A JPH06310037A JP H06310037 A JPH06310037 A JP H06310037A JP 5114176 A JP5114176 A JP 5114176A JP 11417693 A JP11417693 A JP 11417693A JP H06310037 A JPH06310037 A JP H06310037A
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JP
Japan
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powder
glass
dielectric
discharge
vol
Prior art date
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Pending
Application number
JP5114176A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sumuto Sago
澄人 左合
Akira Kani
章 可児
Tatsumasa Yokoi
達政 横井
Hideyuki Asai
秀之 浅井
Naoya Kikuchi
直哉 菊地
Tatsuji Nakano
竜次 中野
Masaaki Ito
雅章 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritake Co Ltd
Original Assignee
Noritake Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Publication of JPH06310037A publication Critical patent/JPH06310037A/en
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  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a plasma display panel having good characteristic at the low cost, and to provide a dielectric composition that can be effectively used for the panel. CONSTITUTION:An oxide crystal containing at least one element chosen among Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Th and lanthanide element, is prepared. In the case of average particle size (d) as measured according to a light transmittance method, and of an average particle size D as calculated from a specific surface area, d/D is no greater than 7, while (d) is 15-60vol% of the powder of 0.5-10mum, and softening point of the oxide glass is lower than the melting point of the oxide crystal. The powder of 100vol% containing 40-85 vol% of the powder of average particle size (d) of 0.5-10mum is kneaded with a liquid vehicle.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、誘電体組成物およびこ
れを用いたプラズマディスプレイパネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dielectric composition and a plasma display panel using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(以下、P
DPと略記する)の電極を誘電体で被覆しその表面で放
電を生起するものには、放電を交流的に持続させる表示
放電、誘電体表面の電荷を除帯電させる選択放電や放電
によってプライミングイオンを確保するいわゆるトリガ
ー放電等が知られている。
2. Description of the Related Art Plasma display panels (hereinafter referred to as P
The electrodes (abbreviated as DP) whose electrodes are covered with a dielectric material to cause discharge on the surface include display discharge for sustaining the discharge in an alternating current, priming ions by selective discharge or discharge for removing charges on the surface of the dielectric material. There are known so-called trigger discharges and the like for ensuring the above.

【0003】以下の問題点は共通であるから、表示放電
として用いる交流型PDPで説明する。このPDPは、
放電特性にメモリー機能を有することや放電面材料に優
れたものが開発されているため、高輝度で長寿命であ
る。
Since the following problems are common, an AC PDP used as a display discharge will be described. This PDP is
It has high brightness and long life because it has a memory function in discharge characteristics and has been developed with excellent discharge surface material.

【0004】PDPの構成には各種方法が知られている
が、薄型にするため、対向する前面板と背面板の周囲を
シールガラスで封じて、放電ガスの気密容器を構成する
ものが多く採用される。前背面板とも低価格のソーダラ
イムガラスが賞用される。
Although various methods are known for constructing a PDP, in order to make it thin, many of them employ a hermetically sealed container for discharge gas in which the front and rear plates facing each other are sealed with seal glass. To be done. Low-priced soda lime glass is used for both front and back plates.

【0005】画像表示可能な微細で多数の表示セルを有
するPDPでは、通常、表示セルや電極形成が容易な方
形セル配列が採用される。各々ライン状の行と列電極が
間隔を隔てて交差する部分にセルを形成し、多数のセル
を独立に選択できるようにしている。このような選択電
極は二つの電極群で構成される。
In a PDP having a large number of fine display cells capable of displaying an image, a square cell array in which display cells and electrodes can be easily formed is usually adopted. A cell is formed at a portion where the line-shaped row and column electrodes intersect each other with a space therebetween, so that a large number of cells can be independently selected. Such a selection electrode is composed of two electrode groups.

【0006】交流型では一対の表示放電電極は誘電体で
被覆される。この表示放電電極を選択電極として兼用す
ることもできる。また、表示放電電極には選択機能を持
たせず、別に書き込み電極と言われる選択電極を形成す
ることもできる。この書き込み電極は被覆あるいは露出
したものどちらでも利用できる。これらの組合せは任意
である。また、選択に使用しない複数の電極は通常共通
に結線される。
In the AC type, the pair of display discharge electrodes are covered with a dielectric. This display discharge electrode can also be used as a selection electrode. Further, the display discharge electrode may not have a selection function, and a selection electrode called a writing electrode may be separately formed. The write electrode can be used as either a coated or exposed electrode. These combinations are arbitrary. In addition, a plurality of electrodes not used for selection are usually commonly connected.

【0007】表示は放電ガスの可視発光を利用するもの
(単色PDP)、および放電によって生起する紫外線で
蛍光体を可視発光させるものがある(カラーPDP)。
There are two types of display, one that utilizes the visible emission of discharge gas (monochromatic PDP) and the other that makes the phosphor emit visible light by the ultraviolet rays generated by discharge (color PDP).

