JPH0631142U - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体基板などを表面洗浄する基板洗浄装置
に関し、クリーンルームの省スペース化を図る。 【構成】 洗浄処理部６５の基板洗浄槽１の下部に洗浄
液２の給排用配管室２０を、この給排用配管室２０の下
部に洗浄用薬液貯留容器６を上下３段に配置し、この３
段積み上げ部の一側で上記基板移載部６０よりも後方の
空間をメンテナンス・スペース９０として形成する。こ
れにより、基板洗浄装置内にメンテナンス・スペース９
０を確保して、装置の設置面積をコンパクトにまとめら
れるので、多数の洗浄槽を直列配置する方式や洗浄液を
置換する方式の各洗浄装置を問わず、クリーンルームの
スペースを有効利用できる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、半導体基板や液晶用ガラス基板等の薄板状の被処理基板（以下単に 基板と称する）を表面洗浄するのに用いられる浸漬型の基板洗浄装置に関するも のである。

【０００２】

【従来の技術】

一般に、基板製造用クリーンルームは、図７に示すように、中央通路の左右に 拡散工程、ＣＶＤ工程、メタライズ工程、リソグラフィー工程、洗浄工程、検査 工程などの各工程の保全用作業域３１(図７の斜線部分)がレイアウトされ、中央 通路から各保全用作業域３１に向けて基板収容カセットＣの搬送路３３が分岐状 にレイアウトされてクリーンルーム作業域３０(図７の白地部分)が形成される。 上記基板の洗浄工程を実施する従来の洗浄装置５０は、図８に示すように、分 岐搬送路３３の前後に分けてアルカリ洗浄、水洗、フッ化水素洗浄、酸洗浄、水 洗、最終リンスなどの各種の洗浄処理をするための洗浄槽１を多数個直列状に並 べ、この洗浄槽群に基板を順次移動させて、各種洗浄液により複数種の洗浄処理 を実施するように構成される。

【０００３】

【従来技術の問題点】

上記従来技術では、各種の洗浄液処理数だけの基板洗浄槽１を配置する必要が あるため、洗浄工程が占有する作業域が広域化して、クリーンルームの全体を有 効に使用することができない。

【０００４】

【先提案技術】

そこで、本出願人は、実願平３―９３６３５号に係わる基板洗浄装置を先に提 案した(図５及び図６参照)。 即ち、当該先提案技術は、基板洗浄槽１を複数種の洗浄処理毎に洗浄液を置換 可能に構成することにより、上記従来技術のような多数種の洗浄槽１の数を減ら して(全処理を１つの洗浄槽で処理することも可能である)、クリーンルームのス ペースを有効利用するとともに、 基板洗浄槽１の洗浄液を上方からオーバーフローさせて、洗浄液を全部排出せ ずとも複数種の洗浄処理毎に洗浄液を置換可能に構成し、一連の洗浄処理が完了 するまで基板Ｗが空気に触れないようにして、基板表面に酸化皮膜が形成された り、空気中の不純物が付着したりするのを防止するようにしたものである。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

上記先提案技術の洗浄処理態様を図５により説明すると、例えば、左右に別れ た４つの基板洗浄装置５０の各洗浄槽群で前記従来技術の全洗浄処理をまとめて 行い、４グループで並列処理するようにしても良いし、左・右の２つの基板洗浄 装置５０を１対として、この対の基板洗浄装置５０に対応する前・後の２つの洗 浄槽で全ての洗浄処理を行い、左・右の２グループで並列処理するようにしても 差し支えない。 いずれにせよ、前記従来技術の多数個の洗浄槽１を省略して、洗浄工程の作業 域をコンパクト化できるので、クリーンルームのスペースを有効利用できる。

【０００６】 しかしながら、当該先提案技術の１つの基板洗浄装置５０に着目すると、図６ に示すように、基板移載部６０、基板洗浄槽１及び基板乾燥部７０などの一側に 、各種洗浄用の薬液貯留容器６・６…と、これらを基板洗浄槽１に結ぶ給排用配 管室２０とから成る洗浄処理部６５が大きな場所を占め、いわば、基板洗浄装置 ５０の広い領域に亘りレイアウトされる。このため、実際には、各基板洗浄装置 ５０の間、及び当該基板洗浄装置５０と基板収容カセットＣの停留台３２との間 にこの洗浄処理部６５を保守点検するためのメンテナンス・スペース９０が必要 になり(図５参照)、クリーンルームのスペースの有効利用効率は必ずしも高いと は言えない。 本考案は、上記従来技術や先提案技術を問わず、クリーンルームのスペースの 利用効率をより一層向上することを技術的課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

