JPH06329568A - 新規な(シクロヘキシル)アルケン化合物、それらの 調製法およびそれらを含む医薬組成物 - Google Patents
新規な(シクロヘキシル)アルケン化合物、それらの 調製法およびそれらを含む医薬組成物Info
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- KPZSTOVTJYRDIO-UHFFFAOYSA-K trichlorocerium;heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.Cl[Ce](Cl)Cl KPZSTOVTJYRDIO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
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- C07C403/00—Derivatives of cyclohexane or of a cyclohexene or of cyclohexadiene, having a side-chain containing an acyclic unsaturated part of at least four carbon atoms, this part being directly attached to the cyclohexane or cyclohexene or cyclohexadiene rings, e.g. vitamin A, beta-carotene, beta-ionone
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 式(I)を有する化合物
具体的には、例えば
エチル1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−第三−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン
−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 【効果】 これらの化合物は、慢性および急性の関節
炎、肺炎、皮膚炎または腎炎の治療および予防、詳細に
は、慢性関節リウマチ、骨関節症、乾癬、アレルギー性
疾患、喘息、腸管の炎症性疾患、胃腸官系潰瘍、虚血、
アテローム性動脈硬化症、呼吸困難および敗血症ショッ
クなどの関節炎の治療および予防に有用である。
ルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン
−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 【効果】 これらの化合物は、慢性および急性の関節
炎、肺炎、皮膚炎または腎炎の治療および予防、詳細に
は、慢性関節リウマチ、骨関節症、乾癬、アレルギー性
疾患、喘息、腸管の炎症性疾患、胃腸官系潰瘍、虚血、
アテローム性動脈硬化症、呼吸困難および敗血症ショッ
クなどの関節炎の治療および予防に有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な(シクロヘキシ
ル)アルケン化合物、それらの調製法およびそれらを含
む医薬組成物に関する。
ル)アルケン化合物、それらの調製法およびそれらを含
む医薬組成物に関する。
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
【0002】ロイコトリエンB4 (LTB4 )は、アラ
キドン酸の代謝によって生じるジヒドロキシイコサテト
ラエン酸である。これは好中球、単核細胞およびマクロ
ファージのような多くの細胞によって生産される。LT
B4 は、好中球の多くの機能の活性化に大きく関与して
いることで知られている。これはヒトの好中球の凝集お
よび脱顆粒を促進し、白血球の走化性を誘発し、かつ過
酸化基の生成のプロモーターである。したがってLTB
4 は、炎症の重要なメディエーターであると考えられ
る。ヒトにおいては、LTB4 は、特にリューマチ性滑
液、通風患者の関節炎液(arthritic fluids)、炎症の
起こった胃腸の粘膜、および乾癬に罹っている者の皮膚
に検出されている(Critical Reviews in Immunology 1
990,vol.10(1),p 1-12) 。好中球および多くの他の細胞
は、特異的膜結合LTB4 レセプターを有しており、そ
れがこれらの細胞のLTB4 に対する殆どの反応を仲介
する。このようなことから特異的LTB4 レセプター拮
抗薬は、LTB4 が病理学的因子として関与する多くの
炎症性の症状または疾患の治療において、臨床医にとっ
て有用である。
キドン酸の代謝によって生じるジヒドロキシイコサテト
ラエン酸である。これは好中球、単核細胞およびマクロ
ファージのような多くの細胞によって生産される。LT
B4 は、好中球の多くの機能の活性化に大きく関与して
いることで知られている。これはヒトの好中球の凝集お
よび脱顆粒を促進し、白血球の走化性を誘発し、かつ過
酸化基の生成のプロモーターである。したがってLTB
4 は、炎症の重要なメディエーターであると考えられ
る。ヒトにおいては、LTB4 は、特にリューマチ性滑
液、通風患者の関節炎液(arthritic fluids)、炎症の
起こった胃腸の粘膜、および乾癬に罹っている者の皮膚
に検出されている(Critical Reviews in Immunology 1
990,vol.10(1),p 1-12) 。好中球および多くの他の細胞
は、特異的膜結合LTB4 レセプターを有しており、そ
れがこれらの細胞のLTB4 に対する殆どの反応を仲介
する。このようなことから特異的LTB4 レセプター拮
抗薬は、LTB4 が病理学的因子として関与する多くの
炎症性の症状または疾患の治療において、臨床医にとっ
て有用である。
【0003】
【課題を解決するための手段】本出願人は、強力なLT
B4 レセプター拮抗薬である新規な(シクロヘキシル)
アルケン化合物を発見した。更に具体的には本発明は、
式(I)
B4 レセプター拮抗薬である新規な(シクロヘキシル)
アルケン化合物を発見した。更に具体的には本発明は、
式(I)
【化7】 [(式中、Bは、1〜8個の炭素原子を有し、未置換で
あるかまたは1個若しくは2個のアルキル基で置換され
ているアルキレン鎖であり、R1 は、水素原子である
か、またはヒドロキシルおよびアルコキシから選択され
る基であり、R2 は、−CH2 −OHおよび−COR6
から選択される基であって、このR6 はヒドロキシル、
アルコキシおよび−NR10R11(但し、R10およびR11
はそれぞれ互いに独立して、水素原子、アルキル基また
はアリール若しくはアリールアルキル基であって、この
アリールまたはアリールアルキル基が未置換であるかま
たはアリール基上でハロゲン、アルキル、アルコキシお
よびトリフルオロメチルから選択される1個以上の基に
よって置換されているものであるか、あるいはR10およ
びR11は、これらを有する窒素原子と一緒になってピロ
リジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリンおよびチ
オモルホリンから選択されるヘテロ環を形成する)から
選択される基であり、R3 は、 式−CR7 R8 R9 (式中、R7 は、ヒドロキシル、アルコキシおよび−O
−RA から選択される基であって、但しRA は、アシル
であるか、またはヒドロキシル官能基を保護する基であ
り、R9 は、水素原子であるか、またはアルキル、アリ
ールおよびアリールアルキルから選択される基であり、
このアリールまたはアリールアルキル基は未置換である
か、またはそのアリール基上でハロゲン、アルキル、ア
ルコキシおよびトリフルオロメチルから選択された1個
以上の基によって置換されており、あるいはR7 および
R9 は、オキソ基を形成し、およびR8 は、1〜12個
の炭素原子を有する線形または分枝したアルキル基であ
って、未置換であるか、ヒドロキシル、ハロゲン、未置
換アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アル
コキシおよびトリフルオロメチルから選択される1個以
上の基で置換されたアリール、未置換シクロアルキル、
ハロゲン、アルキル、オキソおよびアルコキシから選択
される1個以上の基によって置換されたシクロアルキ
ル、から選択される1個以上の基によって置換されてお
り、R8 は、場合によってはその炭素骨格に窒素、硫黄
および酸素から選択される1個または2個のヘテロ原
子、1個以上の不飽和結合、を含むことができ、R4 お
よびR5 は、それぞれ互いに独立して、水素およびアル
キルから選択される基であるか、あるいはR4 およびR
5 は、それらが結合しているシクロヘキサンと一緒にな
って、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン基また
はペルヒドロナフタレン基を形成し、但し、式(I)の
説明中、特に断らない限り、「アルキル」、「アルコキ
シ」および「アシル」という用語は、1〜6個の炭素原
子を含む線形または分枝した基を表わし、「アリール」
という用語は、フェニルまたはナフチル基を表わし、
「不飽和結合」という用語は、二重または三重結合を表
わし、「シクロアルキル」という用語は、3〜7個の炭
素原子を有する基である]の化合物、それらの鏡像異性
体およびジアステレオ異性体、それらのZおよびE異性
体、およびそれらの薬学上許容可能な酸または塩基との
付加塩に関する。
あるかまたは1個若しくは2個のアルキル基で置換され
ているアルキレン鎖であり、R1 は、水素原子である
か、またはヒドロキシルおよびアルコキシから選択され
る基であり、R2 は、−CH2 −OHおよび−COR6
から選択される基であって、このR6 はヒドロキシル、
アルコキシおよび−NR10R11(但し、R10およびR11
はそれぞれ互いに独立して、水素原子、アルキル基また
はアリール若しくはアリールアルキル基であって、この
アリールまたはアリールアルキル基が未置換であるかま
たはアリール基上でハロゲン、アルキル、アルコキシお
よびトリフルオロメチルから選択される1個以上の基に
よって置換されているものであるか、あるいはR10およ
びR11は、これらを有する窒素原子と一緒になってピロ
リジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリンおよびチ
オモルホリンから選択されるヘテロ環を形成する)から
選択される基であり、R3 は、 式−CR7 R8 R9 (式中、R7 は、ヒドロキシル、アルコキシおよび−O
−RA から選択される基であって、但しRA は、アシル
であるか、またはヒドロキシル官能基を保護する基であ
り、R9 は、水素原子であるか、またはアルキル、アリ
ールおよびアリールアルキルから選択される基であり、
このアリールまたはアリールアルキル基は未置換である
か、またはそのアリール基上でハロゲン、アルキル、ア
ルコキシおよびトリフルオロメチルから選択された1個
以上の基によって置換されており、あるいはR7 および
R9 は、オキソ基を形成し、およびR8 は、1〜12個
の炭素原子を有する線形または分枝したアルキル基であ
って、未置換であるか、ヒドロキシル、ハロゲン、未置
換アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アル
コキシおよびトリフルオロメチルから選択される1個以
上の基で置換されたアリール、未置換シクロアルキル、
ハロゲン、アルキル、オキソおよびアルコキシから選択
される1個以上の基によって置換されたシクロアルキ
ル、から選択される1個以上の基によって置換されてお
り、R8 は、場合によってはその炭素骨格に窒素、硫黄
および酸素から選択される1個または2個のヘテロ原
子、1個以上の不飽和結合、を含むことができ、R4 お
よびR5 は、それぞれ互いに独立して、水素およびアル
キルから選択される基であるか、あるいはR4 およびR
5 は、それらが結合しているシクロヘキサンと一緒にな
って、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン基また
はペルヒドロナフタレン基を形成し、但し、式(I)の
説明中、特に断らない限り、「アルキル」、「アルコキ
シ」および「アシル」という用語は、1〜6個の炭素原
子を含む線形または分枝した基を表わし、「アリール」
という用語は、フェニルまたはナフチル基を表わし、
「不飽和結合」という用語は、二重または三重結合を表
わし、「シクロアルキル」という用語は、3〜7個の炭
素原子を有する基である]の化合物、それらの鏡像異性
体およびジアステレオ異性体、それらのZおよびE異性
体、およびそれらの薬学上許容可能な酸または塩基との
付加塩に関する。
【0004】詳細には、式(I)の様々な置換基に含ま
れるアルキル基は、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、第二−ブチル、
第三−ブチル、ペンチルまたはn−ペンチルおよびヘキ
シルまたはn−ヘキシルから選択することができ、また
R8 の場合にも同様にヘプチル、n−ヘプチル、オクチ
ル、n−オクチル、ノニル、n−ノニル、デシル、n−
デシル、ウンデシル、n−ウンデシル、ドデシルおよび
n−ドデシルから選択することができる。
れるアルキル基は、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、第二−ブチル、
第三−ブチル、ペンチルまたはn−ペンチルおよびヘキ
シルまたはn−ヘキシルから選択することができ、また
R8 の場合にも同様にヘプチル、n−ヘプチル、オクチ
ル、n−オクチル、ノニル、n−ノニル、デシル、n−
デシル、ウンデシル、n−ウンデシル、ドデシルおよび
n−ドデシルから選択することができる。
【0005】式(I)の置換基に含まれるアルコキシ基
は、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポ
キシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、第二−ブトキシ、
第三−ブトキシ、ペンチルオキシおよびヘキシルオキシ
から選択することができる。式(I)の置換基に含まれ
るハロゲンは、臭素、塩素、フッ素およびヨウ素から選
択することができる。式(I)の置換基に含まれるシク
ロアルキルは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルから選
択することができる。置換基R7 に存在するO−保護基
は、場合によっては当業者に知られているO−保護基で
あって、好ましくは温和な酸加水分解によって外すこと
ができるもの、例えば第三−ブチルジメチルシリル、テ
トラヒドロ−2−ピラニルおよびメトキシメチル、メチ
ルジフェニルシリルおよび第三−ブチルジフェニルシリ
ル基である。式(I)に含まれる基Bは、メチレン、エ
チレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレンおよびオクタメチ
レンから選択することができる。
は、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポ
キシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、第二−ブトキシ、
第三−ブトキシ、ペンチルオキシおよびヘキシルオキシ
から選択することができる。式(I)の置換基に含まれ
るハロゲンは、臭素、塩素、フッ素およびヨウ素から選
択することができる。式(I)の置換基に含まれるシク
ロアルキルは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルから選
択することができる。置換基R7 に存在するO−保護基
は、場合によっては当業者に知られているO−保護基で
あって、好ましくは温和な酸加水分解によって外すこと
ができるもの、例えば第三−ブチルジメチルシリル、テ
トラヒドロ−2−ピラニルおよびメトキシメチル、メチ
ルジフェニルシリルおよび第三−ブチルジフェニルシリ
ル基である。式(I)に含まれる基Bは、メチレン、エ
チレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレンおよびオクタメチ
レンから選択することができる。
【0006】本発明の化合物と付加塩を形成するのに用
いることのできる薬学上許容可能な酸の例としては、塩
酸、硫酸、リン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、フ
マル酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、樟脳酸およびクエン酸が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。
いることのできる薬学上許容可能な酸の例としては、塩
酸、硫酸、リン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、フ
マル酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、樟脳酸およびクエン酸が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。
【0007】本発明で用いられる化合物を塩形成するの
に用いることのできる薬学上許容可能な塩基としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミン、エタノールアミン、アルギニン、
リジンおよびジエタノールアミンを挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。
に用いることのできる薬学上許容可能な塩基としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミン、エタノールアミン、アルギニン、
リジンおよびジエタノールアミンを挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。
【0008】また本発明は、式(I)の化合物の調製法
も包含しており、これは、式(II)
も包含しており、これは、式(II)
【化8】 (式中、R3 、R4 およびR5 は、式(I)に記載した
通りである)の化合物を、式(III)- B−R2 (III) (式中R2 およびBは、式(I)に記載した通りであ
る)の化合物と反応させて、対応する式(I/a)
通りである)の化合物を、式(III)- B−R2 (III) (式中R2 およびBは、式(I)に記載した通りであ
る)の化合物と反応させて、対応する式(I/a)
【化9】 (式中、R2 、R3 、R4 、R5 およびBは、前記に定
義した通りである)の化合物を得て、所望であれば、式
(IV) R′+ (IV) (式中、R′はアルキルである)の化合物を作用させ
て、式(I/b)
義した通りである)の化合物を得て、所望であれば、式
(IV) R′+ (IV) (式中、R′はアルキルである)の化合物を作用させ
て、式(I/b)
【化10】 (式中、R2 、R3 、R4 、R′、R5 およびBは、前
記に定義した通りである)の化合物を得るか、あるいは
トシルクロリドに付し、続いて水素化リチウムアルミニ
ウムによる還元に付して式(I/c)
記に定義した通りである)の化合物を得るか、あるいは
トシルクロリドに付し、続いて水素化リチウムアルミニ
ウムによる還元に付して式(I/c)
【化11】 (式中、R2 、R3 、R4 、R5 およびBは、前記に定
義した通りである)の化合物を生成させ、式(I/a)
(I/b)および(I/c)で、R9 が水素原子であ
り、R7 がヒドロキシル基である化合物では、酸化させ
て式(I/d)
義した通りである)の化合物を生成させ、式(I/a)
(I/b)および(I/c)で、R9 が水素原子であ
り、R7 がヒドロキシル基である化合物では、酸化させ
て式(I/d)
【化12】 (式中、R1 、R2 、R4 、R5 、R8 およびBは、前
記に定義した通りである)の化合物を得ることができ、
式(I/a)、(I/b)、(I/c)および(I/
d)の化合物は、式(I)の化合物の組であり、この式
(I)の化合物は、所望ならばそれらの様々な鏡像異性
体またはジアステレオ異性体に分離し、適宜薬学上許容
可能な酸または塩基と塩形成するというものである。前
記に記載の方法に用いられる出発材料は、市販されてい
るか、文献で知られているかまたは本出願明細書で下記
に記載の調製例に提案されている方法によって当業者が
容易に入手できる。式(II)の化合物は、式(II/
a)
記に定義した通りである)の化合物を得ることができ、
式(I/a)、(I/b)、(I/c)および(I/
d)の化合物は、式(I)の化合物の組であり、この式
(I)の化合物は、所望ならばそれらの様々な鏡像異性
体またはジアステレオ異性体に分離し、適宜薬学上許容
可能な酸または塩基と塩形成するというものである。前
記に記載の方法に用いられる出発材料は、市販されてい
るか、文献で知られているかまたは本出願明細書で下記
に記載の調製例に提案されている方法によって当業者が
容易に入手できる。式(II)の化合物は、式(II/
a)
【化13】 (式中、R8 は、式(I)に記載した通りである)の化
合物(SAVIGNAC P. 等、Tetrahedron Letters ,197,pp
2829-2832の方法にしたがって得た)を、式(II/
b)
合物(SAVIGNAC P. 等、Tetrahedron Letters ,197,pp
2829-2832の方法にしたがって得た)を、式(II/
b)
【化14】 (式中、R4 およびR5 は、式(I)に定義の通りであ
る)の化合物と反応させることによって(TAKACS J.M.
等、Tetrahedron Letters ,1986,vol.27,pp 1257-1260
の方法にしたがって)式(II/c)
る)の化合物と反応させることによって(TAKACS J.M.
