JPH06112181A - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体基板などを表面洗浄する基板洗浄装置
に関し、薬液供給部の余分な重複配置を回避して装置全
体の設置スペースを小さくし、同種の各薬液を複数の基
板洗浄槽に分配して適正に供給する。 【構成】 圧送ポンプ１５の吐出側の薬液供給管７を分
岐し、分岐した薬液供給管７の下流側を夫々前記薬液導
入弁８を介して上記複数の基板洗浄槽１に接続し、圧送
ポンプ１５の吐出側で薬液供給管７の分岐部１８の上流
側に圧力検出器２６を設け、この圧力検出器２６からの
信号を受けた制御手段１２で圧送ポンプ１５の回転数を
増減制御して、複数の各基板洗浄槽１へ所定の設定圧力
で薬液を圧送する。これにより、薬液供給部の余分な重
複配置を回避しつつ、各基板洗浄槽１に薬液供給量が等
量づつ供給することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体基板や液
晶用ガラス基板等の薄板状の被処理基板（以下単に基板
と称する）を表面洗浄するのに用いられる浸漬型の基板
洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の浸漬型基板洗浄装置としては、
従来より例えば特公平２−１３４５９号公報に開示され
たものが知られている。当該従来技術は、図６に示すよ
うに、複数種の洗浄処理毎に洗浄液１０２を基板洗浄槽
１０１で置換可能にして、洗浄槽１０１内に密閉したま
まの基板Ｗに複数種の表面洗浄を順次施すようにしたも
のである。

【０００３】即ち、基板基板処理槽１０１に接続した純
水給液管１０３と、複数の薬液貯留容器１０６_A〜１０
６_Dと、各薬液貯留容器１０６_A〜１０６_Dを純水給液管
１０３に連通するそれぞれ薬液供給管１０７_A〜１０７_D
及び各薬液導入弁１０８_A〜１０８_Dとを具備して成り、
各薬液導入弁１０８_A〜１０８_Dを選択的に開閉制御し
て、所定の薬液Ｑ_A〜Ｑ_Dを純水給液管１０３へ導入し、
純水給液管１０３内で薬液と純水を混合して所定の処理
液１０２を調合するように構成されている。

【０００４】上記薬液貯留容器１０６_A〜１０６_Dの中、
例えば薬液貯留容器１０６_Aには高温硫酸、１０６_Bには
フッ化水素のようなエッチング剤、１０６_Cには超純水
などが貯溜されている。そして、基板処理槽１０１はこ
れら複数種の表面処理毎に処理液１０２の置換が可能な
密閉型の処理槽として構成される。なお符号１１１は排
液用ドレンである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、単
一の基板基板処理槽１０１により複数種の洗浄処理を実
施することができるので、装置全体の設置スペースを小
さくすることできるが、複数の洗浄処理槽を有するもの
に比較して、洗浄処理量（能力）が劣る。一方、この種
の基板洗浄装置（いわゆる基板洗浄ユニット）を単に複
数台併設しただけでは、薬液貯溜容器１０６Ａ〜１０６
Ｄが複数セット必要になり、これに伴って薬液供給部が
余分に重複配置されるされるため、全体として設置スペ
ースを小さくすることはできなくなる。本発明は、この
ような事情に鑑みてなされたもので、薬液供給部の余分
な重複配置を回避して装置全体の設置スペースを小さく
し、かつ、同種の各薬液を複数の基板洗浄槽に分配して
適正に供給することを技術的課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するものとして以下のように構成される。即ち、本発明
は、洗浄液中に複数の基板を一括して浸漬して基板の表
面洗浄をなす複数の基板洗浄槽と、各基板洗浄槽の下部
より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部と、各基板
洗浄槽よりオーバーフローした洗浄液を排出する洗浄液
排出部とを具備して成る基板洗浄装置であって、上記洗
浄液供給部は、各基板洗浄槽の下部に夫々連結した純水
供給管と、各純水供給管に夫々導入弁連結管を介して連
通した複数の薬液導入弁と、各薬液導入弁に夫々薬液圧
送手段を介して連結した複数の薬液貯留容器とを備え、
各薬液導入弁を選択的に開閉制御して所定の薬液を純水
給液管へ導入するように構成し、上記薬液圧送手段は、
各薬液貯留容器から導出した薬液供給管に薬液の圧送ポ
ンプを設け、圧送ポンプの吐出側の薬液供給管を分岐
し、分岐した薬液供給管の下流側を夫々前記薬液導入弁
を介して上記複数の基板洗浄槽に接続し、上記圧送ポン
プの吐出側で薬液供給管の分岐部の上流側に圧力検出器
を設けるとともに、この圧力検出器からの検出信号に基
づいて圧送ポンプの回転数を増減制御する薬液圧送制御
手段を設け、複数の各基板洗浄槽へ所定の設定圧力で薬
液を圧送するように構成したことを特徴とする基板洗浄
装置である。