【0008】このような一般的なカラーPDPの部分模
式断面図の一例を図1に示す。背面板BPには、一対の
表示放電電極SXとSYが、垂直方向に向かってライン
状に形成されている。電極材料は例えばA1で、薄膜技
術等を用いて形成される。SXは選択電極としても利用
され独立であるが、SYは放電のサステインのみに利用
されるため共通に結線されている。表示放電電極は、被
覆誘電体で覆われている。被覆誘電体DLは、電極を被
覆する誘電体層(例えばガラス層を厚膜印刷で形成した
もの)と、この上の保護層(例えばMgO等を蒸着で被
着したもの)とで構成されている。
An example of a partial schematic sectional view of such a general color PDP is shown in FIG. On the back plate BP, a pair of display discharge electrodes SX and SY are formed in a line shape in the vertical direction. The electrode material is, for example, A1 and is formed using a thin film technique or the like. SX is also used as a selection electrode and is independent, but SY is connected in common because it is used only for sustain of discharge. The display discharge electrode is covered with a coating dielectric. The covering dielectric DL is composed of a dielectric layer (for example, a glass layer formed by thick film printing) for covering the electrodes and a protective layer (for example, MgO or the like deposited by vapor deposition) thereon. There is.

【0009】前面ガラス板FGには、もう一方の選択電
極である書き込み電極Wが、平行に向かってライン状に
形成され、これは各色の蛍光体PHで被覆されている。
書き込み電極は、例えばAg等のインクで、蛍光体は各
色の粉体インクを用い、厚膜技術を適用して形成され
る。
On the front glass plate FG, write electrodes W, which are the other select electrodes, are formed in a line shape parallel to each other, and these are covered with phosphors PH of respective colors.
The writing electrode is formed of an ink such as Ag, and the phosphor is a powder ink of each color, and is formed by applying a thick film technique.

【0010】前面板と背面板との間には、放電空間を確
保し、電極間距離を規定したり誤放電等を防ぐための隔
壁PWが形成され、これと各面板とで囲まれたところが
表示セルCLである。隔壁は例えばガラスインク等を用
いて形成される。
A partition wall PW is formed between the front plate and the back plate to secure a discharge space, regulate the distance between electrodes, and prevent erroneous discharge. It is a display cell CL. The partition wall is formed by using, for example, glass ink.

【0011】以上の構成は、3相電極、面放電型で透過
型カラーPDPと分類される一般的なものである。
The above-mentioned structure is a general type which is classified as a three-phase electrode, surface discharge type and transmission type color PDP.

【0012】被覆誘電体に要求される特性は以下のよう
である。(1)電極を緻密に被覆すること。(2)多数
のセルで誘電体容量が均一なこと。(3)放電特性が均
一であるため、表面が平滑であること。(4)表面が保
護材料で形成されること。(5)駆動電圧が低くなる表
面材料を選択すること。
The characteristics required for the coated dielectric are as follows. (1) To cover the electrodes closely. (2) The dielectric capacitance is uniform in many cells. (3) The surface is smooth because the discharge characteristics are uniform. (4) The surface is made of a protective material. (5) Select a surface material that lowers the driving voltage.

【0013】上記(1)〜(3)のために酸化物ガラス
(以下、単にガラスと記す)材料が好適に用いられる。
ガラス粉体を用いることで容易に膜形成ができ、ガラス
を溶融させることで緻密、平滑、均質な被覆誘電体を形
成できる。また、(4)、(5)については、一般のガ
ラス材料では充分なものが得られていないため、特定の
材料を表面に形成している。形成方法は蒸着やスパッタ
等の薄膜技術が採用される。しかし、薄膜技術は設備が
高価であり量産性に乏しい欠点がある。
Oxide glass (hereinafter simply referred to as glass) material is preferably used for the above (1) to (3).
A film can be easily formed by using glass powder, and a dense, smooth, and homogeneous coated dielectric can be formed by melting glass. As for (4) and (5), a sufficient amount of a general glass material has not been obtained, so a specific material is formed on the surface. As a forming method, thin film technology such as vapor deposition and sputtering is adopted. However, the thin-film technology has the drawbacks of expensive equipment and poor mass productivity.

【0014】そこで、低電圧駆動ができる保護材料を粉
体で使用する方法が検討されている。つまり保護材料粉
体単独で、あるいは少量の固着材料、例えばガラスを併
用するものである。この方法では厚膜技術が適用できる
ため低価格であり、また低電圧および保護特性を満足さ
せることに成功している。しかし、保護層の表面状態が
充分でないため、放電特性のばらつきが大きい。従っ
て、製造条件や駆動回路が制限されるという欠点を有す
る。
Therefore, a method of using a protective material in powder form that can be driven at a low voltage has been studied. That is, the protective material powder is used alone, or a small amount of a fixing material such as glass is used together. In this method, the thick film technology can be applied, so that the cost is low, and the low voltage and the protection characteristics are successfully satisfied. However, since the surface state of the protective layer is not sufficient, the discharge characteristics vary widely. Therefore, there is a drawback that manufacturing conditions and drive circuits are limited.

【0015】以上のように従来のPDPでは、被覆誘電
体の形成において特性および価格が満足されていないの
が現状である。
As described above, in the conventional PDP, the characteristics and the price are not satisfied in the formation of the coating dielectric.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、これら従来
技術の課題に鑑みなされたもので、特性のよいPDPを
安価に提供すると共に、これに有用な誘電体組成物を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of these problems of the prior art, and an object thereof is to provide a PDP having excellent characteristics at a low cost and a dielectric composition useful for the PDP. And

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、次
に示す誘電体組成物およびPDPによって達成される。
The above object of the present invention is achieved by the following dielectric composition and PDP.

