JPH06310037A

JPH06310037A - 誘電体組成物およびプラズマディスプレイパネル

Info

Publication number: JPH06310037A
Application number: JP5114176A
Authority: JP
Inventors: Sumuto Sago; 澄人左合; Akira Kani; 章可児; Tatsumasa Yokoi; 達政横井; Hideyuki Asai; 秀之浅井; Naoya Kikuchi; 直哉菊地; Tatsuji Nakano; 竜次中野; Masaaki Ito; 雅章伊藤
Original assignee: Noritake Co Ltd
Current assignee: Noritake Co Ltd
Priority date: 1993-04-19
Filing date: 1993-04-19
Publication date: 1994-11-04

Abstract

(57)【要約】【目的】特性のよいプラズマディスプレイパネルを安
価に提供すると共に、これに有用な誘電体組成物を提供
する。【構成】Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、
Ｔｈおよびランタニド元素から選ばれる少なくとも一種
類の元素を含む酸化物結晶で、光透過法で測定される平
均粒径ｄ、比表面積から計算される平均粒径Ｄとした場
合、ｄ／Ｄが７以下で、ｄが０．５〜１０μｍの粉体１
５〜６０ｖｏｌ％と、該酸化物結晶の融点より軟化点が
低い酸化物ガラスで、平均粒径ｄが０．５〜１０μｍの
粉体４０〜８５ｖｏｌ％との合計１００ｖｏｌ％の粉体
を、液体ベヒクルと共に混練したことを特徴とする誘電
体組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、誘電体組成物およびこ
れを用いたプラズマディスプレイパネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰと略記する）の電極を誘電体で被覆しその表面で放
電を生起するものには、放電を交流的に持続させる表示
放電、誘電体表面の電荷を除帯電させる選択放電や放電
によってプライミングイオンを確保するいわゆるトリガ
ー放電等が知られている。

【０００３】以下の問題点は共通であるから、表示放電
として用いる交流型ＰＤＰで説明する。このＰＤＰは、
放電特性にメモリー機能を有することや放電面材料に優
れたものが開発されているため、高輝度で長寿命であ
る。

【０００４】ＰＤＰの構成には各種方法が知られている
が、薄型にするため、対向する前面板と背面板の周囲を
シールガラスで封じて、放電ガスの気密容器を構成する
ものが多く採用される。前背面板とも低価格のソーダラ
イムガラスが賞用される。

【０００５】画像表示可能な微細で多数の表示セルを有
するＰＤＰでは、通常、表示セルや電極形成が容易な方
形セル配列が採用される。各々ライン状の行と列電極が
間隔を隔てて交差する部分にセルを形成し、多数のセル
を独立に選択できるようにしている。このような選択電
極は二つの電極群で構成される。

【０００６】交流型では一対の表示放電電極は誘電体で
被覆される。この表示放電電極を選択電極として兼用す
ることもできる。また、表示放電電極には選択機能を持
たせず、別に書き込み電極と言われる選択電極を形成す
ることもできる。この書き込み電極は被覆あるいは露出
したものどちらでも利用できる。これらの組合せは任意
である。また、選択に使用しない複数の電極は通常共通
に結線される。

【０００７】表示は放電ガスの可視発光を利用するもの
（単色ＰＤＰ）、および放電によって生起する紫外線で
蛍光体を可視発光させるものがある（カラーＰＤＰ）。

【０００８】このような一般的なカラーＰＤＰの部分模
式断面図の一例を図１に示す。背面板ＢＰには、一対の
表示放電電極ＳＸとＳＹが、垂直方向に向かってライン
状に形成されている。電極材料は例えばＡ１で、薄膜技
術等を用いて形成される。ＳＸは選択電極としても利用
され独立であるが、ＳＹは放電のサステインのみに利用
されるため共通に結線されている。表示放電電極は、被
覆誘電体で覆われている。被覆誘電体ＤＬは、電極を被
覆する誘電体層（例えばガラス層を厚膜印刷で形成した
もの）と、この上の保護層（例えばＭｇＯ等を蒸着で被
着したもの）とで構成されている。