【０００７】

【作 用】１つの圧送ポンプの吐出側の薬液供給管を分
岐し、分岐した薬液供給管の夫々を薬液導入弁を介して
複数の基板洗浄槽に接続したので、各薬液貯留容器や圧
送ポンプは各薬液毎に１つ設ければよく、複数の基板洗
浄槽毎に設ける必要はない。このとき、当該圧送ポンプ
の回転数を制御手段で増減制御して、複数種の薬液供給
管内の各薬液を所定の設定圧力で圧送するようにしたの
で、同種の薬液を複数の基板洗浄槽に分配して供給する
場合に、薬液供給管から薬液導入弁に送られる薬液の供
給量は所定量に保証される。つまり、複数の基板洗浄槽
のうちの一部を稼働停止して、相当する薬液の供給を停
止しても、他の同種の薬液供給管の圧送力は所定圧力に
調整されるので、当該薬液と純水との調合比率に支障を
来すことはない。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて述べ
る。図１は浸漬型基板洗浄装置の洗浄処理部の概略系統
図、図２は導入弁連結管周辺の一部切欠概略背面図、図
３は図２の薬液導入弁のＩ−Ｉ線縦断面図、図４は同基
板洗浄装置の概略斜視図、図５は同洗浄装置の概略縦断
面図である。本基板洗浄装置５０は、薬液供給部の余分
な重複配置をやめて、基板洗浄槽１を複数設け、各基板
洗浄槽１・１…内で複数種の一連の表面処理を成し、装
置全体をコンパクト化したものである。

【０００９】即ち、図４及び図５に示すように、上記基
板洗浄装置５０は、基板収容カセットＣの搬入搬出部５
１と、カセットＣから基板Ｗを取り出し又はカセットＣ
内へ基板Ｗを装填する基板移載部６０と、カセットＣの
搬入搬出部５１と基板移載部６０との間でカセットＣを
移載するカセット移載ロボット５５と、複数の基板を一
括して洗浄する浸漬型基板洗浄処理部６５と、基板Ｗの
液切り基板乾燥部７０と、基板移載部６０でカセットＣ
から取り出した複数の基板Ｗを一括保持して上記洗浄処
理部６５及び基板乾燥部７０に搬送する基板搬送ロボッ
ト７５から構成される。

【００１０】上記カセット移載ロボット５５は、図４に
示すように、昇降及び回転自在で、矢印Ａ方向に移動可
能に構成され、搬入搬出部５１に搬入されてきたカセッ
トＣを基板移載部６０のテーブル６１上に移載し、ま
た、洗浄済み基板を収容したカセットＣを当該テーブル
６１から搬入搬出部５１へ移載するように構成される。
上記基板搬送ロボット７５は、図４及び図５に示すよう
に、矢印Ｂ方向に移動可能に設けられ、上記基板移載部
６０のリフターから受け取った複数の基板Ｗを基板搬送
ロボット７５の基板挟持アーム７６で保持し、移動部７
７に沿って洗浄処理部６５内及び基板乾燥部７０内へ順
次搬送するように構成されている。

【００１１】上記浸漬型の洗浄処理部６５は、図４及び
図５に示すように、オーバーフロー型の洗浄処理部６５
ａと、オーバーフローさせないで酸洗浄を行う酸洗浄処
理部６５ｂの２つの別系統の処理部から成る。各洗浄処
理部６５ａ・６５ｂの基板洗浄槽１には昇降自在に設け
られた基板保持具６６を備え、基板搬送ロボット７５か
ら受け取った複数の基板Ｗを基板保持具６６で保持して
洗浄槽１内に浸漬するように構成される。