等、Tetrahedron Letters ,1986,vol.27,pp 1257-1260
の方法にしたがって)式(II/c)
【化15】 (式中R4 、R5 およびR8 は、前記に定義の通りであ
る)の化合物を得て、式(II/c)の化合物を適宜選
択的に還元して、式(II/d)
る)の化合物を得て、式(II/c)の化合物を適宜選
択的に還元して、式(II/d)
【化16】 (式中、R4 、R5 およびR8 は、前記に定義した通り
である)の化合物を得て、次に適当であればアルキル化
後にヒドロキシル官能基を脱保護するか、または求核性
のR9 であって、R9 が式(I)に定義の通りのものを
作用させることによって、保護基を除去して最終的なヒ
ドロキシル官能基のアルキル化後に、式(II/e)
である)の化合物を得て、次に適当であればアルキル化
後にヒドロキシル官能基を脱保護するか、または求核性
のR9 であって、R9 が式(I)に定義の通りのものを
作用させることによって、保護基を除去して最終的なヒ
ドロキシル官能基のアルキル化後に、式(II/e)
【化17】 (式中、R4 、R5 、R8 およびR9 は、前記に記載の
通りであり、R7 は、ヒドロキシルまたはアルコキシ基
である)の化合物を得て、式(II/e)の化合物にお
いて適宜R7 によって表されるヒドロキシル官能基は、
アシル化し、またはO−保護基のグラフト化によって保
護し、式(II/f)
通りであり、R7 は、ヒドロキシルまたはアルコキシ基
である)の化合物を得て、式(II/e)の化合物にお
いて適宜R7 によって表されるヒドロキシル官能基は、
アシル化し、またはO−保護基のグラフト化によって保
護し、式(II/f)
【化18】 (式中、R4 、R5 、R8 およびR9 は、前記に定義し
た通りであり、RA は、式(I)に定義の通りである)
の化合物を得ることができ、式(II/e)および(I
I/f)の化合物は、前記の式(II)の組の化合物を
形成している。
た通りであり、RA は、式(I)に定義の通りである)
の化合物を得ることができ、式(II/e)および(I
I/f)の化合物は、前記の式(II)の組の化合物を
形成している。
【0009】また本発明は、式(I)の化合物の調製法
であって、ジアステレオ異性体の分離をカラムクロマト
グラフィーによって分離する方法も包含する。本発明
は、式(I)の化合物の調製法であって、ジアステレオ
異性体をカラムクロマトグラフィーによって分離し、式
(I)の化合物の基R7 が第三−ブチルジメチルシリル
オキシ基である方法も包含する。
であって、ジアステレオ異性体の分離をカラムクロマト
グラフィーによって分離する方法も包含する。本発明
は、式(I)の化合物の調製法であって、ジアステレオ
異性体をカラムクロマトグラフィーによって分離し、式
(I)の化合物の基R7 が第三−ブチルジメチルシリル
オキシ基である方法も包含する。
【0010】本出願人は、本発明の化合物が顕著なLT
B4 拮抗薬作用を有することを発見した。これらは、詳
細には、LTB4 レセプターに対して非常に高い親和性
を有する。この極めて高い結合能については、本明細書
中の例Aに示す(本発明の化合物のLTB4 レセプター
への結合に関する研究)。
B4 拮抗薬作用を有することを発見した。これらは、詳
細には、LTB4 レセプターに対して非常に高い親和性
を有する。この極めて高い結合能については、本明細書
中の例Aに示す(本発明の化合物のLTB4 レセプター
への結合に関する研究)。
【0011】本発明の化合物により開示されるLTB4
の強力な拮抗薬作用は、本明細書の例BおよびCに示す
(例B:本発明の化合物のインビトロにおけるヒトPM
Nの走化性に関する活性研究、および例C:本発明の化
合物の肺細片の収縮に関する活性研究)。このことから
本発明の化合物はLTB4 レセプターの強力な拮抗薬で
あり、LTB4 の病理学的機構はメディエーターである
ことが分かる。したがって本発明の化合物は、その作用
によって炎症性疾患および病理学的な炎症性症状の治療
および防止薬の新たな候補として挙げられる。したがっ
て本発明の化合物は、慢性および急性の関節炎、肺炎、
皮膚炎または腎炎の治療および予防、詳細には、慢性関
節リウマチ、骨関節症、乾癬、アレルギー性疾患、喘
息、腸管の炎症性疾患、胃腸官系潰瘍、虚血、アテロー
ム性動脈硬化症、呼吸困難および敗血症ショックなどの
関節炎の治療および予防に有用である。
の強力な拮抗薬作用は、本明細書の例BおよびCに示す
(例B:本発明の化合物のインビトロにおけるヒトPM
Nの走化性に関する活性研究、および例C:本発明の化
合物の肺細片の収縮に関する活性研究)。このことから
本発明の化合物はLTB4 レセプターの強力な拮抗薬で
あり、LTB4 の病理学的機構はメディエーターである
ことが分かる。したがって本発明の化合物は、その作用
によって炎症性疾患および病理学的な炎症性症状の治療
および防止薬の新たな候補として挙げられる。したがっ
て本発明の化合物は、慢性および急性の関節炎、肺炎、
皮膚炎または腎炎の治療および予防、詳細には、慢性関
節リウマチ、骨関節症、乾癬、アレルギー性疾患、喘
息、腸管の炎症性疾患、胃腸官系潰瘍、虚血、アテロー
ム性動脈硬化症、呼吸困難および敗血症ショックなどの
関節炎の治療および予防に有用である。
【0012】本発明の主題は、式(I)の化合物の中の
1種類または薬学上許容可能な酸または塩基とのその付
加塩の1種類を、単独でまたは1種類以上の毒性がなく
不活性な賦形剤と組み合わせて含む、医薬組成物でもあ
る。
1種類または薬学上許容可能な酸または塩基とのその付
加塩の1種類を、単独でまたは1種類以上の毒性がなく
不活性な賦形剤と組み合わせて含む、医薬組成物でもあ
る。
【0013】本発明による医薬組成物の中では、経口、
非経口、鼻孔内、直腸、舌下、眼または肺の投与に好適
なもの、詳細には、注射、エアゾール、点眼または鼻孔
液、簡単なフィルム−コーティング錠または糖衣錠、硬
質ゼラチンカプセルなどのカプセル、座薬、クリーム、
軟膏および皮膚ゲルなどを例として挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。適当な投薬量
は、患者の年令および重量、投与経路および病訴および
関連治療の性質に応じて変わるが、24時間当たり0.
1mgおよび100mgの範囲の用量を、1回または2
回服用する。
非経口、鼻孔内、直腸、舌下、眼または肺の投与に好適
なもの、詳細には、注射、エアゾール、点眼または鼻孔
液、簡単なフィルム−コーティング錠または糖衣錠、硬
質ゼラチンカプセルなどのカプセル、座薬、クリーム、
軟膏および皮膚ゲルなどを例として挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。適当な投薬量
は、患者の年令および重量、投与経路および病訴および
関連治療の性質に応じて変わるが、24時間当たり0.
1mgおよび100mgの範囲の用量を、1回または2
回服用する。
【0014】下記に説明する調製は、本発明の化合物の
合成に有用である。これらは本発明の一部を形成するも
のではない。技術データ クロマトグラフィー 薄層クロマトグラフィー(TLC):シリカゲル60F
254 (Merck) オープン−カラムクロマトグラフィー: Matrexシリカ
60Å、70−200 メッシュ Matrexシリカ、60Å、35−70 メッシュ(Amicon社製) ガスクロマトグラフィー(GC) Delsi30装置 スプリット−スプリットレスインジェクター(スプリッ
ト比:1/20) 水素炎イオン化検出器 融解シリカキャピラリーカラム(l=30m,φ=0.
32mm,1μDB5フィルム) キャリヤーガス:ヘリウム、流量2cm3 /分 積分器−計算器、Enika21 Ti:注入温度 プログラム:オーブン温度プログラミング、℃/min tr:保持時間、秒。
合成に有用である。これらは本発明の一部を形成するも
のではない。技術データ クロマトグラフィー 薄層クロマトグラフィー(TLC):シリカゲル60F
254 (Merck) オープン−カラムクロマトグラフィー: Matrexシリカ
60Å、70−200 メッシュ Matrexシリカ、60Å、35−70 メッシュ(Amicon社製) ガスクロマトグラフィー(GC) Delsi30装置 スプリット−スプリットレスインジェクター(スプリッ
ト比:1/20) 水素炎イオン化検出器 融解シリカキャピラリーカラム(l=30m,φ=0.
32mm,1μDB5フィルム) キャリヤーガス:ヘリウム、流量2cm3 /分 積分器−計算器、Enika21 Ti:注入温度 プログラム:オーブン温度プログラミング、℃/min tr:保持時間、秒。
【0015】融点 融点(m.p)は、装置BUCHI TOTTOLI上
の毛細管で測定し、未訂正である。 赤外線:赤外線(IR)スペクトルは、装置BECKM
ANN ACCU−LAB−2において、液体は塩化ナ
トリウム(NaCl)セル上でフィルムで、固体につい
ては臭化カリウム(KBr)ディスクで記録する。 核磁気共鳴(NMR) プロトン核磁気共鳴スペクトル(1 H NMR)は、6
0MHzのVARIANEM 360A装置において、
(対照:テトラメチルシラン)、および360MHzの
BRUKERWH 360WB装置で記録する。1 H−
1 H相関スペクトル(COSY)は、360MHzのB
RUKERWH360WB装置で記録する。リン核磁気
共鳴スペクトル(31P NMR)は、81.015MH
zのBRUKERWP 2000SY装置でデカップリ
ングして記録する(対照:リン酸、外部標準)。化学シ
フト(δ)の値は、百万分率(ppm)で表し、それら
の結合定数(J)をヘルツで表した。
の毛細管で測定し、未訂正である。 赤外線:赤外線(IR)スペクトルは、装置BECKM
ANN ACCU−LAB−2において、液体は塩化ナ
トリウム(NaCl)セル上でフィルムで、固体につい
ては臭化カリウム(KBr)ディスクで記録する。 核磁気共鳴(NMR) プロトン核磁気共鳴スペクトル(1 H NMR)は、6
0MHzのVARIANEM 360A装置において、
(対照:テトラメチルシラン)、および360MHzの
BRUKERWH 360WB装置で記録する。1 H−
1 H相関スペクトル(COSY)は、360MHzのB
RUKERWH360WB装置で記録する。リン核磁気
共鳴スペクトル(31P NMR)は、81.015MH
zのBRUKERWP 2000SY装置でデカップリ
ングして記録する(対照:リン酸、外部標準)。化学シ
フト(δ)の値は、百万分率(ppm)で表し、それら
の結合定数(J)をヘルツで表した。
【0016】調製1:3−[(E)−3−第三−ブチル
ジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]シクロヘキサノン
ジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]シクロヘキサノン
【化19】 段階A:メチル3−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキ
シレート メチル3−ヒドロキシベンゾエート100g(658m
mol)のエタノール280cm3 に溶解したものを、
ルテニウム/木炭(5%Ru)2.75gの存在下で、
120℃で100バールの圧で16〜18時間水素化す
る。冷却後、この溶液をセライトで濾過し、触媒をエー
テル50cm3 で2回洗浄する。溶媒をロータリーエバ
ポレーター中で除去し、残渣を減圧下で蒸留すると、メ
チル3−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシレート9
6.7g(612mmol)が得られる。収率:93% B.p(沸点)(1.33Pa):78℃ スペクトル特性: IR(赤外スペクトル)(フィルム、cm-1):340
0(νOH)、1720(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ:0.75〜3(m,11
H,OHおよびシクロヘキシルH)、3.66(s,3
H,OCH3 )
シレート メチル3−ヒドロキシベンゾエート100g(658m
mol)のエタノール280cm3 に溶解したものを、
ルテニウム/木炭(5%Ru)2.75gの存在下で、
120℃で100バールの圧で16〜18時間水素化す
る。冷却後、この溶液をセライトで濾過し、触媒をエー
テル50cm3 で2回洗浄する。溶媒をロータリーエバ
ポレーター中で除去し、残渣を減圧下で蒸留すると、メ
チル3−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシレート9
6.7g(612mmol)が得られる。収率:93% B.p(沸点)(1.33Pa):78℃ スペクトル特性: IR(赤外スペクトル)(フィルム、cm-1):340
0(νOH)、1720(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ:0.75〜3(m,11
H,OHおよびシクロヘキシルH)、3.66(s,3
H,OCH3 )
【0017】段階B:メチル3−オキソシクロヘキサン
カルボキシレート 無水クロム酸36.9g(369mmol)、蒸留水7
4cm3 および濃硫酸21cm3 を含む溶液を、45分
間かけて撹拌しながら+5〜+10℃でメチル3−ヒド
ロキシシクロヘキサンカルボキシレート58.3g(3
69mmol)の純粋なアセトン600cm3 溶液に滴
下して加える。瞬時に赤褐色に変わるこの媒質を、室温
で3時間撹拌する。硫酸1cm3 およびイソプロパノー
ル数cm 3 を加えて溶液中のクロム塩を沈澱させると、
媒質が徐々に脱色されるのが観察される。このクロム塩
をセライトで濾別し、アセトンで洗浄する。濾液を炭酸
水素ナトリウムと共に1時間撹拌した後、ロータリーエ
バポレーター中で濃縮する。緑色残渣を、エーテル50
0cm3 によって、および飽和塩化ナトリウム溶液10
0cm3 によって取り出す。沈降が起こった後で水性層
を分離し、エーテルで抽出する。一緒に纒めた有機相を
飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄した後、硫酸ナトリウム
上で乾燥する。濃縮後に、メチル3−オキソシクロヘキ
サンカルボキシレート47.2g(302mmol)が
得られ、この生成物は更に処理を行わずに用いるか、減
圧下で蒸留する。収率:82% 沸点(5.32Pa):77−80℃ IR(フィルム、cm-1):1720(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ:1.3〜3(m,9H,
シクロH)、3.66(s,3H,OCH3 ) 百分率分析:C8 H12O3 , M=15
6.184 計算値,%:C 61.52 H 7.74 測定値: 61.78 8.00
カルボキシレート 無水クロム酸36.9g(369mmol)、蒸留水7
4cm3 および濃硫酸21cm3 を含む溶液を、45分
間かけて撹拌しながら+5〜+10℃でメチル3−ヒド
ロキシシクロヘキサンカルボキシレート58.3g(3
69mmol)の純粋なアセトン600cm3 溶液に滴
下して加える。瞬時に赤褐色に変わるこの媒質を、室温
で3時間撹拌する。硫酸1cm3 およびイソプロパノー
ル数cm 3 を加えて溶液中のクロム塩を沈澱させると、
媒質が徐々に脱色されるのが観察される。このクロム塩
をセライトで濾別し、アセトンで洗浄する。濾液を炭酸
水素ナトリウムと共に1時間撹拌した後、ロータリーエ
バポレーター中で濃縮する。緑色残渣を、エーテル50
0cm3 によって、および飽和塩化ナトリウム溶液10
0cm3 によって取り出す。沈降が起こった後で水性層
を分離し、エーテルで抽出する。一緒に纒めた有機相を
飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄した後、硫酸ナトリウム
上で乾燥する。濃縮後に、メチル3−オキソシクロヘキ
サンカルボキシレート47.2g(302mmol)が
得られ、この生成物は更に処理を行わずに用いるか、減
圧下で蒸留する。収率:82% 沸点(5.32Pa):77−80℃ IR(フィルム、cm-1):1720(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ:1.3〜3(m,9H,
シクロH)、3.66(s,3H,OCH3 ) 百分率分析:C8 H12O3 , M=15
6.184 計算値,%:C 61.52 H 7.74 測定値: 61.78 8.00
【0018】段階C:メチル3,3−(エチレンジオキ
シ)シクロヘキサンカルボキシレート 粗製のメチル3−オキソシクロヘキサンカルボキシレー
ト30g(192mmol)およびトルエン430cm
3 からなる溶液を、1リットルの、ディーン−スターク
装置を備えた三つ口フラスコに導入し、次にエチレング
リコール14.3g(230mmol)を、パラ−トル
エンスルホン酸一水和物814mg(4.3mmol)
と共に加える。この混合物を還流温度まで加熱すると、
トルエン−水の共沸混合物が瞬時に生じ、40分後には
共沸混合物(95℃)の還流はそれ以上起こらない。こ
の混合物を6時間トルエン還流下(110℃)に保つ。
冷却後に炭酸水素ナトリウム溶液を加え、次にこの溶液
を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥する。濃縮すると黄色の油状生成物39gが得ら
れ、この生成物を蒸留するかまたはシリカ215gのカ
ラム上でのクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサ
ン/エーテル、98:2)を行う。 注:蒸留よりもクロマトグラフィーが好ましく、蒸留で
はケトンの一部が脱保護されるからである。収率:95
% 沸点(2660Pa):142℃、沸点(1.33P
a):64〜66℃ IR(フィルム、cm-1):1700(νC=O)、1
040〜1020(νC−Oジオキソラン)1 H NMR(CCl4 )δ:1〜2.15(m,8
H,シクロCH2 )、2.2〜2.9(m, 1H,シク
ロCH)、3.63(s,3H,OCH3 )、3.88
(s,4H,O−CH2 −CH2 −O) 百分率分析:C10H16O4 M=20
0.237 計算値,%:C 59.98 H 8.05 測定値: 60.16 8.06 参照:HOUSE,H.O 等、J.Org. Chem,1966年 vol.31(8),p
2667-9
シ)シクロヘキサンカルボキシレート 粗製のメチル3−オキソシクロヘキサンカルボキシレー
ト30g(192mmol)およびトルエン430cm
3 からなる溶液を、1リットルの、ディーン−スターク
装置を備えた三つ口フラスコに導入し、次にエチレング
リコール14.3g(230mmol)を、パラ−トル
エンスルホン酸一水和物814mg(4.3mmol)
と共に加える。この混合物を還流温度まで加熱すると、
トルエン−水の共沸混合物が瞬時に生じ、40分後には
共沸混合物(95℃)の還流はそれ以上起こらない。こ
の混合物を6時間トルエン還流下(110℃)に保つ。
冷却後に炭酸水素ナトリウム溶液を加え、次にこの溶液
を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥する。濃縮すると黄色の油状生成物39gが得ら
れ、この生成物を蒸留するかまたはシリカ215gのカ
ラム上でのクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサ
ン/エーテル、98:2)を行う。 注:蒸留よりもクロマトグラフィーが好ましく、蒸留で
はケトンの一部が脱保護されるからである。収率:95
% 沸点(2660Pa):142℃、沸点(1.33P
a):64〜66℃ IR(フィルム、cm-1):1700(νC=O)、1
040〜1020(νC−Oジオキソラン)1 H NMR(CCl4 )δ:1〜2.15(m,8
H,シクロCH2 )、2.2〜2.9(m, 1H,シク
ロCH)、3.63(s,3H,OCH3 )、3.88
(s,4H,O−CH2 −CH2 −O) 百分率分析:C10H16O4 M=20
0.237 計算値,%:C 59.98 H 8.05 測定値: 60.16 8.06 参照:HOUSE,H.O 等、J.Org. Chem,1966年 vol.31(8),p
2667-9
【0019】段階A′:ジエチルメチルホスホネート ヨウ化メチル188g(1.32mol)を、アルコー
ル冷却器を備えた乾燥した三つ口フラスコに窒素雰囲気
下で投入(−10℃)した後、還流温度に加熱する。次
にトリエチルホスファイト168g(1.02mol)
を、滴下して加える。この反応は発熱性であり、温度は
1時間で73℃まで上昇する。この混合物の温度を1時
間70〜75℃に保ち、続いて溶液を冷却し、ロータリ
ーエバポレーター中で濃縮する。このジエチルメチルホ
スホネートを、窒素雰囲気下、減圧下で蒸留する。収
率:95% 沸点(2660Pa)=88〜90℃31 P NMR(81.015MHz,CDCl3 )δ:
+27.71 H NMR(360MHz,CDCl3 )δ:1.3
5(t,6H,OCH2 −CH 3 ,3jHH:7Hz)、
1.40(d,3H,P(O)CH3 ,3jPH=11H
z)、4.02(q,4H,OCH 2 −CH3 ,3jHH
=7Hz)
ル冷却器を備えた乾燥した三つ口フラスコに窒素雰囲気
下で投入(−10℃)した後、還流温度に加熱する。次
にトリエチルホスファイト168g(1.02mol)
を、滴下して加える。この反応は発熱性であり、温度は
1時間で73℃まで上昇する。この混合物の温度を1時
間70〜75℃に保ち、続いて溶液を冷却し、ロータリ
ーエバポレーター中で濃縮する。このジエチルメチルホ