【０００９】前面ガラス板ＦＧには、もう一方の選択電
極である書き込み電極Ｗが、平行に向かってライン状に
形成され、これは各色の蛍光体ＰＨで被覆されている。
書き込み電極は、例えばＡｇ等のインクで、蛍光体は各
色の粉体インクを用い、厚膜技術を適用して形成され
る。

【００１０】前面板と背面板との間には、放電空間を確
保し、電極間距離を規定したり誤放電等を防ぐための隔
壁ＰＷが形成され、これと各面板とで囲まれたところが
表示セルＣＬである。隔壁は例えばガラスインク等を用
いて形成される。

【００１１】以上の構成は、３相電極、面放電型で透過
型カラーＰＤＰと分類される一般的なものである。

【００１２】被覆誘電体に要求される特性は以下のよう
である。（１）電極を緻密に被覆すること。（２）多数
のセルで誘電体容量が均一なこと。（３）放電特性が均
一であるため、表面が平滑であること。（４）表面が保
護材料で形成されること。（５）駆動電圧が低くなる表
面材料を選択すること。

【００１３】上記（１）〜（３）のために酸化物ガラス
（以下、単にガラスと記す）材料が好適に用いられる。
ガラス粉体を用いることで容易に膜形成ができ、ガラス
を溶融させることで緻密、平滑、均質な被覆誘電体を形
成できる。また、（４）、（５）については、一般のガ
ラス材料では充分なものが得られていないため、特定の
材料を表面に形成している。形成方法は蒸着やスパッタ
等の薄膜技術が採用される。しかし、薄膜技術は設備が
高価であり量産性に乏しい欠点がある。

【００１４】そこで、低電圧駆動ができる保護材料を粉
体で使用する方法が検討されている。つまり保護材料粉
体単独で、あるいは少量の固着材料、例えばガラスを併
用するものである。この方法では厚膜技術が適用できる
ため低価格であり、また低電圧および保護特性を満足さ
せることに成功している。しかし、保護層の表面状態が
充分でないため、放電特性のばらつきが大きい。従っ
て、製造条件や駆動回路が制限されるという欠点を有す
る。

【００１５】以上のように従来のＰＤＰでは、被覆誘電
体の形成において特性および価格が満足されていないの
が現状である。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、これら従来
技術の課題に鑑みなされたもので、特性のよいＰＤＰを
安価に提供すると共に、これに有用な誘電体組成物を提
供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、次
に示す誘電体組成物およびＰＤＰによって達成される。

【００１８】すなわち、本発明は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、
Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｈおよびランタニド元素から
選ばれる少なくとも一種類の元素を含む酸化物結晶で、
光透過法で測定される平均粒径ｄ、比表面積から計算さ
れる平均粒径Ｄとした場合、ｄ／Ｄが７以下で、ｄが
０．５〜１０μｍの粉体１５〜６０ｖｏｌ％と、該酸化
物結晶の融点より軟化点が低い酸化物ガラスで、平均粒
径ｄが０．５〜１０μｍの粉体４０〜８５ｖｏｌ％との
合計１００ｖｏｌ％の粉体を、液体ベヒクルと共に混練
したことを特徴とする誘電体組成物である。

【００１９】また、本発明は、背面板と前面ガラス板と
が周囲を封じられて放電ガス容器を構成し、該容器内に
は表示面積０．２ｍｍ²以下である複数の表示セルが形
成され、各セルには誘電体で被覆された放電電極が形成
されるＰＤＰにおいて、該被覆誘電体の少なくとも放電
が生起される表面は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、
Ｓｃ、Ｙ、Ｔｈおよびランタニド元素から選ばれる少な
くとも一種類の元素を含む酸化物結晶粉体１５〜６０ｖ
ｏｌ％が、酸化物ガラス中に分散されて保護層を形成
し、該保護層の表面粗さＲ_MAXが１．５μｍ以下である
ことを特徴とするＰＤＰである。