【００１２】上記オーバーフロー型の洗浄処理部６５ａ
は、図１(Ａ)に示すように、洗浄液中に複数の基板Ｗを
一括して浸漬して基板Ｗの表面洗浄を成す２つの基板洗
浄槽１ａ・１ａと、各基板洗浄槽１ａの下部より複数種
の洗浄液を供給する洗浄液供給部４と、各基板洗浄槽１
ａよりオーバーフローした洗浄液を排出する洗浄液排出
部４０とを具備して成る。このオーバーフロー型の基板
洗浄槽１ａは、図１Ａに示すように、石英ガラス製で側
面視略Ｖ字状・平面視略矩形状に形成され、その下部に
純水供給管３を連結して成り、基板洗浄槽１ａ内に洗浄
液の均一な上昇流を形成して基板Ｗを表面処理するとと
もに、洗浄液を複数種の洗浄処理毎に、迅速に置換し得
るオーバーフロー槽として構成される。

【００１３】上記基板洗浄槽１ａは石英ガラス製に限ら
ず、例えば、洗浄液として石英ガラスを腐食させてしま
うフッ酸等を用いる場合には、これに耐食性を有する四
フッ化エチレン樹脂等の樹脂製材料で形成したものでも
良い。また、上記基板処理槽１ａには洗浄液排出部４０
を構成するオーバーフロー液回収部４１が付設され、オ
ーバーフローした洗浄液は排液管４２を介して排液ドレ
ン４３へ流下するように構成される。

【００１４】上記酸洗浄処理部６５ｂは、図１(Ｂ)に示
すように、複数の基板Ｗを一括して酸洗浄する１つの酸
洗浄槽１ｂと、酸洗浄槽１ｂの下部より酸洗浄液を供給
する酸洗浄液供給部４ｂと、酸洗浄槽１ｂより酸洗浄液
を回収する酸洗浄液回収部４０ｂとを具備して成る。但
し、オーバーフロー型の処理部６５ａの基板洗浄槽１ａ
は２つの洗浄槽の組み合わせに限らず、３つ以上を直列
状に組み合わせたものでも良い。酸洗浄処理部６５ｂの
酸洗浄槽１ｂも単槽に限らず、複数槽であっても差し支
えない。

【００１５】また、上記基板乾燥部７０は、例えば本出
願人の提案に係る特開平１−２５５２２７号公報に開示
したように、基板の主平面の中心近傍を回転中心とし
て、回転遠心力で液切り乾燥する乾燥処理槽で構成され
る。尚、この遠心式の基板乾燥部７０に代えて溶剤を用
いて乾燥を促進するものや、減圧方式により乾燥を促進
するものを採用することもできる。

【００１６】上記基板洗浄装置５０のレイアウトは図４
及び図５に示すように、クリーンルーム作業域３０に臨
む前方から保全用作業域３１に臨む後方に向かって前記
カセットＣの搬入搬出部５１、基板移載部６０、基板乾
燥部７０及び洗浄処理部６５を順番に配置する。また、
当該洗浄処理部６５の３つの基板洗浄槽１の下部に洗浄
液の給排用配管室２０を、この給排用配管室２０の下部
に洗浄用薬液貯留容器６を上下３段に配置するととも
に、上記基板移載部６０・基板乾燥部７０・洗浄処理部６
５の右側に基板搬送ロボット７５の移動部７７を前後方
向に形成し、これらの左側の空間で、上記基板移載部６
０よりも後方の空間をメンテナンス・スペース９０とし
て形成する。尚、当該メンテナンス・スペース９０の床
部には複数の配管、バルブ等が敷設される。

【００１７】即ち、本実施例は、基板洗浄装置５０のう
ちの、洗浄処理部６５の基板洗浄槽１と、給排用配管室
２０と、洗浄用薬液貯留容器６とを上下３段に積み上げ
る(即ち、縦方向にレイアウトする)ことにより、これら
の３段積み上げ部の左側に臨んだエリアにメンテナンス
・スペース９０を確保したものである。換言すると、洗浄
処理部６５や基板移載部６０などの各種作業ブロックを
平面視でＬ字状にまとめ、基板洗浄装置５０内の余剰空
間をメンテナンス・スぺース９０にしてある。

【００１８】このため、本実施例は、主に洗浄処理部６
５を縦向きに積み上げることにより、本実施例と同様の
洗浄液置換方式を採る従来技術に比べて、装置全体をコ
ンパクトにまとめてクリーンルーム全体の省スペース化
を効率良く図れる。このことは、基板洗浄装置５０の設
置数が増えるほど、クリーンルームのスペースの有効利
用効率が向上することを意味する。