本考案は上記課題を解決するものとして以下のように構成される。 即ち、本考案は、基板収容カセットの搬入搬出部と、 カセットから基板を取り出し又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、 上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載するカセット 移載ロボットと、 複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部及び基板乾燥部と、 基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を一括保持して上記洗浄処理 部及び基板乾燥部に搬送する基板搬送ロボットと を具備して成る基板洗浄装置において、 クリーンルーム作業域に臨む前方から保全用作業域に臨む後方に向かって前記 カセットの搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置すると ともに、上記洗浄処理部の基板洗浄槽の下部に洗浄液の給排用配管室を、この給 排用配管室の下部に洗浄用薬液貯留容器を上下３段に配置し、 上記基板移載部・基板乾燥部・洗浄処理部の左右の一側に基板搬送ロボットの移 動部を形成し、これらの他側の空間で、上記基板移載部よりも後方の空間をメン テナンス・スペースとして形成したことを特徴とする基板洗浄装置である。

【０００８】

【作用】

本考案では、搬入搬出部と基板移載部とカセット移載ロボットと洗浄処理部と 基板乾燥部と基板搬送ロボットとから成る基板洗浄装置において、洗浄処理部の 基板洗浄槽と、洗浄液などの給排用配管室と、洗浄用薬液貯留容器とを上下３段 に積み上げ配置する(即ち、主に洗浄処理部を縦方向にレイアウトする)ことによ り、この３段積み上げ部の一側で基板移載部の後方に空いた空間をメンテナンス・ スペースとして形成するので、基板洗浄装置内にメンテナンス・スペースを確保 できる。

【０００９】 このため、各種洗浄液の洗浄槽が直列状に多数並列した従来の基板洗浄装置に 本考案を適用した場合には、この直列状の洗浄槽の一側に臨ませてメンテナンス・ スペースを帯状にまとめることができ、洗浄工程の作業域を従来のレイアウト のものよりコンパクトにできる。 また、１つの洗浄槽で複数種の洗浄処理を共通化する前記先提案技術の置換方 式の基板洗浄装置に本考案を適用した場合でも、複数の基板洗浄装置間やカセッ トの貯留台との間にメンテナンス・スペースを設ける必要がなく、基板洗浄装置 内にメンテナンス・スペースを組み入れられるので、洗浄作業域をコンパクト化 できる。

【００１０】

【実施例】

以下、本考案の実施例を図面に基づいて述べる。図１は浸漬型基板洗浄装置の 概略斜視図、図２は同洗浄装置の概略縦断面図、図３は同洗浄装置の基板洗浄処 理部の概略系統図、図４は同基板洗浄装置を複数配置したレイアウト図である。 この基板洗浄装置５０は、複数種の基板処理槽を併設するのをやめて、単一の 基板処理槽１・１…内で複数種の一連の表面処理を成し、装置全体のコンパクト 化を意図したものである。 即ち、図１及び図２に示すように、上記基板洗浄装置５０は、基板収容カセッ トＣの搬入搬出部５１と、カセットＣから基板Ｗを取り出し又はカセットＣ内へ 基板Ｗを装填する基板移載部６０と、カセットＣの搬入搬出部５１と基板移載部 ６０との間でカセットＣを移載するカセット移載ロボット５５と、複数の基板を 一括して洗浄する浸漬型基板洗浄処理部６５と、基板Ｗの液切り基板乾燥部７０ と、基板移載部６０でカセットＣから取り出した複数の基板Ｗを一括保持して上 記洗浄処理部６５及び基板乾燥部７０に搬送する基板搬送ロボット７５から構成 される。

【００１１】 上記カセット移載ロボット５５は、図１に示すように、昇降及び回転自在で、 矢印Ａ方向に移動可能に構成され、搬入搬出部５１に搬入されてきたカセットＣ を基板移載部６０のテーブル６１上に移載し、また、洗浄済み基板を収容したカ セットＣを当該テーブル６１から搬入搬出部５１へ移載するように構成される。 上記基板搬送ロボット７５は、図１に示すように、矢印Ｂ方向に移動可能に設 けられ、上記基板移載部６０のリフターから受け取った複数の基板Ｗを基板搬送 ロボット７５の基板挟持アーム７６で保持し、移動部７７に沿って洗浄処理部６ ５内及び基板乾燥部７０内へ順次搬送するように構成されている。