【００２０】以下、本発明をさらに詳しく説明する。本
発明のＰＤＰでは、放電電極を被覆する誘電体の表面保
護層を除けば従来と同様であるから、他の構成および材
料や形成技術等は一般的なものが利用できる。なお、以
下の説明で用いる平均粒径は光透過法によるものをｄ、
比表面積から計算されるものをＤとして表す。

【００２１】先ず、本発明の誘電体組成物について説明
する。被覆誘電体の厚みは、この表面に蓄積される電荷
量や絶縁の確実性から２０〜６０μｍ程度が用いられ
る。緻密な被覆が容易であるガラスが賞用されるが、少
なくとも誘電体表面には保護層が形成される。ガラスだ
けでは充分なものがないからである。本発明における保
護層は保護材料とガラスの混合物で形成する。形成方法
は任意であるが厚膜技術によるものが簡便であり、保護
層の厚みは厚膜技術で容易に達成できる１〜２０μｍが
好適である。１μｍ未満でも保護特性に問題はないが、
均質な膜形成が難しくなる。

【００２２】厚膜技術適用のためインク状の組成物を形
成する。このための液体ベヒクルとして、メチル、エチ
ル等の各セルロースやアクリル樹脂等をパインオイル、
ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、
セロソルブ等の溶剤に溶解した一般的なものが利用でき
る。粉体合計１００重量部に対して３０〜６０重量部の
ベヒクルを混練すればよい。後述する実験ではこのよう
な組成物を用い、図１に示したＰＤＰを構成している。
もちろん、誘電体全体をこの組成物で形成することもで
きる。

【００２３】保護材料としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓ
ｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｈおよびランタニド元素から選
ばれる少なくとも一種類の元素を含む酸化物結晶粉体を
用いる。上記元素の酸化物は、低電圧駆動と保護特性が
優れたものとして知られている。ここでランタニド元素
とは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇ
ｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕで
ある。酸化物は単独元素、例えばＭｇＯ、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ
₂Ｏ₃等あるいは複合元素例えばＭｇＯ・Ａｌ₂Ｏ₃等が利
用できる。また複数の酸化物を混合してもよい。

【００２４】保護材料のｄは０．５〜１０μｍのものを
使用する。０．５μｍより小さいと溶融状態のガラスと
反応する量が多くなり、特性上好ましくない。１０μｍ
より大きいと誘電体表面の凹凸が大きくなること、微細
なパターニングおよび薄い膜形成が困難となるので好ま
しくない。

【００２５】上記保護材料とガラスの不必要な反応を避
けるため、ガラスの軟化点は保護材料の融点より低いも
のを選択する。１０００℃以上の差があれば、保護材料
の溶解量は僅かである。もちろん、保護層形成時にパネ
ル基板を変形しない軟化点であることも必要である。ま
た、保護層および誘電体層の熱膨張係数は固着される基
体材料に近似して設計される。ガラスの選択範囲は広い
ため、以上のような特性のガラスを容易に選ぶことがで
き、Ｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯ、ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＰｂＯ系等多
くのものが例示できる。

【００２６】ガラスのｄは０．５〜１０μｍである。
０．５μｍより小さいとガラスを溶融した場合、保護層
中の気泡を除きにくく、この泡はＰＤＰの特性を劣化さ
せる。１０μｍより大きいと凹凸ができ易く薄い膜が形
成できない。

【００２７】保護材料とガラスの比率は保護材料で１５
〜６０ｖｏｌ％である。１５ｖｏｌ％より小さいと低電
圧駆動できず、保護特性も充分でない、粒径が小さい保
護材料では特にそうである。６０ｖｏｌ％より大きいと
緻密で平滑な膜が形成できない。

【００２８】保護層の特性評価は、主に放電維持電圧Ｖ
ｓと動作マージンＶｍで表すことができる。Ｖｓは、放
電開始電圧Ｖｆ以上で生起した放電を、電圧を徐々に低
下させて放電が消滅する直前の電圧で小さいほどよい。
このＶｓとＶｆは各表示セルでばらつくが、この間に駆
動電圧が設定される。従って、最小のＶｆと最大のＶｓ
の差Ｖｍが正でなければならない。Ｖｍは均一度の指標
であり、許容公差を表している。つまりＶｍは大きいほ
ど製造が容易である。