【００１９】また、当該洗浄処理部６５の基板洗浄槽１
及び基板乾燥部７０のレイアウトに関しては、図４及び
図５に示すように、保全用作業域３１に臨む奥側からク
リーンルーム作業域３０に臨む前側に向かって、１つの
酸洗浄槽１ｂと、２つのオーバーフロー型の基板洗浄槽
１ａ・１ａと、乾燥処理部７０とを順番に配置して、当
該乾燥処理部７０を前記基板移載部６０に臨ませる。通
常、酸洗浄処理には昇温した酸を使用するので、酸の蒸
気やミストが発生し易いが、本実施例では、この酸洗浄
槽１ｂをクリーンルーム作業域３０から最も遠い奥側に
配置するため、クリーンルーム作業域３０への悪影響を
防止して作業の安全性を確保できる。

【００２０】また、基板乾燥部７０が洗浄処理部６５と
基板移載部６０との間に位置するので、洗浄処理された
基板Ｗを可能な限り速く乾燥させ、カセットＣに戻して
搬入搬出部５１から効率良く搬出できる。その反面、当
該基板乾燥工程はカセットＣへの戻しに対する時間的制
約を強くは受けず、乾燥処理の完了から基板移載部６０
への戻しの間に待機時間を取れるので、隣接状に設けら
れた基板乾燥部７０は基板移載部６０に対して作業工程
の上でバッファ的な役目をも果すことができる。

【００２１】一方、酸洗浄を除く洗浄処理に関しては、
処理に比較的長い時間を要することより、２つのオーバ
ーフロー型の基板洗浄槽１ａ・１ａで分担して複数種の
洗浄処理を行うので、前記従来技術の直列型の洗浄処理
に比べても、処理速度は低下しない。しかも、酸洗浄処
理では、１つの酸洗浄槽１ｂに共通化するので、基板乾
燥部７０の共通化と合わせて洗浄処理効率と省スペース
化が一層向上する。

【００２２】他方、オーバーフロー型洗浄処理部６５ａ
では、洗浄液を基板洗浄槽１ａの上部からオーバーフロ
ーさせるように構成するので、基板洗浄槽１ａ内の洗浄
液を全部排出せずとも複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置
換が可能であり、一連の洗浄処理が完了するまで基板Ｗ
は空気に触れない。このため、基板表面に酸化皮膜が形
成されたり、空気中の不純物が付着したりする虞れはな
い。また、基板洗浄槽１内の洗浄液２を全部排出せずと
も基板Ｗの装填や取り出しができる。

【００２３】上記オーバーフロー型の洗浄処理部６５ａ
の洗浄液供給部４は、図１(Ａ)に示すように、各基板洗
浄槽１ａの下部に夫々連結した純水供給管３と、各純水
供給管４に夫々導入弁連結管１６を介して連結した複数
の薬液導入弁８と、各薬液導入弁８に夫々薬液圧送手段
２５を介して連結した複数の薬液貯留容器６とを備え、
各薬液導入弁８を選択的に開閉制御して所定の薬液を純
水供給管３に導入するように構成される。

【００２４】上記純水給液管３は、基板処理槽１ａより
上流側に向けて順次、給排液切換弁１３、スタティック
ミキサー１４、導入弁連結管１６及び開閉弁２７などを
付設配置して成り、常温の又は所定温度に加熱した純水
Ｄ_Wを供給する純水の主要通路として構成されている。
なお、純水Ｄ_Wは基板の表面酸化を防ぐうえで、脱酸素処
理を施したものを用いる方がより好ましい。上記給排液
切換弁１３は常時純水Ｄ_Wや処理液を基板処理槽１ａへ
供給し、必要に応じて基板処理槽１ａ内の処理液を排液
管４２を介して排液ドレン４３へ排出するように構成さ
れる。

【００２５】上記スタティックミキサー１４は、図２に
示すように、ミキサー管路１４ａ内に孔あきねじり板１
４ｂを固定し、純水Ｄ_Wと薬液Ｑ_A〜Ｑ_Eとを均一に混合
するように構成される。尚、このスタティックミキサー
に代えて他の混合器を用いても良く、管路が十分に長け
ればかかる混合器を省くことも出来る。上記導入弁連結
管１６は処理液供給部４の複数の薬液導入弁８_A〜８_Eを
連結したものであり、詳細については後述する。