スホネートを、窒素雰囲気下、減圧下で蒸留する。収
率:95% 沸点(2660Pa)=88〜90℃31 P NMR(81.015MHz,CDCl3 )δ:
+27.71 H NMR(360MHz,CDCl3 )δ:1.3
5(t,6H,OCH2 −CH 3 ,3jHH:7Hz)、
1.40(d,3H,P(O)CH3 ,3jPH=11H
z)、4.02(q,4H,OCH 2 −CH3 ,3jHH
=7Hz)
【0020】段階B′:5−フェニルペンタノイルクロ
リド 5−フェニルペンタン酸51.44g(289mmo
l)および新たに蒸留した塩化チオニル44.65g
(375mmol)を、冷却器を備えた500cm 3 の
三つ口にフラスコに窒素雰囲気下で導入する。この懸濁
液を撹拌した後、媒質を徐々に60℃に加熱する。この
温度に達した時点で媒質は均質であり、この温度に4時
間保持する。室温に戻した後、過剰の塩化チオニルをロ
ータリーエバポレーター中で留去し、残渣を減圧蒸留す
る。5−フェニルペンタノイルクロリド54.5g(2
77mmol)が、無色の液体として得られる。収率:
96% 沸点(1.33Pa)=118〜120℃ IR(フィルム、cm-1):1790(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ:1.5〜2(m,4H,
CH2 )、2.4〜3.1(m,4H,CH2 C=Oお
よびCH2 Ph)、7.2(s,5H,芳香族H)
リド 5−フェニルペンタン酸51.44g(289mmo
l)および新たに蒸留した塩化チオニル44.65g
(375mmol)を、冷却器を備えた500cm 3 の
三つ口にフラスコに窒素雰囲気下で導入する。この懸濁
液を撹拌した後、媒質を徐々に60℃に加熱する。この
温度に達した時点で媒質は均質であり、この温度に4時
間保持する。室温に戻した後、過剰の塩化チオニルをロ
ータリーエバポレーター中で留去し、残渣を減圧蒸留す
る。5−フェニルペンタノイルクロリド54.5g(2
77mmol)が、無色の液体として得られる。収率:
96% 沸点(1.33Pa)=118〜120℃ IR(フィルム、cm-1):1790(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ:1.5〜2(m,4H,
CH2 )、2.4〜3.1(m,4H,CH2 C=Oお
よびCH2 Ph)、7.2(s,5H,芳香族H)
【0021】段階C′:ジエチル(2−オキソ−6−フ
ェニルヘキシル)ホスホネート 方法:SAVIGNAC P. 等、Tetrahedron Letters ,1976
年,pp2829-2832. ヘキサンに溶解した1.41N n−ブチルリチウム7
8cm3 (110mmol)(このn−ブチルリチウム
には使用直前に検定を行う)を、乾燥した500cm3
の三つ口フラスコに窒素雰囲気下で導入し、無水テトラ
ヒドロフラン(THF)80cm3 を−60℃で加え、
無水THF20cm3 中のジエチルメチルホスホネート
15.2g(100mmol)を滴下して(−60℃
で)加える。乳白色の溶液をこの温度で15分間撹拌
し、次に粉末状にしたヨウ化銅20.93g(110m
mol)を10分間かけて加える。褐色懸濁液は、温度
が30分間に−30℃まで上昇するにつれ次第に黒くな
る。−30℃で1時間撹拌を続ける。この混合物を−6
0℃に再冷却し、無水THF20cm3 に溶解した5−
フェニルペンタノイルクロリド21.6g(110mm
ol)を15分間かけて加えると、この混合物は黒いま
まであるかまたは脱色する。反応混合物を16時間撹拌
すると、温度は次第に上昇する。これを水で加水分解
し、銅塩をセライトで濾別し、ジクロロメタンで洗浄す
る。沈降が起こった後に水性層を分離し、ジクロロメタ
ンで1回抽出する。一緒に纒めた有機層を蒸留水で洗浄
し、その後硫酸ナトリウム上で乾燥する。ロータリーエ
バポレーター中で濃縮を行った後に、黄色の油状生成物
33.2gが得られ、この生成物にシリカ670gのカ
ラム上でクロマトグラフィーを行って精製する。溶出は
純粋なエーテルで行った後に、酢酸エチルで行う。純粋
なジエチル(2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホス
ホネート26.5g(85mmol)が得られる。収
率:85% IR(フィルム、cm-1):1700(νC=O)、1
240(νP=O)、1020−950(νP−O)31 P NMR(CDCl3 、81.015MHz)δ=
+20.641 H NMR(360MHz,CDCl3 )δ:1.2
(t,6H,CH3 ,− JJHH=7Hz)、1.52
(m,4H,H4 ,H5 )、2.5(m,4H,H3 ,
H6 )、2.92(d,2H,H1 ,JPH=22.47
Hz)、4.03(m.4H,H1 ′,3JPH=3JHH=
7Hz)、7.04(m,3H,芳香族H)、7.14
(m,2H,芳香族H) 百分率分析:C16H25O4 P M=312.349 計算値,%: C 61.52 H 8.06 測定値: 61.33 8.16
ェニルヘキシル)ホスホネート 方法:SAVIGNAC P. 等、Tetrahedron Letters ,1976
年,pp2829-2832. ヘキサンに溶解した1.41N n−ブチルリチウム7
8cm3 (110mmol)(このn−ブチルリチウム
には使用直前に検定を行う)を、乾燥した500cm3
の三つ口フラスコに窒素雰囲気下で導入し、無水テトラ
ヒドロフラン(THF)80cm3 を−60℃で加え、
無水THF20cm3 中のジエチルメチルホスホネート
15.2g(100mmol)を滴下して(−60℃
で)加える。乳白色の溶液をこの温度で15分間撹拌
し、次に粉末状にしたヨウ化銅20.93g(110m
mol)を10分間かけて加える。褐色懸濁液は、温度
が30分間に−30℃まで上昇するにつれ次第に黒くな
る。−30℃で1時間撹拌を続ける。この混合物を−6
0℃に再冷却し、無水THF20cm3 に溶解した5−
フェニルペンタノイルクロリド21.6g(110mm
ol)を15分間かけて加えると、この混合物は黒いま
まであるかまたは脱色する。反応混合物を16時間撹拌
すると、温度は次第に上昇する。これを水で加水分解
し、銅塩をセライトで濾別し、ジクロロメタンで洗浄す
る。沈降が起こった後に水性層を分離し、ジクロロメタ
ンで1回抽出する。一緒に纒めた有機層を蒸留水で洗浄
し、その後硫酸ナトリウム上で乾燥する。ロータリーエ
バポレーター中で濃縮を行った後に、黄色の油状生成物
33.2gが得られ、この生成物にシリカ670gのカ
ラム上でクロマトグラフィーを行って精製する。溶出は
純粋なエーテルで行った後に、酢酸エチルで行う。純粋
なジエチル(2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホス
ホネート26.5g(85mmol)が得られる。収
率:85% IR(フィルム、cm-1):1700(νC=O)、1
240(νP=O)、1020−950(νP−O)31 P NMR(CDCl3 、81.015MHz)δ=
+20.641 H NMR(360MHz,CDCl3 )δ:1.2
(t,6H,CH3 ,− JJHH=7Hz)、1.52
(m,4H,H4 ,H5 )、2.5(m,4H,H3 ,
H6 )、2.92(d,2H,H1 ,JPH=22.47
Hz)、4.03(m.4H,H1 ′,3JPH=3JHH=
7Hz)、7.04(m,3H,芳香族H)、7.14
(m,2H,芳香族H) 百分率分析:C16H25O4 P M=312.349 計算値,%: C 61.52 H 8.06 測定値: 61.33 8.16
【0022】段階D:1,1−エチレンジオキシ−3−
[(E)−3−オキソ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]シクロヘキサン 方法:TAKACS J.M等、Tetrahendron Letters、1986, vo
l.27,pp1257-1260. A)段階C′で得られたβ−ケトホスホネートのアニオ
ンの形成 無水のTHF420cm3 に溶解したβ−ケトホスホネ
ート36.4g(116.7mmol)を、2リットル
の三つ口フラスコに窒素雰囲気下で導入し、次にオイル
中の50%懸濁液中の水素化ナトリウム5.6g(11
6.7mmol)を数回に分けて撹拌しながら加える。
反応は即座に起こり、黄色い着色が観察される。
[(E)−3−オキソ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]シクロヘキサン 方法:TAKACS J.M等、Tetrahendron Letters、1986, vo
l.27,pp1257-1260. A)段階C′で得られたβ−ケトホスホネートのアニオ
ンの形成 無水のTHF420cm3 に溶解したβ−ケトホスホネ
ート36.4g(116.7mmol)を、2リットル
の三つ口フラスコに窒素雰囲気下で導入し、次にオイル
中の50%懸濁液中の水素化ナトリウム5.6g(11
6.7mmol)を数回に分けて撹拌しながら加える。
反応は即座に起こり、黄色い着色が観察される。
【0023】平行して、 B)段階Cで得られたエステルの、DIBAL(水素化
ジイソブチルアルミニウム=DIBAL)による還元 無水のトルエン420cm3 に溶解したエステル21g
(105mmol)を、1リットルの三つ口フラスコに
窒素雰囲気下で導入し、溶液を−80℃に冷却した後
で、トルエン中のDIBALの1N溶液105cm
3 (105mmol)を1時間かけて滴下して加える。
添加が完了した30分後に、この反応物をガスクロマト
グラフィーによって観察する。 Ti: 100C、プログラム:3℃/分 tr(保持時間) アルデヒド 993s 89.4% アルコール 1153s 3.2% エステル 1252 4.8% 三つ口フラスコAを−35℃に冷却し、次にエステルの
還元(−78℃)から得られるアルデヒドをカニューレ
を用いて20分間かけてアニオンに移す。冷却槽を除去
し、溶液を40分かけて室温に戻した後、16時間撹拌
する。この媒質を飽和塩化ナトリウム溶液100cm3
で加水分解し、1時間30分の間撹拌する。セライトで
濾過した後にジクロロメタンで洗浄し、一緒に纒めた有
機層を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。濃縮後に黄色の油状生成物36.2g
が得られる。
ジイソブチルアルミニウム=DIBAL)による還元 無水のトルエン420cm3 に溶解したエステル21g
(105mmol)を、1リットルの三つ口フラスコに
窒素雰囲気下で導入し、溶液を−80℃に冷却した後
で、トルエン中のDIBALの1N溶液105cm
3 (105mmol)を1時間かけて滴下して加える。
添加が完了した30分後に、この反応物をガスクロマト
グラフィーによって観察する。 Ti: 100C、プログラム:3℃/分 tr(保持時間) アルデヒド 993s 89.4% アルコール 1153s 3.2% エステル 1252 4.8% 三つ口フラスコAを−35℃に冷却し、次にエステルの
還元(−78℃)から得られるアルデヒドをカニューレ
を用いて20分間かけてアニオンに移す。冷却槽を除去
し、溶液を40分かけて室温に戻した後、16時間撹拌
する。この媒質を飽和塩化ナトリウム溶液100cm3
で加水分解し、1時間30分の間撹拌する。セライトで
濾過した後にジクロロメタンで洗浄し、一緒に纒めた有
機層を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。濃縮後に黄色の油状生成物36.2g
が得られる。
【0024】前記の段階Cで得られたエステルおよび予
想生成物の移動係数(Rf)は同じであることから、こ
れらの化合物の分離は、最初のエステルおよびアルデヒ
ドをごく短いカラムを用いた蒸留(沸点(1.33P
a)=60〜70℃)によって除去して行う。蒸留後の
ガスクロマトグラフィーによって本工程の値(エステル
のおよび中間体アルデヒドの不在)を示す。残渣をシリ
カ750g(シクロヘキサン/エーテル、80:20)
のカラム上でクロマトグラフィーを行うと、1,1−エ
チレンジオキシ−3−[(E)−3−オキソ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン29.
5g(90mmol)および最初のβ−ケトホスホネー
ト5.26g(16.86mmol)(16%)を生成
する。収率:85.7% IR(フィルム、cm-1):1690(νC=O)、1
630(νC=C)、970(νHC=CHトランス)1 H NMR(CCl4 )δ:0.8〜2(m,12
H,H5',H6',シクロCH2 )、2.1〜2.85
(m,5H,H3 ,H4',H7')、3.87(s,4
H,OCH2 −CH2 O)、5.94(d,1H,
H2',JH1'H2'=17Hz)、6.72(dd,1H,
H1',JH1'H2'=16Hz,JH1'H3 =6.1Hz)、
7.18(m,5H,芳香族H) 百分率分析: C21H30O3 M=330.4
72 計算値,%: C 76.33 H 9.15 測定値: 76.63 9.32
想生成物の移動係数(Rf)は同じであることから、こ
れらの化合物の分離は、最初のエステルおよびアルデヒ
ドをごく短いカラムを用いた蒸留(沸点(1.33P
a)=60〜70℃)によって除去して行う。蒸留後の
ガスクロマトグラフィーによって本工程の値(エステル
のおよび中間体アルデヒドの不在)を示す。残渣をシリ
カ750g(シクロヘキサン/エーテル、80:20)
のカラム上でクロマトグラフィーを行うと、1,1−エ
チレンジオキシ−3−[(E)−3−オキソ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン29.
5g(90mmol)および最初のβ−ケトホスホネー
ト5.26g(16.86mmol)(16%)を生成
する。収率:85.7% IR(フィルム、cm-1):1690(νC=O)、1
630(νC=C)、970(νHC=CHトランス)1 H NMR(CCl4 )δ:0.8〜2(m,12
H,H5',H6',シクロCH2 )、2.1〜2.85
(m,5H,H3 ,H4',H7')、3.87(s,4
H,OCH2 −CH2 O)、5.94(d,1H,
H2',JH1'H2'=17Hz)、6.72(dd,1H,
H1',JH1'H2'=16Hz,JH1'H3 =6.1Hz)、
7.18(m,5H,芳香族H) 百分率分析: C21H30O3 M=330.4
72 計算値,%: C 76.33 H 9.15 測定値: 76.63 9.32
【0025】段階E:1,1−エチレンジオキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン(GEMAL A.L 等、J.Am.C
hem.Soc.,1981 ,vol.103,pp5454による) 段階Dで得られた化合物40.05g(122.1mm
ol)の蒸留メタノール400cm3 溶液、および塩化
セリウム七水和物45.5g(122.12mmol)
を、1リットルの三つ口フラスコに導入する。この温度
は16℃から19℃に上昇し、混合物を35分間撹拌す
ると塩が徐々に溶液中に移行する。フラスコを9℃に冷
却し、水素化ホウ素ナトリウム4.65g(123mm
ol)を55分間かけて少量ずつ加える(豊かに泡立
つ)。この水素化物の添加が完了したら、フラスコ壁を
メタノール70cm3 で濯ぎ、次に混合物を4時間撹拌
しながら徐々に室温に戻す。氷冷した水浴で冷却した
後、混合物を2N塩酸溶液によってpHが中性になるま
で加水分解する。続いて飽和塩化ナトリウム溶液100
cm3 を加える。沈降が起こった後、水性相を分離し、
エーテルで抽出し、一緒に纒めた有機相を飽和塩化ナト
リウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃
縮すると1,1−エチレンジオキシ−3−[(E)−3
−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イ
ル)シクロヘキサン40.12gが得られる。得られた
ごく僅かに着色した粘性の油状生成物を、精製を行わず
に次の段階に用いる。 粗製の生成物の収率:99.5% IR(フィルム、cm-1)、3440(νOH)、16
60(νC=C)、960(νHC=CHトランス)1 H NMR(CCl4 )δ: 0.75〜1.9(m,12H,シクロCH2 ,H5',
H6')、2〜2.86(m,5H,H3 、H4',
H7')、3.87(s,4H,OCH2 −CH2 O)、
3.85〜4(m,1H,H3')、5.43(m,2
H,H1',H2')、7.13(m,5H,芳香族H) 百分率分析: C21H30O3 M=3
30.472 計算値,%: C 76.33 H 9.15 測定値: 76.63 9.32
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン(GEMAL A.L 等、J.Am.C
hem.Soc.,1981 ,vol.103,pp5454による) 段階Dで得られた化合物40.05g(122.1mm
ol)の蒸留メタノール400cm3 溶液、および塩化
セリウム七水和物45.5g(122.12mmol)
を、1リットルの三つ口フラスコに導入する。この温度
は16℃から19℃に上昇し、混合物を35分間撹拌す
ると塩が徐々に溶液中に移行する。フラスコを9℃に冷
却し、水素化ホウ素ナトリウム4.65g(123mm
ol)を55分間かけて少量ずつ加える(豊かに泡立
つ)。この水素化物の添加が完了したら、フラスコ壁を
メタノール70cm3 で濯ぎ、次に混合物を4時間撹拌
しながら徐々に室温に戻す。氷冷した水浴で冷却した
後、混合物を2N塩酸溶液によってpHが中性になるま
で加水分解する。続いて飽和塩化ナトリウム溶液100
cm3 を加える。沈降が起こった後、水性相を分離し、
エーテルで抽出し、一緒に纒めた有機相を飽和塩化ナト
リウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃
縮すると1,1−エチレンジオキシ−3−[(E)−3
−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イ
ル)シクロヘキサン40.12gが得られる。得られた
ごく僅かに着色した粘性の油状生成物を、精製を行わず
に次の段階に用いる。 粗製の生成物の収率:99.5% IR(フィルム、cm-1)、3440(νOH)、16
60(νC=C)、960(νHC=CHトランス)1 H NMR(CCl4 )δ: 0.75〜1.9(m,12H,シクロCH2 ,H5',
H6')、2〜2.86(m,5H,H3 、H4',
H7')、3.87(s,4H,OCH2 −CH2 O)、
3.85〜4(m,1H,H3')、5.43(m,2
H,H1',H2')、7.13(m,5H,芳香族H) 百分率分析: C21H30O3 M=3
30.472 計算値,%: C 76.33 H 9.15 測定値: 76.63 9.32
【0026】段階E′:段階Dのケトンのエナンチオ選
択的(ENANTIOSELECTIVE) 還元 E.J.COREY,R.K.BAKSHI、Tetrahendron Letters,1990,3
1,611による 無水のトルエン20cm3 に段階Dで得られるケトン
2.055g(6.22mmol)を溶解したもの(こ
の溶液は、予め4オングストローム分子篩上で24時間
乾燥する)を、100cm3 の三つ口フラスコに窒素雰
囲気下で導入する。次にS−(−)−2−メチル−CB
S−オキサアザボロリジン(Lancaster)0.
185g(0.627mmol、0.1当量)を加える
と、触媒は20分で可溶化する。続いてこの反応媒質を
−78℃に冷却し、カテコールボラン(Aldric
h)1.35g(11.2mmol、2当量)を無水の
トルエン30cm3 に希釈したものからなる溶液を、2
5分間かけて加える。最初の数滴が加わるとすぐに無色
の反応媒質は黄色になる。−78℃で21時間撹拌した
後に、この濁った乳白色の溶液を飽和塩化ナトリウム溶
液35cm3 によって加水分解し、ジクロロメタン50
cm3 を加える。室温に戻した後、撹拌を30分間続
け、次に沈降を起こさせて水性相を分離し、ジクロロメ
タン50cm3 で3回抽出を行う。一緒に纒めた有機相
を、飽和炭酸ナトリウム溶液10cm3 によって6回洗
浄し(緑色の水性層は、第3目の洗浄では実質的に無色
である)、その後飽和塩化ナトリウム溶液20cm3 で
2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に粘
性の赤色油状生成物2.415gが得られ、この生成物
にはシリカ60gのカラム上でクロマトグラフィーを行
う。溶離液シクロヘキサン/エーテル、80:20は、
最初のケトン(12%)を250mg生成させ、シクロ
ヘキサン/エーテル、75:25では、所望なアルコー
ルを1.750g(5.264mmol)生成する。 クロマトグラフィーを行った生成物の収率:85% これと同じ工程を用いて、R−(−)−2−メチル−C
BS−オキサザボロリジン(Lancaster)から
Sアルコールを得る。
択的(ENANTIOSELECTIVE) 還元 E.J.COREY,R.K.BAKSHI、Tetrahendron Letters,1990,3
1,611による 無水のトルエン20cm3 に段階Dで得られるケトン
2.055g(6.22mmol)を溶解したもの(こ
の溶液は、予め4オングストローム分子篩上で24時間
乾燥する)を、100cm3 の三つ口フラスコに窒素雰
囲気下で導入する。次にS−(−)−2−メチル−CB
S−オキサアザボロリジン(Lancaster)0.