【００２９】さて、Ｖｓは放電ガスの種類や圧力、電極
間距離等で変化するが、他の条件を一定とすると放電面
の保護層で変化する。この比較実験の結果を図２に示
す。なお、以下の各図でＡ点で示すものは従来の薄膜技
術で形成したものである。

【００３０】図２の横軸は、保護層形成に用いた誘電体
インクのガラスと保護材料の内、保護材料のｖｏｌ％を
表す。保護材料およびそのｄ／Ｄを一定（１２）とし、
ガラスは同一のものを使用している。保護材料のｄを変
化させた曲線から分かるように、Ｖｓには極小値があ
り、ｄあるいは保護材料比率が大きくなると共に小さく
なっている。一般に保護材料が増えると共にＶｓは小さ
くなるが、多すぎると保護層に亀裂や空隙が発生して特
性が劣化するからである。

【００３１】ｄが０．５μｍより小さいと極小値が不明
瞭となっているが、これは保護材料がガラスに多く溶解
すること、および少ない量で泡を巻き込んだり空隙を発
生させるためである。ｄが１０μｍより大きいとＶｓの
変化量は少なくなっている。

【００３２】以上のような傾向は、Ｄが異なる粉体につ
いても同様であり、図２からＶｓが最小となるように保
護層を設計するのが好ましいことが分かる。

【００３３】次にＶｍと保護層の表面粗さの関係を図３
に示す。Ｖｍは表示セルの数が多いほど、また面積が小
さいほど少なくなるが、特に面積に敏感である。図３か
らＲ_MAXが大きくなるとＶｍは小さくなることが分か
る。また、セル面積Ｓが小さくなるほどＶｍがＲ_MAXと
ともに減少する度合が早くなる。高精細なＰＤＰでは面
積０．２ｍｍ²以下のセルが有用であり、Ｒ_MAXが１．５
μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．８μｍ以下
である。

【００３４】前述のように、ガラスと保護材料の混合で
形成される保護層では、Ｖｓが最小となる組成が好まし
い。このような組成近傍で面粗さを測定すると、Ｒ_MAX
は用いる保護材料のｄに比例することが判明した。通
常、粉砕法で得られる最も安価な粉体ではｄ／Ｄが１０
以上である。図２で用いたｄ／Ｄ＝１２の粉体では、お
よそＲ_MAX＝１／４ｄμｍの関係が得られる。つまりｄ
が小さいものほどＶｍはよいが、これはＶｓからは悪い
方向となる。

【００３５】ところで面粗さは粉体の粒径分布および形
状にも関係し、これが本発明の骨子である。分布および
形状を規定するものとして、本発明ではｄ／Ｄを用い、
その値が７以下を採用する。この値が小さいほど、粉体
形状は球形に近く粒径分布はシャープとなる。ｄ／Ｄが
１２、７、５の時、各々のＶｓが最小値となる組成の保
護層面粗さＲ_MAXはおよそ１／４ｄ、１／６ｄ、１／７
ｄμｍであった。つまり、ｄ／Ｄを小さくすればＲ_MAX
も小さくなり、Ｖｍを大きくできるわけである。

【００３６】ｄ／Ｄを小さくするとＶｓにもよい効果を
与える。これを示す実験結果を図４に示す。

【００３７】この図４は図２と同様であるが、保護材料
粉体のｄを２μｍ一定とし、ｄ／Ｄを変化させたもので
ある。図４から分かるように、ｄ／Ｄが小さくなると共
にＶｓの極小値は小さくなり、同時にそれを与える保護
材料比率が大きくなっている。このような傾向はｄが変
わっても同様である。