【0018】すなわち、本発明は、Be、Mg、Ca、
Sr、Ba、Sc、Y、Thおよびランタニド元素から
選ばれる少なくとも一種類の元素を含む酸化物結晶で、
光透過法で測定される平均粒径d、比表面積から計算さ
れる平均粒径Dとした場合、d/Dが7以下で、dが
0.5〜10μmの粉体15〜60vol%と、該酸化
物結晶の融点より軟化点が低い酸化物ガラスで、平均粒
径dが0.5〜10μmの粉体40〜85vol%との
合計100vol%の粉体を、液体ベヒクルと共に混練
したことを特徴とする誘電体組成物である。
That is, according to the present invention, Be, Mg, Ca,
An oxide crystal containing at least one element selected from the elements Sr, Ba, Sc, Y, Th and lanthanide,
Assuming that the average particle diameter d measured by the light transmission method and the average particle diameter D calculated from the specific surface area are d / D of 7 or less and d of 0.5 to 10 μm, 15 to 60 vol% of powder, An oxide glass having a softening point lower than the melting point of the oxide crystal, a powder having an average particle diameter d of 0.5 to 10 μm and a total of 100 vol% including 40 to 85 vol% of the powder was kneaded together with a liquid vehicle. It is a characteristic dielectric composition.

【0019】また、本発明は、背面板と前面ガラス板と
が周囲を封じられて放電ガス容器を構成し、該容器内に
は表示面積0.2mm2以下である複数の表示セルが形
成され、各セルには誘電体で被覆された放電電極が形成
されるPDPにおいて、該被覆誘電体の少なくとも放電
が生起される表面は、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、
Sc、Y、Thおよびランタニド元素から選ばれる少な
くとも一種類の元素を含む酸化物結晶粉体15〜60v
ol%が、酸化物ガラス中に分散されて保護層を形成
し、該保護層の表面粗さRMAXが1.5μm以下である
ことを特徴とするPDPである。
Further, according to the present invention, a back plate and a front glass plate are sealed around each other to form a discharge gas container, and a plurality of display cells having a display area of 0.2 mm 2 or less are formed in the container. In a PDP in which a discharge electrode coated with a dielectric is formed in each cell, at least the surface of the coated dielectric on which discharge occurs is Be, Mg, Ca, Sr, Ba,
Oxide crystal powder 15-60v containing at least one element selected from Sc, Y, Th and lanthanide elements
ol% is dispersed in oxide glass to form a protective layer, and the surface roughness R MAX of the protective layer is 1.5 μm or less.

【0020】以下、本発明をさらに詳しく説明する。本
発明のPDPでは、放電電極を被覆する誘電体の表面保
護層を除けば従来と同様であるから、他の構成および材
料や形成技術等は一般的なものが利用できる。なお、以
下の説明で用いる平均粒径は光透過法によるものをd、
比表面積から計算されるものをDとして表す。
The present invention will be described in more detail below. Since the PDP of the present invention is the same as the conventional one except for the surface protective layer of the dielectric covering the discharge electrode, other constitutions, materials, forming techniques and the like can be used. In addition, the average particle diameter used in the following description is obtained by the light transmission method as d,
What is calculated from the specific surface area is represented as D.

【0021】先ず、本発明の誘電体組成物について説明
する。被覆誘電体の厚みは、この表面に蓄積される電荷
量や絶縁の確実性から20〜60μm程度が用いられ
る。緻密な被覆が容易であるガラスが賞用されるが、少
なくとも誘電体表面には保護層が形成される。ガラスだ
けでは充分なものがないからである。本発明における保
護層は保護材料とガラスの混合物で形成する。形成方法
は任意であるが厚膜技術によるものが簡便であり、保護
層の厚みは厚膜技術で容易に達成できる1〜20μmが
好適である。1μm未満でも保護特性に問題はないが、
均質な膜形成が難しくなる。
First, the dielectric composition of the present invention will be described. The thickness of the coating dielectric is about 20 to 60 μm in view of the amount of charges accumulated on the surface and the reliability of insulation. Glass, which is easy to be densely coated, is preferred, but a protective layer is formed on at least the surface of the dielectric. This is because there is not enough glass alone. The protective layer in the present invention is formed of a mixture of a protective material and glass. Although the forming method is arbitrary, thick film technology is convenient, and the thickness of the protective layer is preferably 1 to 20 μm which can be easily achieved by the thick film technology. Even if it is less than 1 μm, there is no problem in protection characteristics,
It becomes difficult to form a uniform film.

【0022】厚膜技術適用のためインク状の組成物を形
成する。このための液体ベヒクルとして、メチル、エチ
ル等の各セルロースやアクリル樹脂等をパインオイル、
ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、
セロソルブ等の溶剤に溶解した一般的なものが利用でき
る。粉体合計100重量部に対して30〜60重量部の
ベヒクルを混練すればよい。後述する実験ではこのよう
な組成物を用い、図1に示したPDPを構成している。
もちろん、誘電体全体をこの組成物で形成することもで
きる。
Ink-like compositions are formed for thick film technology applications. As a liquid vehicle for this purpose, each cellulose such as methyl and ethyl, an acrylic resin or the like is pine oil,
Butyl carbitol, butyl carbitol acetate,
A general one dissolved in a solvent such as cellosolve can be used. 30-60 parts by weight of the vehicle may be kneaded with 100 parts by weight of the total powder. In the experiment described later, such a composition was used to construct the PDP shown in FIG.
Of course, the entire dielectric can be formed with this composition.