185g(0.627mmol、0.1当量)を加える
と、触媒は20分で可溶化する。続いてこの反応媒質を
−78℃に冷却し、カテコールボラン(Aldric
h)1.35g(11.2mmol、2当量)を無水の
トルエン30cm3 に希釈したものからなる溶液を、2
5分間かけて加える。最初の数滴が加わるとすぐに無色
の反応媒質は黄色になる。−78℃で21時間撹拌した
後に、この濁った乳白色の溶液を飽和塩化ナトリウム溶
液35cm3 によって加水分解し、ジクロロメタン50
cm3 を加える。室温に戻した後、撹拌を30分間続
け、次に沈降を起こさせて水性相を分離し、ジクロロメ
タン50cm3 で3回抽出を行う。一緒に纒めた有機相
を、飽和炭酸ナトリウム溶液10cm3 によって6回洗
浄し(緑色の水性層は、第3目の洗浄では実質的に無色
である)、その後飽和塩化ナトリウム溶液20cm3 で
2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に粘
性の赤色油状生成物2.415gが得られ、この生成物
にはシリカ60gのカラム上でクロマトグラフィーを行
う。溶離液シクロヘキサン/エーテル、80:20は、
最初のケトン(12%)を250mg生成させ、シクロ
ヘキサン/エーテル、75:25では、所望なアルコー
ルを1.750g(5.264mmol)生成する。 クロマトグラフィーを行った生成物の収率:85% これと同じ工程を用いて、R−(−)−2−メチル−C
BS−オキサザボロリジン(Lancaster)から
Sアルコールを得る。
【0027】段階F:[(E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル] シクロヘキサノンHUET F等、Synthesis,1978,63 による 蒸留したジクロロメタン50cm3 およびシリカ30g
および15%硫酸溶液1.5gを、撹拌しながら250
cm3 の丸底フラスコに導入する。氷冷した水浴を用い
て冷却した後に、ジクロロメタン35cm3 中の、段階
Eで得られた粗製化合物8.22g(24.9mmo
l)からなる溶液を加える。室温で16時間撹拌した後
に、炭酸水素ナトリウム1.5gを加え、混合物を3時
間撹拌する。焼結ガラスを用いて濾過した後、シリカを
ジクロロメタンで洗浄し、濾液を飽和塩化ナトリウム溶
液で洗浄して硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮したと
ころ、粘ちょうな黄色の液体6.42gが得られ、この
生成物をシリカ150gのカラム上でクロマトグラフィ
ーを行う。純粋な3−[(E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサノン
5.508g(19.25mmol)が単離される(溶
離液:シクロヘキサン/エーテル、65:35)。 収率:77.5% IR(フィルム、cm-1):3320(νOH)、16
90(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ: 0.8〜2.8(m,17H,シクロH,H4 〜
H7')、3.93(m,2H,H3',およびヒドロキシ
ル)、5.46(m,2H,H1',H2')、7.1(5
H,芳香族H) 百分率分析: C19H26O2 M=2
86.418 計算値,%: C 79.67 H 9.14 測定値: 79.43 9.15
フェニル−1−ヘプテン−1−イル] シクロヘキサノンHUET F等、Synthesis,1978,63 による 蒸留したジクロロメタン50cm3 およびシリカ30g
および15%硫酸溶液1.5gを、撹拌しながら250
cm3 の丸底フラスコに導入する。氷冷した水浴を用い
て冷却した後に、ジクロロメタン35cm3 中の、段階
Eで得られた粗製化合物8.22g(24.9mmo
l)からなる溶液を加える。室温で16時間撹拌した後
に、炭酸水素ナトリウム1.5gを加え、混合物を3時
間撹拌する。焼結ガラスを用いて濾過した後、シリカを
ジクロロメタンで洗浄し、濾液を飽和塩化ナトリウム溶
液で洗浄して硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮したと
ころ、粘ちょうな黄色の液体6.42gが得られ、この
生成物をシリカ150gのカラム上でクロマトグラフィ
ーを行う。純粋な3−[(E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサノン
5.508g(19.25mmol)が単離される(溶
離液:シクロヘキサン/エーテル、65:35)。 収率:77.5% IR(フィルム、cm-1):3320(νOH)、16
90(νC=O)1 H NMR(CCl4 )δ: 0.8〜2.8(m,17H,シクロH,H4 〜
H7')、3.93(m,2H,H3',およびヒドロキシ
ル)、5.46(m,2H,H1',H2')、7.1(5
H,芳香族H) 百分率分析: C19H26O2 M=2
86.418 計算値,%: C 79.67 H 9.14 測定値: 79.43 9.15
【0028】段階G:3−[(E)−3−第三−ブチル
ジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]シクロヘキサノン 無水のジクロロメタン160cm3 (153.5mmo
l)中の1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ
ス−7−エン23.37gからなる溶液および塩化第三
−ブチルジメチルシリル19.3g(128mmol)
を、500cm 3 の三つ口フラスコに窒素雰囲気下で導
入する。0℃に冷却した後、前の段階で得られた化合物
30.5g(106.64mmol)の無水のジクロロ
メタン100cm3 溶液を滴下して加える。この媒質を
室温で48時間撹拌し、その後蒸留水50cm3 で加水
分解する。水性相をエーテルで抽出する。有機相を1N
塩酸溶液で洗浄し、次に炭酸水素ナトリウム溶液で、お
よび蒸留水で洗浄し、これを濃縮して硫酸ナトリウム上
で乾燥を行うと、予想生成物44.45gが得られ、こ
の生成物をシリカ1130gのカラム上でクロマトグラ
フィーを行って精製する。純粋な3−[(E)−3−第
三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−
ヘプテン−1−イル]シクロヘキサノン40.1g(1
00.2mmol)が単離される(溶離液:シクロヘキ
サン/エーテル、97:3)。 収率:94%。 IR(フィルム、cm-1):1710(νC=O)、1
250(νSi−CH 3 )、1065−1090(νS
iO−C)、840−870(νSi−CH3)1 H NMR(TMSなしのCCl4 ):0.0(s,
6H,ジメチルシリル)、0.9(s,9H,第三−ブ
チルシリル)、0.8〜2.8(17H,シクロH,H
4'〜H7')、3.9(1H,H3')、5.46(m,2
H,H1',H2')、7.1(5H,芳香族H) 百分率分析:C25H40O2 Si M=400.679 計算値,%: C 74.94 H 10.06 測定値: 75.09 10.27
ジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]シクロヘキサノン 無水のジクロロメタン160cm3 (153.5mmo
l)中の1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ
ス−7−エン23.37gからなる溶液および塩化第三
−ブチルジメチルシリル19.3g(128mmol)
を、500cm 3 の三つ口フラスコに窒素雰囲気下で導
入する。0℃に冷却した後、前の段階で得られた化合物
30.5g(106.64mmol)の無水のジクロロ
メタン100cm3 溶液を滴下して加える。この媒質を
室温で48時間撹拌し、その後蒸留水50cm3 で加水
分解する。水性相をエーテルで抽出する。有機相を1N
塩酸溶液で洗浄し、次に炭酸水素ナトリウム溶液で、お
よび蒸留水で洗浄し、これを濃縮して硫酸ナトリウム上
で乾燥を行うと、予想生成物44.45gが得られ、こ
の生成物をシリカ1130gのカラム上でクロマトグラ
フィーを行って精製する。純粋な3−[(E)−3−第
三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−
ヘプテン−1−イル]シクロヘキサノン40.1g(1
00.2mmol)が単離される(溶離液:シクロヘキ
サン/エーテル、97:3)。 収率:94%。 IR(フィルム、cm-1):1710(νC=O)、1
250(νSi−CH 3 )、1065−1090(νS
iO−C)、840−870(νSi−CH3)1 H NMR(TMSなしのCCl4 ):0.0(s,
6H,ジメチルシリル)、0.9(s,9H,第三−ブ
チルシリル)、0.8〜2.8(17H,シクロH,H
4'〜H7')、3.9(1H,H3')、5.46(m,2
H,H1',H2')、7.1(5H,芳香族H) 百分率分析:C25H40O2 Si M=400.679 計算値,%: C 74.94 H 10.06 測定値: 75.09 10.27
【0029】調製2:3−[(E)−3−第三−ブチル
ジメチルシリルオキシ−1−ウンデセン−1−イル]シ
クロヘキサノン 段階C′の塩化5−フェニルペンタノイルを塩化ノナノ
イルに代えること以外は、調製1に記載の工程を用いて
標題化合物を得る。 IR(フィルム、cm-1):1705(νC=O)、1
245(νSi−CH3 )、960(νHC=CHトラ
ンス)、825(νSi−O−C)
ジメチルシリルオキシ−1−ウンデセン−1−イル]シ
クロヘキサノン 段階C′の塩化5−フェニルペンタノイルを塩化ノナノ
イルに代えること以外は、調製1に記載の工程を用いて
標題化合物を得る。 IR(フィルム、cm-1):1705(νC=O)、1
245(νSi−CH3 )、960(νHC=CHトラ
ンス)、825(νSi−O−C)
【0030】調製3:3−[(E)−3−第三−ブチル
ジメチルシリルオキシ−1−オクテン−1−イル]シク
ロヘキサノンCorey E.J.等、J. Am.Chem.Soc.1972, vo
l.94、pp7210-7211 による。 調製4〜12 段階C′の適当なハロゲン化アシルを用いること以外
は、調製1に記載の工程を用いて下記が連続して得られ
る: 調製4:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−6−フェノキシ−1−ヘキセン−1−イル]
シクロヘキサノン 調製5:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−13−フェノキシ−1−トリデセン−1−イ
ル]シクロヘキサノン 調製6:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4−(4−クロロフェニル)−1−ブテン−
1−イル]シクロヘキサノン 調製7:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−
ヘキセン−1−イル]シクロヘキサノン 調製8:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4,4−ジメチル−1−ペンテン−1−イ
ル]シクロヘキサノン 調製9:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4−(4−トリフルオロメチル−フェニル)
−1−ブテン−1−イル]シクロヘキサノン 調製l0:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ−1−デセン−1−イル]シクロヘキサノン 調製11:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ−5−シクロペンチル−1−ペンテン−1−
イル]−シクロヘキサノン 調製12:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]
−テトラロン 段階Bで得られるメチル3−オキソシクロヘキサンカル
ボキシレートの代りに、テトラロン−3−カルボン酸の
エステル化後に得られるメチル1−テトラロン−3−カ
ルボキシレート(BioChem.Biophys.Acta,1987, vol.916
(2) 、pp 205-212)を用いることを除き、調製1に記載
の工程を用いて調製12の化合物が得られる。
ジメチルシリルオキシ−1−オクテン−1−イル]シク
ロヘキサノンCorey E.J.等、J. Am.Chem.Soc.1972, vo
l.94、pp7210-7211 による。 調製4〜12 段階C′の適当なハロゲン化アシルを用いること以外
は、調製1に記載の工程を用いて下記が連続して得られ
る: 調製4:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−6−フェノキシ−1−ヘキセン−1−イル]
シクロヘキサノン 調製5:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−13−フェノキシ−1−トリデセン−1−イ
ル]シクロヘキサノン 調製6:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4−(4−クロロフェニル)−1−ブテン−
1−イル]シクロヘキサノン 調製7:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−
ヘキセン−1−イル]シクロヘキサノン 調製8:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4,4−ジメチル−1−ペンテン−1−イ
ル]シクロヘキサノン 調製9:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4−(4−トリフルオロメチル−フェニル)
−1−ブテン−1−イル]シクロヘキサノン 調製l0:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ−1−デセン−1−イル]シクロヘキサノン 調製11:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ−5−シクロペンチル−1−ペンテン−1−
イル]−シクロヘキサノン 調製12:3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]
−テトラロン 段階Bで得られるメチル3−オキソシクロヘキサンカル
ボキシレートの代りに、テトラロン−3−カルボン酸の
エステル化後に得られるメチル1−テトラロン−3−カ
ルボキシレート(BioChem.Biophys.Acta,1987, vol.916
(2) 、pp 205-212)を用いることを除き、調製1に記載
の工程を用いて調製12の化合物が得られる。
【0031】例1:エチル 1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7
−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘ
キサンアセテート
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7
−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘ
キサンアセテート
【化20】 窒素雰囲気下の1リットルの三つ口フラスコに、n−ブ
チルリチウム溶液(ヘキサン中2.5N)39.8cm
3 (99.5mmol)を、−80℃で30分間かけて
無水のTHF400cm3 中のジイソプロピルアミン
(新たに蒸留したもの)12.05g(119mmo
l)からなる溶液に滴下して加える。−78℃で40分
間撹拌した後、無水のTHF70cm3 に溶解した酢酸
エチル(新たに蒸留したもの)9.9g(112.5m
mol)を、30分間かけて滴下して加える。この媒質
を−78℃で30分間撹拌し、次に調製1で得られた化
合物24.84g(62.1mmol)を無水のTHF
140cm3 に溶解したものを滴下して加える。16時
間撹拌して温度を上昇させた後、混合物を氷冷した水7
0cm3 によって加水分解する。水性相をエーテルで抽
出し、一緒に纒めた有機相を蒸留水50cm3 で2回洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。
チルリチウム溶液(ヘキサン中2.5N)39.8cm
3 (99.5mmol)を、−80℃で30分間かけて
無水のTHF400cm3 中のジイソプロピルアミン
(新たに蒸留したもの)12.05g(119mmo
l)からなる溶液に滴下して加える。−78℃で40分
間撹拌した後、無水のTHF70cm3 に溶解した酢酸
エチル(新たに蒸留したもの)9.9g(112.5m
mol)を、30分間かけて滴下して加える。この媒質
を−78℃で30分間撹拌し、次に調製1で得られた化
合物24.84g(62.1mmol)を無水のTHF
140cm3 に溶解したものを滴下して加える。16時
間撹拌して温度を上昇させた後、混合物を氷冷した水7
0cm3 によって加水分解する。水性相をエーテルで抽
出し、一緒に纒めた有機相を蒸留水50cm3 で2回洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。
【0032】例2および3:エチル 1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチル−ジメチルシリルオキ
シ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シ
クロヘキサン−アセテートのジアステレオ異性体: 例2:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテート 例3:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテート 例1で得られる化合物32.95gをシリカ1200g
のカラム上でクロマトグラフィーを行って、2個の異性
体(例2および例3)の最初の分離を行う(溶離液:シ
クロヘキサン/エーテル、92:8)。 注:プロトンNMR(CCl4 、TMSなし)は、具体
的にはCH2 COOEtプロトンに関して2個の異性体
を識別することができ(60MHzでも)、例2のもの
は、2.33の化学シフトを有し、例3のものでは2.
50である。これには2個の異性体の分離をNMRによ
って観察できるという利点がある。
3−[(E)−3−第三−ブチル−ジメチルシリルオキ
シ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シ
クロヘキサン−アセテートのジアステレオ異性体: 例2:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテート 例3:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテート 例1で得られる化合物32.95gをシリカ1200g
のカラム上でクロマトグラフィーを行って、2個の異性
体(例2および例3)の最初の分離を行う(溶離液:シ
クロヘキサン/エーテル、92:8)。 注:プロトンNMR(CCl4 、TMSなし)は、具体
的にはCH2 COOEtプロトンに関して2個の異性体
を識別することができ(60MHzでも)、例2のもの
は、2.33の化学シフトを有し、例3のものでは2.
50である。これには2個の異性体の分離をNMRによ
って観察できるという利点がある。
【0033】合成のこの時点では、極めて純度の高い生
成物を入手することが重要であるが、この理由から、ク
ロマトグラフィー中に単離した例2および3の化合物
を、更に高性能液体クロマトグラフィーまたはHPLC
(RSlL SiO2 10μカラム、L250、φ2
2,溶離液:シクロヘキサン/エーテル(85:1
5)、流量8cm3 /分、UV 260nm検出器、注
射:150〜200mg)に付す。 HPLCクロマトグラフィーの後で、下記を単離する:
例2:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテート 極性の低い異性体 12.9g(26.4mmol) 収率:42.5%1 H NMR(CDCl3 、TMSなし)δ:0.00
(d、6H,ジメチルシリルオキシ)、0.86(m,
9H,第三−ブチル−シリルオキシ)、1.03(m,
2H,H2'):1.26,1.19〜1.9(m,15
H,エステルメチル,H4'〜H6',H4'' ,〜H6")、
2.15〜2.7(m,3H,H3'およびH7"),2.
33(s,2H,H2 )、3.2(m,1H,ヒドロキ
シル)、3.96(m,1H,H3"),4.2(q,2
H,エステルメチレン,J=7Hz)、5.4(m,2
H,H1",H2")、7.1(m,5H,芳香族H)
成物を入手することが重要であるが、この理由から、ク
ロマトグラフィー中に単離した例2および3の化合物
を、更に高性能液体クロマトグラフィーまたはHPLC
(RSlL SiO2 10μカラム、L250、φ2
2,溶離液:シクロヘキサン/エーテル(85:1
5)、流量8cm3 /分、UV 260nm検出器、注
射:150〜200mg)に付す。 HPLCクロマトグラフィーの後で、下記を単離する:
例2:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテート 極性の低い異性体 12.9g(26.4mmol) 収率:42.5%1 H NMR(CDCl3 、TMSなし)δ:0.00
(d、6H,ジメチルシリルオキシ)、0.86(m,
9H,第三−ブチル−シリルオキシ)、1.03(m,
2H,H2'):1.26,1.19〜1.9(m,15
H,エステルメチル,H4'〜H6',H4'' ,〜H6")、
2.15〜2.7(m,3H,H3'およびH7"),2.
33(s,2H,H2 )、3.2(m,1H,ヒドロキ
シル)、3.96(m,1H,H3"),4.2(q,2
H,エステルメチレン,J=7Hz)、5.4(m,2
H,H1",H2")、7.1(m,5H,芳香族H)
【0034】例3:エチル (1R* ,3S* )−1−
ヒドロキシ−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチル
シリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イ
ル]−1−シクロヘキサンアセテート 極性の高い異性体 15g(30.73mmol) 収率:49.5%1 H NMR(CDCl3 、TMSなし)δ:0.00
(d、6H,ジメチルシリルオキシ)、0.9(m,9
H,第三−ブチルシリルオキシ)、1.03(m,2
H,H2')、1.26、1.2〜1.9(m,15H,
エステルメチル、H4'〜H6',H4"〜H6")、2.15
〜2.6(m,3H,H3'およびH7")、2.50
(s,2H,H2 )、3.5(m,1H,ヒドロキシ
ル)、3.95(m,1H,H3")、4.18(q,2
H,エステルメチレン,J=7Hz)、5.4(m,2
H,H1",H2")、7.1(m,5H,芳香族H) 例2および3の化合物に共通の物理的特性 IR(フィルム、cm-1)(例2および3)3500
(νOH)、1710(νC=O)、1250(νSi
CH3 )、1065〜1090(νSi−O−C)、8
30および770(νSi−CH3 ) 百分率分析:C29H48O4 Si M=488.7
8 計算値,%: C 71.33 H 9.9 測定値: 71.46 10.16
ヒドロキシ−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチル
シリルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イ
ル]−1−シクロヘキサンアセテート 極性の高い異性体 15g(30.73mmol) 収率:49.5%1 H NMR(CDCl3 、TMSなし)δ:0.00
(d、6H,ジメチルシリルオキシ)、0.9(m,9
H,第三−ブチルシリルオキシ)、1.03(m,2
H,H2')、1.26、1.2〜1.9(m,15H,
エステルメチル、H4'〜H6',H4"〜H6")、2.15
〜2.6(m,3H,H3'およびH7")、2.50
(s,2H,H2 )、3.5(m,1H,ヒドロキシ
ル)、3.95(m,1H,H3")、4.18(q,2
H,エステルメチレン,J=7Hz)、5.4(m,2
H,H1",H2")、7.1(m,5H,芳香族H) 例2および3の化合物に共通の物理的特性 IR(フィルム、cm-1)(例2および3)3500
(νOH)、1710(νC=O)、1250(νSi
CH3 )、1065〜1090(νSi−O−C)、8
30および770(νSi−CH3 ) 百分率分析:C29H48O4 Si M=488.7
8 計算値,%: C 71.33 H 9.9 測定値: 71.46 10.16
【0035】例4:エチル (1S* ,3S* )−1−
ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート例2の化合物14.3g(29.3mmo
l)を蒸留したTHF310cm3に溶解したものを1
リットルの丸底フラスコに導入し、この溶液を0℃に冷
却した後に1N塩酸42cm3 (42mmol)を加え
る。室温に戻した後に媒質を64時間撹拌し、次に炭酸
水素ナトリウム6.9g(84mmol)を加える。媒
質をロータリーエバポレーター中で濃縮し、続いてエー
テル500cm3 によって取り出す。水性相をエーテル
抽出し、一緒に纒めた有機相を蒸留水50cm 3 で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に標題化
合物に対応する油状生成物10.95gが得られる。
ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート例2の化合物14.3g(29.3mmo
l)を蒸留したTHF310cm3に溶解したものを1
リットルの丸底フラスコに導入し、この溶液を0℃に冷
却した後に1N塩酸42cm3 (42mmol)を加え
る。室温に戻した後に媒質を64時間撹拌し、次に炭酸
水素ナトリウム6.9g(84mmol)を加える。媒
質をロータリーエバポレーター中で濃縮し、続いてエー
テル500cm3 によって取り出す。水性相をエーテル
抽出し、一緒に纒めた有機相を蒸留水50cm 3 で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に標題化
合物に対応する油状生成物10.95gが得られる。
【0036】例5および6:エチル (1S* ,3
S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキ
シ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シ
クロヘキサンアセテートのジアステレオ異性体 例5:エチル(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3
−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例6:エチル(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3
−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例4で得た化合物をシリカ600gのカラム上でクロマ
トグラフィーを行うことによって2個の異性体を分離す
る。溶離液シクロヘキサン/エーテル60:40は、混
合物(例5の化合物/例6の化合物)3.62gであっ
て主として例5の化合物を含むもの(10:90)を生
成し、次に第2の混合物(約50:50)を3.190
g、更に混合物(約15:85)を3.6g生成し、こ
れは全体で10.41g(27.83mmol)当量で
ある。 収率(脱保護+クロマトグラフィー):95% 混合物うち後者の2つの画分を、更に別々に高性能液体
クロマトグラフィー(HPLC)を行うことにより:溶
離液:シクロヘキサン/酢酸エチル、85:15、例5
の純粋な化合物1.964gおよび例6の純粋な化合物
3.50g(9.37mmol)が生成される。 収率、例6の化合物:32% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、17
20(νC=O)、1185(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス)1 H NMR(360MHz、CDCl3 )δ: 例5の化合物:(極性の低い異性体):エチル (1S
* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3S* R* ,
E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 0.97(m,2H,H2')、1.22、1.13〜
1.75(m,15H,エステルメチル,H4'〜H6',
H4"〜H6")、2.37(s,2H,H2 )、2.43
(m,1H,H3 ,)、2.55(m,2H,H7")、
3.95(q,1H,H3",JH3"H4'=JH3"H2"=6.
