JPH0631296B2 - 2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンa誘導体、およびその製造法 - Google Patents
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンa誘導体、およびその製造法Info
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- JPH0631296B2 JPH0631296B2 JP60231027A JP23102785A JPH0631296B2 JP H0631296 B2 JPH0631296 B2 JP H0631296B2 JP 60231027 A JP60231027 A JP 60231027A JP 23102785 A JP23102785 A JP 23102785A JP H0631296 B2 JPH0631296 B2 JP H0631296B2
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規な半合成アミノ配糖体抗生物質である
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
Aの1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイ
ル)誘導体、およびこれらの製造法に関する。これらの
新規化合物は種々なカナマイシン感受菌およびカナマイ
シン耐性菌に対して高い抗菌活性を示し、抗菌剤として
有用である。
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
Aの1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイ
ル)誘導体、およびこれらの製造法に関する。これらの
新規化合物は種々なカナマイシン感受菌およびカナマイ
シン耐性菌に対して高い抗菌活性を示し、抗菌剤として
有用である。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点) カナマイシンA,B及びCから誘導された半合成アミノ
配糖体抗生物質として、カナマイシンA,B,Cの種々
なデオキシ誘導体,ならびにこれらの1−N−(α−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカノイル)誘導体が知られて
いる。従来既知のデオキシカナマイシン類ならびにこれ
らの1−N−アミノアルカノイル誘導体は有用な抗菌活
性を有するが、抗菌スペクトルはさまざまな範囲であ
り、また新しい耐性菌が出現してこれに無効になること
もあるから、より優れた新しい抗菌性化合物を創製する
ことは常に要望されている。
配糖体抗生物質として、カナマイシンA,B,Cの種々
なデオキシ誘導体,ならびにこれらの1−N−(α−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカノイル)誘導体が知られて
いる。従来既知のデオキシカナマイシン類ならびにこれ
らの1−N−アミノアルカノイル誘導体は有用な抗菌活
性を有するが、抗菌スペクトルはさまざまな範囲であ
り、また新しい耐性菌が出現してこれに無効になること
もあるから、より優れた新しい抗菌性化合物を創製する
ことは常に要望されている。
(問題点を解決するための手段) 先に、本発明者は、カナマイシンAの3′位ヒドロキシ
ル基をフルオロ基で置き換えた誘導体、すなわち3′−
フルオロ−3′−デオキシカナマイシンAを創製できる
ならば、これはカナマイシン耐性菌にも有効である化合
物であろうと期待し、これを合成することに成功した。
すなわち、本発明者らは、先の特願昭59−16161
5号(出願日:昭和59年8月2日)に、新規な半合成
アミノ配糖体抗生物質として3′−フルオロ−3′−デ
オキシカナマイシンAを初めて合成したことを記載し、
またこの新規化合物の製造のための方法として、既知物
質の3−デオキシ−3−フルオロ−1,2;5,6−ジ
−O−イソプロピリデン−α−D−ダルコフラノースか
ら出発して多段階よりなるルートを経る合成方法を記載
した。また、本発明者らは、カナマイシンAから出発し
て3′−フルオロ−3′−デオキシカナマイシンAを合
成する方法も開発した(特願昭59−261776
号)。
ル基をフルオロ基で置き換えた誘導体、すなわち3′−
フルオロ−3′−デオキシカナマイシンAを創製できる
ならば、これはカナマイシン耐性菌にも有効である化合
物であろうと期待し、これを合成することに成功した。
すなわち、本発明者らは、先の特願昭59−16161
5号(出願日:昭和59年8月2日)に、新規な半合成
アミノ配糖体抗生物質として3′−フルオロ−3′−デ
オキシカナマイシンAを初めて合成したことを記載し、
またこの新規化合物の製造のための方法として、既知物
質の3−デオキシ−3−フルオロ−1,2;5,6−ジ
−O−イソプロピリデン−α−D−ダルコフラノースか
ら出発して多段階よりなるルートを経る合成方法を記載
した。また、本発明者らは、カナマイシンAから出発し
て3′−フルオロ−3′−デオキシカナマイシンAを合
成する方法も開発した(特願昭59−261776
号)。
更に、本発明者は、3′−フルオロ−3′−デオキシカ
ナマイシンBを創製することを意図して研究を進めた。
すなわち、本発明者は、特開昭56−63993号公
報,,参考例2,米国特許4,349,666号明細書及び「日
本化学会誌」1982年10号1706頁〜1712頁にカナマイシン
BのN,O−保護誘導体として記載される既知物質の
6′−N,4′−O−カルボニル−4″,6″−O−シ
クロヘキシリデン−1,2′,3,3″−テトラ−N−
トシルカナマイシンBを使用して、新規な合成方法によ
り初めて3′−フルオロ−3′−デオキシカナマイシン
Bを合成することに成功した(特願昭59−26270
0号明細書参照))。本発明者らは、これら3′−フル
オロ−3′−デオキシカナマイシンA又はBの1位アミ
ノ基をDL−又はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロ
ピオン酸又はL−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸でア
シル化することによつて、1−N−(DL−又はL−3
−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−又は1−N
−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−3′
−フルオロ−3′−デオキシカナマイシンA又はBを新
規化合物として製造することに成功し、しかもこれら新
規化合物が耐性菌を含めて種々なグラム陽性菌,グラム
陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認めた
(特願昭60−76706号明細書参照)。
ナマイシンBを創製することを意図して研究を進めた。
すなわち、本発明者は、特開昭56−63993号公
報,,参考例2,米国特許4,349,666号明細書及び「日
本化学会誌」1982年10号1706頁〜1712頁にカナマイシン
BのN,O−保護誘導体として記載される既知物質の
6′−N,4′−O−カルボニル−4″,6″−O−シ
クロヘキシリデン−1,2′,3,3″−テトラ−N−
トシルカナマイシンBを使用して、新規な合成方法によ
り初めて3′−フルオロ−3′−デオキシカナマイシン
Bを合成することに成功した(特願昭59−26270
0号明細書参照))。本発明者らは、これら3′−フル
オロ−3′−デオキシカナマイシンA又はBの1位アミ
ノ基をDL−又はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロ
ピオン酸又はL−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸でア
シル化することによつて、1−N−(DL−又はL−3
−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−又は1−N
−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−3′
−フルオロ−3′−デオキシカナマイシンA又はBを新
規化合物として製造することに成功し、しかもこれら新
規化合物が耐性菌を含めて種々なグラム陽性菌,グラム
陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認めた
(特願昭60−76706号明細書参照)。
更に研究の結果、本発明者は、2′,3′−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAを創製することを意図
して研究を進め、「Can.J.Chem.」49巻796〜
799頁(1971)に記載される既知物質、メチル・4,
6−O−ベンジリデン−3−デオキシ−β−D−アラビ
ノ−ヘキソピラノシドと既知物質6−O−(3−アミノ
−3−デオキシ−α−D−グルコピラノシル)−2−デ
オキシストレプタミンとから出発して、後述する参考例
に示した合成ルートにより2′,3′−ジデオキシ−
2′−フルオロカナマイシンAを初めて合成することに
成功し、しかもこの新規化合物が耐性菌を含めて種々な
グラム陽性菌、陰性菌に対して抗菌活性を有することを
認めた(特願昭59−263759号明細書参照)。
−2′−フルオロカナマイシンAを創製することを意図
して研究を進め、「Can.J.Chem.」49巻796〜
799頁(1971)に記載される既知物質、メチル・4,
6−O−ベンジリデン−3−デオキシ−β−D−アラビ
ノ−ヘキソピラノシドと既知物質6−O−(3−アミノ
−3−デオキシ−α−D−グルコピラノシル)−2−デ
オキシストレプタミンとから出発して、後述する参考例
に示した合成ルートにより2′,3′−ジデオキシ−
2′−フルオロカナマイシンAを初めて合成することに
成功し、しかもこの新規化合物が耐性菌を含めて種々な
グラム陽性菌、陰性菌に対して抗菌活性を有することを
認めた(特願昭59−263759号明細書参照)。
しかも、今回は、本発明者らは、この2′,3′−ジデ
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAの1位アミノ基
をDL−又はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオ
ン酸又はL−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸でアシル
化することによつて、1−N−(DL−又はL−3−ア
ミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−又は1−N−
(L−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−2′,
3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAを新
規化合物として製造することに成功し、しかもこれら新
規化合物が耐性菌を含めて種々なグラム陽性菌,グラム
陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認めた。
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAの1位アミノ基
をDL−又はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオ
ン酸又はL−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸でアシル
化することによつて、1−N−(DL−又はL−3−ア
ミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−又は1−N−
(L−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−2′,
3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAを新
規化合物として製造することに成功し、しかもこれら新
規化合物が耐性菌を含めて種々なグラム陽性菌,グラム
陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認めた。