【0023】保護材料としては、Be、Mg、Ca、S
r、Ba、Sc、Y、Thおよびランタニド元素から選
ばれる少なくとも一種類の元素を含む酸化物結晶粉体を
用いる。上記元素の酸化物は、低電圧駆動と保護特性が
優れたものとして知られている。ここでランタニド元素
とは、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuで
ある。酸化物は単独元素、例えばMgO、Y23、La
23等あるいは複合元素例えばMgO・Al23等が利
用できる。また複数の酸化物を混合してもよい。
Protective materials include Be, Mg, Ca, S
An oxide crystal powder containing at least one element selected from r, Ba, Sc, Y, Th and lanthanide elements is used. Oxides of the above elements are known to be excellent in low voltage driving and protection characteristics. Here, the lanthanide element means La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, and G.
d, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu. The oxide is a single element such as MgO, Y 2 O 3 or La.
2 O 3 or the like or a complex element such as MgO / Al 2 O 3 can be used. Also, a plurality of oxides may be mixed.

【0024】保護材料のdは0.5〜10μmのものを
使用する。0.5μmより小さいと溶融状態のガラスと
反応する量が多くなり、特性上好ましくない。10μm
より大きいと誘電体表面の凹凸が大きくなること、微細
なパターニングおよび薄い膜形成が困難となるので好ま
しくない。
A protective material having a d of 0.5 to 10 μm is used. If it is less than 0.5 μm, the amount of glass that reacts with glass in a molten state increases, which is not preferable in terms of characteristics. 10 μm
If it is larger than the above range, the unevenness on the surface of the dielectric becomes large, and it becomes difficult to perform fine patterning and thin film formation, which is not preferable.

【0025】上記保護材料とガラスの不必要な反応を避
けるため、ガラスの軟化点は保護材料の融点より低いも
のを選択する。1000℃以上の差があれば、保護材料
の溶解量は僅かである。もちろん、保護層形成時にパネ
ル基板を変形しない軟化点であることも必要である。ま
た、保護層および誘電体層の熱膨張係数は固着される基
体材料に近似して設計される。ガラスの選択範囲は広い
ため、以上のような特性のガラスを容易に選ぶことがで
き、B23−ZnO、SiO2−B23−PbO系等多
くのものが例示できる。
In order to avoid unnecessary reaction between the protective material and the glass, the softening point of the glass is selected to be lower than the melting point of the protective material. If there is a difference of 1000 ° C. or more, the amount of the protective material dissolved is small. Of course, it is also necessary that the softening point does not deform the panel substrate when the protective layer is formed. Further, the thermal expansion coefficients of the protective layer and the dielectric layer are designed close to those of the substrate material to be fixed. Since the selection range of the glass is wide, it is possible to easily select the glass having the above characteristics, and many examples such as B 2 O 3 —ZnO and SiO 2 —B 2 O 3 —PbO system can be exemplified.

【0026】ガラスのdは0.5〜10μmである。
0.5μmより小さいとガラスを溶融した場合、保護層
中の気泡を除きにくく、この泡はPDPの特性を劣化さ
せる。10μmより大きいと凹凸ができ易く薄い膜が形
成できない。
The d of the glass is 0.5 to 10 μm.
When the glass is less than 0.5 μm, it is difficult to remove bubbles in the protective layer when the glass is melted, and the bubbles deteriorate the characteristics of PDP. If it is larger than 10 μm, unevenness is likely to occur and a thin film cannot be formed.

【0027】保護材料とガラスの比率は保護材料で15
〜60vol%である。15vol%より小さいと低電
圧駆動できず、保護特性も充分でない、粒径が小さい保
護材料では特にそうである。60vol%より大きいと
緻密で平滑な膜が形成できない。
The ratio of the protective material to the glass is 15 in the protective material.
It is about 60 vol%. If it is less than 15 vol%, it cannot be driven at a low voltage, and the protective properties are not sufficient, which is especially true of a protective material having a small particle size. If it exceeds 60 vol%, a dense and smooth film cannot be formed.

【0028】保護層の特性評価は、主に放電維持電圧V
sと動作マージンVmで表すことができる。Vsは、放
電開始電圧Vf以上で生起した放電を、電圧を徐々に低
下させて放電が消滅する直前の電圧で小さいほどよい。
このVsとVfは各表示セルでばらつくが、この間に駆
動電圧が設定される。従って、最小のVfと最大のVs
の差Vmが正でなければならない。Vmは均一度の指標
であり、許容公差を表している。つまりVmは大きいほ
ど製造が容易である。
The characteristics of the protective layer are evaluated mainly by the discharge sustaining voltage V
s and the operation margin Vm. It is preferable that Vs is a voltage immediately before the discharge is extinguished by gradually decreasing the voltage of the discharge generated at the discharge start voltage Vf or higher.
The Vs and Vf vary in each display cell, but the drive voltage is set during this period. Therefore, the minimum Vf and the maximum Vs
The difference Vm of Vm must be positive. Vm is an index of uniformity and represents an allowable tolerance. That is, the larger the Vm, the easier the manufacturing.