4Hz)、4.10(q,2H,エステルメチレン、J
=7.2Hz)、5.35(dd,1H,H2",J
H"1"H2" =15.5Hz,JH2"H3"=6.1Hz)、
5.46(dd,1H,H1 ,JH1"H2"=15.5H
z,JH1"H3'=61Hz)、7.15(m,5H,芳香
族H) 例6の化合物:(極性高いの異性体):エチル (1S
* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3R* S* ,
E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート
S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキ
シ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シ
クロヘキサンアセテートのジアステレオ異性体 例5:エチル(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3
−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例6:エチル(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3
−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例4で得た化合物をシリカ600gのカラム上でクロマ
トグラフィーを行うことによって2個の異性体を分離す
る。溶離液シクロヘキサン/エーテル60:40は、混
合物(例5の化合物/例6の化合物)3.62gであっ
て主として例5の化合物を含むもの(10:90)を生
成し、次に第2の混合物(約50:50)を3.190
g、更に混合物(約15:85)を3.6g生成し、こ
れは全体で10.41g(27.83mmol)当量で
ある。 収率(脱保護+クロマトグラフィー):95% 混合物うち後者の2つの画分を、更に別々に高性能液体
クロマトグラフィー(HPLC)を行うことにより:溶
離液:シクロヘキサン/酢酸エチル、85:15、例5
の純粋な化合物1.964gおよび例6の純粋な化合物
3.50g(9.37mmol)が生成される。 収率、例6の化合物:32% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、17
20(νC=O)、1185(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス)1 H NMR(360MHz、CDCl3 )δ: 例5の化合物:(極性の低い異性体):エチル (1S
* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3S* R* ,
E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 0.97(m,2H,H2')、1.22、1.13〜
1.75(m,15H,エステルメチル,H4'〜H6',
H4"〜H6")、2.37(s,2H,H2 )、2.43
(m,1H,H3 ,)、2.55(m,2H,H7")、
3.95(q,1H,H3",JH3"H4'=JH3"H2"=6.
4Hz)、4.10(q,2H,エステルメチレン、J
=7.2Hz)、5.35(dd,1H,H2",J
H"1"H2" =15.5Hz,JH2"H3"=6.1Hz)、
5.46(dd,1H,H1 ,JH1"H2"=15.5H
z,JH1"H3'=61Hz)、7.15(m,5H,芳香
族H) 例6の化合物:(極性高いの異性体):エチル (1S
* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3R* S* ,
E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−
1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート
【化21】 スペクトル特性: 1H NMR(360MHz,CDC
l3 )δ:1.0(m,2H,H2')、1.26、1.
14〜1.83(m,15H,エステルメチル,H4'〜
H6',H4"〜H6")、2.41(s,2H,H2 )、
2.43(m,1H,H3')、(t,2H,H7")、4
(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.4H
z)、4.16(q,2H,エステルメチレン、J=
7.2Hz)、5.40(dd,1H,H2",JH1"H2"
=15.5Hz,JH2"H3"=6.1Hz)、5.51
(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.5Hz,J
H1"H3'=6.1Hz)、7.15(m,5H,芳香族
H)、13C NMR(CDCl3 、90MHz)DEP
T135およびCOSY(H,C).172.8
(C1 )、142.6(C8")、136.9(C1")、
131(C2")、130.8(C10" 〜C12" )、12
8.4(C9"〜C13" )、125.6(C11" )、7
3.1(C3")、69.8(C1')、60.6(エステ
ルメチレンC)、46.9(C2 )、43.1
(C2')、37.2(C6')、37(C5')、36.6
(C7")、35.9(C3')、32(C4')、31.4
(C6")、25.1(C4")、20.9(C5")、1
4.2(エステルメチルC) 例6の化合物のUV(シクロヘキサン) 最大λ:26
2nm、 ε: 224、 質量スペクトル分析(EL、20eV): 例5の化合物 m/z: 338(M−H2 O) 例6の化合物 FAB+ :mNa+ 計算値,397.2354796 測定値,397.3367000 △:3.1ppm 百分率分析: 例5の化合物:C23H34O4 M=37
4.52 計算値% C 73.76 H9.15 O17.09 測定値 73.50 9.22 17.46 例6の化合物 測定値 73.50 9.21 17.55
l3 )δ:1.0(m,2H,H2')、1.26、1.
14〜1.83(m,15H,エステルメチル,H4'〜
H6',H4"〜H6")、2.41(s,2H,H2 )、
2.43(m,1H,H3')、(t,2H,H7")、4
(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.4H
z)、4.16(q,2H,エステルメチレン、J=
7.2Hz)、5.40(dd,1H,H2",JH1"H2"
=15.5Hz,JH2"H3"=6.1Hz)、5.51
(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.5Hz,J
H1"H3'=6.1Hz)、7.15(m,5H,芳香族
H)、13C NMR(CDCl3 、90MHz)DEP
T135およびCOSY(H,C).172.8
(C1 )、142.6(C8")、136.9(C1")、
131(C2")、130.8(C10" 〜C12" )、12
8.4(C9"〜C13" )、125.6(C11" )、7
3.1(C3")、69.8(C1')、60.6(エステ
ルメチレンC)、46.9(C2 )、43.1
(C2')、37.2(C6')、37(C5')、36.6
(C7")、35.9(C3')、32(C4')、31.4
(C6")、25.1(C4")、20.9(C5")、1
4.2(エステルメチルC) 例6の化合物のUV(シクロヘキサン) 最大λ:26
2nm、 ε: 224、 質量スペクトル分析(EL、20eV): 例5の化合物 m/z: 338(M−H2 O) 例6の化合物 FAB+ :mNa+ 計算値,397.2354796 測定値,397.3367000 △:3.1ppm 百分率分析: 例5の化合物:C23H34O4 M=37
4.52 計算値% C 73.76 H9.15 O17.09 測定値 73.50 9.22 17.46 例6の化合物 測定値 73.50 9.21 17.55
【0037】例7:(1S* 、3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル)−1−シクロヘキ
サン−酢酸 メタノール20cm3 に溶解した例6の化合物387m
g(1.035mmol)を、100cm3 の丸底フラ
スコに導入し、1N水酸化ナトリウム(1.55mmo
l)1.55cm3 および水20cm3 を、この冷却し
た溶液に加える。この混合物を24時間撹拌した後にロ
ータリーエバポレーター中で濃縮する。粗製の生成物を
水50cm3 およびエーテル50cm3 に吸収する。水
性相を1N塩酸溶液で酸性にした後、エーテル50cm
3 で3回抽出する。エーテル層を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、濃縮する。粗製の生成物を再結晶化させ(エーテ
ル/シクロヘキサン)、白色の結晶にする。 融点=87℃ IR(フィルム、cm-1):3640および2600
(νOH)、1730(νC=O)、960(νHC=
CHトランス):NMR(250MHz、CDCl3 )
δ: 1.0(m,2H,H2')、1.26、1.15〜1.
9(m,12H,H4'〜H6',H4"〜H6")、2.47
(s,2H,H2 )、2.43(m,1H,H3')、
2.6(t,2H,H7",J=7.4Hz)、4.04
(q,1H,H3",JH3"H4",JH3"H2"=6.4H
z)、4.4(m,3H,ヒドロキシル)、5.42
(dd,1H,H2",JH1"H2 =15.5Hz,J
H2"H3 =6.1Hz)、5.53(dd,1H,H1",
JH1"H2 =15.5Hz,JH1"H3'=6.1Hz)、
7.15(m,5H,芳香族H) 百分率分析:C21H30O4 M=346.47 計算値,%: C 72.80 H 8.73 O 18.47 測定値: 72.70 8.78 18.17
シ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル)−1−シクロヘキ
サン−酢酸 メタノール20cm3 に溶解した例6の化合物387m
g(1.035mmol)を、100cm3 の丸底フラ
スコに導入し、1N水酸化ナトリウム(1.55mmo
l)1.55cm3 および水20cm3 を、この冷却し
た溶液に加える。この混合物を24時間撹拌した後にロ
ータリーエバポレーター中で濃縮する。粗製の生成物を
水50cm3 およびエーテル50cm3 に吸収する。水
性相を1N塩酸溶液で酸性にした後、エーテル50cm
3 で3回抽出する。エーテル層を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、濃縮する。粗製の生成物を再結晶化させ(エーテ
ル/シクロヘキサン)、白色の結晶にする。 融点=87℃ IR(フィルム、cm-1):3640および2600
(νOH)、1730(νC=O)、960(νHC=
CHトランス):NMR(250MHz、CDCl3 )
δ: 1.0(m,2H,H2')、1.26、1.15〜1.
9(m,12H,H4'〜H6',H4"〜H6")、2.47
(s,2H,H2 )、2.43(m,1H,H3')、
2.6(t,2H,H7",J=7.4Hz)、4.04
(q,1H,H3",JH3"H4",JH3"H2"=6.4H
z)、4.4(m,3H,ヒドロキシル)、5.42
(dd,1H,H2",JH1"H2 =15.5Hz,J
H2"H3 =6.1Hz)、5.53(dd,1H,H1",
JH1"H2 =15.5Hz,JH1"H3'=6.1Hz)、
7.15(m,5H,芳香族H) 百分率分析:C21H30O4 M=346.47 計算値,%: C 72.80 H 8.73 O 18.47 測定値: 72.70 8.78 18.17
【0038】(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3
−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテートナトリウム(1S* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロ−ヘ
キサン酢酸501mg(1.44mmol)を250c
m3 の丸底フラスコに導入し、メタノール20cm3 に
溶解する。蒸留水10cm3 を加えた後で酸を0.04
N水酸化ナトリウム溶液によって中和し、pHメーター
で反応を観察する(pH8.3)。乳光色の溶液をロー
タリーエバポレーター中で濃縮してアルコールを除去
し、次に蒸留したエーテル10cm3 で2回洗浄する。
この溶液を再度ロータリーエバポレーター中で濃縮し、
僅かに残ったエーテルを除去した後、一晩凍結乾燥す
る。粘着性の白色の固体(526mg)を蒸留水50c
m3 によって吸収させ、この淡黄色の溶液をプレフィル
ターを備えた0.45mミリポアフィルターによって濾
過する。凍結乾燥した透明な溶液は白色の塩509mg
を生成するし、これを室温で10時間、真空にする
(6.65Pa)。 C21H29O4 Na M:368 この塩の水への溶解度 100g/L 透明でごく淡い黄色の溶液 溶液の安定性:18ケ月を上回る。
−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテートナトリウム(1S* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−
フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロ−ヘ
キサン酢酸501mg(1.44mmol)を250c
m3 の丸底フラスコに導入し、メタノール20cm3 に
溶解する。蒸留水10cm3 を加えた後で酸を0.04
N水酸化ナトリウム溶液によって中和し、pHメーター
で反応を観察する(pH8.3)。乳光色の溶液をロー
タリーエバポレーター中で濃縮してアルコールを除去
し、次に蒸留したエーテル10cm3 で2回洗浄する。
この溶液を再度ロータリーエバポレーター中で濃縮し、
僅かに残ったエーテルを除去した後、一晩凍結乾燥す
る。粘着性の白色の固体(526mg)を蒸留水50c
m3 によって吸収させ、この淡黄色の溶液をプレフィル
ターを備えた0.45mミリポアフィルターによって濾
過する。凍結乾燥した透明な溶液は白色の塩509mg
を生成するし、これを室温で10時間、真空にする
(6.65Pa)。 C21H29O4 Na M:368 この塩の水への溶解度 100g/L 透明でごく淡い黄色の溶液 溶液の安定性:18ケ月を上回る。
【0039】例8:エチル (1R* ,3S* )−1−
ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート 例4において、例2で得られる化合物を例3の化合物に
代えることによって、標題生成物が得られる。
ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート 例4において、例2で得られる化合物を例3の化合物に
代えることによって、標題生成物が得られる。
【0040】例9および10:エチル (1R* ,3S
* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテートのジアステレオ異性体 クロマトグラフィーによってエチル (1R* ,3
S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキ
シ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シ
クロヘキサンアセテートの異性体を分離することを除
き、例5および6に記載の工程を用いて下記が得られ
る: 例9:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート 例10:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フ
ェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサ
ンアセテート 収率(両方のジアステレオ異性体について):76% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、17
20(νC=O)、1180(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス) NMR(360MHz、CDCl3 )δ: 例9の化合物、極性の低いもの: エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テート 0.97(m,2H,H2')、1.22、1.13〜
1.9(m,15Hエステルメチル,H4'〜H6',H4"
〜H6")、2(m,1H,H3')、2.52(s,2
H,H2 )、2.53(t,2H,H7",J=7.4H
z)、3.95(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"
=6.4Hz)、(m,2H,エステルメチレン)、
5.37(dd,1H,H2",JH1"H2"=15.5H
z,JH2"H3"=61Hz)、5.5(dd,1H,
H1",JH1"H2"=15.5Hz,JH1"H3'=61H
z)、7.15(m,5H,芳香族H) 例10の化合物、極性の高いもの: エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テート 0.97(m,2H,H2')、1.22、1.13〜
1.8(m,15H,エステルメチル,H4'〜H6',H
4"〜H6")、2(m,1H,H3')、2.5(s,2
H,H2 )、2.53(t,2H,H7",J=7.4H
z)、3.96(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"
=6.4Hz)、4.12(m,2H,エステルメチレ
ン)、5.37(dd,1H,H2",JH1"H2 =15.
5Hz,JH2"H 3"=6.1Hz)、5.5(dd,1
H,H1",JH1"H2"=15.5Hz,JH1 "H3'=6.1
Hz)、7.15(m,5H,芳香族H) MS(EI,20eV):例9および10の化合物 m/z:356(374−H2 O)
* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ
−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シク
ロヘキサンアセテートのジアステレオ異性体 クロマトグラフィーによってエチル (1R* ,3
S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキ
シ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シ
クロヘキサンアセテートの異性体を分離することを除
き、例5および6に記載の工程を用いて下記が得られ
る: 例9:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェ
ニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート 例10:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フ
ェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサ
ンアセテート 収率(両方のジアステレオ異性体について):76% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、17
20(νC=O)、1180(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス) NMR(360MHz、CDCl3 )δ: 例9の化合物、極性の低いもの: エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テート 0.97(m,2H,H2')、1.22、1.13〜
1.9(m,15Hエステルメチル,H4'〜H6',H4"
〜H6")、2(m,1H,H3')、2.52(s,2
H,H2 )、2.53(t,2H,H7",J=7.4H
z)、3.95(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"
=6.4Hz)、(m,2H,エステルメチレン)、
5.37(dd,1H,H2",JH1"H2"=15.5H
z,JH2"H3"=61Hz)、5.5(dd,1H,
H1",JH1"H2"=15.5Hz,JH1"H3'=61H
z)、7.15(m,5H,芳香族H) 例10の化合物、極性の高いもの: エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テート 0.97(m,2H,H2')、1.22、1.13〜
1.8(m,15H,エステルメチル,H4'〜H6',H
4"〜H6")、2(m,1H,H3')、2.5(s,2
H,H2 )、2.53(t,2H,H7",J=7.4H
z)、3.96(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"
=6.4Hz)、4.12(m,2H,エステルメチレ
ン)、5.37(dd,1H,H2",JH1"H2 =15.
5Hz,JH2"H 3"=6.1Hz)、5.5(dd,1
H,H1",JH1"H2"=15.5Hz,JH1 "H3'=6.1
Hz)、7.15(m,5H,芳香族H) MS(EI,20eV):例9および10の化合物 m/z:356(374−H2 O)
【0041】例11:エチル 1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1
−ウンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテ
ート 調製1の化合物の代わりに調製2の化合物を用いること
を除き、例1に記載の工程を用いることによって、標題
化合物を得る。 例12および13:エチル 1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチル−ジメチルシリルオキシ−
1−ウンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テートのジアステレオ異性体 シリカ上のクロマトグラフィーによって例11の化合物
の異性体を分離すること以外は、例2および3に記載の
工程を用いて下記が得られる:
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1
−ウンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテ
ート 調製1の化合物の代わりに調製2の化合物を用いること
を除き、例1に記載の工程を用いることによって、標題
化合物を得る。 例12および13:エチル 1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチル−ジメチルシリルオキシ−
1−ウンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テートのジアステレオ異性体 シリカ上のクロマトグラフィーによって例11の化合物
の異性体を分離すること以外は、例2および3に記載の
工程を用いて下記が得られる:
【0042】例12:エチル (1S* ,3S* )−1
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−ウンデセン−1−イル]−1−シ
クロヘキサンアセテート
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−ウンデセン−1−イル]−1−シ
クロヘキサンアセテート
【化22】 例13:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−ウンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−ウンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサン
アセテート
【化23】
【0043】全体の収率(両方の異性体):86.5% 用いたクロマトグラフィー系: HPLC、ヌクレオシル10μ、溶離液:シクロヘキサ
ン/エーテル、90:10 IR(フィルム、cm-1):(化合物12及び13):
3460(νOH)、1710(νC=O)、1245
(νSi−CH3 )、960(νHC=CHトラン
ス)、825〜765(νSi−CH3 )1 H NMR(CDCl3 、360MHz)δ: 例12の化合物(極性の低いもの) 0.0(d,6H,ジメチルシリル)、0.84(m,
12H,第三−ブチルシリル,H11" )、1.03
(m,2H,H2')、1.26、1.22および1.1
1〜1.8(m,25H,エステルメチル,H4'〜
H6',H4"〜H10" )、2.4(s,2H,H2 )、
2.41(m1H,H3')、3.37(m,1H,ヒド
ロキシル)、3.96(q,1H,H3",JH3"H4"=J
H3"H2"=6.4Hz)、4.16(q,2H,エステル
メチレン,J=7.2Hz)、5.31(dd,1H,
H2",JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1H
z)、5.38(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.
5Hz,JH1"H3'=6.1Hz) 例13の化合物(極性の高いもの) 0.0(d、6H,ジメチルシリル)、0.85(m,
12H,第三−ブチルシリル、H11" )、1.02
(m,2H,H2')、1.26、1.22および1.1
〜1.8(m,25H,エステルメチル,H4'〜H6',
H4"〜H10" )、2.02(m,1H,H3')、2.5
7(m,2H,H2 )、3.83(m,1H,ヒドロキ
シル)、3.97(q,1H,H3",JH3"H4"=J
H3"H2"=6.4Hz)、4.17(q,2H,エステル
メチレン,J=7.2Hz)、5.32(dd,1H,
H2",JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1H
z)、5.40(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.
5Hz,JH1"H3'=6.1Hz)
ン/エーテル、90:10 IR(フィルム、cm-1):(化合物12及び13):
3460(νOH)、1710(νC=O)、1245
(νSi−CH3 )、960(νHC=CHトラン
ス)、825〜765(νSi−CH3 )1 H NMR(CDCl3 、360MHz)δ: 例12の化合物(極性の低いもの) 0.0(d,6H,ジメチルシリル)、0.84(m,
12H,第三−ブチルシリル,H11" )、1.03
(m,2H,H2')、1.26、1.22および1.1
1〜1.8(m,25H,エステルメチル,H4'〜
H6',H4"〜H10" )、2.4(s,2H,H2 )、
2.41(m1H,H3')、3.37(m,1H,ヒド
ロキシル)、3.96(q,1H,H3",JH3"H4"=J
H3"H2"=6.4Hz)、4.16(q,2H,エステル
メチレン,J=7.2Hz)、5.31(dd,1H,
H2",JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1H
z)、5.38(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.