従つて、第1の本発明によると、次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示される1−N
−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A,及びその酸付加塩が提供される。
−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A,及びその酸付加塩が提供される。
一般式(I)の本発明化合物の例には、1−N−(DL−
又はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A;および1−N−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロ
カナマイシンA,ならびにこれらの酸付加塩がある。
又はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A;および1−N−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロ
カナマイシンA,ならびにこれらの酸付加塩がある。
一般式(I)に包含される本発明の1−N−(DL−又は
L−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
Aも、また1−N−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロ
カナマイシンAも、夫々に、明確な融点を示さない白色
粉末状の物質であり、後の実施例1〜2に記載される物
性を示す塩基性物質である。本発明の新規化合物(I)は
通常、遊離塩基または水和物または炭酸塩として得られ
るが、通常の方法により薬学的に許容できる酸付加塩と
することができる。酸付加塩としては、例えば塩酸、硫
酸、燐酸、硝酸などの薬学的に許容できる無機酸あるい
は酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、メタン
スルホン酸などの薬学的に許容できる有機酸との塩があ
る。
L−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
Aも、また1−N−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロ
カナマイシンAも、夫々に、明確な融点を示さない白色
粉末状の物質であり、後の実施例1〜2に記載される物
性を示す塩基性物質である。本発明の新規化合物(I)は
通常、遊離塩基または水和物または炭酸塩として得られ
るが、通常の方法により薬学的に許容できる酸付加塩と
することができる。酸付加塩としては、例えば塩酸、硫
酸、燐酸、硝酸などの薬学的に許容できる無機酸あるい
は酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、メタン
スルホン酸などの薬学的に許容できる有機酸との塩があ
る。
本発明による一般式(I)の化合物又はこれの酸付加塩
は、薬学的に許容できる液体又は固体担体と配合して抗
菌剤組成物に調合できる。
は、薬学的に許容できる液体又は固体担体と配合して抗
菌剤組成物に調合できる。
本発明による1−N−(L−3−アミノ−2−ヒドロキ
シプロピオニル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンA(2′−F−イソセリル−DKMAと
略記する)および1−N−(L−4−アミノ−2−ヒド
ロキシブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンA(2′−F−AHB−DKMAと略記す
る)(夫々、遊離塩基として)の抗菌スペクトル(最低
阻止濃度,mcg/ml)は次の第1表に示す通りである。
比較のため、アミカシン,すなわち、1−N−(L−4
−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)カナマイシンAと
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A(2′−F−DKMAと、略記する)の抗菌スペクトルも
第1表に示す。
シプロピオニル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンA(2′−F−イソセリル−DKMAと
略記する)および1−N−(L−4−アミノ−2−ヒド
ロキシブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンA(2′−F−AHB−DKMAと略記す
る)(夫々、遊離塩基として)の抗菌スペクトル(最低
阻止濃度,mcg/ml)は次の第1表に示す通りである。
比較のため、アミカシン,すなわち、1−N−(L−4
−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)カナマイシンAと
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A(2′−F−DKMAと、略記する)の抗菌スペクトルも
第1表に示す。
第1表の抗菌データから判るように、本発明による一般
式(I)の化合物は高い抗菌活性を及ぼす細菌が多種にわ
たつており、幅広い抗菌スペクトルを有する。しかも、
1−N−アミノアシル基をもたない2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンAに比べて抗菌活性
が増強されている。その上、マウスに対して極めて低い
急性毒性を示すことが認められ、例えば2′−F−AHB
−DKMAの150mg/kgを経口投与してもマウス全例が生
存した。
式(I)の化合物は高い抗菌活性を及ぼす細菌が多種にわ
たつており、幅広い抗菌スペクトルを有する。しかも、
1−N−アミノアシル基をもたない2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンAに比べて抗菌活性
が増強されている。その上、マウスに対して極めて低い
急性毒性を示すことが認められ、例えば2′−F−AHB
−DKMAの150mg/kgを経口投与してもマウス全例が生
存した。
本発明の式(I)の化合物の製造は、概略的に言えば、次
式(II) で示される2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカ
ナマイシンA,あるいは式(II)の化合物の1位アミノ基
以外の全部の又は一部のアミノ基を公知のアミノ保護基
で保護された2′,3′−ジデオキシ−2−フルオロカ
ナマイシンA保護誘導体(II′)の1位アミノ基を次式 〔式中、nは前記と同じ意味をもつ〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸、具体的にはDL−又
はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオン酸又はL
−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸でアシル化すること
によつて行われる。式(III)のα−ヒドロキシ−ω−ア
ミノアルカン酸は、これと均等的に反応する活性カルボ
ン酸誘導体、例えば活性エステル、活性アジド、酸無水
物、混成酸無水物、等の如き反応性誘導体(官能的均等
物)であることができる。式(III)のα−ヒドロキシ−
ω−アミノアルカン酸のアミノ基はアミノ保護基で保護
されてあるのが好ましい。
式(II) で示される2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカ
ナマイシンA,あるいは式(II)の化合物の1位アミノ基
以外の全部の又は一部のアミノ基を公知のアミノ保護基
で保護された2′,3′−ジデオキシ−2−フルオロカ
ナマイシンA保護誘導体(II′)の1位アミノ基を次式 〔式中、nは前記と同じ意味をもつ〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸、具体的にはDL−又
はL−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオン酸又はL
−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸でアシル化すること
によつて行われる。式(III)のα−ヒドロキシ−ω−ア
ミノアルカン酸は、これと均等的に反応する活性カルボ
ン酸誘導体、例えば活性エステル、活性アジド、酸無水
物、混成酸無水物、等の如き反応性誘導体(官能的均等
物)であることができる。式(III)のα−ヒドロキシ−
ω−アミノアルカン酸のアミノ基はアミノ保護基で保護
されてあるのが好ましい。
出発化合物としての式(II)の2′,3′−ジデオキシ−
2′−フルオロカナマイシンAがアミノ基を保護されて
いる場合には、上記の1−N−アシル化の反応生成物か
ら、これに残留するアミノ保護基で常法を脱離すること
によつて式(I)の目的化合物が収得される。
2′−フルオロカナマイシンAがアミノ基を保護されて
いる場合には、上記の1−N−アシル化の反応生成物か
ら、これに残留するアミノ保護基で常法を脱離すること
によつて式(I)の目的化合物が収得される。
従つて、第2の本発明によると、次の式 で示される2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカ
ナマイシンA,あるいはこの化合物の1位アミノ基以外
のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基で保護された
保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中,nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸(III)のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護
誘導体,あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こ
うして得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留
したアミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次い
で脱離させることから成る、次の一般式 〔式中,nは前記の意味を有する〕で示される1−N−
(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル)−2′,
3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの製
造法が提供される。
ナマイシンA,あるいはこの化合物の1位アミノ基以外
のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基で保護された
保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中,nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸(III)のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護
誘導体,あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こ
うして得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留
したアミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次い
で脱離させることから成る、次の一般式 〔式中,nは前記の意味を有する〕で示される1−N−
(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル)−2′,
3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの製
造法が提供される。
本発明の方法において、一般的には、次(II)の出発化合
物の1位アミノ基以外のアミノ基のすべて又は一部を保
護するアミノ保護基としては、通常のアミノ保護基が使
用される。例えば、第三ブトキシカルボニル基,第三ア
ミロキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基,
シクロヘキシルオキシカルボニル基などのシクロアルキ
ルオキシカルボニル基,ベンジルオキシカルボニル基な
