JPH06331798A - 拡散板 - Google Patents
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- JPH06331798A JPH06331798A JP12601493A JP12601493A JPH06331798A JP H06331798 A JPH06331798 A JP H06331798A JP 12601493 A JP12601493 A JP 12601493A JP 12601493 A JP12601493 A JP 12601493A JP H06331798 A JPH06331798 A JP H06331798A
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 24
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スリガラスやガラスを用いた既存の透過型拡
散板では吸収されてしまう波長の光を透過させるととも
に散乱させることのできる、透過型の拡散板を提供す
る。 【構成】 ４０Å付近の波長で用いる拡散板を構成する
場合、質量吸収係数が１．８７×１０4 ｃｍ2 ／ｇで、
密度が３．４４ｇ／ｃｍ3 のＳｉ3 Ｎ4 薄膜により、軟
Ｘ線を透過する薄膜を用い、この薄膜上に、軟Ｘ線波長
の１〜１０００倍の大きさを有するＡｕ（金；減衰係数
κ＝0.00935 ）を微粒子状に形成する。薄膜の厚さｄを
３０００Å以下に抑えたとき１０％以上の透過率が得ら
れ、また、１００Å程度の厚さにしたとき７０％の透過
率が得られ、光量損失が極めて小さくなる。
散板では吸収されてしまう波長の光を透過させるととも
に散乱させることのできる、透過型の拡散板を提供す
る。 【構成】 ４０Å付近の波長で用いる拡散板を構成する
場合、質量吸収係数が１．８７×１０4 ｃｍ2 ／ｇで、
密度が３．４４ｇ／ｃｍ3 のＳｉ3 Ｎ4 薄膜により、軟
Ｘ線を透過する薄膜を用い、この薄膜上に、軟Ｘ線波長
の１〜１０００倍の大きさを有するＡｕ（金；減衰係数
κ＝0.00935 ）を微粒子状に形成する。薄膜の厚さｄを
３０００Å以下に抑えたとき１０％以上の透過率が得ら
れ、また、１００Å程度の厚さにしたとき７０％の透過
率が得られ、光量損失が極めて小さくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主に軟Ｘ線（数百Åよ
り短い波長領域の光）に用いる拡散板に関するものであ
る。
り短い波長領域の光）に用いる拡散板に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、一般に、拡散板（散乱板）として
いわゆるスリガラスが用いられている。また、指向性を
向上させた拡散板として、ガラスに感光材を塗布した
後、ホログラフィック露光により細かいランダム模様を
形成し、その後エッチングによってガラス面に細かい凹
凸を形成したものも用いられている。しかし、このよう
な既存の透過型の拡散板は、光の波長が２０００Åより
短い場合、光を吸収してしまうため、波長が２０００Å
より短い光の拡散板として使用することはできなかっ
た。
いわゆるスリガラスが用いられている。また、指向性を
向上させた拡散板として、ガラスに感光材を塗布した
後、ホログラフィック露光により細かいランダム模様を
形成し、その後エッチングによってガラス面に細かい凹
凸を形成したものも用いられている。しかし、このよう
な既存の透過型の拡散板は、光の波長が２０００Åより
短い場合、光を吸収してしまうため、波長が２０００Å
より短い光の拡散板として使用することはできなかっ
た。
【０００３】そこで、波長が２０００Åより短い光に用
いる拡散板として、特開平4-353800号公報により、粗面
あらさがＲＭＳ値で光の波長とほぼ同程度の反射面を有
する拡散板（斜入射反射鏡）が提案されている。
いる拡散板として、特開平4-353800号公報により、粗面