【００２６】上記薬液導入弁８_A〜８_Eは、図１(Ｃ)に示
すように、スタティックミキサー１４の上流側に配置し
た導入弁連結管１６に固定され、この導入弁連結管１６
を介して純水給液管３と連通連結される。この薬液導入
弁８は、本出願人が実願平３―９３６３４号で提案した
ものであり、図３に示すように、内部に薬液導入室８１
を区画形成した弁本体８０と、薬液導入室８１内に弁軸
８３を介して挿通され、図示しない開閉駆動手段により
開閉自在に設けられた弁体８４と、上記弁連結管１６の
管壁１６ａに形成され、上記弁体８４を受け止める弁座
８４ｂと、前記基板処理槽１に接続された純水通路３ａ
の一部を構成し、弁本体８０に接続された上記弁連結管
１６とを具備して成り、薬液Ｑを薬液導入室８１を介し
て弁連結管１６内の純水通路３ａに導入するように構成
される。

【００２７】上記弁本体８０内には薬液導入室８１と弁
駆動室８２とが区画形成され、薬液導入室８１と弁駆動
室８２に亙り弁軸８３を貫通し、薬液導入室８１の薬液
入口８1ａに薬液供給管７_Aが接続され、薬液導入室８１
内では弁軸８３の先端部に弁体８４が固定される。上記
弁駆動室８２内では弁軸８３にエアピストン８５が固定
され、圧縮バネ８６でエアピストン８５を閉弁側(即ち、
本実施例では図３において下方側)に付勢するととも
に、圧縮エアＡでエアピストン８５を開弁操作し、薬液
Ｑ_Aを所定量だけ純水給液管路３ａ内へ圧送するように
構成される。尚、図３中の符号８２ａは圧縮エアＡの出
入り口、８２ｂはエアピストン８５の作動に伴い弁駆動
室８２内のエアを逃がすためのバネ側連通口、８７は薬
液封止用ベローズ管である。

【００２８】一方、上記導入弁連結管１６は、図３に示
すように、その管壁１６ａに上記薬液導入室８１の薬液
出口８１ｂと弁座８４ｂが形成され、弁体８４を弁座８
４ｂで受け止め、弁体８４の先端凸部８４ａが薬液出口
８１ｂ内に延出して、弁座８４ｂから純水通路３ａまで
の間の空間を先端凸部８４ａで埋めることにより、閉弁
時に実質的に前記死水域が無くなるように構成される。
因みに、冒述した従来の導入弁(図７参照)では、弁座１
８４ｂから弁連結管１１６内の純水通路１０３までの距
離が長いために、閉弁時にこの薬液通路１０７Ａが死水
域となり、薬液供給後に薬液を停留させるなどの問題が
あるが、本実施例の薬液導入弁８はこのような問題をス
ムーズに解消できる。

【００２９】即ち、本実施例では、薬液導入室８１の薬
液出口８１ｂと弁座８４ｂとを導入弁連結管１６の管壁
１６ａに形成し、その弁座８４ａを弁連結管１６内の純
水通路３ａに近接配置し(又は、純水通路内に臨ませても
良い)たので、薬液供給後に引き続き純水を供給する際
に、純水の純度の低下の問題が無くなり、基板の表面処
理品質が向上する。また、薬液Ｑ_Aの液切れが良くなる
ので、後述するように、圧送ポンプによる各薬液の圧送
圧力の制御と併せて、純水Ｄ_Wの供給量に対する薬液Ｑ_A
の供給量を精確に制御して所定の薬液濃度に調合するこ
とができる。しかも、純水が停留してバクテリヤが発生
することもなくなる。但し、薬液導入弁８_A〜８_Eは圧縮
エアで作動するものに限らず、適宜電磁開閉弁等を用い
ることもできる。

【００３０】前記オーバーフロー型洗浄処理部６５ａの
洗浄液供給部４における各薬液圧送手段２５は、図１
(Ａ)に示すように、一種類の薬液貯留容器６_Aから導出
した薬液供給管７_Aに薬液の圧送ポンプ１５を１個設
け、圧送ポンプ１５の吐出側の薬液供給管７_Aを分岐
し、分岐した各薬液供給管７_A・７_Aの下流部を夫々前記
薬液導入弁８_Aを介して上記複数の基板洗浄槽１ａ・１
ａに接続し、上記圧送ポンプ１５の吐出側で薬液供給管
７_Aの分岐部１８の上流側に圧力検出器２６(具体的に
は、圧力計)を設けるとともに、この圧力検出器２６から
の検出信号に基づいて圧送ポンプ１５の回転数を増減制
御する薬液圧送制御手段１２を設け、所定の設定圧に対
する過不足を圧力検出器２６で検出し、当該制御手段１
２を介して圧送ポンプ１５の駆動源１９を駆動制御する
ことにより、複数の各基板洗浄槽１ａに所定の設定圧力
で薬液を圧送するように構成される。