【0029】さて、Vsは放電ガスの種類や圧力、電極
間距離等で変化するが、他の条件を一定とすると放電面
の保護層で変化する。この比較実験の結果を図2に示
す。なお、以下の各図でA点で示すものは従来の薄膜技
術で形成したものである。
Now, Vs changes depending on the type and pressure of the discharge gas, the distance between the electrodes, etc., but changes in the protective layer on the discharge surface when other conditions are constant. The results of this comparative experiment are shown in FIG. In each of the following figures, the point A is formed by the conventional thin film technology.

【0030】図2の横軸は、保護層形成に用いた誘電体
インクのガラスと保護材料の内、保護材料のvol%を
表す。保護材料およびそのd/Dを一定(12)とし、
ガラスは同一のものを使用している。保護材料のdを変
化させた曲線から分かるように、Vsには極小値があ
り、dあるいは保護材料比率が大きくなると共に小さく
なっている。一般に保護材料が増えると共にVsは小さ
くなるが、多すぎると保護層に亀裂や空隙が発生して特
性が劣化するからである。
The horizontal axis of FIG. 2 represents the vol% of the protective material in the glass and the protective material of the dielectric ink used for forming the protective layer. Protective material and its d / D are constant (12),
The same glass is used. As can be seen from the curve in which d of the protective material is changed, Vs has a minimum value, which decreases as d or the protective material ratio increases. This is because Vs generally decreases as the number of protective materials increases, but if the amount is too large, cracks or voids occur in the protective layer and the characteristics deteriorate.

【0031】dが0.5μmより小さいと極小値が不明
瞭となっているが、これは保護材料がガラスに多く溶解
すること、および少ない量で泡を巻き込んだり空隙を発
生させるためである。dが10μmより大きいとVsの
変化量は少なくなっている。
When d is less than 0.5 μm, the minimum value becomes unclear, but this is because the protective material is largely dissolved in the glass, and bubbles are entrained or voids are generated in a small amount. When d is larger than 10 μm, the amount of change in Vs is small.

【0032】以上のような傾向は、Dが異なる粉体につ
いても同様であり、図2からVsが最小となるように保
護層を設計するのが好ましいことが分かる。
The above tendency is the same for powders having different D, and it can be seen from FIG. 2 that it is preferable to design the protective layer so that Vs is minimized.

【0033】次にVmと保護層の表面粗さの関係を図3
に示す。Vmは表示セルの数が多いほど、また面積が小
さいほど少なくなるが、特に面積に敏感である。図3か
らRMAXが大きくなるとVmは小さくなることが分か
る。また、セル面積Sが小さくなるほどVmがRMAX
ともに減少する度合が早くなる。高精細なPDPでは面
積0.2mm2以下のセルが有用であり、RMAXが1.5
μm以下が好ましく、さらに好ましくは0.8μm以下
である。
Next, the relationship between Vm and the surface roughness of the protective layer is shown in FIG.
Shown in. Vm decreases as the number of display cells increases and as the area decreases, but it is particularly sensitive to the area. It can be seen from FIG. 3 that Vm decreases as R MAX increases. In addition, the smaller the cell area S, the faster Vm decreases with R MAX . A cell with an area of 0.2 mm 2 or less is useful for a high-definition PDP, and R MAX is 1.5
It is preferably not more than μm, and more preferably not more than 0.8 μm.

【0034】前述のように、ガラスと保護材料の混合で
形成される保護層では、Vsが最小となる組成が好まし
い。このような組成近傍で面粗さを測定すると、RMAX
は用いる保護材料のdに比例することが判明した。通
常、粉砕法で得られる最も安価な粉体ではd/Dが10
以上である。図2で用いたd/D=12の粉体では、お
よそRMAX=1/4dμmの関係が得られる。つまりd
が小さいものほどVmはよいが、これはVsからは悪い
方向となる。
As described above, in the protective layer formed by mixing the glass and the protective material, the composition having the minimum Vs is preferable. When the surface roughness is measured in the vicinity of such a composition, R MAX
Was found to be proportional to d of the protective material used. Usually, the cheapest powder obtained by the pulverization method has a d / D of 10
That is all. With the powder of d / D = 12 used in FIG. 2, a relationship of approximately R MAX = 1/4 dμm is obtained. That is, d
The smaller V is, the better Vm is, but this is the worse direction from Vs.

【0035】ところで面粗さは粉体の粒径分布および形
状にも関係し、これが本発明の骨子である。分布および
形状を規定するものとして、本発明ではd/Dを用い、
その値が7以下を採用する。この値が小さいほど、粉体
形状は球形に近く粒径分布はシャープとなる。d/Dが
12、7、5の時、各々のVsが最小値となる組成の保
護層面粗さRMAXはおよそ1/4d、1/6d、1/7
dμmであった。つまり、d/Dを小さくすればRMAX
も小さくなり、Vmを大きくできるわけである。
The surface roughness is also related to the particle size distribution and shape of the powder, and this is the essence of the present invention. In the present invention, d / D is used to define the distribution and shape,
A value of 7 or less is adopted. The smaller this value, the closer the powder shape is to a sphere, and the sharper the particle size distribution. When d / D is 12, 7, and 5, the surface roughness R MAX of the protective layer having a composition that minimizes each Vs is about 1 / 4d, 1 / 6d, 1/7.
It was dμm. That is, if d / D is reduced, R MAX
Therefore, Vm can be increased and Vm can be increased.