あらさがＲＭＳ値で光の波長とほぼ同程度の反射面を有
する拡散板（斜入射反射鏡）が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような反射型に構成された拡散板を用いた場合、光学系
の光軸が曲げられてしまうので好ましくない。また、拡
散板に入射する斜入射角が波長に応じて決定されるの
で、光学系の構成および配置が限定されて自由度が小さ
くなってしまう。
ような反射型に構成された拡散板を用いた場合、光学系
の光軸が曲げられてしまうので好ましくない。また、拡
散板に入射する斜入射角が波長に応じて決定されるの
で、光学系の構成および配置が限定されて自由度が小さ
くなってしまう。
【０００５】本発明は、上記問題点に鑑み、既存の透過
型拡散板では吸収されてしまう波長の光を透過させると
ともに散乱させることのできる、透過型の拡散板を提供
することを目的とする。
型拡散板では吸収されてしまう波長の光を透過させると
ともに散乱させることのできる、透過型の拡散板を提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的のため、本発明
の拡散板は、軟Ｘ線を透過する薄膜上に、軟Ｘ線波長の
１〜１０００倍の大きさを有する微粒子を形成して成る
ことを特徴とするものである。
の拡散板は、軟Ｘ線を透過する薄膜上に、軟Ｘ線波長の
１〜１０００倍の大きさを有する微粒子を形成して成る
ことを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】本発明の拡散板は、軟Ｘ線を透過する薄膜を具
えるから、透過型拡散板として構成されることになり、
光軸が曲げられたり光学系の構成および配置の自由度が
小さくなる反射型拡散板の不具合は生じない。また、本
発明の拡散板は、上記薄膜上に軟Ｘ線波長の１〜１００
０倍の大きさを有する微粒子を形成されるから、既存の
透過型拡散板では吸収されてしまう波長の光を、光量損
失の少ないミー散乱領域で散乱させることができる。な
お、微粒子の大きさを軟Ｘ線波長の１０００倍未満にし
ているので、拡散板の拡散性能が拡散板として不十分な
値に低下することもない。
えるから、透過型拡散板として構成されることになり、
光軸が曲げられたり光学系の構成および配置の自由度が
小さくなる反射型拡散板の不具合は生じない。また、本
発明の拡散板は、上記薄膜上に軟Ｘ線波長の１〜１００
０倍の大きさを有する微粒子を形成されるから、既存の
透過型拡散板では吸収されてしまう波長の光を、光量損
失の少ないミー散乱領域で散乱させることができる。な
お、微粒子の大きさを軟Ｘ線波長の１０００倍未満にし
ているので、拡散板の拡散性能が拡散板として不十分な
値に低下することもない。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。図１は本発明の拡散板を使用した軟Ｘ線顕微
鏡の第１実施例の構成を示す図である。この第１実施例
は、レーザパルス光源を用いて構成したものである。す
なわち、高出力パルスレーザ１からの光束を集光レンズ
２で集光し、入射窓３を介して真空容器４内のターゲッ
ト５に照射して軟Ｘ線を発生するものであり、高出力パ
ルスレーザ１、集光レンズ２およびターゲット５で軟Ｘ
線の光源を構成する。
説明する。図１は本発明の拡散板を使用した軟Ｘ線顕微
鏡の第１実施例の構成を示す図である。この第１実施例
は、レーザパルス光源を用いて構成したものである。す
なわち、高出力パルスレーザ１からの光束を集光レンズ
２で集光し、入射窓３を介して真空容器４内のターゲッ
ト５に照射して軟Ｘ線を発生するものであり、高出力パ
ルスレーザ１、集光レンズ２およびターゲット５で軟Ｘ
線の光源を構成する。
【０００９】発生した軟Ｘ線６は、回転楕円体形状の斜
入射型コンデンサミラー７を経て拡散板８に入射し、拡
散板８で拡散された後に試料室９の薄膜窓１０を透過し
て試料室９内の試料（真空に対し隔離されている）１２