【００１２】 上記浸漬型の基板洗浄処理部６５は、図１〜図３に示すように、オーバーフロ ー型の洗浄処理部６５ａと、オーバーフローさせないで酸洗浄を行う酸洗浄処理 部６５ｂの２つの別系統の処理部から成る。各洗浄処理部６５ａ・６５ｂの基板 洗浄槽１には昇降自在に設けられた基板保持具６６を備え、基板搬送ロボット７ ５から受け取った複数の基板Ｗを基板保持具６６で保持して洗浄槽１内に浸漬す るように構成される。

【００１３】 上記オーバーフロー型の洗浄処理部６５ａは、図３(Ａ)に示すように、洗浄液 中に複数の基板Ｗを一括して浸漬して基板Ｗの表面洗浄を成す２つの基板洗浄槽 １ａ・１ａと、各基板洗浄槽１ａの下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供 給部４と、各基板洗浄槽１ａよりオーバーフローした洗浄液を排出する洗浄液排 出部４０とを具備して成る。 このオーバーフロー型の基板洗浄槽１ａは、図３(Ａ)に示すように、石英ガラ ス製で側面視略Ｖ字状・平面視略矩形状に形成され、その下部に純水供給管３を 連結して成り、基板洗浄槽１ａ内に洗浄液の均一な上昇流を形成して基板Ｗを表 面処理するとともに、洗浄液を複数種の洗浄処理毎に、迅速に置換し得るオーバ ーフロー槽として構成される。

【００１４】 上記基板洗浄槽１ａは石英ガラス製に限らず、例えば、洗浄液として石英ガラ スを腐食させてしまうフッ酸等を用いる場合には、これに耐食性を有する四フッ 化エチレン樹脂等の樹脂製材料で形成したものでも良い。 また、上記基板処理槽１ａには洗浄液排出部４０を構成するオーバーフロー液 回収部４１が付設され、オーバーフローした洗浄液は排液管４２を介して排液ド レン４３へ流下するように構成される。

【００１５】 上記酸洗浄処理部６５ｂは、図３(Ｂ)に示すように、複数の基板Ｗを一括して 酸洗浄する１つの酸洗浄槽１ｂと、酸洗浄槽１ｂの下部より酸洗浄液を供給する 酸洗浄液供給部４ｂと、酸洗浄槽１ｂより酸洗浄液を回収する酸洗浄液回収部４ ０ｂとを具備して成る。 但し、オーバーフロー型の処理部６５ａの基板洗浄槽１ａは複数の洗浄槽(図 １では２つの洗浄槽)を直列状に組み合わせたものに限らず、１つの洗浄槽から 構成されたものでも良い。酸洗浄処理部６５ｂの酸洗浄槽１ｂも単槽に限らず、 複数槽であっても差し支えない。さらには、洗浄処理部６５を、オーバーフロー型 の処理部６５ａ又は酸洗浄処理部６５ｂのいずれか一方のみで構成してもよい。

【００１６】 また、上記基板乾燥部７０は、例えば本出願人の提案に係る特開平１−２５５ ２２７号公報に開示したように、基板の主平面の中心近傍を回転中心として、回 転遠心力で液切り乾燥する乾燥処理槽で構成される。尚、この遠心式の基板乾燥 部７０に代えて溶剤を用いて乾燥を促進するものや、減圧方式により乾燥を促進 するものを採用することもできる。

【００１７】 上記基板洗浄装置５０のレイアウトは図１及び図４に示すように、クリーンル ーム作業域３０に臨む前方から保全用作業域３１に臨む後方に向かって前記カセ ットＣの搬入搬出部５１、基板移載部６０、基板乾燥部７０及び洗浄処理部６５ を順番に配置する。 また、図２に示すように、当該洗浄処理部６５の３つの基板洗浄槽１の下部に 洗浄液の給排用配管室２０を、この給排用配管室２０の下部に洗浄用薬液貯留容 器６を上下３段に配置するとともに、図１に示すように、上記基板移載部６０・ 基板乾燥部７０・洗浄処理部６５の右側に基板搬送ロボット７５の移動部７７を 前後方向に形成し、これらの左側の空間で、上記基板移載部６０よりも後方の空 間をメンテナンス・スペース９０として形成する。尚、図１及び図２に示すよう に、当該メンテナンス・スペース９０の床部９１には複数の配管、バルブ等が敷 設される。