【0036】d/Dを小さくするとVsにもよい効果を
与える。これを示す実験結果を図4に示す。
When d / D is made small, a good effect is also given to Vs. Experimental results showing this are shown in FIG.

【0037】この図4は図2と同様であるが、保護材料
粉体のdを2μm一定とし、d/Dを変化させたもので
ある。図4から分かるように、d/Dが小さくなると共
にVsの極小値は小さくなり、同時にそれを与える保護
材料比率が大きくなっている。このような傾向はdが変
わっても同様である。
This FIG. 4 is similar to FIG. 2, except that d of protective material powder is kept constant at 2 μm and d / D is changed. As can be seen from FIG. 4, the minimum value of Vs becomes smaller as d / D becomes smaller, and at the same time, the ratio of the protective material that gives it becomes larger. This tendency is the same even when d changes.

【0038】上述のようにd/Dを小さくすれば、Vs
およびVm特性を同時に改善できることが分かる。d/
Dの最小値は理論的に1であるが、この時、粉体は大き
さがすべて等しい完全な球形である。このような粉体は
高価なものであることは明らかである。従って、現実的
にはd/Dが7以下の粉体を選択する。
If d / D is reduced as described above, Vs
It can be seen that the Vm characteristics can be improved at the same time. d /
The minimum value of D is theoretically 1, but at this time, the powder is a perfect spherical shape having the same size. Clearly, such powders are expensive. Therefore, in reality, powder having d / D of 7 or less is selected.

【0039】本発明における粒径範囲でd/Dが7以下
の粉体は、前述のように粉砕法では得られない。しか
し、次のような方法で量産できる。
The powder having d / D of 7 or less in the particle size range in the present invention cannot be obtained by the pulverization method as described above. However, it can be mass-produced by the following method.

【0040】(1)液体状の原料を噴霧する方法。 a)保護材料を高温で溶融し噴霧する。 b)微細な保護材料を液体(例えば水)に分散し、噴霧
して顆粒を形成した後加熱して焼結する。この時、液体
に樹脂等の粘結材料を添加して、顆粒を安定化するのが
一般的に行われる。また、材料を粘結性があるゾル状態
で使用してもよい。
(1) A method of spraying a liquid raw material. a) Melt and spray the protective material at high temperature. b) The fine protective material is dispersed in a liquid (eg water), sprayed to form granules and then heated and sintered. At this time, a caking material such as a resin is generally added to the liquid to stabilize the granules. Further, the material may be used in a sol state having a caking property.

【0041】(2)d/Dが大きい粉体を溶解処理す
る。d/Dが大きい粉体は一般に角張っている。これを
溶解処理すると、溶解性が高い鋭角部分は早く溶解され
るので丸くなる。処理液としては酸、アルカリやガラス
等が例示される。
(2) Dissolve the powder having a large d / D. The powder having a large d / D is generally angular. When this is dissolved, sharp corners with high solubility are quickly dissolved and become round. Examples of the treatment liquid include acids, alkalis, glass and the like.

【0042】(3)結晶成長を利用する。各種の結晶成
長方法が知られ、これによって得られる粉体は一般に多
面体を形成している。これらのd/Dは一般に7以下の
値である。
(3) Utilizing crystal growth. Various crystal growth methods are known, and the powder obtained thereby generally forms a polyhedron. These d / D values are generally 7 or less.

【0043】なお、上記保護材料としては、熱処理後、
使用目的の化合物となる形態を選択してもよく、これは
よく用いられる方法である。
As the protective material, after heat treatment,
The form of the compound to be used may be selected, which is a commonly used method.

【0044】以上の実験結果は、保護材料とガラスの混
練状態、塗布された保護層の状態や焼成スケジュール等
の生産技術的な要素で変化するものであるから厳密なも
のではない。しかし、上記要因を一定にすると得られる
傾向であり、適宜簡単な実験で決めることができる。
The above experimental results are not exact because they vary depending on the production technical factors such as the kneading state of the protective material and glass, the state of the applied protective layer, and the firing schedule. However, it tends to be obtained by making the above factors constant, and can be appropriately determined by a simple experiment.

【0045】本発明の好ましい実施態様および手順を次
にまとめる。 (1)保護材料について: a)d/DはVsおよびVmを向上させるため7以下と
する。小さいほど好ましいが、価格を勘案して決める。
The preferred embodiments and procedures of the present invention are summarized below. (1) Regarding protective material: a) d / D is 7 or less in order to improve Vs and Vm. The smaller, the better, but the price is taken into consideration when deciding.

【0046】b)粒径は0.5〜10μmである。Vm
の設計が許容できる範囲で大きなものを選択すると、V
sを低下でき駆動に負担が少なくなると共に、保護材料
比率を大きくできるので保護特性もよい。さらに好まし
くは2〜5μmである。
B) The particle size is 0.5 to 10 μm. Vm
If you select a large one within the allowable range of
s can be reduced, driving load is reduced, and the ratio of the protective material can be increased, so that the protective property is also good. More preferably, it is 2 to 5 μm.