【００３１】即ち、圧力検出器２６の検出圧力を受けた
制御手段１２が予め設定入力された搬送圧力に対応して
圧送ポンプ１５の回転数を増減制御する。これにより、
オーバーフロー型の２つの基板洗浄槽１ａ・１ａの両方
に薬液を供給する場合と、いずれか一方のみに供給する
場合のいずれの場合であっても、単一の圧送ポンプ１５
により、常に一定流量の薬液を所定の設定量供給でき
る。なお、図１(Ａ)で示した実施例では、薬液導入弁８
_Aより導入される一種類の薬液Ｑ_Aに係る薬液圧送手段２
５について説明したが、他の種類の薬液Ｑ_B、Ｑ_C、
Ｑ_D、Ｑ_Eに係る薬液圧送手段についても同様に構成され
ている。これにより、複数個の基板洗浄槽１ａ・１ａに
ついて複数種の薬液貯溜容器を１セット配置すれば足
り、重複配置する必要はない。

【００３２】

【発明の効果】(１) １つの圧送ポンプの吐出側の薬液
供給管を分岐し、分岐した薬液供給管の夫々を薬液導入
弁を介して複数の基板洗浄槽１に接続したので、基板洗
浄槽が増えるだけで、薬液貯溜容器や圧送ポンプ等の薬
液供給部の余分な重複配置を回避して装置全体の設置ス
ペースを小さくできる。 (２) また、当該圧送ポンプの回転数を制御手段で増減
制御して、複数種の薬液供給管内の各薬液を所定の設定
圧力で圧送するようにしたので、同種の薬液を複数の基
板洗浄槽に分配して供給する場合に、薬液供給管から薬
液導入弁に送られる薬液の供給量は所定量に保証され
る。これにより、複数の基板洗浄槽のうちの一部を稼働
停止して、これに相当する薬液の供給を停止しても、他
の同種の薬液供給管の圧送力は所定圧力に調整されるの
で、当該薬液と純水との調合比率に支障を来すことはな
く、正確に薬液の調合を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】浸漬型基板洗浄装置の洗浄処理部の概略系統図
である。

【図２】導入弁連結管周辺の一部切欠概略背面図であ
る。

【図３】図２中の薬液導入弁のI―I線縦断面図である。

【図４】同基板洗浄装置の概略斜視図である。

【図５】同洗浄装置の概略縦断面図である。

【図６】従来技術を示す図１の相当図である。

【図７】同従来技術を示す図３の相当図である。

【符号の説明】

１…基板処理槽、 ２…洗浄液、３…純
水供給管、 ４…洗浄液供給部、６…薬
液貯留容器、 ７…薬液供給管、８…薬液
導入弁、 １２…薬液圧送制御手段、１
５…圧送ポンプ、 １６…導入弁連結管、
１７…圧送ポンプ１５の吐出側、 １８…薬液供給管７
の分岐部、２５…薬液圧送手段、 ２６…圧
力検出器、４０…洗浄液排出部、Ｄ_W…純水、
Ｑ_A〜Ｑ_E…薬液、Ｗ…基板、
Ｃ…カセット。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄液中に複数の基板を一括して浸漬し
   て基板の表面洗浄をなす複数の基板洗浄槽と、各基板洗
   浄槽の下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部
   と、各基板洗浄槽よりオーバーフローした洗浄液を排出
   する洗浄液排出部とを具備して成る基板洗浄装置であっ
   て、 上記洗浄液供給部は、各基板洗浄槽の下部に夫々連結し
   た純水供給管と、各純水供給管に夫々導入弁連結管を介
   して連通した複数の薬液導入弁と、各薬液導入弁に夫々
   薬液圧送手段を介して連結した複数の薬液貯留容器とを
   備え、各薬液導入弁を選択的に開閉制御して所定の薬液
   を純水給液管へ導入するように構成し、 上記薬液圧送手段は、各薬液貯留容器から導出した薬液
   供給管に薬液の圧送ポンプを設け、圧送ポンプの吐出側
   の薬液供給管を分岐し、分岐した薬液供給管の下流側を
   夫々前記薬液導入弁を介して上記複数の基板洗浄槽に接
   続し、 上記圧送ポンプの吐出側で薬液供給管の分岐部の上流側
   に圧力検出器を設けるとともに、この圧力検出器からの
   検出信号に基づいて圧送ポンプの回転数を増減制御する
   薬液圧送制御手段を設け、複数の各基板洗浄槽へ所定の
   設定圧力で薬液を圧送するように構成したことを特徴と
   する基板洗浄装置。