どのアラルキルオキシカルボニル基,トリフルオロアセ
チル基,オルトーニトロフエノキシアセチル基などの、
加水分解で脱離し易い置換された低級アルカノイル基,
ジフエニルホスフイノチオイル基,ジメチルホスフイノ
チオイル基などのホスフイノチオイル基,ジフエニルホ
スフイニル基などのホスフイニル基の如き一価のアミノ
保護基が用いられる。また二価のアミノ保護基としてフ
タロイル基を用いることができ、また式(II)の出発化合
物の1位アミノ基以外のアミノ基は、これをシツフ塩基
の形にして保護することもできる。これらのアミノ保護
基の導入はペプチド合成等で公知の方法により、例えば
酸ハライド、酸アジド、活性エステル、酸無水物などの
アシル化剤の形で公知のアミノ保護基導入剤を用いるこ
とができる。これらのアミノ保護基導入剤を0.5−6モ
ル当量比の範囲で用いることにより、出発化合物(II)の
各アミノ基の反応性の差異により種々の部分アミノ保護
誘導体を任意の比率で製造することができる。
物の1位アミノ基以外のアミノ基のすべて又は一部を保
護するアミノ保護基としては、通常のアミノ保護基が使
用される。例えば、第三ブトキシカルボニル基,第三ア
ミロキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基,
シクロヘキシルオキシカルボニル基などのシクロアルキ
ルオキシカルボニル基,ベンジルオキシカルボニル基な
どのアラルキルオキシカルボニル基,トリフルオロアセ
チル基,オルトーニトロフエノキシアセチル基などの、
加水分解で脱離し易い置換された低級アルカノイル基,
ジフエニルホスフイノチオイル基,ジメチルホスフイノ
チオイル基などのホスフイノチオイル基,ジフエニルホ
スフイニル基などのホスフイニル基の如き一価のアミノ
保護基が用いられる。また二価のアミノ保護基としてフ
タロイル基を用いることができ、また式(II)の出発化合
物の1位アミノ基以外のアミノ基は、これをシツフ塩基
の形にして保護することもできる。これらのアミノ保護
基の導入はペプチド合成等で公知の方法により、例えば
酸ハライド、酸アジド、活性エステル、酸無水物などの
アシル化剤の形で公知のアミノ保護基導入剤を用いるこ
とができる。これらのアミノ保護基導入剤を0.5−6モ
ル当量比の範囲で用いることにより、出発化合物(II)の
各アミノ基の反応性の差異により種々の部分アミノ保護
誘導体を任意の比率で製造することができる。
本発明の化合物(I)の製造方法においては、1位アミノ
基以外のアミノ基のすべて又は一部分が保護されたアミ
ノ保護誘導体、例えば3,6′,3″−トリ−N−保護
体、3,6′−およ6′,3″−ジ−N−保護体、又は
6′−モノ−N−保護体が使用できる。さらに、これら
の部分アミノ保護体の混合物も本発明の方法で1位アミ
ノ基のアシル化のために用いられる。
基以外のアミノ基のすべて又は一部分が保護されたアミ
ノ保護誘導体、例えば3,6′,3″−トリ−N−保護
体、3,6′−およ6′,3″−ジ−N−保護体、又は
6′−モノ−N−保護体が使用できる。さらに、これら
の部分アミノ保護体の混合物も本発明の方法で1位アミ
ノ基のアシル化のために用いられる。
本発明の方法において一般式(I)の目的化合物を高い収
率で製造するためには、式(II)の出発化合物の1位アミ
ノ基を選択的に式(III)のα−ヒドロキシ−ω−アミノ
アルカン酸でアシル化すれば良いのである。従つて、1
位アミノ基以外のすべてのアミノ基がアミノ保護基で閉
塞されている出発化合物(II)の保護誘導体、すなわち
3,6′,3″−トリ−N−保護−2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンAを本法の出発物質
として用いるのが最も好ましいことは明らかであろう。
率で製造するためには、式(II)の出発化合物の1位アミ
ノ基を選択的に式(III)のα−ヒドロキシ−ω−アミノ
アルカン酸でアシル化すれば良いのである。従つて、1
位アミノ基以外のすべてのアミノ基がアミノ保護基で閉
塞されている出発化合物(II)の保護誘導体、すなわち
3,6′,3″−トリ−N−保護−2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンAを本法の出発物質
として用いるのが最も好ましいことは明らかであろう。
式(II)の化合物の1位アミノ基以外のすべてのアミノ基
が保護された保護誘導体を調製するには、例えば次の方
法を利用できる。すなわち、式(II)の2′,3′−ジデ
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAを二価遷移金
属,例えば銅(II)、ニツケル(II)、コバルト(II)等のカ
チオンと反応させて金属錯体を形成させ、この錯体にア
ミノ保護基導入剤を作用させて2′,3′−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAと金属カチオンとの錯
体のカナマイシン部分の1位と3″位の2個のアミノ基
(これらは二価金属イオンと錯結合して閉塞されてい
る)以外のすべてのアミノ基をアミノ保護基で保護し、
その後に、上記錯体から二価金属カチオンを例えばカチ
オン交換樹脂による処理,硫化水素処理又はアンモニア
水処理で脱除することによつて2′,3′−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAの3,6′−ジ−N−
保護誘導体を作ることからなる特開昭52−15394
4号によるN−保護方法を応用することによつて、若し
くは前記の二価遷移金属カチオンに代えて亜鉛イオンを
用い以後は前記のN−保護方法と同様に処理して、上記
と同様のN−保護誘導体を作る本出願人の特開昭55−
64598号(特願昭53−138402号)によるN
−保護方法を応用することによつて、先づ2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの3,6′
−ジ−N−保護誘導体を高収率で生成する。次いで、本
発明者らが開発した特開昭55−164696号(特願
昭54−73064号)による1位以外のアミノ基が選
択的に保護されたアミノグリコシド抗生物質保護誘導体
の製造法の応用によつて、前記3,6′−ジ−N−保護
誘導体の3″位アミノ基を選択的にアシル化により保護
すると、化合物(II)の1位アミノ基以外のすべてのアミ
ノ基が保護されたトリ−N−保護誘導体を高収率で調製
できるのである。この特開昭55−164696号の方
法においては、1位及び3″位アミノ基以外のアミノ基
を保護されてあるアミノグリコシド抗生物質に対して、
3″位アミノ基の選択的アシル化剤として、例えばギ酸
エステル、ジハロゲン化またはトリハロゲン化アルカン
酸エステル、あるいはN−ホルミルイミダゾールを用い
て作用せしめるものであり、これによつて該アミノグリ
コシドの1位アミノ基をアシル化することなく、3″位
アミノ基をホルミル基、ジ−又はトリ−ハロアルカノイ
ル基で選択的に保護できるのである。
が保護された保護誘導体を調製するには、例えば次の方
法を利用できる。すなわち、式(II)の2′,3′−ジデ
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAを二価遷移金
属,例えば銅(II)、ニツケル(II)、コバルト(II)等のカ
チオンと反応させて金属錯体を形成させ、この錯体にア
ミノ保護基導入剤を作用させて2′,3′−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAと金属カチオンとの錯
体のカナマイシン部分の1位と3″位の2個のアミノ基
(これらは二価金属イオンと錯結合して閉塞されてい
る)以外のすべてのアミノ基をアミノ保護基で保護し、
その後に、上記錯体から二価金属カチオンを例えばカチ
オン交換樹脂による処理,硫化水素処理又はアンモニア
水処理で脱除することによつて2′,3′−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAの3,6′−ジ−N−
保護誘導体を作ることからなる特開昭52−15394
4号によるN−保護方法を応用することによつて、若し
くは前記の二価遷移金属カチオンに代えて亜鉛イオンを
用い以後は前記のN−保護方法と同様に処理して、上記
と同様のN−保護誘導体を作る本出願人の特開昭55−
64598号(特願昭53−138402号)によるN
−保護方法を応用することによつて、先づ2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの3,6′
−ジ−N−保護誘導体を高収率で生成する。次いで、本
発明者らが開発した特開昭55−164696号(特願
昭54−73064号)による1位以外のアミノ基が選
択的に保護されたアミノグリコシド抗生物質保護誘導体
の製造法の応用によつて、前記3,6′−ジ−N−保護
誘導体の3″位アミノ基を選択的にアシル化により保護
すると、化合物(II)の1位アミノ基以外のすべてのアミ
ノ基が保護されたトリ−N−保護誘導体を高収率で調製
できるのである。この特開昭55−164696号の方
法においては、1位及び3″位アミノ基以外のアミノ基
を保護されてあるアミノグリコシド抗生物質に対して、
3″位アミノ基の選択的アシル化剤として、例えばギ酸
エステル、ジハロゲン化またはトリハロゲン化アルカン
酸エステル、あるいはN−ホルミルイミダゾールを用い
て作用せしめるものであり、これによつて該アミノグリ
コシドの1位アミノ基をアシル化することなく、3″位
アミノ基をホルミル基、ジ−又はトリ−ハロアルカノイ
ル基で選択的に保護できるのである。
第2の本発明による方法においては、式(III)のα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸としては、アミノ基を
保護した又はしていないα−ヒドロキシ−ω−アミノア
ルカン酸が用いられ、これで上記の出発化合物(II)又は
それの部分アミノ保護誘導体(II′)の1位アミノ基をア
シル化する。この1−N−アシル化反応は、式(III)の
α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこれの反応
誘導体(官能的均等物)をジシクロヘキシルカルボジイ
ミド法、混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法な
どで、作用させて実施できる。反応温度は0℃〜30℃
の範囲が適当である。式(III)のα−ヒドロキシ−ω−
アミノアルカン酸のアミノ基を保護するアミノ保護基
は、出発化合物の保護誘導体(II′)のアミノ保護基に用
いられたと同じ又は異なるものでよい。特に、トリフロ
ロ酢酸、酢酸などの水溶液または塩酸などの希薄溶液中
で処理して容易に脱保護できる第三ブトキシカルボニル
基やパラメトキシベンジルオキシカルボニル基は、好ま
しく用いられるアミノ保護基である。また、パラジウ
ム、酸化白金などの白金族金属触媒の存在下に通常の接
触還元で脱保護できるベンジルオキシカルボニル基も便
利なアミノ保護基である。
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸としては、アミノ基を
保護した又はしていないα−ヒドロキシ−ω−アミノア
ルカン酸が用いられ、これで上記の出発化合物(II)又は
それの部分アミノ保護誘導体(II′)の1位アミノ基をア
シル化する。この1−N−アシル化反応は、式(III)の
α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこれの反応
誘導体(官能的均等物)をジシクロヘキシルカルボジイ
ミド法、混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法な
どで、作用させて実施できる。反応温度は0℃〜30℃
の範囲が適当である。式(III)のα−ヒドロキシ−ω−
アミノアルカン酸のアミノ基を保護するアミノ保護基
は、出発化合物の保護誘導体(II′)のアミノ保護基に用
いられたと同じ又は異なるものでよい。特に、トリフロ
ロ酢酸、酢酸などの水溶液または塩酸などの希薄溶液中
で処理して容易に脱保護できる第三ブトキシカルボニル
基やパラメトキシベンジルオキシカルボニル基は、好ま
しく用いられるアミノ保護基である。また、パラジウ
ム、酸化白金などの白金族金属触媒の存在下に通常の接
触還元で脱保護できるベンジルオキシカルボニル基も便
利なアミノ保護基である。
本発明方法での1−N−アシル化反応は含水溶媒中で活
性エステル法で行われることが好ましい。例えば、通常
の方法で得られる活性エステルとして(L)−4−第三ブ
トキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸のN−ヒ
ドロキシコハク酸イミドを1−3モル当量、好ましくは
1−1.5モル当量の範囲で使用して式(II)の化合物に反
応させる。使用される溶媒としては、好ましくはジオキ
サン、1,2−ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、トリエチルアミンなどの水混
和性の有機溶剤が使用される。
性エステル法で行われることが好ましい。例えば、通常
の方法で得られる活性エステルとして(L)−4−第三ブ
トキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸のN−ヒ
ドロキシコハク酸イミドを1−3モル当量、好ましくは
1−1.5モル当量の範囲で使用して式(II)の化合物に反
応させる。使用される溶媒としては、好ましくはジオキ
サン、1,2−ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、トリエチルアミンなどの水混
和性の有機溶剤が使用される。
なお、式(II)の出発化合物の6′−N−保護体のよう
に、1位アミノ基以外のアミノ基の一部のみが保護され
た部分保護誘導体を本法で1−N−アシル化される出発
物質として用いた場合には、混成したN−アシル化反応
生成物をシリカゲルなどの塔クロマトグラフイーによつ
て精製し、未反応の原料を除去してN−アシル化生成物
の混合物を得ることができる。しかし、一般には、この
混成N−アシル化生成物は精製することなしに脱保護し
て後に精製して目的化合物(I)を採取することができ
る。
に、1位アミノ基以外のアミノ基の一部のみが保護され
た部分保護誘導体を本法で1−N−アシル化される出発
物質として用いた場合には、混成したN−アシル化反応
生成物をシリカゲルなどの塔クロマトグラフイーによつ
て精製し、未反応の原料を除去してN−アシル化生成物
の混合物を得ることができる。しかし、一般には、この
混成N−アシル化生成物は精製することなしに脱保護し
て後に精製して目的化合物(I)を採取することができ
る。
本法においては、こうして生成された1−N−アシル化
反応生成物にアミノ保護基が残存する場合、アミノ保護
基を脱離せしめるが、この脱離は常法で行なわれる。す
なわち、上記のアルキルオキシカルボニル基型のアミノ
保護基はトリフロロ酢酸、酢酸などの水溶液、または塩
酸などの希薄溶液中で加水分解により処理して脱離され
る。またアミノ保護基がベンジルオキシカルボニル基な
どのアラルキルオキシカルボニル基の場合には通常の接
触還元(水添分解)によつて容易に脱離できる。またア
ミノ保護基にフタロイル基を有する場合は抱水ヒドラジ
ンのアルコール溶液中で加熱により除去できる。
反応生成物にアミノ保護基が残存する場合、アミノ保護
基を脱離せしめるが、この脱離は常法で行なわれる。す
なわち、上記のアルキルオキシカルボニル基型のアミノ
保護基はトリフロロ酢酸、酢酸などの水溶液、または塩
酸などの希薄溶液中で加水分解により処理して脱離され
る。またアミノ保護基がベンジルオキシカルボニル基な
どのアラルキルオキシカルボニル基の場合には通常の接
触還元(水添分解)によつて容易に脱離できる。またア
ミノ保護基にフタロイル基を有する場合は抱水ヒドラジ
ンのアルコール溶液中で加熱により除去できる。
本発明化合物(I)の合成は、未保護の2′,3′−ジデ
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAから出発して特
開昭55−64598号の亜鉛錯体法ならびに特開昭5
5−164696号の選択的3″−アミノ保護法を利用
してアミノ保護誘導体を先づ調製し、次いで本発明の方
法を行う合成ルート、例えば具体的には次の工程から成
る合成ルートで行うのが便利である。
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAから出発して特
開昭55−64598号の亜鉛錯体法ならびに特開昭5
5−164696号の選択的3″−アミノ保護法を利用
してアミノ保護誘導体を先づ調製し、次いで本発明の方
法を行う合成ルート、例えば具体的には次の工程から成
る合成ルートで行うのが便利である。
先づ、2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA(化合物a)と酢酸亜鉛とをジメチルスルホキ
シド(DMSO)に懸濁し、又は水とジメチルホルムアミド
(DMF)の混液に溶解し、生成した2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンA−亜鉛錯体の溶液
に対して、N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サ
クシンイミド(アミノ保護基としてのベンジルオキシカ
ルボニル基の導入試薬)を作用させてカナマイシンA部
分の3位及び6′位のアミノ基ををベンジルオキシカル
ボニル基で保護し更に亜鉛カチオンをイオン交換樹脂
(例えばアンバーライトCG−50)処理により脱離さ
せて3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA(化合物b)を生成させる(工程1)。さらに
DMSO又はDMF中でトリフルオロ酢酸エチルを化合物(b)に
作用させて、3″位アミノ基をトリフルオロアセチル基
で保護(特開昭55−164696号の保護法による)
して3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−3″−N−トリフルオロアセチル−2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンA(化合物
c)を生成させる(工程2)。さらに含水テトラヒドロ
フラン中で炭酸ナトリウムの存在下に化合物(c)にN−
(ベンジルオキシカルボニル)−L−4−アミノ−2−
ヒドロキシブチリルオキシサクシンイミドまたはN−
(ベンジルオキシカルボニル)−L−3−アミノ−2−
ヒドロキシプロピオニルオキシサクシンイミドを作用さ
せ、1位アミノ基を選択的にL−4−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−ヒドロキシブチリル化,または、
L−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロ
キシプロピオニル化する(工程3)。これによつて、1
−N−〔L−4−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ
−2−ヒドロキシブチリル〕−又は1−N−〔L−3−
(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−ヒドロキシ
プロピオニル〕−3,6′−ビス−N−(ベンジルオキ
シカルボニル)−3″−N−トリフルオロアセチル−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A(化合物d)を1−N−アシル化反応生成物として形
成させる。
イシンA(化合物a)と酢酸亜鉛とをジメチルスルホキ
シド(DMSO)に懸濁し、又は水とジメチルホルムアミド
(DMF)の混液に溶解し、生成した2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンA−亜鉛錯体の溶液
に対して、N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サ
クシンイミド(アミノ保護基としてのベンジルオキシカ
ルボニル基の導入試薬)を作用させてカナマイシンA部
分の3位及び6′位のアミノ基ををベンジルオキシカル
ボニル基で保護し更に亜鉛カチオンをイオン交換樹脂
(例えばアンバーライトCG−50)処理により脱離さ
せて3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA(化合物b)を生成させる(工程1)。さらに
DMSO又はDMF中でトリフルオロ酢酸エチルを化合物(b)に
作用させて、3″位アミノ基をトリフルオロアセチル基
で保護(特開昭55−164696号の保護法による)
して3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−3″−N−トリフルオロアセチル−2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンA(化合物
c)を生成させる(工程2)。さらに含水テトラヒドロ
フラン中で炭酸ナトリウムの存在下に化合物(c)にN−
(ベンジルオキシカルボニル)−L−4−アミノ−2−
ヒドロキシブチリルオキシサクシンイミドまたはN−
(ベンジルオキシカルボニル)−L−3−アミノ−2−
ヒドロキシプロピオニルオキシサクシンイミドを作用さ
せ、1位アミノ基を選択的にL−4−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−ヒドロキシブチリル化,または、
L−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロ
キシプロピオニル化する(工程3)。これによつて、1
−N−〔L−4−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ
−2−ヒドロキシブチリル〕−又は1−N−〔L−3−
(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−ヒドロキシ
プロピオニル〕−3,6′−ビス−N−(ベンジルオキ
シカルボニル)−3″−N−トリフルオロアセチル−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A(化合物d)を1−N−アシル化反応生成物として形
成させる。
次に化合物(d)からアミノ保護基としてのトリフルオロ
アセチル基を酸又は塩基による加水分解により、またベ
ンジルオキシカルボニル基を白金族金属触媒による接触
還元により脱離する(工程4)。これらの工程により目
的の化合物(I)が得られるのである。
アセチル基を酸又は塩基による加水分解により、またベ
ンジルオキシカルボニル基を白金族金属触媒による接触
還元により脱離する(工程4)。これらの工程により目
的の化合物(I)が得られるのである。
本発明の方法で原料として用いられる2′,3′−ジデ
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAは新規物質であ
るから、これの製造法として、特願昭59−26375
9号記載の方法を説明する。
オキシ−2′−フルオロカナマイシンAは新規物質であ
るから、これの製造法として、特願昭59−26375
9号記載の方法を説明する。
すなわち、原料として用いられる式(II)の2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの製造方法
は、次の3工程、すなわち次式 〔式中、Aはヒドロキシル保護基、例えばアシル基,好
ましくはベンゾイル基又はアラルキル基好ましくはベン
ジル基である〕で示される6−アジド−4−O−保護−
2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−リボーヘキ
ソピラノシル・ブロマイドを次式 〔式中、Yはアミノ保護基例えばアルコキシカルボニル
基,アラルキルオキシカルボニル基,アルキルスルホニ
ル基,アリールスルホニル基,アラルキルスルホニル基
であり、Dはヒドロキシル保護基例えばアシル基,好ま
しくはアセチル基であり、Bは夫々がDと異なる又は同
じである1価のヒドロキシル保護基例えばアシル基又は
アラルキシ基であるか、又は2つのBが共同して二価の
ヒドロキシル保護基としてのアルキリデン基又はシクロ
アルキリデン基又はアラルキリデン基の1個を表わすも
のである〕で示される6−O−(2′,4′,6′−ト
リ−O−保護−3′−N−保護−3′−アミノ−3′−
デオキシ−α−D−グルコピラノシル)−1,3−ビス
−N−保護−2−デオキシストレプタミンの4位ヒドロ
キシル基と縮合させて次式 〔式中、A,B,D及びYは前記と同じ保護基である〕
で示される縮合生成物を生成させる工程と、式(VI)の縮
合生成物のアジド基(N3)を還元してアミノ基に転化する
工程と、そのアミノ化生成物から、残留の保護基(A,
B,D,Y)を常法で脱離させて式(II)の化合物、すな
わち2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイ
シンAを生成する工程とから成る。
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの製造方法
は、次の3工程、すなわち次式 〔式中、Aはヒドロキシル保護基、例えばアシル基,好
ましくはベンゾイル基又はアラルキル基好ましくはベン
ジル基である〕で示される6−アジド−4−O−保護−
2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−リボーヘキ
ソピラノシル・ブロマイドを次式 〔式中、Yはアミノ保護基例えばアルコキシカルボニル
基,アラルキルオキシカルボニル基,アルキルスルホニ
ル基,アリールスルホニル基,アラルキルスルホニル基
であり、Dはヒドロキシル保護基例えばアシル基,好ま
しくはアセチル基であり、Bは夫々がDと異なる又は同
じである1価のヒドロキシル保護基例えばアシル基又は
アラルキシ基であるか、又は2つのBが共同して二価の
ヒドロキシル保護基としてのアルキリデン基又はシクロ
アルキリデン基又はアラルキリデン基の1個を表わすも
のである〕で示される6−O−(2′,4′,6′−ト
リ−O−保護−3′−N−保護−3′−アミノ−3′−
デオキシ−α−D−グルコピラノシル)−1,3−ビス
−N−保護−2−デオキシストレプタミンの4位ヒドロ
キシル基と縮合させて次式 〔式中、A,B,D及びYは前記と同じ保護基である〕
で示される縮合生成物を生成させる工程と、式(VI)の縮
合生成物のアジド基(N3)を還元してアミノ基に転化する
工程と、そのアミノ化生成物から、残留の保護基(A,
B,D,Y)を常法で脱離させて式(II)の化合物、すな
わち2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイ
シンAを生成する工程とから成る。
素原料として用いる式(IV)の化合物は、後述の参考例1
(イ)〜(ニ)に示された方法で生成された6−アジド−4−
O−ベンゾイル−2,3,6−トリデオキシ−2−フル
オロ−D−リボ−ヘキソピラノースを用い、これの1位
ヒドロキシル基を臭化チオニルと反応させてブロム化し
て、6−アジド−4−O−ベンゾイル−2,3,6−ト
リデオキシ−2−フルオロ−α−D−リボ−ヘキソピラ
ノシル・ブロマイドを生成し(参考例1(ホ)参照)、次
いで4−O−ベンゾイル基を所望ならば公知方法で他の
ヒドロキシル保護基(A)例えばベンジル基と取代えるこ
とによつて調製できる。
(イ)〜(ニ)に示された方法で生成された6−アジド−4−
O−ベンゾイル−2,3,6−トリデオキシ−2−フル
オロ−D−リボ−ヘキソピラノースを用い、これの1位
ヒドロキシル基を臭化チオニルと反応させてブロム化し
て、6−アジド−4−O−ベンゾイル−2,3,6−ト
リデオキシ−2−フルオロ−α−D−リボ−ヘキソピラ
ノシル・ブロマイドを生成し(参考例1(ホ)参照)、次
いで4−O−ベンゾイル基を所望ならば公知方法で他の
ヒドロキシル保護基(A)例えばベンジル基と取代えるこ
とによつて調製できる。
式(V)の化合物は、既知物質である6−O−(3′−ア
ミノ−3′−デオキシ−α−D−グルコピラノシル)−
2−デオキシストレプタミンの1位、3位、3′位のア
ミノ基を公知のアミノ基(Y)例えばトシル基で保護し、
次いで2′位のヒドロキシル基を3工程で公知のヒドロ
キシル保護基(D)、例えばアセチル基で保護して得られ
る6−O−(2′−O−保護−3′−N−保護−3′−
アミノ−3′−デオキシ−α−D−グルコピラノシル)
−1,3−ビス−N−保護−2−デオキシストレプタミ
ンを用い、これの4′位、6′位のヒドロキシル基2個
を公知の1価ヒドロキシル保護基(B)、若しくは公知の
2価ヒドロキシル保護基であるアルキリデン基、例えば
イソプロピリデン基、アラルキリデン基、例えばベンジ
リデン基、又はシクロアルキリデン基、例えばシクロヘ
キシリデン基で保護することにより調製できる。保護基
の導入の順序は都合のよいように調整できる。
ミノ−3′−デオキシ−α−D−グルコピラノシル)−
2−デオキシストレプタミンの1位、3位、3′位のア
ミノ基を公知のアミノ基(Y)例えばトシル基で保護し、
次いで2′位のヒドロキシル基を3工程で公知のヒドロ
キシル保護基(D)、例えばアセチル基で保護して得られ
る6−O−(2′−O−保護−3′−N−保護−3′−
アミノ−3′−デオキシ−α−D−グルコピラノシル)
−1,3−ビス−N−保護−2−デオキシストレプタミ
ンを用い、これの4′位、6′位のヒドロキシル基2個
を公知の1価ヒドロキシル保護基(B)、若しくは公知の
2価ヒドロキシル保護基であるアルキリデン基、例えば
イソプロピリデン基、アラルキリデン基、例えばベンジ
リデン基、又はシクロアルキリデン基、例えばシクロヘ
キシリデン基で保護することにより調製できる。保護基
の導入の順序は都合のよいように調整できる。
式(V)の化合物は後記の参考例2(ハ)で作られた6−O−
(2′−O−アセチル−4′,6′−O−シクロヘキシ
リデン−3′−デオキシ−3′−トシルアミノ−α−D
−グルコピラノシル)−1,3−ビス−N−トシル−2
−デオキシストレプタミン、若しくは特願昭59−16
1615号明細書の参考例2で作られた6−O−(2′
−O−ベンジル−3′−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−4′,6′−O−シクロヘキシリデン−3′−デオ
キシ−α−D−グルコピラノシル)−1,3−ビス−N
−ベンベルオキシカルボニル−2−デオキシストレプタ
ミンでありうる。
(2′−O−アセチル−4′,6′−O−シクロヘキシ
リデン−3′−デオキシ−3′−トシルアミノ−α−D
−グルコピラノシル)−1,3−ビス−N−トシル−2
−デオキシストレプタミン、若しくは特願昭59−16
1615号明細書の参考例2で作られた6−O−(2′
−O−ベンジル−3′−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−4′,6′−O−シクロヘキシリデン−3′−デオ
キシ−α−D−グルコピラノシル)−1,3−ビス−N
−ベンベルオキシカルボニル−2−デオキシストレプタ
ミンでありうる。
式(IV)の化合物と式(V)の化合物との縮合工程は、触媒
としてシアン化第二水銀の存在下に無水の有機溶媒、例
えば塩素化炭化水素、好ましくはジクロロメタン中で室
温で又は熱下に、例えば10〜100℃の温度で行い得
る。生成した式(VI)の縮合生成物のアジド基(N3)の還元
は、公知の方法により、例えばパラジウム触媒のの存在
下に接触的還元法で行い得る。アジド基の還元はアミノ
保護基の脱離と同時に行つてもよい。例えばアミノ保護
基(Y)がトシル基である場合には、このトシル基を液体
アンモニア中の金属ナトリウムで処理して脱離すると、
この際に伴う還元作用でアジド基もアミノ基に還元され
る(参考例3(ロ)参照)。残留する保護基(A,B,
D,Y)を脱離させる脱保護工程は、用いた保護基の種
類に応じて、一挙に又は段階に分けて、常用される脱保
護法で公知手法で行い得る。なお、前記の縮合反応及び
アジド基の還元反応は3′−デオキシカナマイシンAの
合成に係る米国特許第3,929,761号明細書に示される方
法と同じ要領で行い得る。
としてシアン化第二水銀の存在下に無水の有機溶媒、例
えば塩素化炭化水素、好ましくはジクロロメタン中で室
温で又は熱下に、例えば10〜100℃の温度で行い得
る。生成した式(VI)の縮合生成物のアジド基(N3)の還元
は、公知の方法により、例えばパラジウム触媒のの存在
下に接触的還元法で行い得る。アジド基の還元はアミノ
保護基の脱離と同時に行つてもよい。例えばアミノ保護
基(Y)がトシル基である場合には、このトシル基を液体
アンモニア中の金属ナトリウムで処理して脱離すると、
この際に伴う還元作用でアジド基もアミノ基に還元され
る(参考例3(ロ)参照)。残留する保護基(A,B,
D,Y)を脱離させる脱保護工程は、用いた保護基の種
類に応じて、一挙に又は段階に分けて、常用される脱保
護法で公知手法で行い得る。なお、前記の縮合反応及び
アジド基の還元反応は3′−デオキシカナマイシンAの
合成に係る米国特許第3,929,761号明細書に示される方
法と同じ要領で行い得る。
この脱保護反応で得られた反応液を濃縮し、固体残渣を
水に溶解してCM−セフアデックスC−25のカラムに通
しアンモニア水で展開することにより、単離、精製する
と、所望の式(II)の2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンAが収得できる。
水に溶解してCM−セフアデックスC−25のカラムに通
しアンモニア水で展開することにより、単離、精製する
と、所望の式(II)の2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンAが収得できる。
次に本発明を参考例及び実施例について具体的に説明す
る。なお、これらの参考例、実施例に示された式におい
て、Meはメチル基、Phはフエニル基、Bzはベンゾイル
基、Tsはトシル基、Acはアセチル基,Zはベンジルオキ
シカルボニル基を表わす。
る。なお、これらの参考例、実施例に示された式におい
て、Meはメチル基、Phはフエニル基、Bzはベンゾイル
基、Tsはトシル基、Acはアセチル基,Zはベンジルオキ
シカルボニル基を表わす。
参考例1 (イ)メチル・4,6−O−ベンジリデン−3−デオキシ
−β−D−アラビノ−ヘキソピラノシド〔化合物(1)と
いう〕よりメチル・4,6−O−ベンジリデン−2,3
−ジデオキシ−2−フルオロ−β−D−リボ−ヘキソピ
ラノシド〔化合物(2)という〕の合成 無水ベンゼン25ml、無水ピリジン1.5mlの混液に、ジ
エチルアミノスルフアトリフルオライド1.1mlを加え、
0℃撹拌下に、既知物質(E.H.Williams.W.A.Szarek,an
d J.K.N.Jones:“Can.J.Cnem.”,49巻,796〜799
頁(1971)参照)である化合物(1)の500mgを加え
て、溶解せしめ、0℃にて、0.5時間、撹拌後、60℃
にて3時間加熱した。反応液を氷冷した飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液250mlに加えて、0.5時間激しく、拌
した。その後、ベンゼン100mlを加えて、抽出し、水
洗後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮してシロツプ
とした。シリカゲルカラムクロマトグラフイー(シリカ
ゲル量100ml、クロロホルムで展開)にて精製し、化
合物(2)の391mgを結晶として、得た。収率78%。
−β−D−アラビノ−ヘキソピラノシド〔化合物(1)と
いう〕よりメチル・4,6−O−ベンジリデン−2,3
−ジデオキシ−2−フルオロ−β−D−リボ−ヘキソピ
ラノシド〔化合物(2)という〕の合成 無水ベンゼン25ml、無水ピリジン1.5mlの混液に、ジ
エチルアミノスルフアトリフルオライド1.1mlを加え、
0℃撹拌下に、既知物質(E.H.Williams.W.A.Szarek,an
d J.K.N.Jones:“Can.J.Cnem.”,49巻,796〜799
頁(1971)参照)である化合物(1)の500mgを加え
て、溶解せしめ、0℃にて、0.5時間、撹拌後、60℃
にて3時間加熱した。反応液を氷冷した飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液250mlに加えて、0.5時間激しく、拌
した。その後、ベンゼン100mlを加えて、抽出し、水
洗後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮してシロツプ
とした。シリカゲルカラムクロマトグラフイー(シリカ
ゲル量100ml、クロロホルムで展開)にて精製し、化
合物(2)の391mgを結晶として、得た。収率78%。
(ロ)化合物(2)よりメチル・4−O−ベンゾイル−6−ブ
ロモ−2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−β−
D−リボ−ヘキソピラノシド〔化合物(3)という〕の合
成 前項(イ)の化合物(2)の391mg,N−ブロモコハク酸イ
ミド285mg、炭酸バリウム474mgに、無水の四塩化
炭素20mlを加えて1時間加熱還流せしめた。反応懸濁
液を濃縮し、クロロホルムを加えて抽出し、不溶物を
別後、抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥
し、濃縮すると、淡黄色結晶として化合物(3)の粗製物
の499mgを得た。粗収率99%。