【0047】(2)ガラスについて: a)保護材料との混合を均一にするにはd/Dが小さい
ものが好ましいが、特性に対する影響は少ないので特に
制限されない。
(2) Regarding glass: a) In order to make the mixing with the protective material uniform, it is preferable that d / D is small, but it is not particularly limited because it has little influence on the characteristics.

【0048】b)粒径は0.5〜10μmで、さらに好
ましくは2〜5μmであり、保護材料粉体と同程度のも
のが望ましい。
B) The particle size is 0.5 to 10 μm, more preferably 2 to 5 μm, and it is desirable that the particle size be the same as that of the protective material powder.

【0049】(3)保護材料とガラスの混合について: a)混合比率を変えてVsの極小値を求める。実験誤差
もあるから、極小値を与える比率の±10vol%が好
ましい。具体的には保護材料として15〜60vol
%、さらに好ましくは30〜45vol%である。この
時、簡便な厚膜技術を適用してもRMAX1.5μm以下
の保護層が得られる。
(3) Regarding mixing of protective material and glass: a) The minimum value of Vs is obtained by changing the mixing ratio. Since there is an experimental error, ± 10 vol% of the ratio giving the minimum value is preferable. Specifically, the protective material is 15 to 60 vol.
%, And more preferably 30 to 45 vol%. At this time, even if a simple thick film technique is applied, a protective layer having R MAX of 1.5 μm or less can be obtained.

【0050】[0050]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples.

【0051】実施例 保護材料として溶融MgOの粉砕粉を塩酸水溶液で処理
し、粉体の一部を溶解させたものを使用した。この粉体
のd/Dは6、dは4μmであった。また、ガラスとし
て軟化点490℃でSiO2−B23−Al23−Ba
O−PbO系のものを用いた。このガラスの平均粒径d
は約4μmである。保護材料とガラスの比率を変えPD
PのVsを測定したところ、保護材料45vol%で最
小値を示し165Vであった。従って、誘電体組成物と
してこの比率を用いた。
Example As the protective material, a powder obtained by treating pulverized powder of molten MgO with an aqueous hydrochloric acid solution and dissolving a part of the powder was used. The d / D of this powder was 6, and the d was 4 μm. Further, as glass, it has a softening point of 490 ° C. and has a SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 —Ba content.
The O-PbO type was used. Average particle size d of this glass
Is about 4 μm. PD by changing the ratio of protective material and glass
When the Vs of P was measured, it was 165V, which was the minimum value at 45 vol% of the protective material. Therefore, this ratio was used as the dielectric composition.

【0052】保護材料およびガラスの粉体合計100重
量部を、10wt%のエチルセルロ−スをブチルカルビ
トールアセテートに溶解した液体ベヒクル45重量部と
共に混練して、誘電体組成物を調製した。図1に示した
PDPを作成し、この保護層を上記誘電体組成物で形成
した。焼成は560℃で厚み8μmである。全体の誘電
体厚みは50μmとした。PDPのセル形状は長方形で
ピッチは縦0.66mm、横0.22mmでセル面積は
約0.1mm2である。セル数は縦640、横1920
であった。形成方法等は一般的なものを採用した。完成
したPDPのVmは30Vが得られ、保護層のRMAX
0.6μmであった。
A total of 100 parts by weight of the protective material and glass powder was kneaded together with 45 parts by weight of a liquid vehicle in which 10 wt% of ethyl cellulose was dissolved in butyl carbitol acetate to prepare a dielectric composition. The PDP shown in FIG. 1 was prepared, and this protective layer was formed from the above dielectric composition. The firing is 560 ° C. and the thickness is 8 μm. The total dielectric thickness was 50 μm. The cell shape of the PDP is rectangular, the pitch is 0.66 mm in length, 0.22 mm in width, and the cell area is about 0.1 mm 2 . The number of cells is 640 vertical and 1920 horizontal
Met. A general method was adopted for the forming method and the like. The Vm of the completed PDP was 30V, and the R MAX of the protective layer was 0.6 μm.

【0053】比較例 保護材料として溶融MgOの粉砕粉をそのまま用いた。
この粉体のd/Dは11、dは8μmであった。また、
ガラスは実施例と同様のものを用いた。保護材料とガラ
スの比率を変えPDPのVsを測定したところ、保護材
料30vol%で最小値を示し180Vであった。従っ
て、誘電体組成物としてこの比率を採用した。
Comparative Example A crushed powder of molten MgO was used as it was as a protective material.
The d / D of this powder was 11, and the d was 8 μm. Also,
The same glass as that used in the example was used. When the Vs of the PDP was measured while changing the ratio of the protective material and the glass, the minimum value was 180 V at 30 vol% of the protective material. Therefore, this ratio was adopted as the dielectric composition.

【0054】この保護材料とガラスを用い、実施例と全
く同様の方法によってPDPを作成した。完成したPD
PのVmは5Vが得られ、保護層RMAXは2μmであっ
た。
Using this protective material and glass, a PDP was prepared by the same method as in the example. Completed PD
The Vm of P was 5 V, and the protective layer R MAX was 2 μm.