【００３８】上述のようにｄ／Ｄを小さくすれば、Ｖｓ
およびＶｍ特性を同時に改善できることが分かる。ｄ／
Ｄの最小値は理論的に１であるが、この時、粉体は大き
さがすべて等しい完全な球形である。このような粉体は
高価なものであることは明らかである。従って、現実的
にはｄ／Ｄが７以下の粉体を選択する。

【００３９】本発明における粒径範囲でｄ／Ｄが７以下
の粉体は、前述のように粉砕法では得られない。しか
し、次のような方法で量産できる。

【００４０】（１）液体状の原料を噴霧する方法。ａ）保護材料を高温で溶融し噴霧する。ｂ）微細な保護材料を液体（例えば水）に分散し、噴霧
して顆粒を形成した後加熱して焼結する。この時、液体
に樹脂等の粘結材料を添加して、顆粒を安定化するのが
一般的に行われる。また、材料を粘結性があるゾル状態
で使用してもよい。

【００４１】（２）ｄ／Ｄが大きい粉体を溶解処理す
る。ｄ／Ｄが大きい粉体は一般に角張っている。これを
溶解処理すると、溶解性が高い鋭角部分は早く溶解され
るので丸くなる。処理液としては酸、アルカリやガラス
等が例示される。

【００４２】（３）結晶成長を利用する。各種の結晶成
長方法が知られ、これによって得られる粉体は一般に多
面体を形成している。これらのｄ／Ｄは一般に７以下の
値である。

【００４３】なお、上記保護材料としては、熱処理後、
使用目的の化合物となる形態を選択してもよく、これは
よく用いられる方法である。

【００４４】以上の実験結果は、保護材料とガラスの混
練状態、塗布された保護層の状態や焼成スケジュール等
の生産技術的な要素で変化するものであるから厳密なも
のではない。しかし、上記要因を一定にすると得られる
傾向であり、適宜簡単な実験で決めることができる。

【００４５】本発明の好ましい実施態様および手順を次
にまとめる。（１）保護材料について：ａ）ｄ／ＤはＶｓおよびＶｍを向上させるため７以下と
する。小さいほど好ましいが、価格を勘案して決める。

【００４６】ｂ）粒径は０．５〜１０μｍである。Ｖｍ
の設計が許容できる範囲で大きなものを選択すると、Ｖ
ｓを低下でき駆動に負担が少なくなると共に、保護材料
比率を大きくできるので保護特性もよい。さらに好まし
くは２〜５μｍである。

【００４７】（２）ガラスについて：ａ）保護材料との混合を均一にするにはｄ／Ｄが小さい
ものが好ましいが、特性に対する影響は少ないので特に
制限されない。

【００４８】ｂ）粒径は０．５〜１０μｍで、さらに好
ましくは２〜５μｍであり、保護材料粉体と同程度のも
のが望ましい。

【００４９】（３）保護材料とガラスの混合について：ａ）混合比率を変えてＶｓの極小値を求める。実験誤差
もあるから、極小値を与える比率の±１０ｖｏｌ％が好
ましい。具体的には保護材料として１５〜６０ｖｏｌ
％、さらに好ましくは３０〜４５ｖｏｌ％である。この
時、簡便な厚膜技術を適用してもＲ_MAX１．５μｍ以下
の保護層が得られる。

【００５０】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。

【００５１】実施例保護材料として溶融ＭｇＯの粉砕粉を塩酸水溶液で処理
し、粉体の一部を溶解させたものを使用した。この粉体
のｄ／Ｄは６、ｄは４μｍであった。また、ガラスとし
て軟化点４９０℃でＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂａ
Ｏ−ＰｂＯ系のものを用いた。このガラスの平均粒径ｄ
は約４μｍである。保護材料とガラスの比率を変えＰＤ
ＰのＶｓを測定したところ、保護材料４５ｖｏｌ％で最
小値を示し１６５Ｖであった。従って、誘電体組成物と
してこの比率を用いた。