ロモ−2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−β−
D−リボ−ヘキソピラノシド〔化合物(3)という〕の合
成 前項(イ)の化合物(2)の391mg,N−ブロモコハク酸イ
ミド285mg、炭酸バリウム474mgに、無水の四塩化
炭素20mlを加えて1時間加熱還流せしめた。反応懸濁
液を濃縮し、クロロホルムを加えて抽出し、不溶物を
別後、抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥
し、濃縮すると、淡黄色結晶として化合物(3)の粗製物
の499mgを得た。粗収率99%。
(ハ)化合物(3)よりメチル・6−アジド−4−O−ベンゾ
イル−2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−β−
D−リボ−ヘキソピラノシド〔化合物(4)という〕の合
成 前項(ロ)で得た化合物(3)の粗製物449mgを無水ジメチ
ルホルムアミド10mlに溶解し、アジ化ナトリウム11
2mgを加え、100℃にて0.5時間反応せしめた。均一
反応液を濃縮後、クロロホルム100mlにて抽出し、抽
出液を水洗後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮し
て、黄褐色シロップを得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル量30ml、クロロホルム
で展開)により、精製して、無色シロツプの化合物(4)
の430mgを得た。化合物(2)よりの収率96%。
イル−2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−β−
D−リボ−ヘキソピラノシド〔化合物(4)という〕の合
成 前項(ロ)で得た化合物(3)の粗製物449mgを無水ジメチ
ルホルムアミド10mlに溶解し、アジ化ナトリウム11
2mgを加え、100℃にて0.5時間反応せしめた。均一
反応液を濃縮後、クロロホルム100mlにて抽出し、抽
出液を水洗後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮し
て、黄褐色シロップを得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル量30ml、クロロホルム
で展開)により、精製して、無色シロツプの化合物(4)
の430mgを得た。化合物(2)よりの収率96%。
(ニ)化合物(4)より6−アジド−4−O−ベンゾイル−
2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−D−リボ−
ヘキソピラノース〔化合物(5)という〕の合成 前項(ハ)の化合物(4)の128mgを6規定塩酸を含むトリ
フルオロ酢酸−水(1:1)の混液2.6mlに溶解し、5
0℃にて、1時間反応せしめた。反応液を水にて希釈、
氷冷下にて、炭酸水素ナトリウムを加え中和後、クロロ
ホルム抽出を行ない、抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムにて、乾燥後、濃縮して、シロツプとし、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル量5ml、トル
エン−酢酸エチル(6:1))で展開により精製して、
無色シロツプの化合物(5)の110mgを得た。収率90
%。
2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−D−リボ−
ヘキソピラノース〔化合物(5)という〕の合成 前項(ハ)の化合物(4)の128mgを6規定塩酸を含むトリ
フルオロ酢酸−水(1:1)の混液2.6mlに溶解し、5
0℃にて、1時間反応せしめた。反応液を水にて希釈、
氷冷下にて、炭酸水素ナトリウムを加え中和後、クロロ
ホルム抽出を行ない、抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムにて、乾燥後、濃縮して、シロツプとし、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル量5ml、トル
エン−酢酸エチル(6:1))で展開により精製して、
無色シロツプの化合物(5)の110mgを得た。収率90
%。
(ホ)化合物(5)より6−アジド−4−O−ベンゾイル−
2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−α−D−リ
ボ−ヘキソピラノシル・ブロマイド〔化合物(6)とい
う〕の合成 前項(ニ)の化合物(5)の1.47gを、無水ジクロロメタン2
9mlに溶解し、臭化チオニル1.9mlを加え、室温で36
時間、反応せしめた。酸性の反応液に炭酸水素ナトリウ
ム80gを加えて中和後、ジクロロメタンにて抽出し、
不溶物を別後、濃縮し、シロツプを得た。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー((シリカゲル量25
0ml、ベンゼンで展開)にて精製し、無色シロツプの化
合物(6)の1.03gを得た。収率58%。
2,3,6−トリデオキシ−2−フルオロ−α−D−リ
ボ−ヘキソピラノシル・ブロマイド〔化合物(6)とい
う〕の合成 前項(ニ)の化合物(5)の1.47gを、無水ジクロロメタン2
9mlに溶解し、臭化チオニル1.9mlを加え、室温で36
時間、反応せしめた。酸性の反応液に炭酸水素ナトリウ
ム80gを加えて中和後、ジクロロメタンにて抽出し、
不溶物を別後、濃縮し、シロツプを得た。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー((シリカゲル量25
0ml、ベンゼンで展開)にて精製し、無色シロツプの化
合物(6)の1.03gを得た。収率58%。
旋光度:▲〔α〕21 D▼=+186゜(cl,クロロホルム) 赤外線吸収スペクトル:2110cm-1(アジド) 参考例2 (イ) 6−O−(3′−アミノ−3′−デオキシ−α−
D−グルコピラノシル)−2−デオキシストレプタミン
〔化合物(7)という〕より6−O−(3′−デオキシ−
3′−トシルアミノ−α−D−グルコピラノシル)−
1,3−ビス−N−トシル−2−デオキシストレプタミ
ン〔化合物(8)という〕の合成 既知の化合物(7)の15.0gと炭酸ナトリウム10.0gをジ
オキサン−水(1:1)の混液300mlに溶解し、氷冷下
にトシルクロライド27.7gを加え、2時間撹拌後室温に
て一晩(14時間)反応せしめた(N−トシル化)。反
応液を濃縮して得た残渣を酢酸エチルにて抽出し、抽出
液を水洗後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮して
無色固体の化合物(8)の29.5gを得た。化合物(7)をフリ
ーベースとして収率81%。
D−グルコピラノシル)−2−デオキシストレプタミン
〔化合物(7)という〕より6−O−(3′−デオキシ−
3′−トシルアミノ−α−D−グルコピラノシル)−
1,3−ビス−N−トシル−2−デオキシストレプタミ
ン〔化合物(8)という〕の合成 既知の化合物(7)の15.0gと炭酸ナトリウム10.0gをジ
オキサン−水(1:1)の混液300mlに溶解し、氷冷下
にトシルクロライド27.7gを加え、2時間撹拌後室温に
て一晩(14時間)反応せしめた(N−トシル化)。反
応液を濃縮して得た残渣を酢酸エチルにて抽出し、抽出
液を水洗後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮して
無色固体の化合物(8)の29.5gを得た。化合物(7)をフリ
ーベースとして収率81%。
(ロ)化合物(8)より6−O−(4′,6′−O−シクロヘ
キシリデン−3′−デオキシ−3′−トシルアミノ−α
−D−グルコピラノシル)−1,3−ビス−N−トシル
−2−デオキシストレプタミン〔化合物(9)という〕の
合成 前項(イ)の化合物(8)の25.0gを無水N,N−ジメチルホ
ルムアミド300mlに溶解し、パラトルエンスルホン酸
1.1gと1,1−ジメトキシシクロヘキサン5.3mlを加
え、60℃、20〜25mmHgの圧力下にて1時間反応せ
しめた(4′,6′−O−シクロヘキシリデン化)。
キシリデン−3′−デオキシ−3′−トシルアミノ−α
−D−グルコピラノシル)−1,3−ビス−N−トシル
−2−デオキシストレプタミン〔化合物(9)という〕の
合成 前項(イ)の化合物(8)の25.0gを無水N,N−ジメチルホ
ルムアミド300mlに溶解し、パラトルエンスルホン酸
1.1gと1,1−ジメトキシシクロヘキサン5.3mlを加
え、60℃、20〜25mmHgの圧力下にて1時間反応せ
しめた(4′,6′−O−シクロヘキシリデン化)。
反応液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液2に加え、生
じた沈澱を取し、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(シリカゲル量1.4、クロロホルム−メタノール
(8:1)で展開)にて精製し、無色固体の化合物(9)
の16.1gを得た。収率58%、ジ−O−シクロヘキシリ
デン体の5.7g(19%)も同時に得られた。
じた沈澱を取し、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(シリカゲル量1.4、クロロホルム−メタノール
(8:1)で展開)にて精製し、無色固体の化合物(9)
の16.1gを得た。収率58%、ジ−O−シクロヘキシリ
デン体の5.7g(19%)も同時に得られた。
(ハ)化合物(9)より6−O−(2′−O−アセチル−
4′,6′−O−シクロヘキシリデン−3′−デオキシ
−3′−トシルアミノ−α−D−グルコピラノシル)−
1,3−ビス−N−トシル−2−デオキシストレプタミ
ン〔化合物(10)という〕の合成 前項(ロ)の化合物(9)の14.4gを無水ジメチルスルホキシ
ド−無水ピリジン(9:1)の混液70mlに溶解し、N
−アセチルイミダゾール3.76gを加え、窒素置換後、室
温にて27時間反応せしめた(2′−O−アセチル
化)。
4′,6′−O−シクロヘキシリデン−3′−デオキシ
−3′−トシルアミノ−α−D−グルコピラノシル)−
1,3−ビス−N−トシル−2−デオキシストレプタミ
ン〔化合物(10)という〕の合成 前項(ロ)の化合物(9)の14.4gを無水ジメチルスルホキシ
ド−無水ピリジン(9:1)の混液70mlに溶解し、N
−アセチルイミダゾール3.76gを加え、窒素置換後、室
温にて27時間反応せしめた(2′−O−アセチル
化)。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液2に加え、生
じた沈澱を水で洗浄後、さらにエチルエーテルで洗浄
し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル
量1.2、クロロホルム−メタノール(10:1)で展
開)にて精製し、無色固体の化合物(10)の10.1gを得
た。収率67% 旋光度:▲〔α〕20 D▼+3゜(cl,クロロホル
ム), ▲〔α〕20 D▼+68゜(cl,DMF) 参考例3 (イ) 2″−O−アセチル−6′−アジド−4′−O−
ベンゾイル−4″,6″−O−シクロヘキシリデン−
6′−デアミノ−2′,3′−ジデオキシ−2′−フル
オロ−トリス−N−トシルカナマイシンA〔化合物(11)
という〕の合成 参考例1で得た化合物(6)の515mgを、無水ジクロル
メタン1.3mlに溶解し、粉砕したドライライト1.18g、
粉砕したシアン化第二水銀543mgを加え、ここに参考
例2で得られた化合物(10)638mgを加えて溶解せしめ
遮光下に40℃にて、7時間撹拌した(縮合反応)。反
応懸濁液を、クロロホルム100mlにて希釈し、セライ
トを併用して過しを、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水にて順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾
燥し、濃縮した。得られた褐色固体を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(シリカゲル量130ml、ベンゼ
ン:酢酸エチル(10:9)で展開)にて分離精製する
と、淡黄色固体の化合物(11)の粗製物300mgと、β−
縮合化合物225mg〔化合物(10)よりの収率27%)と
を得た。
じた沈澱を水で洗浄後、さらにエチルエーテルで洗浄
し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル
量1.2、クロロホルム−メタノール(10:1)で展
開)にて精製し、無色固体の化合物(10)の10.1gを得
た。収率67% 旋光度:▲〔α〕20 D▼+3゜(cl,クロロホル
ム), ▲〔α〕20 D▼+68゜(cl,DMF) 参考例3 (イ) 2″−O−アセチル−6′−アジド−4′−O−
ベンゾイル−4″,6″−O−シクロヘキシリデン−
6′−デアミノ−2′,3′−ジデオキシ−2′−フル
オロ−トリス−N−トシルカナマイシンA〔化合物(11)
という〕の合成 参考例1で得た化合物(6)の515mgを、無水ジクロル
メタン1.3mlに溶解し、粉砕したドライライト1.18g、
粉砕したシアン化第二水銀543mgを加え、ここに参考
例2で得られた化合物(10)638mgを加えて溶解せしめ
遮光下に40℃にて、7時間撹拌した(縮合反応)。反
応懸濁液を、クロロホルム100mlにて希釈し、セライ
トを併用して過しを、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水にて順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾
燥し、濃縮した。得られた褐色固体を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(シリカゲル量130ml、ベンゼ
ン:酢酸エチル(10:9)で展開)にて分離精製する
と、淡黄色固体の化合物(11)の粗製物300mgと、β−
縮合化合物225mg〔化合物(10)よりの収率27%)と
を得た。
粗化合物(11)の300mgを再びシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(シリカゲル量60ml、ベンゼン−酢酸エ
チル(5:3)で展開)にて精製し、無色固体の所望化
合物(11)の134mgを得た。化合物(10)よりの収率16
%。
トグラフイー(シリカゲル量60ml、ベンゼン−酢酸エ
チル(5:3)で展開)にて精製し、無色固体の所望化
合物(11)の134mgを得た。化合物(10)よりの収率16
%。
(ロ)化合物(11)より2′,3′−ジデオキシ−2′−フ
ルオロカナマイシンA〔化合物(II)〕の合成 前項(イ)の化合物(11)の137mgをセフアデツクスLH
−20カラムクロマトグラフイー(セフアデックス量1
7ml、アセトンで展開)により再精製して得られた無色
固体状の化合物(11)の134.2mgを、−50℃において、
液体アンモニア30mlに溶解せしめ、金属ナトリウム2
00mgを加え、−50℃にて2時間撹拌して反応した。
アジド基の還元とトシル基の脱離が起きた。メタノール
約1mlを加え、暗青色の反応液を淡黄色とし、濃縮して
淡黄色残渣を得た。これを水15mlに溶解すると、アル
カリ性加水分解によりアセチル基とベンゾイル基が脱離
した。アンバーライトCG−120樹脂(H+型200〜
400メッシュ)2.50gを加え中和し、樹脂を取、水
洗し、1規定アンモニア水にて展開、溶離し、ニンヒド
リン呈色陽性の溶離液を集め濃縮し、淡黄色固体を得
た。本固体を酢酸−水(4:1)の混液10ml溶解し8
0℃にて0.5時間加熱すると、シクロヘキシリデン基の
脱離が起きた。その反応液を濃縮し得た固体を、水に溶
解し、CM−セフアデックスC−25のカラム(20m
l)に通し、0〜0.15規定アンモニア水により、そのア
ンモニア濃度を次第に増大しつつ展開した。溶離液をニ
ンヒドリン呈色し、目的物質を含む部分(75〜95m
l)を集め濃縮し、無色固体として所望の2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの14.1mgを
得た(H2CO3塩として収率23%)。
ルオロカナマイシンA〔化合物(II)〕の合成 前項(イ)の化合物(11)の137mgをセフアデツクスLH
−20カラムクロマトグラフイー(セフアデックス量1
7ml、アセトンで展開)により再精製して得られた無色
固体状の化合物(11)の134.2mgを、−50℃において、
液体アンモニア30mlに溶解せしめ、金属ナトリウム2
00mgを加え、−50℃にて2時間撹拌して反応した。
アジド基の還元とトシル基の脱離が起きた。メタノール
約1mlを加え、暗青色の反応液を淡黄色とし、濃縮して
淡黄色残渣を得た。これを水15mlに溶解すると、アル
カリ性加水分解によりアセチル基とベンゾイル基が脱離
した。アンバーライトCG−120樹脂(H+型200〜
400メッシュ)2.50gを加え中和し、樹脂を取、水
洗し、1規定アンモニア水にて展開、溶離し、ニンヒド
リン呈色陽性の溶離液を集め濃縮し、淡黄色固体を得
た。本固体を酢酸−水(4:1)の混液10ml溶解し8
0℃にて0.5時間加熱すると、シクロヘキシリデン基の
脱離が起きた。その反応液を濃縮し得た固体を、水に溶
解し、CM−セフアデックスC−25のカラム(20m
l)に通し、0〜0.15規定アンモニア水により、そのア
ンモニア濃度を次第に増大しつつ展開した。溶離液をニ
ンヒドリン呈色し、目的物質を含む部分(75〜95m
l)を集め濃縮し、無色固体として所望の2′,3′−
ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの14.1mgを
得た(H2CO3塩として収率23%)。
旋光度:▲〔α〕20 D▼+106℃(c0.5水) 実施例1 (イ) 3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA〔化合物(b)〕の調製 2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A〔化合物(a)〕の炭酸塩48.9mgを無水ジメチルスルホ
キシド(DMSO)0.75mlに懸濁させ、酢酸亜鉛Zn(CAc)2・
2H2Oの98mgを加え、室温にて5時間撹拌せしめて得ら
れた均一溶液に、N−(ベンジルオキシカルボニルオキ
シ)サクシンイミド48mgを10分かけて徐々に加え、
室温にて1時間反応せしめた(ベンジルオキシカルボニ
ル基によるアミノ基保護)。
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA〔化合物(b)〕の調製 2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A〔化合物(a)〕の炭酸塩48.9mgを無水ジメチルスルホ
キシド(DMSO)0.75mlに懸濁させ、酢酸亜鉛Zn(CAc)2・
2H2Oの98mgを加え、室温にて5時間撹拌せしめて得ら
れた均一溶液に、N−(ベンジルオキシカルボニルオキ
シ)サクシンイミド48mgを10分かけて徐々に加え、
室温にて1時間反応せしめた(ベンジルオキシカルボニ
ル基によるアミノ基保護)。
反応液にエチルエーテルを加え、エチルエーテルによる
洗浄を繰り返し、得られたシロツプをアンバーライトC
G−50樹脂(H+型とNH+型との混合物容量比1:1)
10mlのカラムに加え、テトラヒドロフラン−水(1:
1)の混液にて洗浄後、0.5規定のアンモニアを含むテ
トラヒドロフラン−水(1:1)の混液にて展開した。
相当するフラクシヨンを集め、25℃で濃縮し、約3ml
となつたところで水で希釈し炭酸ガスを吹き込む中和操
作を数回行なつた後、濃縮乾固して無色固体の化合物
(b)の49.4mgを得た。
洗浄を繰り返し、得られたシロツプをアンバーライトC
G−50樹脂(H+型とNH+型との混合物容量比1:1)
10mlのカラムに加え、テトラヒドロフラン−水(1:
1)の混液にて洗浄後、0.5規定のアンモニアを含むテ
トラヒドロフラン−水(1:1)の混液にて展開した。
相当するフラクシヨンを集め、25℃で濃縮し、約3ml
となつたところで水で希釈し炭酸ガスを吹き込む中和操
作を数回行なつた後、濃縮乾固して無色固体の化合物
(b)の49.4mgを得た。
(ロ) 3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロ−3″
−N−トリフルオロアセチルカナマイシンA〔化合物
(c)〕の調製 前項(イ)で得られた化合物(b)の49.0mgを無水ジメチルス
ルホキシド0.2mlに溶解し、トリフルオロ酢酸エチル
(0.0095ml)を無水ジメチルスルホキシドにとかした溶
液0.1mlを加え、室温にて30分間反応せしめた(3″
−N−トリフルオロアセチル化によるアミノ基保護)。
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロ−3″
−N−トリフルオロアセチルカナマイシンA〔化合物
(c)〕の調製 前項(イ)で得られた化合物(b)の49.0mgを無水ジメチルス
ルホキシド0.2mlに溶解し、トリフルオロ酢酸エチル
(0.0095ml)を無水ジメチルスルホキシドにとかした溶
液0.1mlを加え、室温にて30分間反応せしめた(3″
−N−トリフルオロアセチル化によるアミノ基保護)。
反応液にエチルエーテルを加え、生じたシロツプをさら
にエチルエーテルにて洗浄し、無色固体64.4mgを得た。
本固体をメタノール1mlに溶解し、エチルエーテルを加
えて沈澱を生じせしめ、沈澱をさらにエチルエーテルで
洗つて無色固体の化合物(c)の50.0mgを得た。
にエチルエーテルにて洗浄し、無色固体64.4mgを得た。
本固体をメタノール1mlに溶解し、エチルエーテルを加
えて沈澱を生じせしめ、沈澱をさらにエチルエーテルで
洗つて無色固体の化合物(c)の50.0mgを得た。
(ハ) 3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−1−N−(L−4−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−2−ヒドロキシブチリル)−2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロ−3″−N−トリフルオロアセチ
ルカナマイシンA〔化合物(d−1)〕の製造 前項(ロ)で得られた化合物(c)の50mg及び炭酸ナトリウ
ム8.0mgをテトラヒドロフラン−水(1:1)の混液の
1.3mlに溶解した溶液に、L−4−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサ
クシンイミドエステル30mgをテトラヒドロフラン0.7m
lに溶解した溶液を加え、室温にて10分間反応せしめ
た(1−N−アシル化)。反応液を濃縮し、得られた残
渣を水洗して、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
(シリカゲル量7ml,クロロホルム−メタノール−水
(4:3:2)の下層を展開溶媒として使用)にて精製
し、無色固体の化合物(d−1)の46.9mgを得た。
ル)−1−N−(L−4−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−2−ヒドロキシブチリル)−2′,3′−ジデオ
キシ−2′−フルオロ−3″−N−トリフルオロアセチ
ルカナマイシンA〔化合物(d−1)〕の製造 前項(ロ)で得られた化合物(c)の50mg及び炭酸ナトリウ
ム8.0mgをテトラヒドロフラン−水(1:1)の混液の
1.3mlに溶解した溶液に、L−4−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサ
クシンイミドエステル30mgをテトラヒドロフラン0.7m
lに溶解した溶液を加え、室温にて10分間反応せしめ
た(1−N−アシル化)。反応液を濃縮し、得られた残
渣を水洗して、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
(シリカゲル量7ml,クロロホルム−メタノール−水
(4:3:2)の下層を展開溶媒として使用)にて精製
し、無色固体の化合物(d−1)の46.9mgを得た。
(ニ)1−N−(L−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリ
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA〔化合物(Ia)〕の製造 前項(ハ)で得られた化合物(d−1)の46.0mgを2規定
アンモニア水−テトラヒドロフラン(1:1)の混液2
mlに溶解し、室温にて一晩(15時間)反応せしめ、
3″−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なつた。
その後、反応液を濃縮して得られた固体を、酢酸−ジオ
キサン−水(1:10:10)の混液4.2mlに溶解し、
パラジウム黒を触媒として、室温にて水素を吹き込み、