5Hz,JH1"H3'=6.1Hz) 例13の化合物(極性の高いもの) 0.0(d、6H,ジメチルシリル)、0.85(m,
12H,第三−ブチルシリル、H11" )、1.02
(m,2H,H2')、1.26、1.22および1.1
〜1.8(m,25H,エステルメチル,H4'〜H6',
H4"〜H10" )、2.02(m,1H,H3')、2.5
7(m,2H,H2 )、3.83(m,1H,ヒドロキ
シル)、3.97(q,1H,H3",JH3"H4"=J
H3"H2"=6.4Hz)、4.17(q,2H,エステル
メチレン,J=7.2Hz)、5.32(dd,1H,
H2",JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1H
z)、5.40(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.
5Hz,JH1"H3'=6.1Hz)
【0044】例14:エチル (1S* ,3S* )−1
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例2の化合物の代わりに例12の化合物を用いること以
外は、例4に記載の工程を用いることによって、標題生
成物が得られる。
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例2の化合物の代わりに例12の化合物を用いること以
外は、例4に記載の工程を用いることによって、標題生
成物が得られる。
【0045】例15および16:例14のジアステレオ
異性体を分離することを除き、例5および6に記載の工
程を用いて下記が得られる: 例15:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例16:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 溶離液:シクロヘキサン/酢酸エチル(85:15) IR(フィルム、cm-1):化合物15および16:3
400(νOH)、1710(νC=O)、1200
(νC−O−C)1 H NMR(CDCl3 ,360MHz)δ: 例15の化合物(極性の低いもの) 0.85(m,3H,H11" )、1.05(m,2H,
H2')、1.25、1.24および1.16〜1.83
(m,25H,エステルメチル,H4'〜H6',H4"〜H
10" )、2.40(s,2H,H2 )、2.42(m,
1H,H3')、3.99(q,1H,JH3"H4"=J
H3"H2"=6.4Hz)、4.15(q,2H,エステル
メチレン、J=7.2Hz)、5.42(dd,1H,
H2",JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1H
z)、5.52(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.
5Hz,JH1"H3'=6.1Hz) 例16の化合物(極性の低いもの) 0.85(t,3H,H11" )、1.05(m,2H,
H2')、1.25、1.24および1.16〜1.83
(m,25H,エステルメチル,H4'〜H6',H4"〜H
10" )、2.40(s,2H,H2 )、2.42(m,
1H,H3')、4(q,1H,H3"JH3"H4"=JH3"H2"
=6.4Hz)、4.15(q,2H,エステルメチレ
ン,J=7.2Hz)、5.42(dd,1H,H 2",
JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1Hz)、
5.52(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.5H
z,JH1"H3'=6.1Hz) 例15および16の化合物 質量スペクトル分析(E
I、20eV):m/z:318(354−2H2 O)
異性体を分離することを除き、例5および6に記載の工
程を用いて下記が得られる: 例15:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例16:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 溶離液:シクロヘキサン/酢酸エチル(85:15) IR(フィルム、cm-1):化合物15および16:3
400(νOH)、1710(νC=O)、1200
(νC−O−C)1 H NMR(CDCl3 ,360MHz)δ: 例15の化合物(極性の低いもの) 0.85(m,3H,H11" )、1.05(m,2H,
H2')、1.25、1.24および1.16〜1.83
(m,25H,エステルメチル,H4'〜H6',H4"〜H
10" )、2.40(s,2H,H2 )、2.42(m,
1H,H3')、3.99(q,1H,JH3"H4"=J
H3"H2"=6.4Hz)、4.15(q,2H,エステル
メチレン、J=7.2Hz)、5.42(dd,1H,
H2",JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1H
z)、5.52(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.
5Hz,JH1"H3'=6.1Hz) 例16の化合物(極性の低いもの) 0.85(t,3H,H11" )、1.05(m,2H,
H2')、1.25、1.24および1.16〜1.83
(m,25H,エステルメチル,H4'〜H6',H4"〜H
10" )、2.40(s,2H,H2 )、2.42(m,
1H,H3')、4(q,1H,H3"JH3"H4"=JH3"H2"
=6.4Hz)、4.15(q,2H,エステルメチレ
ン,J=7.2Hz)、5.42(dd,1H,H 2",
JH1"H2"=15.5Hz,JH2"H3"=6.1Hz)、
5.52(dd,1H,H1",JH1"H2"=15.5H
z,JH1"H3'=6.1Hz) 例15および16の化合物 質量スペクトル分析(E
I、20eV):m/z:318(354−2H2 O)
【0046】例17:エチル (1R* ,3S* )−1
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例2の化合物の代わりに例13の化合物を用いること以
外は、例4に用いた工程を用いて標題生成物が得られ
る。
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例2の化合物の代わりに例13の化合物を用いること以
外は、例4に用いた工程を用いて標題生成物が得られ
る。
【0047】例18および19:例17のジアステレオ
異性体を分離すること以外は、例5および6に用いた工
程を用いて下記が得られる: 例18:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例19:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 溶離液: シクロヘキサン/酢酸エチル、80:
20 例18の化合物(極性の低いもの): 収率:37% 例19の化合物(極性の高いもの) 収率:42.5% IR(フィルム、cm-1):化合物18および19:3
400(νOH)、1720(νC=O)、1200
(νC−O−C)
異性体を分離すること以外は、例5および6に用いた工
程を用いて下記が得られる: 例18:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例19:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−ウ
ンデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 溶離液: シクロヘキサン/酢酸エチル、80:
20 例18の化合物(極性の低いもの): 収率:37% 例19の化合物(極性の高いもの) 収率:42.5% IR(フィルム、cm-1):化合物18および19:3
400(νOH)、1720(νC=O)、1200
(νC−O−C)
【0048】例20〜25:例1において調製3の化合
物から出発し、酢酸エチルの代わりに酪酸メチルをシク
ロヘキサノンの1位でグラフトさせること以外は、例1
〜6に記載の工程を用いて下記が連続して得られる: 例20:メチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例21:メチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブ
チレート 例22:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブ
チレート 例23:メチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例24:メチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例25:メチル(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オク
テン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート
物から出発し、酢酸エチルの代わりに酪酸メチルをシク
ロヘキサノンの1位でグラフトさせること以外は、例1
〜6に記載の工程を用いて下記が連続して得られる: 例20:メチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例21:メチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブ
チレート 例22:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブ
チレート 例23:メチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例24:メチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例25:メチル(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−
3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オク
テン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート
【0049】例26〜28:例22で得られる化合物か
ら出発すること以外は例4〜6に記載の工程を用いて、
下記が得られる: 例26:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例27:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例28:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート
ら出発すること以外は例4〜6に記載の工程を用いて、
下記が得られる: 例26:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例27:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例28:メチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート
【0050】例29〜32:例24、25、27および
28で得られる化合物を、水酸化カリウムで処理するこ
とによって、下記が連続して得られる: 例29:カリウム (1S* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例30:カリウム (1S* 、3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* 、E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例31:カリウム (1R* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例32:カリウム (1R* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート
28で得られる化合物を、水酸化カリウムで処理するこ
とによって、下記が連続して得られる: 例29:カリウム (1S* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例30:カリウム (1S* 、3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* 、E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例31:カリウム (1R* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート 例32:カリウム (1R* ,3S* )−1−ヒドロキ
シ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンブチレート
【0051】例33〜38:例1において調製1で得た
化合物の代わりに調製3で得た化合物を用いること以外
は、例1〜6に記載の処理法を用いて、下記が連続して
得られる: 例33:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例34:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例35:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例36:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例37:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例38:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート
化合物の代わりに調製3で得た化合物を用いること以外
は、例1〜6に記載の処理法を用いて、下記が連続して
得られる: 例33:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例34:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例35:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例36:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例37:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例38:エチル (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート
【0052】例39〜41:例35で得た化合物から出
発すること以外は、例4〜6に記載の工程を用いて、下
記が連続して得られる: 例39:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例40:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサン−アセテート 例41:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサン−アセテート
発すること以外は、例4〜6に記載の工程を用いて、下
記が連続して得られる: 例39:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例40:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサン−アセテート 例41:エチル (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ
−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オ
クテン−1−イル]−1−シクロヘキサン−アセテート
【0053】例42〜45:例6の化合物の代わりに例
37、38、40および41の化合物を用いること以外
は、例7に記載の処理法を用いて、下記が連続して得ら
れる: 例42:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン
−1−イル]−1−シクロヘキサン酢酸 例43:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* )−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサン酢酸 例44:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* )−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサン酢酸 例45:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* )−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサン酢酸
37、38、40および41の化合物を用いること以外
は、例7に記載の処理法を用いて、下記が連続して得ら
れる: 例42:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−1−オクテン
−1−イル]−1−シクロヘキサン酢酸 例43:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* )−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサン酢酸 例44:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* )−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサン酢酸 例45:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* )−3−ヒドロキシ−1−オクテン−1
−イル]−1−シクロヘキサン酢酸
【0054】例46〜54:調製4〜12で得られる化
合物から出発すること以外は、例1に記載の工程を用い
て、下記が連続して得られる: 例46:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−6−フェノキシ−
1−ヘキセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテ
ート 例47:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−13−フェノキシ
−1−トリデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例48:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−4−(4−クロロ
フェニル)−1−ブテン−1−イル]−1−シクロヘキ
サンアセテート 例49:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−6−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1−ヘキセン−1−イル]−1−
シクロヘキサンアセテート 例50:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−4,4−ジメチル
−1−ペンテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テート 例51:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−4−(4−トリフ
ルオロメチルフェニル)−1−ブテン−1−イル]−1
−シクロヘキサンアセテート 例52:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1−デセン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例53:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−5−シクロペンチ
ル−1−ペンテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例54:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1
−ヘプテン−1−イル]−1,2,3,4−テトラヒド
ロナフタレン−1−アセテート
合物から出発すること以外は、例1に記載の工程を用い
て、下記が連続して得られる: 例46:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−6−フェノキシ−
1−ヘキセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテ
ート 例47:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−13−フェノキシ
−1−トリデセン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例48:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−4−(4−クロロ
フェニル)−1−ブテン−1−イル]−1−シクロヘキ
サンアセテート 例49:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−6−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1−ヘキセン−1−イル]−1−
シクロヘキサンアセテート 例50:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−4,4−ジメチル
−1−ペンテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセ
テート 例51:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−4−(4−トリフ
ルオロメチルフェニル)−1−ブテン−1−イル]−1
−シクロヘキサンアセテート 例52:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−1−デセン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例53:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−5−シクロペンチ
ル−1−ペンテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート 例54:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1
−ヘプテン−1−イル]−1,2,3,4−テトラヒド
ロナフタレン−1−アセテート
【0055】例55〜63:例2の化合物の代わりに例
46〜54の化合物を用いること以外は、例4に記載の
工程を用いることによって、下記が連続して得られる: 例55:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−6−フェノキシ−1−ヘキセン−1−イ
ル]−1−シクロヘキサンアセテート 例56:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−13−フェノキシ−1−トリデセン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例57:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−4−(4−クロロフェニル)−1−ブテン
−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例58:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1
−ヘキセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテー
ト 例59:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−4,4−ジメチル−1−ペンテン−1−イ
ル]−1−シクロヘキサンアセテート 例60:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)
−1−ブテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテ
ート 例61:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−1−デセン−1−イル]−1−シクロヘキ
サンアセテート 例62:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−5−シクロペンチル−1−ペンテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例63:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]
−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−アセ
テート
46〜54の化合物を用いること以外は、例4に記載の
工程を用いることによって、下記が連続して得られる: 例55:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−6−フェノキシ−1−ヘキセン−1−イ
ル]−1−シクロヘキサンアセテート 例56:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−13−フェノキシ−1−トリデセン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例57:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−4−(4−クロロフェニル)−1−ブテン
−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例58:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1
−ヘキセン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテー
ト 例59:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−4,4−ジメチル−1−ペンテン−1−イ
ル]−1−シクロヘキサンアセテート 例60:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)
−1−ブテン−1−イル]−1−シクロヘキサンアセテ
ート 例61:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−1−デセン−1−イル]−1−シクロヘキ
サンアセテート 例62:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−5−シクロペンチル−1−ペンテン−1−
イル]−1−シクロヘキサンアセテート 例63:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]
−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−アセ
テート
【0056】例64および65:1,2,3,4−テト
ラヒドロナフタレンの代わりにペルヒドロナフタレンを
用いること以外は、例54および63に用いる処理法を
用いて、下記が連続して得られる: 例64:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−第三
−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘ
プテン−1−イル]−ペルヒドロナフタレン−1−アセ
テート 例65:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]
−ペルヒドロナフタレン−1−アセテート
ラヒドロナフタレンの代わりにペルヒドロナフタレンを
用いること以外は、例54および63に用いる処理法を
用いて、下記が連続して得られる: 例64:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−第三
−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1−ヘ
プテン−1−イル]−ペルヒドロナフタレン−1−アセ
テート 例65:エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]
−ペルヒドロナフタレン−1−アセテート
【0057】例66および67: 例66:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7
−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサ
ン−1−(N,N−ジメチルアセトアミド) 例67:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7
−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサ
ン−1−(N,N−ジメチルアセトアミド) T.CUVIGNY 、P.HULLOT、M.LARCHEVEQUE およびH.NORMAN
T 、Compte rendus 、279 、シリーズC、1974, 569 に
よる。n−ブチル−リチウムの溶液(ヘキサン中、1.
36N)3.8cm3 (5.19mmol)を、−80
℃で10分間かけて滴下して、無水のTHF20cm 3
中のジイソプロピルアミン(新たに蒸留したもの)0.
631g(6.24mmol)からなる溶液に加える。
−78℃で40分間撹拌した後に、無水のTHF3cm
3 に溶解したN,N−ジメチルアセトアミド(新たに蒸
留したもの)0.511g(5.87mmol)を、−
60℃で30分間かけて滴下して加える。媒質を−60
℃で30分間撹拌し、次に調製1で得たケトン1.3g
(3.24mmol)を無水のTHF3cm3 に溶解し
たものを滴下して加える。温度を上昇させながら16時
間撹拌した後に、混合物を氷冷した水20cm3 で加水
分解する。水性相をジクロロメタンで抽出し、一緒に纒
めた有機相を飽和塩化ナトリウム溶液20cm3 で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に得られ
る粗製の生成物1.7gをシリカ50gのカラム上でク
ロマトグラフィーを行い、例66および67の2個の異
性体の最初の分離体を得る(溶離液:シクロヘキサン/
エーテル(50:50))。
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7
−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサ
ン−1−(N,N−ジメチルアセトアミド) 例67:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7
−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサ
ン−1−(N,N−ジメチルアセトアミド) T.CUVIGNY 、P.HULLOT、M.LARCHEVEQUE およびH.NORMAN
T 、Compte rendus 、279 、シリーズC、1974, 569 に
よる。n−ブチル−リチウムの溶液(ヘキサン中、1.
36N)3.8cm3 (5.19mmol)を、−80
℃で10分間かけて滴下して、無水のTHF20cm 3
中のジイソプロピルアミン(新たに蒸留したもの)0.
631g(6.24mmol)からなる溶液に加える。
−78℃で40分間撹拌した後に、無水のTHF3cm
3 に溶解したN,N−ジメチルアセトアミド(新たに蒸
留したもの)0.511g(5.87mmol)を、−
60℃で30分間かけて滴下して加える。媒質を−60
℃で30分間撹拌し、次に調製1で得たケトン1.3g
(3.24mmol)を無水のTHF3cm3 に溶解し
たものを滴下して加える。温度を上昇させながら16時
間撹拌した後に、混合物を氷冷した水20cm3 で加水
分解する。水性相をジクロロメタンで抽出し、一緒に纒
めた有機相を飽和塩化ナトリウム溶液20cm3 で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に得られ
る粗製の生成物1.7gをシリカ50gのカラム上でク
ロマトグラフィーを行い、例66および67の2個の異
性体の最初の分離体を得る(溶離液:シクロヘキサン/
エーテル(50:50))。
【0058】注:プロトンNMR(CCl4 、TMSな
し)は、具体的にはCH 2 CONMe2プロトンに関し
て2個の異性体を識別することができ(100MHzで
さえも)、それら例66の化合物は、化学シフトが2.
33であり、例67の化合物では2.49である。これ
には2個の異性体の分離がNMRによって観察できると
いう利点がある。合成のこの時点で極めて純度の高い生
成物の入手することが重要であり、この理由からクロマ
トグラフィー中に(シクロヘキサン/エーテル、40:
60)単離された例66および67の化合物を、更にH
PLC処理を施す。 RSILSiO2 10μカラム、L250、φ22 溶離液:ジクロロメタン/メタノール(99.1:0.
9)、流量12cm3/分 UV260nm検出器 HPLCクロマトグラフィー後に、下記を単離する:
(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−
3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド)(0.715g
(1.467mmol) 収率:45.8%)、(1
R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1
−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサン−1−(N,
N−ジメチルアセトアミド)(0.401g(0.82
28mmol) 収率:25.9%) 全体の収率:71.1% IR(フィルム、cm-1):例66および67の化合
物:3400(νOH)、1620(νC=O)、12
50(νSi−CH3 )、1065−1090(νSi
−O−C)、830および770(νSi−CH3 )、
1H NMR(CDCl3 、TMSなし、360MH
z)δ:
し)は、具体的にはCH 2 CONMe2プロトンに関し
て2個の異性体を識別することができ(100MHzで
さえも)、それら例66の化合物は、化学シフトが2.
33であり、例67の化合物では2.49である。これ
には2個の異性体の分離がNMRによって観察できると
いう利点がある。合成のこの時点で極めて純度の高い生
成物の入手することが重要であり、この理由からクロマ
トグラフィー中に(シクロヘキサン/エーテル、40:
60)単離された例66および67の化合物を、更にH
PLC処理を施す。 RSILSiO2 10μカラム、L250、φ22 溶離液:ジクロロメタン/メタノール(99.1:0.
9)、流量12cm3/分 UV260nm検出器 HPLCクロマトグラフィー後に、下記を単離する:
(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−
3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド)(0.715g
(1.467mmol) 収率:45.8%)、(1
R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−3−
第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニル−1
−ヘプテン−1−イル]−シクロヘキサン−1−(N,
N−ジメチルアセトアミド)(0.401g(0.82
28mmol) 収率:25.9%) 全体の収率:71.1% IR(フィルム、cm-1):例66および67の化合
物:3400(νOH)、1620(νC=O)、12
50(νSi−CH3 )、1065−1090(νSi
−O−C)、830および770(νSi−CH3 )、
1H NMR(CDCl3 、TMSなし、360MH
z)δ:
【0059】例66の化合物:(極性の低い異性体) 0.01(m,6H,ジメチルシリルオキシ)、0.8
5(m,9H,第三−ブチルシリルオキシ)、0.93
(m,2H,H2')、1〜1.87(m,12H,H4'
〜H6 、H4"〜H6")、2.35(s,2H,H2 )、
2.45(m,1H,H3')、2.55(m,2H,H
7")、2.94(s,3H,N−CH3 )、3.02
(s,3H,N−CH3 )、3.96(m,1H,
H3")、5.1(d,1H,ヒドロキシル)、5.36
(m,2H,H1",H2")、7.2(m,5H,芳香族
H)
5(m,9H,第三−ブチルシリルオキシ)、0.93
(m,2H,H2')、1〜1.87(m,12H,H4'
〜H6 、H4"〜H6")、2.35(s,2H,H2 )、
2.45(m,1H,H3')、2.55(m,2H,H
7")、2.94(s,3H,N−CH3 )、3.02
(s,3H,N−CH3 )、3.96(m,1H,
H3")、5.1(d,1H,ヒドロキシル)、5.36
(m,2H,H1",H2")、7.2(m,5H,芳香族
H)
【0060】例67の化合物(極性の高い異性体) 0.01(m,6H,ジメチルシリルオキシ)、0.8
5(m,9H,シリルオキシ)、1.01(m,1H,
H4'A )、1.27(m,H2'A )、1.29(m,H
5"およびH5'A )、1.37(m,H6'A ):1.43
(m,H4")、1.58(t,2H, 3J=7.5,H
6")、1.65(m,H4'B )、1.70(m,
H5'B )、1.84(m,2H,H6'B およびH2'B )
1.96(m,1H,H3')、2.51(m,2H,H
2 )、2.57(t,2H, 3J:7.2,H7")、
2.94(s,3H,N−CH3 )、3.02(s,3
H,N−CH 3 )、3.97(m,1H,H3")、5.