【００５２】保護材料およびガラスの粉体合計１００重
量部を、１０ｗｔ％のエチルセルロ−スをブチルカルビ
トールアセテートに溶解した液体ベヒクル４５重量部と
共に混練して、誘電体組成物を調製した。図１に示した
ＰＤＰを作成し、この保護層を上記誘電体組成物で形成
した。焼成は５６０℃で厚み８μｍである。全体の誘電
体厚みは５０μｍとした。ＰＤＰのセル形状は長方形で
ピッチは縦０．６６ｍｍ、横０．２２ｍｍでセル面積は
約０．１ｍｍ²である。セル数は縦６４０、横１９２０
であった。形成方法等は一般的なものを採用した。完成
したＰＤＰのＶｍは３０Ｖが得られ、保護層のＲ_MAXは
０．６μｍであった。

【００５３】比較例保護材料として溶融ＭｇＯの粉砕粉をそのまま用いた。
この粉体のｄ／Ｄは１１、ｄは８μｍであった。また、
ガラスは実施例と同様のものを用いた。保護材料とガラ
スの比率を変えＰＤＰのＶｓを測定したところ、保護材
料３０ｖｏｌ％で最小値を示し１８０Ｖであった。従っ
て、誘電体組成物としてこの比率を採用した。

【００５４】この保護材料とガラスを用い、実施例と全
く同様の方法によってＰＤＰを作成した。完成したＰＤ
ＰのＶｍは５Ｖが得られ、保護層Ｒ_MAXは２μｍであっ
た。

【００５５】上記実施例および比較例から分かるよう
に、本発明の誘電体組成物を用いると特性のよいＰＤＰ
が得られる。

【００５６】

【発明の効果】以上の説明から、本発明では次のような
効果が奏せられる。（１）特定の特性を有する材料およびそれらの比率を選
択するだけで、通常の簡単な方法によってＰＤＰに有用
な誘電体組成物が得られる。（２）上記誘電体組成物を用いれば、簡便な厚膜技術で
特性に優れたＰＤＰの保護層が形成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＰＤＰの一例を示す部分模式断面図。

【図２】放電維持電圧Ｖｓと保護材料比率との関係を
示すグラフ。

【図３】保護層の表面粗さＲ_MAXと動作マージンＶｍ
との関係を示すグラフ。

【図４】放電維持電圧Ｖｓと保護材料比率との関係を
示すグラフ。

【符号の説明】

ＦＧ：前面ガラス板、ＢＰ：背面板、ＰＷ：隔壁、Ｓ
Ｘ、ＳＹ：表示放電電極、Ｗ：書き込み電極、ＤＬ：被
覆誘電体、ＰＨ：蛍光体、ＣＬ：表示セル。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者横井達政愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者浅井秀之愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者菊地直哉愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者中野竜次愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者伊藤雅章愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、
Ｙ、Ｔｈおよびランタニド元素から選ばれる少なくとも
一種類の元素を含む酸化物結晶で、光透過法で測定され
る平均粒径ｄ、比表面積から計算される平均粒径Ｄとし
た場合、ｄ／Ｄが７以下で、ｄが０．５〜１０μｍの粉
体１５〜６０ｖｏｌ％と、該酸化物結晶の融点より軟化
点が低い酸化物ガラスで、平均粒径ｄが０．５〜１０μ
ｍの粉体４０〜８５ｖｏｌ％との合計１００ｖｏｌ％の
粉体を、液体ベヒクルと共に混練したことを特徴とする
誘電体組成物。
【請求項２】背面板と前面ガラス板とが周囲を封じら
れて放電ガス容器を構成し、該容器内には表示面積０．
２ｍｍ²以下である複数の表示セルが形成され、各セル
には誘電体で被覆された放電電極が形成されるプラズマ
ディスプレイパネルにおいて、該被覆誘電体の少なくと
も放電が生起される表面は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、
Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｈおよびランタニド元素から選ばれ
た少なくとも一種類の元素を含む酸化物結晶粉体１５〜
６０ｖｏｌ％が、酸化物ガラス中に分散されて保護層を
形成し、該保護層の表面粗さＲ_MAXが１．５μｍ以下で
あることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。