【００１８】 即ち、本実施例は、基板洗浄装置５０のうちの、洗浄処理部６５の基板洗浄槽 １と、給排用配管室２０と、洗浄用薬液貯留容器６とを上下３段に積み上げる( 即ち、縦方向にレイアウトする)ことにより、これらの３段積み上げ部の左側に臨 んだエリアにメンテナンス・スペース９０を確保したものである。換言すると、洗 浄処理部６５や基板移載部６０などの各種作業ブロックを平面視でＬ字状にまと め、基板洗浄装置５０内の余剰空間をメンテナンス・スぺース９０にしてある。

【００１９】 このため、薬液置換方式の前記先提案技術の基板洗浄装置(図５参照)は、各種 洗浄を行う洗浄槽１が直列状に多数配置した従来の基板洗浄装置(図８参照)に対 して装置全体をコンパクトに改良できるが、本実施例の基板洗浄装置(図４参照) は、この先提案技術のそれと比較しても、複数の基板洗浄装置５０間やカセット Ｃの停留台３２との間にメンテナンス・スペース９０を設ける必要がなく、基板 洗浄装置５０内にメンテナンス・スペースを組み入れられるので、洗浄作業域を さらにコンパクト化して、クリーンルーム全体の省スペース化を一層有効に達成 できる。 このことは、基板洗浄装置５０の設置数が増えるほど、クリーンルームのスペ ースの有効利用効率が向上することを意味する。

【００２０】 また、当該洗浄処理部６５の基板洗浄槽１及び基板乾燥部７０のレイアウトに 関しては、図１に示すように、保全用作業域３１に臨む奥側からクリーンルーム 作業域３０に臨む前側に向かって、１つの酸洗浄槽１ｂと、２つのオーバーフロ ー型の基板洗浄槽１ａ・１ａと、乾燥処理部７０とを順番に配置して、当該乾燥 処理部７０を前記基板移載部６０に臨ませる。 通常、酸洗浄処理には昇温した酸を使用するので、酸の蒸気やミストが発生し 易いが、本実施例では、この酸洗浄槽１ｂをクリーンルーム作業域３０から最も 遠い奥側に配置するため、クリーンルーム作業域３０への悪影響を防止して作業 の安全性を確保できる。

【００２１】 また、基板乾燥部７０が洗浄処理部６５と基板移載部６０との間に位置するの で、洗浄処理された基板Ｗを可能な限り速く乾燥させ、カセットＣに戻して搬入搬 出部５１から効率良く搬出できる。その反面、当該基板乾燥工程はカセットＣへ の戻しに対する時間的制約を強くは受けず、乾燥処理の完了から基板移載部６０ への戻しの間に待機時間を取れるので、隣接状に設けられた基板乾燥部７０は基 板移載部６０に対して作業工程の上でバッファ的な役目をも果すことができる。

【００２２】 一方、酸洗浄を除く洗浄処理に関しては、処理に比較的長い時間を要すること より、２つのオーバーフロー型の基板洗浄槽１ａ・１ａで分担して複数種の洗浄 処理を行うので、前記従来技術の直列型の洗浄処理に比べても、処理速度は低下 しない。しかも、酸洗浄処理では、１つの酸洗浄槽１ｂに共用化するので、基板 乾燥部７０の共通化と合わせて洗浄処理効率と省スペース化が一層向上する。

【００２３】 他方、オーバーフロー型洗浄処理部６５ａでは、洗浄液を基板洗浄槽１ａの上 部からオーバーフローさせるように構成するので、基板洗浄槽１ａ内の洗浄液を 全部排出せずとも複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能であり、一連の洗浄 処理が完了するまで基板Ｗは空気に触れない。このため、基板表面に酸化皮膜が 形成されたり、空気中の不純物が付着したりする虞れはない。また、基板洗浄槽 １内の洗浄液を全部排出せずとも基板Ｗの装填や取り出しができる。

【００２４】 上記オーバーフロー型の洗浄処理部６５ａの洗浄液供給部４は、図３(Ａ)に示 すように、各基板洗浄槽１ａの下部に夫々連結した純水供給管３と、各純水供給 管４に夫々導入弁連結管１６を介して連結した複数の薬液導入弁８と、各薬液導 入弁８に夫々薬液圧送手段２５を介して連結した複数の薬液貯留容器６とを備え 、各薬液導入弁８を選択的に開閉制御して所定の薬液を純水供給管３に導入する ように構成される。