32(dd,1H,JH2"H3"=6.1JH2"H1"=15.
4、H2")、5.40(dd,1H,JH1"H2"=15.
4,J H1"H3'=6.1,H1")、5.69(d,1H,
3J=5.0,OH)、7.14(m,3H,H9",H
11" ,H13" )、7.24(t,2H, 3J=7.5,
H10" ,H12" )1 H/ 1H相関(CDCl3 ):(H9",H10" )、
(H9",H7")、(OH,H2 )、(H1",H3')(H
2",H3")、(H3",H4")、(H7",H6")、
(H3',H2'B )、(H3',H2'A )、(H3',
H4'A )、(H3',H4'B )、(H6'B ,H6'A )、
(H6'B',H5'B )、(H6'B ,H5'A )、(H5'B ,
H5' A )、(H5'B ,H4'A )、(H5'B ,H4'B )、
(H4'A ,H4'B )、(H2' A ,H2'B )、(CH3 −
t−Bu,Si−CH3 ) 百分率分析 C29H49NO3 Si M:487.34
8 計算値,%: C 71.41 H 10.13 N 2.87 測定値 71.48 9.90 3.02
5(m,9H,シリルオキシ)、1.01(m,1H,
H4'A )、1.27(m,H2'A )、1.29(m,H
5"およびH5'A )、1.37(m,H6'A ):1.43
(m,H4")、1.58(t,2H, 3J=7.5,H
6")、1.65(m,H4'B )、1.70(m,
H5'B )、1.84(m,2H,H6'B およびH2'B )
1.96(m,1H,H3')、2.51(m,2H,H
2 )、2.57(t,2H, 3J:7.2,H7")、
2.94(s,3H,N−CH3 )、3.02(s,3
H,N−CH 3 )、3.97(m,1H,H3")、5.
32(dd,1H,JH2"H3"=6.1JH2"H1"=15.
4、H2")、5.40(dd,1H,JH1"H2"=15.
4,J H1"H3'=6.1,H1")、5.69(d,1H,
3J=5.0,OH)、7.14(m,3H,H9",H
11" ,H13" )、7.24(t,2H, 3J=7.5,
H10" ,H12" )1 H/ 1H相関(CDCl3 ):(H9",H10" )、
(H9",H7")、(OH,H2 )、(H1",H3')(H
2",H3")、(H3",H4")、(H7",H6")、
(H3',H2'B )、(H3',H2'A )、(H3',
H4'A )、(H3',H4'B )、(H6'B ,H6'A )、
(H6'B',H5'B )、(H6'B ,H5'A )、(H5'B ,
H5' A )、(H5'B ,H4'A )、(H5'B ,H4'B )、
(H4'A ,H4'B )、(H2' A ,H2'B )、(CH3 −
t−Bu,Si−CH3 ) 百分率分析 C29H49NO3 Si M:487.34
8 計算値,%: C 71.41 H 10.13 N 2.87 測定値 71.48 9.90 3.02
【0061】例68および69: 例68:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 例69:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 蒸留したTHF14cm3 に溶解した例66の化合物
0.626g(1.28mmol)を、25cm3 の丸
底フラスコに導入し、溶液を0℃に冷却した後に1N塩
酸1.93cm3 (1.93mmol)を加える。室温
に戻した後、媒質を64時間撹拌し、次に炭酸水素ナト
リウム0.336g(4mmol)を加える。この媒質
をロータリーエバポレーター中で濃縮し、続いてエーテ
ル50cm 3 を用いて取り出す。水性相をエーテルで抽
出し、一緒に纒めた有機相を蒸留水5cm3 で2回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に得られた油
状生成物0.650gをシリカ37gのカラム上でクロ
マトグラフィーを行って、例68および69に対応する
2個の異性体を単離する。酢酸エチルで溶出すると、2
個の異性体(1.154mmol)の混合物0.430
gを生成する。 収率(脱保護+クロマトグラフィー):90% この異性体を、溶離液として酢酸エチルを用いたHPL
Cによって精製(または分離)し、例68および69の
化合物(1.087mmol)0.405gを生成す
る。 収率(脱保護+クロマトグラフィー+HPLC):85
% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、16
20(νC=O)、1185(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス)
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 例69:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 蒸留したTHF14cm3 に溶解した例66の化合物
0.626g(1.28mmol)を、25cm3 の丸
底フラスコに導入し、溶液を0℃に冷却した後に1N塩
酸1.93cm3 (1.93mmol)を加える。室温
に戻した後、媒質を64時間撹拌し、次に炭酸水素ナト
リウム0.336g(4mmol)を加える。この媒質
をロータリーエバポレーター中で濃縮し、続いてエーテ
ル50cm 3 を用いて取り出す。水性相をエーテルで抽
出し、一緒に纒めた有機相を蒸留水5cm3 で2回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。濃縮後に得られた油
状生成物0.650gをシリカ37gのカラム上でクロ
マトグラフィーを行って、例68および69に対応する
2個の異性体を単離する。酢酸エチルで溶出すると、2
個の異性体(1.154mmol)の混合物0.430
gを生成する。 収率(脱保護+クロマトグラフィー):90% この異性体を、溶離液として酢酸エチルを用いたHPL
Cによって精製(または分離)し、例68および69の
化合物(1.087mmol)0.405gを生成す
る。 収率(脱保護+クロマトグラフィー+HPLC):85
% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、16
20(νC=O)、1185(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス)
【0062】1H NMR(CDCl3 ,360MH
z)δ: 例68の化合物:(極性の低い異性体) (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3S*
R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプ
テン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジメ
チルアセトアミド) 0.97(m,2H,H2')、1.13〜1.75
(m,12H,H4'〜H6',H4"〜H6")、2.37
(s,2H,H2 )、2.46(m,1H,H3')、
2.55(t,2H,H7")、2.94(s,3H,N
−CH3 )、3.02(s,3H,N−CH3 )、3.
95(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.
4)、5.08(s,1H,ヒドロキシル)、5.35
(dd,1H,H2",J H1"H2"=15.5,JH2"H3"=
6.1)、5.46(dd,1H,H1",JH1"H 2"=1
5.5,JH1"H3'=6.1)、7.14(m,3H,H
9",H11" ,H13 " )、7.24(t,2H, 3J=
7.5,H10" ,H12" )
z)δ: 例68の化合物:(極性の低い異性体) (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3S*
R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプ
テン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジメ
チルアセトアミド) 0.97(m,2H,H2')、1.13〜1.75
(m,12H,H4'〜H6',H4"〜H6")、2.37
(s,2H,H2 )、2.46(m,1H,H3')、
2.55(t,2H,H7")、2.94(s,3H,N
−CH3 )、3.02(s,3H,N−CH3 )、3.
95(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.
4)、5.08(s,1H,ヒドロキシル)、5.35
(dd,1H,H2",J H1"H2"=15.5,JH2"H3"=
6.1)、5.46(dd,1H,H1",JH1"H 2"=1
5.5,JH1"H3'=6.1)、7.14(m,3H,H
9",H11" ,H13 " )、7.24(t,2H, 3J=
7.5,H10" ,H12" )
【0063】例69の化合物(極性の高い異性体) (1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(3R*
S* E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル」シクロヘキサン−1−(N,N−ジメチ
ルアセトアミド) 1.0(m,2H,H2')、1.14〜1.83(m,
12H,H4'〜H6'、H 4"〜H6")、2.41(s,2
H,H2 )、2.43(m,1H,H3')、2.57
(t,2H,H7")、2.94(s,3H,N−C
H3 )、3.02(s,3H,N−CH3 )、3.98
(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.4)5.
40(dd、1H,H2",JH1"H2"=15.5,J
H2"H3"=6.1)5.51(dd,1H,H1",J
H1"H2"=15.5Hz,JH1"H3'=6.1Hz)、5.
70(m,1H,ヒドロキシル)、7.14(m,3
H,H9",H11" ,H 13" )、7.24(t、2H, 3
J=7.5,H10" ,H12" ) 百分率分析 C23H34NO3 M:373.261 計算値,%: C 73.94 H 9.45 N 3.75 測定値: 74.02 9.65 3.71
S* E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル」シクロヘキサン−1−(N,N−ジメチ
ルアセトアミド) 1.0(m,2H,H2')、1.14〜1.83(m,
12H,H4'〜H6'、H 4"〜H6")、2.41(s,2
H,H2 )、2.43(m,1H,H3')、2.57
(t,2H,H7")、2.94(s,3H,N−C
H3 )、3.02(s,3H,N−CH3 )、3.98
(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.4)5.
40(dd、1H,H2",JH1"H2"=15.5,J
H2"H3"=6.1)5.51(dd,1H,H1",J
H1"H2"=15.5Hz,JH1"H3'=6.1Hz)、5.
70(m,1H,ヒドロキシル)、7.14(m,3
H,H9",H11" ,H 13" )、7.24(t、2H, 3
J=7.5,H10" ,H12" ) 百分率分析 C23H34NO3 M:373.261 計算値,%: C 73.94 H 9.45 N 3.75 測定値: 74.02 9.65 3.71
【0064】例70および71: 例70:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 例71:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 反応は、例66の化合物と同様に、例67の化合物35
5mg(0.728mmol)を用いて行う。クロマト
グラフィー後に得られる油状生成物230mgは、HP
LC(溶離液、酢酸エチル)によって精製する。例70
および71の純粋な化合物214mg(0.305mm
ol)を単離する。 全体の収率=214mg(0.574mmol)=79
% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、17
20(νC=O)、1180(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス)1 H NMR(CDCl3 ,360MHz)δ:
[(3S* R* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 例71:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル
−1−ヘプテン−1−イル]シクロヘキサン−1−
(N,N−ジメチルアセトアミド) 反応は、例66の化合物と同様に、例67の化合物35
5mg(0.728mmol)を用いて行う。クロマト
グラフィー後に得られる油状生成物230mgは、HP
LC(溶離液、酢酸エチル)によって精製する。例70
および71の純粋な化合物214mg(0.305mm
ol)を単離する。 全体の収率=214mg(0.574mmol)=79
% IR(フィルム、cm-1):3410(νOH)、17
20(νC=O)、1180(νC−O−C)、960
(νHC=CHトランス)1 H NMR(CDCl3 ,360MHz)δ:
【0065】例70および71の化合物 (1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−[(E)−
3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イ
ル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジメチルアセトア
ミド) 0.97(m,2H,H2')、1.13〜1.9(m,
12H,H4'〜H6'、H 4"〜H6")、2(m,1H,H
3')、2.52(s,2H,H2 )、2.53(t,2
H,H7",J=7.4)、2.94(s,3H,N−C
H3 )、3.02(s,3H,N−CH3 )、3.95
(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.4)、
5.37(dd,1H,H2",JH1"H2"=15.5,J
H2"H3"=6.1)、5.5(dd,1H,H1",J
H1"H2"=15.5,JH1"H3'=6.1)、5.7(m,
1H,ヒドロキシル)、7.14(m,3H,H9",H
11" ,H13 " )、7.24(t,2H, 3J=7.5,
H10" ,H12" ) 百分率分析 C23H34NO3 M:373.261 計算値,%: C 73.94 H 9.45 N 3.75 測定値: 74.02 9.48 3.70
3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イ
ル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジメチルアセトア
ミド) 0.97(m,2H,H2')、1.13〜1.9(m,
12H,H4'〜H6'、H 4"〜H6")、2(m,1H,H
3')、2.52(s,2H,H2 )、2.53(t,2
H,H7",J=7.4)、2.94(s,3H,N−C
H3 )、3.02(s,3H,N−CH3 )、3.95
(q,1H,H3",JH3"H4"=JH3"H2"=6.4)、
5.37(dd,1H,H2",JH1"H2"=15.5,J
H2"H3"=6.1)、5.5(dd,1H,H1",J
H1"H2"=15.5,JH1"H3'=6.1)、5.7(m,
1H,ヒドロキシル)、7.14(m,3H,H9",H
11" ,H13 " )、7.24(t,2H, 3J=7.5,
H10" ,H12" ) 百分率分析 C23H34NO3 M:373.261 計算値,%: C 73.94 H 9.45 N 3.75 測定値: 74.02 9.48 3.70
【0066】例72および73:N,N−ジメチルアセ
トアミドの代わりにN−メチルN−フェニルアセトアミ
ドを用いること以外は、例66および67に記載の処理
法を用いて、下記が得られる: 例72:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N−メチル−N
−フェニルアセトアミド) 例73:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N−メチル−N
−フェニルアセトアミド)
トアミドの代わりにN−メチルN−フェニルアセトアミ
ドを用いること以外は、例66および67に記載の処理
法を用いて、下記が得られる: 例72:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N−メチル−N
−フェニルアセトアミド) 例73:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N−メチル−N
−フェニルアセトアミド)
【0067】例74および75:N,N−ジメチルアセ
トアミドの代わりにN,N−ジプロピルアセトアミドを
用いること以外は、例66および67に記載の工程を用
いて、下記が得られる。 例74:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジプロ
ピルアセトアミド) 例75:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジプロ
ピルアセトアミド)
トアミドの代わりにN,N−ジプロピルアセトアミドを
用いること以外は、例66および67に記載の工程を用
いて、下記が得られる。 例74:(1S* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジプロ
ピルアセトアミド) 例75:(1R* ,3S* )−1−ヒドロキシ−3−
[(E)−3−ヒドロキシ−7−フェニル−1−ヘプテ
ン−1−イル]シクロヘキサン−1−(N,N−ジプロ
ピルアセトアミド)
【0068】例76:エチル (1S* ,3S* )−1
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−オキソ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート D.TAUB、R.D.HOFFSOMMER、 C.H.KUO 、 H.L.SLATES、 Z.S.
ZELANSKI、 N.L.WENDLER Tetrahedron 、1973、1447に
よる。ジクロロメタン10cm3 に溶解した例5の化合
物0.120g(0.320mmol)を、25cm3
の丸底フラスコに導入する。活性化したマンガン2gを
加え、媒質を室温で16時間撹拌する。セライトで濾過
し、このフィルターをジクロロメタンで濯ぎ、濾液をロ
ータリーエバポレーター中で濃縮する。得られる油状生
成物0.105gをHPLCによるクロマトグラフィー
を行うことによって(溶離液:シクロヘキサン/酢酸エ
チル、90:10)、純粋なケトン0.097g(0.
260mmol)が回収される。 収率(酸化+HPLCクロマトグラフィー):81% IR(フィルム,cm-1) 3410(νOH)、1720(νC=O)、1185
(νC−O−C)、960(νHC=CHトランス)1 H NMR(CDCl3 ,1 00MHz)δ:0.7
5〜2.15(m,15H,H2',エステルメチル、H
4'〜H6',H5",H6")、2.2〜2.80(m,7
H,H2 ,H3',H4",H7")、3.57(s,1H,
OH)、4.15(q,2H,エステルメチレン,J=
7.2)、5.94(d、1H,H2",JH1"H2",=1
6)、6.72(dd,1H,H1",JH1"H2"=16,
JH1"H3"=6.1)、7.18(m,5H,芳香族H) 百分率分析: C23H32O4 M=374.5
2 計算値,%: C 74.15 H 8.66 測定値: 74.05 8.74 これによって得られる化合物を、調製1の段階E′に記
載の型の還元を用いて還元することもできる。この方法
を用いて例7の化合物を酸化することもできる。
−ヒドロキシ−3−[(E)−3−オキソ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテート D.TAUB、R.D.HOFFSOMMER、 C.H.KUO 、 H.L.SLATES、 Z.S.
ZELANSKI、 N.L.WENDLER Tetrahedron 、1973、1447に
よる。ジクロロメタン10cm3 に溶解した例5の化合
物0.120g(0.320mmol)を、25cm3
の丸底フラスコに導入する。活性化したマンガン2gを
加え、媒質を室温で16時間撹拌する。セライトで濾過
し、このフィルターをジクロロメタンで濯ぎ、濾液をロ
ータリーエバポレーター中で濃縮する。得られる油状生
成物0.105gをHPLCによるクロマトグラフィー
を行うことによって(溶離液:シクロヘキサン/酢酸エ
チル、90:10)、純粋なケトン0.097g(0.