1時間接触還元して、N−ベンジルオキシカルボニル基
を脱離せしめた。反応液を過後、濃縮して得られた固
体を水に溶解し、CM−セフアデックスC−25のカラ
ム10mlに通し、0〜0.5規定アンモニア水により、そ
のアンモニア濃度を次第に増大しつつ展開した。溶離液
は、ニンヒドリン呈色を行ない目的化合物を含む部分
(40−60ml)を集め、濃縮し、無色固体として表題
化合物(Ia)の22.2mgを得た。
ル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマ
イシンA〔化合物(Ia)〕の製造 前項(ハ)で得られた化合物(d−1)の46.0mgを2規定
アンモニア水−テトラヒドロフラン(1:1)の混液2
mlに溶解し、室温にて一晩(15時間)反応せしめ、
3″−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なつた。
その後、反応液を濃縮して得られた固体を、酢酸−ジオ
キサン−水(1:10:10)の混液4.2mlに溶解し、
パラジウム黒を触媒として、室温にて水素を吹き込み、
1時間接触還元して、N−ベンジルオキシカルボニル基
を脱離せしめた。反応液を過後、濃縮して得られた固
体を水に溶解し、CM−セフアデックスC−25のカラ
ム10mlに通し、0〜0.5規定アンモニア水により、そ
のアンモニア濃度を次第に増大しつつ展開した。溶離液
は、ニンヒドリン呈色を行ない目的化合物を含む部分
(40−60ml)を集め、濃縮し、無色固体として表題
化合物(Ia)の22.2mgを得た。
比旋光度▲〔α〕24 D▼+77゜(cl,水)1 H−NMRスペクトル(250MHz,20%重アンモニア−
重水中,テトラメチルシラン内部標準): δ4.16(1Hdd,H−2),4.72(1Hddt,H−
2′),5.52(1Hd,H−1′) 実施例2 (イ) 3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−1−N−(L−3−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−2′,3′−ジ
デオキシ−2′−フルオロ−3″−N−トリフルオロア
セチルカナマイシンA〔化合物(d−2)〕の製造 実施例1(ロ)で得られた化合物(c)の47mg及び炭酸ナト
リウム6.0mgをテトラヒドロフラン−水(1:1)の混
液1mlに溶解した溶液に、L−3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオン酸即ちN−ベ
ンジルオキシカルボニル−L−イソセリンとN−ヒドロ
キシサクシンイミドとのエステル25mgをテトラヒドロ
フラン0.5mlに溶解した溶液を加え、室温にて20分間
反応せしめた。反応液を濃縮し、得られた残渣を水洗し
てシリカゲルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル量
6ml,クロロホルム−メタノール−水(4:3:2)の
下層を展開溶媒として使用)にて精製し、無色固体の化
合物(d−2)の43.8mgを得た。
重水中,テトラメチルシラン内部標準): δ4.16(1Hdd,H−2),4.72(1Hddt,H−
2′),5.52(1Hd,H−1′) 実施例2 (イ) 3,6′−ビス−N−(ベンジルオキシカルボニ
ル)−1−N−(L−3−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−2′,3′−ジ
デオキシ−2′−フルオロ−3″−N−トリフルオロア
セチルカナマイシンA〔化合物(d−2)〕の製造 実施例1(ロ)で得られた化合物(c)の47mg及び炭酸ナト
リウム6.0mgをテトラヒドロフラン−水(1:1)の混
液1mlに溶解した溶液に、L−3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオン酸即ちN−ベ
ンジルオキシカルボニル−L−イソセリンとN−ヒドロ
キシサクシンイミドとのエステル25mgをテトラヒドロ
フラン0.5mlに溶解した溶液を加え、室温にて20分間
反応せしめた。反応液を濃縮し、得られた残渣を水洗し
てシリカゲルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル量
6ml,クロロホルム−メタノール−水(4:3:2)の
下層を展開溶媒として使用)にて精製し、無色固体の化
合物(d−2)の43.8mgを得た。
(ロ)1−N−(L−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピ
オニル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカ
ナマイシンA〔化合物(Ib)〕の製造 前項(イ)で得られた化合物(d−2)43.0mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(1:1)の混液2ml
に溶解し、室温にて一晩(18時間)反応せしめ、3″
−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なつた。その
後、反応液を濃縮して得られた固体を酢酸−ジオキサン
−水(1:10:10)の混液2.1mlに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として、室温にて水素を吹き込み、1時間
接触還元して、N−ベンジルオキシカルボニル基を脱離
せしめた。反応液を過後、濃縮して得られた固体を水
に溶解し、CM−セフアデックスC−25の8mlカラム
に添加した。カラムを水洗後、0→0.5規定アンモニア
水で溶出し、相当するフラクシヨンを合わせて濃縮乾固
し、表題の化合物(Ib)の21.3mgを得た。
オニル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカ
ナマイシンA〔化合物(Ib)〕の製造 前項(イ)で得られた化合物(d−2)43.0mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(1:1)の混液2ml
に溶解し、室温にて一晩(18時間)反応せしめ、3″
−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なつた。その
後、反応液を濃縮して得られた固体を酢酸−ジオキサン
−水(1:10:10)の混液2.1mlに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として、室温にて水素を吹き込み、1時間
接触還元して、N−ベンジルオキシカルボニル基を脱離
せしめた。反応液を過後、濃縮して得られた固体を水
に溶解し、CM−セフアデックスC−25の8mlカラム
に添加した。カラムを水洗後、0→0.5規定アンモニア
水で溶出し、相当するフラクシヨンを合わせて濃縮乾固
し、表題の化合物(Ib)の21.3mgを得た。
比旋光度▲〔α〕24 D▼+80゜(cl,水)
Claims (4)
- 【請求項1】次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示される1−N
−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル)−
2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
A及びその酸付加塩。 - 【請求項2】1−N−(DL−又はL−3−アミノ−2
−ヒドロキシプロピオニル)−2′,3′−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAである特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 - 【請求項3】1−N−(L−4−アミノ−2−ヒドロキ
シブチリル)−2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオ
ロカナマイシンAである特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 - 【請求項4】次の式 で示される2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカ
ナマイシンA、あるいはこの化合物の1位アミノ基以外
のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基で保護された
保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導
体、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうし
て得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留した
アミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱
離させることから成る、次の一般式 〔式中、nは前記の意味を有する〕で示される1−N−
(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル)−2′,
3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンAの製
造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60231027A JPH0631296B2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンa誘導体、およびその製造法 |
| US06/807,485 US4661474A (en) | 1984-12-15 | 1985-12-10 | 2',3'-dideoxy-2'-fluorokanamycin A and 1-N-(α-hydroxy-ω-aminoalkanoyl) derivatives thereof |
| DE8585115901T DE3564579D1 (en) | 1984-12-15 | 1985-12-13 | 2',3'-dideoxy-2'-fluorokanamycin a and 1-n-(alpha-hydroxy-omega-aminoalkanoyl) derivatives thereof |
| EP85115901A EP0185323B1 (en) | 1984-12-15 | 1985-12-13 | 2',3'-dideoxy-2'-fluorokanamycin a and 1-n-(alpha-hydroxy-omega-aminoalkanoyl) derivatives thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60231027A JPH0631296B2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンa誘導体、およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6293296A JPS6293296A (ja) | 1987-04-28 |
| JPH0631296B2 true JPH0631296B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=16917116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60231027A Expired - Lifetime JPH0631296B2 (ja) | 1984-12-15 | 1985-10-18 | 2′,3′−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシンa誘導体、およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0631296B2 (ja) |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP60231027A patent/JPH0631296B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6293296A (ja) | 1987-04-28 |
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