【００２５】 上記純水給液管３は、基板処理槽１ａより上流側に向けて順次、給排液切換弁 １３、スタティックミキサー１４、導入弁連結管１６及び開閉弁２７などを付設 配置して成り、常温の又は所定温度に加熱した純水Ｄ_Wを供給する純水の主要通 路として構成されている。なお、純水Ｄ_Wは基板の表面酸化を防ぐうえで、脱酸素 処理を施したものを用いる方がより好ましい。 上記給排液切換弁１３は常時純水Ｄ_Wや処理液を基板処理槽１ａへ供給し、必 要に応じて基板処理槽１ａ内の処理液を排液管４２を介して排液ドレン４３へ排 出するように構成される。 上記スタティックミキサー１４は、ミキサー管路内に孔あきねじり板(図示省 略)を固定し、純水Ｄ_Wと薬液Ｑ_A〜Ｑ_Eとを均一に混合するように構成される。尚 、このスタティックミキサーに代えて他の混合器を用いても良く、管路が十分に 長ければかかる混合器を省くことも出来る。

【００２６】 上記薬液導入弁８_A〜８_Eは、図３(Ｃ)に示すように、スタティックミキサー１ ４の上流側に配置した導入弁連結管１６に固定され、この導入弁連結管１６を介 して純水給液管３と連通連結される。 この薬液導入弁８は、本出願人が実願平３―９３６３４号で提案したものであ り、弁本体８０内に薬液導入室８１と弁駆動室(図示省略)を区画形成し、薬液導 入室８１と弁駆動室に亘り弁軸８３を貫通し、薬液導入室８１に前記薬液圧送手 段２５の薬液供給管７を接続するとともに、薬液導入室８１内では弁軸８３の先 端部に弁体８４ａを固定して、弁体８４ａを導入弁連結管１６に形成した弁座８ ４ｂで受け止め、弁駆動室内に送られる圧縮エアと圧縮バネとの組み合わせで弁 体８４ａを弁座８４ｂに対して開閉操作し、薬液Ｑを所定量だけ純水供給管３内 へ圧送するように構成される。

【００２７】 本実施例では、弁体８４ａを導入弁連結管１６に形成した弁座８４ｂで受け止 めて、弁体８４ａと純水供給管３との間の空間がなくなるように構成した。即ち 、弁座８４ｂから純水通路までの距離を接近させて、実質的に死水域がなくなる ようにした。 このため、各薬液導入弁８_A〜８_Eを閉じた場合、薬液Ｑの液切れが良くなり、 純水供給管３に不要な薬液が長時間混入することはなくなり、純水Ｄ_Wの供給量 に対する各薬液Ｑ_A〜Ｑ_Eの供給量を正確に制御して所定の薬液濃度に調合するこ とができる。 また、薬液供給後に引き続いて純水を供給する場合に、純水の純度低下の問題 がなくなり、基板Ｗの表面洗浄品質が向上する。しかも、純水が停留してバクテ リヤが発生することもなくなる。 但し、薬液導入弁８_A〜８_Eは圧縮エアで作動するものに限らず、適宜電磁開閉 弁等を用いることもできる。

【００２８】 前記オーバーフロー型洗浄処理部６５ａの洗浄液供給部４における各薬液圧送 手段２５は、図３(Ａ)に示すように、一種類の薬液貯留容器６_Aから導出した薬 液供給管７_Aに薬液の圧送ポンプ１５を１個設け、圧送ポンプ１５の吐出側の薬 液供給管７_Aを分岐し、分岐した各薬液供給管７_A・７_Aの下流部を夫々前記薬液 導入弁８_Aを介して上記複数の基板洗浄槽１ａ・１ａに接続し、上記圧送ポンプ １５の吐出側で薬液供給管７_Aの分岐部１８の上流側に圧力検出器２６(具体的に は、圧力計)を設けるとともに、この圧力検出器２６からの検出信号に基づいて圧 送ポンプ１５の回転数を増減制御する薬液圧送制御手段１２を設け、所定の設定 圧に対する過不足を圧力検出器２６で検出し、当該制御手段１２を介して圧送ポ ンプ１５の駆動源１９を駆動制御することにより、複数の各基板洗浄槽１ａに所 定の設定圧力で薬液を圧送するように構成される。