260mmol)が回収される。 収率(酸化+HPLCクロマトグラフィー):81% IR(フィルム,cm-1) 3410(νOH)、1720(νC=O)、1185
(νC−O−C)、960(νHC=CHトランス)1 H NMR(CDCl3 ,1 00MHz)δ:0.7
5〜2.15(m,15H,H2',エステルメチル、H
4'〜H6',H5",H6")、2.2〜2.80(m,7
H,H2 ,H3',H4",H7")、3.57(s,1H,
OH)、4.15(q,2H,エステルメチレン,J=
7.2)、5.94(d、1H,H2",JH1"H2",=1
6)、6.72(dd,1H,H1",JH1"H2"=16,
JH1"H3"=6.1)、7.18(m,5H,芳香族H) 百分率分析: C23H32O4 M=374.5
2 計算値,%: C 74.15 H 8.66 測定値: 74.05 8.74 これによって得られる化合物を、調製1の段階E′に記
載の型の還元を用いて還元することもできる。この方法
を用いて例7の化合物を酸化することもできる。
【0069】薬学試験例: 例A:本発明の化合物の、LTB4 (ロイコトリエンB
4 )レセプターへの結合に関する研究 本発明の化合物のLTB4 レセプターへの親和性の研究
を、膜上にLTB4 レセプターが存在することで知られ
るヒト多型核白血球(PMN)を用いて行った(J.Immu
nol.1982,vol,129,p1600)。 プロトコール: 1) ヒトPMNの入手 ヒトPMNを、デキストランT500 上での沈降によっ
て、健康なドナーのヘパリン化静脈血から単離する。上
清をFicoll PaqueTMで遠心分離し、残渣の赤血球を低張
性溶解により除去する。このPMNを、Ca2+およびM
g2+を含まないHankの等張塩水(HBSS)によっ
て洗浄する。細胞の純度は、トリパンブルー色素排除試
験によって確認する。 2)LTB4 レセプターへの結合の研究 PMNへの結合を、Ca2+およびMg2+を含まないHB
SSに、HEPES緩衝液5mMを入れた中で行う。P
MN(106 細胞)のインキュベーションを、1nM[
3H]LTB4 を用い、非放射活性なLTB4 または様
々な濃度の本発明の化合物の存在下若しくは非存在下
で、4℃で20分間行う。
4 )レセプターへの結合に関する研究 本発明の化合物のLTB4 レセプターへの親和性の研究
を、膜上にLTB4 レセプターが存在することで知られ
るヒト多型核白血球(PMN)を用いて行った(J.Immu
nol.1982,vol,129,p1600)。 プロトコール: 1) ヒトPMNの入手 ヒトPMNを、デキストランT500 上での沈降によっ
て、健康なドナーのヘパリン化静脈血から単離する。上
清をFicoll PaqueTMで遠心分離し、残渣の赤血球を低張
性溶解により除去する。このPMNを、Ca2+およびM
g2+を含まないHankの等張塩水(HBSS)によっ
て洗浄する。細胞の純度は、トリパンブルー色素排除試
験によって確認する。 2)LTB4 レセプターへの結合の研究 PMNへの結合を、Ca2+およびMg2+を含まないHB
SSに、HEPES緩衝液5mMを入れた中で行う。P
MN(106 細胞)のインキュベーションを、1nM[
3H]LTB4 を用い、非放射活性なLTB4 または様
々な濃度の本発明の化合物の存在下若しくは非存在下
で、4℃で20分間行う。
【0070】結果:ヒトPMNのインキュベーション
を、[ 3H]LTB4 (1nM)を用い、標識しないL
TB4 を増量しながら行うと、[ 3H]LTB4 は、用
量依存的にその特異的結合部位から置換される。本発明
の化合物がLTB4 レセプターの強力なリガンドである
と証明されるのは、それらが10-6〜10-7M程度の濃
度で、[ 3H]LTB4 の結合の50%を阻害(I
C50)するからである。一例として例7の化合物は、2
×10-7Mの濃度で[ 3H]LTB4 の結合を50%阻
害(IC50)する。また例69および71の化合物によ
ってもそれぞれ5×10-7Mおよび2×10-6MでのI
C50が得られる。
を、[ 3H]LTB4 (1nM)を用い、標識しないL
TB4 を増量しながら行うと、[ 3H]LTB4 は、用
量依存的にその特異的結合部位から置換される。本発明
の化合物がLTB4 レセプターの強力なリガンドである
と証明されるのは、それらが10-6〜10-7M程度の濃
度で、[ 3H]LTB4 の結合の50%を阻害(I
C50)するからである。一例として例7の化合物は、2
×10-7Mの濃度で[ 3H]LTB4 の結合を50%阻
害(IC50)する。また例69および71の化合物によ
ってもそれぞれ5×10-7Mおよび2×10-6MでのI
C50が得られる。
【0071】例B:インビトロにおけるヒトPMNの走
化性に関する本発明の化合物の活性研究 LTB4 は、ヒトPMNの自発的移動を活性化する。し
たがってこの移動の阻害を測定することによって、本発
明の化合物のLTB4 に対する拮抗薬作用を試験するこ
とができる。 プロトコール:Ca2+またはMg2+を含まないHBSS
中でインキュベートしたPMNを、51Cr(1μCi/
106 細胞)によって37℃で1時間標識した後、次に
HBSSで2回洗浄する。次にこのPMNを107 細胞
/cm3 の濃度で、1%のウシアルブミンを加えたHa
nkの緩衝液に再懸濁する。LTB4 およびHankの
緩衝液に溶解した本発明の化合物を、BOYDEN−K
ELLER室の下部に導入し、2個の硝酸セルロースフ
ィルター(ミリポア、3μm)を各ウェルの上に置き、
室の上部を細胞懸濁液で満たす(Method Enzymol 1988,
vol.162, pp59-64 )。この室を、加湿した空気95%
およびCO2 5%の雰囲気下で、37℃で150分間イ
ンキュベーションする。下部フィルターの放射活性は、
シンチレーション分光計によって測定する(Beckm
an LS 3801)。
化性に関する本発明の化合物の活性研究 LTB4 は、ヒトPMNの自発的移動を活性化する。し
たがってこの移動の阻害を測定することによって、本発
明の化合物のLTB4 に対する拮抗薬作用を試験するこ
とができる。 プロトコール:Ca2+またはMg2+を含まないHBSS
中でインキュベートしたPMNを、51Cr(1μCi/
106 細胞)によって37℃で1時間標識した後、次に
HBSSで2回洗浄する。次にこのPMNを107 細胞
/cm3 の濃度で、1%のウシアルブミンを加えたHa
nkの緩衝液に再懸濁する。LTB4 およびHankの
緩衝液に溶解した本発明の化合物を、BOYDEN−K
ELLER室の下部に導入し、2個の硝酸セルロースフ
ィルター(ミリポア、3μm)を各ウェルの上に置き、
室の上部を細胞懸濁液で満たす(Method Enzymol 1988,
vol.162, pp59-64 )。この室を、加湿した空気95%
およびCO2 5%の雰囲気下で、37℃で150分間イ
ンキュベーションする。下部フィルターの放射活性は、
シンチレーション分光計によって測定する(Beckm
an LS 3801)。
【0072】結果:LTB4 (0.1〜100nM)
は、BOYDEN−KELLER室のフィルターを通る
ヒトPMNの自発的移動を活性化する。本発明の化合物
が強力なLTB4 拮抗薬であることは、それらが用量依
存的にLTB4 によって誘導される細胞走化性を阻害す
ることから証明される。一例として濃度50μMまでの
例7の化合物は、細胞移動に関するLTB4 の作用を完
全に阻害する。
は、BOYDEN−KELLER室のフィルターを通る
ヒトPMNの自発的移動を活性化する。本発明の化合物
が強力なLTB4 拮抗薬であることは、それらが用量依
存的にLTB4 によって誘導される細胞走化性を阻害す
ることから証明される。一例として濃度50μMまでの
例7の化合物は、細胞移動に関するLTB4 の作用を完
全に阻害する。
【0073】例C:本発明の化合物の実質肺細片の収縮
(parenchymatous lung strips) に関する活性研究 LTB4 は、単離したモルモット肺の実質細片に対する
収縮作用を有する。本発明の化合物の、このLTB4 −
誘発性収縮に関する拮抗薬作用について試験する。 プロトコール:DUNKIN HARTLEYモルモッ
トの肺の実質細片を切断し、(95%O2 /5%C
O2 )の気流で酸素化したTyrode溶液を含む浴槽
に入れる。この細片を等尺性張力400mgを有するポ
リグラフ(GOULD Statham)に連結する。
1時間の平衡後に、メピラミン1μMおよびアトリプリ
ン10μMをこのTyrode溶液に加え、本発明の化
合物の拮抗薬作用について試験する。収縮反応を5分間
にわたり記録する。本発明の化合物の拮抗薬作用の試験
は、これらの化合物を、前記の浴槽に30nMのLTB
4 で収縮を刺激する2分前に加えることによって行う。 結果:本発明の化合物は、LTB4 によって誘導される
肺の実質的収縮を弱めることから、顕著なLTB4 拮抗
薬であることが証明される。収縮を50%阻害する(I
C50)本発明の化合物の濃度は、驚くほど低いことが証
明される。例えば例7の化合物のIC50濃度は40nM
である。
(parenchymatous lung strips) に関する活性研究 LTB4 は、単離したモルモット肺の実質細片に対する
収縮作用を有する。本発明の化合物の、このLTB4 −
誘発性収縮に関する拮抗薬作用について試験する。 プロトコール:DUNKIN HARTLEYモルモッ
トの肺の実質細片を切断し、(95%O2 /5%C
O2 )の気流で酸素化したTyrode溶液を含む浴槽
に入れる。この細片を等尺性張力400mgを有するポ
リグラフ(GOULD Statham)に連結する。
1時間の平衡後に、メピラミン1μMおよびアトリプリ
ン10μMをこのTyrode溶液に加え、本発明の化
合物の拮抗薬作用について試験する。収縮反応を5分間
にわたり記録する。本発明の化合物の拮抗薬作用の試験
は、これらの化合物を、前記の浴槽に30nMのLTB
4 で収縮を刺激する2分前に加えることによって行う。 結果:本発明の化合物は、LTB4 によって誘導される
肺の実質的収縮を弱めることから、顕著なLTB4 拮抗
薬であることが証明される。収縮を50%阻害する(I
C50)本発明の化合物の濃度は、驚くほど低いことが証
明される。例えば例7の化合物のIC50濃度は40nM
である。
【0074】例D:本発明の化合物の、局所炎症モデル
(乾癬)に関する活性研究 乾癬は、炎症性機構を有する慢性皮膚疾患である。その
病理学的過程には、T細胞が主要な役割を果たしている
ことが分かっている。詳細には、好中球の乾癬病巣への
皮膚浸潤が、LTB4 のような走化性因子と関連してい
るのである。本試験によって、本発明の化合物のこのよ
うな皮膚病巣に対する抗炎症活性の試験ができる。 プロトコール:(Current Test Protocols-Pharmacolog
y Service-Publication-June 92)試験化合物およびビヒ
クル(20μl)を同様に塗布した30分後に、アラキ
ドン酸(2mg、アセトン/ピリジン/水(7:2:
1)の混合物20μl中)をマウスの右耳前、後部表面
へ局所塗布した。耳の腫張を、Dyer型ゲージで60
分後に炎症指数として測定する。抑制率は、式lc−l
t/lc×100にしたがって計算するが、このlcお
よびltは、それぞれコントロールマウスおよび治療マ
ウスにおける耳の厚み(mm)の増加である。 結果:本発明の化合物が、強力な局所用抗炎症薬である
ことは明らかである。例えば例7の化合物は、耳につき
20mgの用量で、耳の体積を30%減少させる。
(乾癬)に関する活性研究 乾癬は、炎症性機構を有する慢性皮膚疾患である。その
病理学的過程には、T細胞が主要な役割を果たしている
ことが分かっている。詳細には、好中球の乾癬病巣への
皮膚浸潤が、LTB4 のような走化性因子と関連してい
るのである。本試験によって、本発明の化合物のこのよ
うな皮膚病巣に対する抗炎症活性の試験ができる。 プロトコール:(Current Test Protocols-Pharmacolog
y Service-Publication-June 92)試験化合物およびビヒ
クル(20μl)を同様に塗布した30分後に、アラキ
ドン酸(2mg、アセトン/ピリジン/水(7:2:
1)の混合物20μl中)をマウスの右耳前、後部表面
へ局所塗布した。耳の腫張を、Dyer型ゲージで60
分後に炎症指数として測定する。抑制率は、式lc−l
t/lc×100にしたがって計算するが、このlcお
よびltは、それぞれコントロールマウスおよび治療マ
ウスにおける耳の厚み(mm)の増加である。 結果:本発明の化合物が、強力な局所用抗炎症薬である
ことは明らかである。例えば例7の化合物は、耳につき
20mgの用量で、耳の体積を30%減少させる。
【0075】例E:急性毒性研究 急性の毒性について、8匹のマウス(26±2グラム)
から成る群への経口投与後に評価を行った。この動物
を、第1日目には規則的な間隔で、および投与後2週間
は毎日観察した。この動物の50%が死に至るLD50の
数値が得られた。この試験生成物のLD50は、1000
mg.kg-1を越えるものであり、本発明の化合物の毒
性が低いことを示している。
から成る群への経口投与後に評価を行った。この動物
を、第1日目には規則的な間隔で、および投与後2週間
は毎日観察した。この動物の50%が死に至るLD50の
数値が得られた。この試験生成物のLD50は、1000
mg.kg-1を越えるものであり、本発明の化合物の毒
性が低いことを示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/695 ACD ADA C07C 29/40 33/14 69/675 69/708 Z 9279−4H 69/732 Z 9279−4H 69/734 Z 9279−4H 235/30 7106−4H 403/08 403/10 403/12 403/20 C07D 295/18 Z C07F 7/18 A (72)発明者 クロード ボン フランス国モントゥペリエ,アヴニュ ド シタニィ,316 (72)発明者 ジャン クロード ロシィ フランス国モントゥペリエ,リュ ドゥ ガスコニュ 13 (72)発明者 ロジェ エスカル フランス国モントゥペリエ,リュ デ ア ヴァント モント バ./3 レジダンス シャトー ダレ (72)発明者 アグネ ミュレ フランス国ラット,リュ デ アマンディ エル 14
Claims (13)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 [(式中、 Bは、1〜8個の炭素原子を有し、未置換であるかまた
は1個若しくは2個のアルキル基で置換されているアル
キレン鎖であり、 R1 は、水素原子であるか、またはヒドロキシルおよび
アルコキシから選択される基であり、 R2 は、 −CH2 −OHおよび−COR6 から選択される基であ
って、 このR6 はヒドロキシル、アルコキシおよび−NR10R
11(但し、R10およびR11はそれぞれ互いに独立して、
水素原子、アルキル基またはアリール若しくはアリール
アルキル基であって、このアリールまたはアリールアル
キル基が未置換であるかまたはアリール基上でハロゲ
ン、アルキル、アルコキシおよびトリフルオロメチルか
ら選択される1個以上の基によって置換されているもの
であるか、あるいはR10およびR11は、これらを有する
窒素原子と一緒になってピロリジン、ピペリジン、ピペ
ラジン、モルホリンおよびチオモルホリンから選択され
るヘテロ環を形成する)から選択される基であり、R3
は、式 −CR7 R8 R9(式中、 R7 は、ヒドロキシル、アルコキシおよび−O−RA か
ら選択される基であって、但しRA は、アシルである
か、またはヒドロキシル官能基を保護する基であり、 R9 は、水素原子であるか、またはアルキル、アリール
およびアリールアルキルから選択される基であり、この
アリールまたはアリールアルキル基は未置換であるか、
またはそのアリール基上でハロゲン、アルキル、アルコ
キシおよびトリフルオロメチルから選択された1個以上
の基によって置換されており、あるいはR7 およびR9
は、オキソ基を形成し、およびR8 は、1〜12個の炭
素原子を有する線形または分枝したアルキル基であっ
て、未置換であるか、 ヒドロキシル、 ハロゲン、 未置換アリール、 ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシおよび
トリフルオロメチルから選択される1個以上の基で置換
されたアリール、 未置換シクロアルキル、 ハロゲン、アルキル、オキソおよびアルコキシから選択
される1個以上の基によって置換されたシクロアルキ
ル、から選択される1個以上の基によって置換されてお
り、 R8 は、場合によってはその炭素骨格に窒素、硫黄およ
び酸素から選択される1個または2個のヘテロ原子、 1個以上の不飽和結合、 を含むことができ、 R4 およびR5 は、それぞれ互いに独立して、水素およ
びアルキルから選択される基であるか、あるいはR4 お
よびR5 は、それらが結合しているシクロヘキサンと一
緒になって、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン
基またはペルヒドロナフタレン基を形成し、 但し、式(I)の説明中、特に断らない限り、 「アルキル」、「アルコキシ」および「アシル」という
用語は、1〜6個の炭素原子を含む線形または分枝した
基を表わし、 「アリール」という用語は、フェニルまたはナフチル基
を表わし、 「不飽和結合」という用語は、二重または三重結合を表
わし、 「シクロアルキル」という用語は、3〜7個の炭素原子
を有する基である]の化合物、それらの鏡像異性体およ
びジアステレオ異性体、それらのZおよびE異性体、お
よびそれらの薬学上許容可能な酸または塩基との付加塩
に関する。 - 【請求項2】 R8 が未置換の1〜12炭素原子を有す
る線形または分枝したアルキル基である請求項1に記載
の化合物、 その鏡像異性体およびジアステレオ異性体、そのZおよ
びE異性体および薬学上許容可能な酸または塩基とのそ
の付加塩。 - 【請求項3】 R8 が1〜12炭素原子を有する線形ま
たは分枝したアルキル基であって未置換であるかまたは
置換されたフェニル基によって置換されている、請求項
1に記載の化合物、 その鏡像異性体およびジアステレオ異性体、そのZおよ
びE異性体および薬学上許容可能な酸または塩基とのそ
の付加塩。 - 【請求項4】 R7 がヒドロキシルである請求項1に記
載の化合物、そのZおよびE異性体および薬学上許容可
能な酸または塩基とのその付加塩。 - 【請求項5】 エチル 1−ヒドロキシ−3−[(E)
−3−第三−ブチルジメチルシリルオキシ−7−フェニ
ル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロヘキサンア
セテートである、請求項1に記載の化合物、およびその
鏡像異性体およびジアステレオ異性体。 - 【請求項6】 エチル (1S* ,3S* )−1−ヒド
ロキシ−3−[(E)−3−第三−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−
1−シクロヘキサンアセテートである請求項1に記載の
化合物、およびその鏡像異性体およびジアステレオ異性
体。 - 【請求項7】 エチル (1S* ,3S* )−1−ヒド
ロキシ−3−[(3R* S* ,E)−3−ヒドロキシ−
7−フェニル−1−ヘプテン−1−イル]−1−シクロ
ヘキサンアセテートである請求項1に記載の化合物、お
よびその鏡像異性体およびジアステレオ異性体。 - 【請求項8】 請求項1による式(I)の化合物の調製
法であって、式(II) 【化2】 (式中、R3 、R4 およびR5 は、式(I)に記載した
通りである)の化合物を、式(III)- B−R2 (III) (式中R2 およびBは、式(I)に記載した通りであ
る)の化合物と反応させて、対応する式(I/a) 【化3】 (式中、R2 、R3 、R4 、R5 およびBは、前記に定
義した通りである)の化合物を得て、所望であれば、式
(IV) R′+ (IV) (式中、R′はアルキルである)の化合物を作用させ
て、式(I/b) 【化4】 (式中、R2 、R3 、R4 、R′、R5 およびBは、前
記に定義した通りである)の化合物を得るか、 あるいは塩化トシルで処理し、続いて水素化リチウムア
ルミニウムによる還元に付して式(I/c) 【化5】 (式中、R2 、R3 、R4 、R5 およびBは、前記に定
義した通りである)の化合物を生成させ、 式(I/a)(I/b)および(I/c)で、R9 が水
素原子であり、R7 がヒドロキシル基である化合物では
酸化させて式(I/d) 【化6】 (式中、R1 、R2 、R4 、R5 、R8 およびBは、前
記に定義した通りである)の化合物を得ることができ、
式(I/a)、(I/b)、(I/c)および(I/
d)の化合物は、式(I)の化合物の組であり、 この式(I)の化合物は、所望ならばそれらの様々な鏡
像異性体またはジアステレオ異性体に分離し、適宜薬学
上許容可能な酸または塩基と塩形成する調製法。 - 【請求項9】 ジアステレオ異性体の分離をカラムクロ
マトグラフィーによって行う、請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 ジアステレオ異性体の分離をカラムク
ロマトグラフィーによって行い、請求項1に記載の式
(I)の化合物中のR7 の基が第三−ブチルジメチルシ
リルオキシ基である、請求項8に記載の方法。 - 【請求項11】 活性成分として少なくとも1個の請求
項1に記載の化合物を、1種類以上の薬学上許容可能な
賦形剤またはビヒクルと組み合わせて含む医薬組成物。 - 【請求項12】 炎症性疾患および病理学的な炎症性症
状の治療および予防に有用な、請求項11に記載の医薬
組成物。 - 【請求項13】 慢性、急性の関節炎、肺炎、皮膚炎ま
たは腎炎の治療および予防、および詳細には、慢性関節
リウマチ、骨関節症、乾癬、アレルギー性疾患、喘息、
腸管の炎症性疾患、胃腸官系潰瘍、虚血、アテローム性
動脈硬化症、呼吸困難および敗血症ショックなどの関節
炎の予防および治療に有用な、請求項11に記載の医薬
組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9301690A FR2701477B1 (fr) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Nouveaux composés (cyclohexyl)alcéniques, leurs procédés de préparation, et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent. |
| FR9301690 | 1993-02-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06329568A true JPH06329568A (ja) | 1994-11-29 |
Family
ID=9444076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6019685A Pending JPH06329568A (ja) | 1993-02-16 | 1994-02-16 | 新規な(シクロヘキシル)アルケン化合物、それらの 調製法およびそれらを含む医薬組成物 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5639902A (ja) |
| EP (1) | EP0611755B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06329568A (ja) |
| AT (1) | ATE140216T1 (ja) |
| AU (1) | AU665701B2 (ja) |
| CA (1) | CA2115718A1 (ja) |
| DE (1) | DE69400283T2 (ja) |
| DK (1) | DK0611755T3 (ja) |
| ES (1) | ES2091670T3 (ja) |
| FR (1) | FR2701477B1 (ja) |
| GR (1) | GR3021200T3 (ja) |
| NZ (1) | NZ250885A (ja) |
| ZA (1) | ZA941056B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010509240A (ja) * | 2006-11-07 | 2010-03-25 | アルコン リサーチ, リミテッド | 喘息、アレルギー性鼻炎および皮膚障害の治療方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2633284B1 (en) | 2010-10-25 | 2021-08-25 | Accuri Cytometers, Inc. | Systems and user interface for collecting a data set in a flow cytometer |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4090019A (en) * | 1976-05-10 | 1978-05-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Geminal prostaglandin analogs |
| US4845258A (en) * | 1988-04-04 | 1989-07-04 | Ethyl Corporation | Production of gem-disubstituted cyclohexadienones |
| EP0614457B1 (de) * | 1991-11-29 | 1996-08-21 | Schering Aktiengesellschaft | Leukotrien-b 4?-derivative, verfahren zu ihrer herstellung und arzneimittel |
-
1993
- 1993-02-16 FR FR9301690A patent/FR2701477B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1994
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- 1994-02-11 ES ES94400296T patent/ES2091670T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-02-11 DK DK94400296.3T patent/DK0611755T3/da active
- 1994-02-11 AT AT94400296T patent/ATE140216T1/de not_active IP Right Cessation
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-
1996
- 1996-09-30 GR GR960402555T patent/GR3021200T3/el unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010509240A (ja) * | 2006-11-07 | 2010-03-25 | アルコン リサーチ, リミテッド | 喘息、アレルギー性鼻炎および皮膚障害の治療方法 |
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| FR2701477B1 (fr) | 1995-03-31 |
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