【0055】上記実施例および比較例から分かるよう
に、本発明の誘電体組成物を用いると特性のよいPDP
が得られる。
As can be seen from the above examples and comparative examples, when the dielectric composition of the present invention is used, the PDP having good characteristics is obtained.
Is obtained.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上の説明から、本発明では次のような
効果が奏せられる。 (1)特定の特性を有する材料およびそれらの比率を選
択するだけで、通常の簡単な方法によってPDPに有用
な誘電体組成物が得られる。 (2)上記誘電体組成物を用いれば、簡便な厚膜技術で
特性に優れたPDPの保護層が形成できる。
From the above description, the present invention has the following effects. (1) A dielectric composition useful for a PDP can be obtained by an ordinary simple method only by selecting materials having specific properties and their ratio. (2) By using the above dielectric composition, a PDP protective layer having excellent characteristics can be formed by a simple thick film technique.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 PDPの一例を示す部分模式断面図。FIG. 1 is a partial schematic sectional view showing an example of a PDP.

【図2】 放電維持電圧Vsと保護材料比率との関係を
示すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the discharge sustaining voltage Vs and the protective material ratio.

【図3】 保護層の表面粗さRMAXと動作マージンVm
との関係を示すグラフ。
FIG. 3 Surface roughness R MAX of protective layer and operating margin Vm
A graph showing the relationship with.

【図4】 放電維持電圧Vsと保護材料比率との関係を
示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the discharge sustaining voltage Vs and the protective material ratio.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

FG:前面ガラス板、BP:背面板、PW:隔壁、S
X、SY:表示放電電極、W:書き込み電極、DL:被
覆誘電体、PH:蛍光体、CL:表示セル。
FG: front glass plate, BP: rear plate, PW: partition wall, S
X, SY: display discharge electrode, W: writing electrode, DL: coating dielectric, PH: phosphor, CL: display cell.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横井 達政 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者 浅井 秀之 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者 菊地 直哉 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者 中野 竜次 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者 伊藤 雅章 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Tatsumasa Yokoi, 1-3-1, Noritake Shinmachi, Nishi-ku, Nagoya, Aichi Prefecture No. 36 Noritake Company Limited Limited (72) Hideyuki Asai 3-chome, Noritake Shincho, Nishi-ku, Aichi Prefecture No. 1-36 Noritake Company Limited (72) Inventor Naoya Kikuchi Noritake Shinmachi 3-chome, Nishiku, Nagoya-shi, Aichi Prefecture 1-36 Noritake Company Limited Limited (72) Inventor Ryuji Nakano Noritake Shin-cho, Nishi-ku, Nagoya Aichi Prefecture No. 1-336 Noritake Company Limited (72) Inventor Masaaki Ito No. 1-36 Noritake Shinmachi, Nishi-ku, Nagoya, Aichi Prefecture Noritake Company Limited Limited

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、
Y、Thおよびランタニド元素から選ばれる少なくとも
一種類の元素を含む酸化物結晶で、光透過法で測定され
る平均粒径d、比表面積から計算される平均粒径Dとし
た場合、d/Dが7以下で、dが0.5〜10μmの粉
体15〜60vol%と、該酸化物結晶の融点より軟化
点が低い酸化物ガラスで、平均粒径dが0.5〜10μ
mの粉体40〜85vol%との合計100vol%の
粉体を、液体ベヒクルと共に混練したことを特徴とする
誘電体組成物。
1. Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc,
When the average particle size d measured by the light transmission method and the average particle size D calculated from the specific surface area are oxide crystals containing at least one element selected from Y, Th and lanthanide elements, d / D Is 7 or less and d is 0.5 to 10 μm, and the powder is 15 to 60 vol%, and the oxide glass has a softening point lower than the melting point of the oxide crystal, and the average particle diameter d is 0.5 to 10 μm.
A dielectric composition, characterized in that a total of 100 vol% powder including 40 to 85 vol% of m powder is kneaded with a liquid vehicle.
【請求項2】 背面板と前面ガラス板とが周囲を封じら
れて放電ガス容器を構成し、該容器内には表示面積0.
2mm2以下である複数の表示セルが形成され、各セル
には誘電体で被覆された放電電極が形成されるプラズマ
ディスプレイパネルにおいて、該被覆誘電体の少なくと
も放電が生起される表面は、Be、Mg、Ca、Sr、
Ba、Sc、Y、Thおよびランタニド元素から選ばれ
た少なくとも一種類の元素を含む酸化物結晶粉体15〜
60vol%が、酸化物ガラス中に分散されて保護層を
形成し、該保護層の表面粗さRMAXが1.5μm以下で
あることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. A discharge gas container having a back plate and a front glass plate sealed around the periphery thereof, and a display area of 0.
In a plasma display panel in which a plurality of display cells each having a size of 2 mm 2 or less are formed, and a discharge electrode coated with a dielectric is formed in each cell, at least the surface of the coated dielectric where discharge is generated is Be, Mg, Ca, Sr,
Oxide crystal powder 15 containing at least one element selected from Ba, Sc, Y, Th and lanthanide elements
A plasma display panel, wherein 60 vol% is dispersed in an oxide glass to form a protective layer, and the surface roughness R MAX of the protective layer is 1.5 μm or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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