【００２９】 即ち、圧力検出器２６の検出圧力を受けた制御手段１２が予め設定入力された 搬送圧力に対応して圧送ポンプ１５の回転数を増減制御する。これにより、オー バーフロー型の２つの基板洗浄槽１ａ・１ａの両方に薬液を供給する場合と、い ずれか一方のみに供給する場合のいずれの場合であっても、単一の圧送ポンプ１ ５により、常に一定流量の薬液を所定の設定量供給できる。 なお、図３(Ａ)で示した実施例では、薬液導入弁８_Aにより導入される一種類 の薬液Ｑ_Aに係る薬液圧送手段２５について説明したが、他の種類の薬液Ｑ_B、Ｑ_C、 Ｑ_D、Ｑ_Eに係る薬液圧送手段についても同様に構成されている。これにより、複 数個の基板洗浄槽１ａ・１ａについて複数種の薬液貯溜容器を１セット配置すれ ば足り、重複配置する必要はない。

【００３０】

【考案の効果】

基板洗浄装置において、洗浄処理部の基板洗浄槽と、給排用配管室と、洗浄用薬 液貯留容器とを上下３段に積み上げ配置して、その空いた空間をメンテナンス・ スペースとして形成するので、基板洗浄装置内にメンテナンス・スペースを確保 でき、次の効果がある。 (１) 複数種の薬液の洗浄槽を直列状に多数配置した冒述の従来型の基板洗浄 装置に本考案を適用した場合には、この直列状の洗浄槽に沿わせてメンテナンス・ スペースを帯状にまとめられるので、洗浄工程の作業域が従来よりコンパクト 化して、クリーンルームのスペースを有効利用できる。

【００３１】 (２) １つの洗浄槽で複数種の薬液処理をする前記先提案技術の置換方式の基 板洗浄装置に本考案を適用した場合には、上記(１)の従来技術に比べて洗浄槽の 数を低減できるために、クリーンルームのスペースを有効利用できるが、さらに 、本考案のようにメンテナンス・スペースを基板洗浄装置内に組み込むことによ り、基板洗浄装置外にメンテナンス・スペースを設ける必要がなくなるので、ク リーンルームのスペースの利用効率が一層向上する。 また、本考案では基板洗浄装置を隙間なく隣接配置できるので、基板洗浄装置 の設置数が増えるほど、スペースの有効利用効率がさらに向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る基板洗浄装置の概略斜視図であ
る。

【図２】同基板洗浄装置の概略縦断面図である。

【図３】同洗浄装置の基板洗浄処理部の概略系統図であ
る。

【図４】同基板洗浄装置を複数配置したレイアウト図で
ある。

【図５】先提案技術を示す図４相当図である。

【図６】同先提案技術を示す図１相当図である。

【図７】クリーンルームのレイアウト図である。

【図８】従来技術を示す図４相当図である。

【符号の説明】

１…基板処理槽、 ２…洗浄液、６…薬
液貯留容器、 ７…薬液供給管、２０…給
排用配管室、 ３０…クリーンルーム作業
域、３１…保全用作業域、 ５１…搬入搬出
部、５５…カセット移載ロボット、 ６０…基板移載
部、６５…洗浄処理部、 ７０…基板乾燥
部、７５…基板搬送ロボット、 ９０…メンテナ
ンス・スペース、Ｄ_W…純水、 Ｑ_A
〜Ｑ_E…薬液、Ｗ…基板、 Ｃ…
カセット。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板収容カセットの搬入搬出部と、 カセットから基板を取り出し又はカセット内へ基板を装
   填する基板移載部と、 上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセッ
   トを移載するカセット移載ロボットと、 複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部及び基板乾燥
   部と、 基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を一括
   保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬送する基板
   搬送ロボットとを具備して成る基板洗浄装置において、 クリーンルーム作業域に臨む前方から保全用作業域に臨
   む後方に向かって前記カセットの搬入搬出部、基板移載
   部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置するとともに、
   上記洗浄処理部の基板洗浄槽の下部に洗浄液の給排用配
   管室を、この給排用配管室の下部に洗浄用薬液貯留容器
   を上下３段に配置し、 上記基板移載部・基板乾燥部・洗浄処理部の左右の一側に
   基板搬送ロボットの移動部を形成し、これらの他側の空
   間で、上記基板移載部よりも後方の空間をメンテナンス
   ・スペースとして形成したことを特徴とする基板洗浄装
   置。