に照射される。その後、試料室９の薄膜窓１１を透過し
て多層膜を用いたシュヴァルツシルド型対物レンズ１３
に入射し、ＭＣＰフィルム等の画像検出器１４上に結像
される。
入射型コンデンサミラー７を経て拡散板８に入射し、拡
散板８で拡散された後に試料室９の薄膜窓１０を透過し
て試料室９内の試料（真空に対し隔離されている）１２
に照射される。その後、試料室９の薄膜窓１１を透過し
て多層膜を用いたシュヴァルツシルド型対物レンズ１３
に入射し、ＭＣＰフィルム等の画像検出器１４上に結像
される。
【００１０】次に、上記拡散板８に要求される条件につ
いて考察する。ある材料の薄膜の波長λにおける複素屈
折率の減衰係数（吸収を表わす係数）をκとすると、波
長λの光に対する厚さｄの材料の薄膜の強度透過率Ｔ
は、 Ｔ＝ｅｘｐ｛−４πκｄ／λ｝ −（１） で表わされる。したがって、透過率をＴx 以上にするた
めの厚さｄa の条件は、 ｄa ≦−ｌｎＴx ・λ／（４πκ） −（２） となる（ただし、ｌｎは自然対数を表わす）。
いて考察する。ある材料の薄膜の波長λにおける複素屈
折率の減衰係数（吸収を表わす係数）をκとすると、波
長λの光に対する厚さｄの材料の薄膜の強度透過率Ｔ
は、 Ｔ＝ｅｘｐ｛−４πκｄ／λ｝ −（１） で表わされる。したがって、透過率をＴx 以上にするた
めの厚さｄa の条件は、 ｄa ≦−ｌｎＴx ・λ／（４πκ） −（２） となる（ただし、ｌｎは自然対数を表わす）。
【００１１】ここで、光の有効利用のため、少なくとも
１０％の透過率を得るためには、 ｄa ≦０．１８３・λ／κ −（３） によって規定される値に薄膜の厚さｄを抑える必要があ
る。なお、上記において、複素屈折率の減衰係数κの代
わりに質量吸収係数μ／ρｃｍ2 ／ｇ （ただし、μ；
線吸収係数［ｃｍ-1］、ρ；密度［ｇ／ｃｍ3 ］）を用
いると、（１）式は以下のように表わされる。 Ｔ＝ｅｘｐ｛−（μ／ρ）ρｄ｝ −（４）
１０％の透過率を得るためには、 ｄa ≦０．１８３・λ／κ −（３） によって規定される値に薄膜の厚さｄを抑える必要があ
る。なお、上記において、複素屈折率の減衰係数κの代
わりに質量吸収係数μ／ρｃｍ2 ／ｇ （ただし、μ；
線吸収係数［ｃｍ-1］、ρ；密度［ｇ／ｃｍ3 ］）を用
いると、（１）式は以下のように表わされる。 Ｔ＝ｅｘｐ｛−（μ／ρ）ρｄ｝ −（４）
【００１２】また、薄膜上に形成する微粒子の大きさを
軟Ｘ線の波長程度にすると指向性の少ない散乱が得られ
るが、散乱が大き過ぎると照明光量が減少してしまうの
で、光を有効に使用するためには前方散乱の大きなミー
散乱領域を用いるのが望ましい。したがって、軟Ｘ線の
波長と同一以上の大きさの微粒子であることが望まし
く、微粒子の大きさの下限値は軟Ｘ線の波長の１倍とな
る。さらに、微粒子の大きさが軟Ｘ線の波長の１０００
倍を越えると散乱が急激に少なくなって拡散板として要
求される拡散性能が達成できなくなる惧れがあるので、
微粒子の大きさの上限値は軟Ｘ線の波長の１０００倍と
なる。
軟Ｘ線の波長程度にすると指向性の少ない散乱が得られ
るが、散乱が大き過ぎると照明光量が減少してしまうの
で、光を有効に使用するためには前方散乱の大きなミー
散乱領域を用いるのが望ましい。したがって、軟Ｘ線の
波長と同一以上の大きさの微粒子であることが望まし
く、微粒子の大きさの下限値は軟Ｘ線の波長の１倍とな
る。さらに、微粒子の大きさが軟Ｘ線の波長の１０００
倍を越えると散乱が急激に少なくなって拡散板として要
求される拡散性能が達成できなくなる惧れがあるので、
微粒子の大きさの上限値は軟Ｘ線の波長の１０００倍と
なる。
【００１３】次に、以下の２種類の波長について、上記
条件を満たすように構成された拡散板の具体的な構成を
例示する。第１の拡散板は４０Å付近の波長で用いる拡
散板であり、薄膜にＳｉ3 Ｎ4 を用い、微粒子にＡｕ
（金）を用いて構成する。ここで、Ｓｉ3 Ｎ4 の質量吸
収係数は１．８７×１０4 ｃｍ2 ／ｇであり、密度は
３．４４ｇ／ｃｍ3 であるので（J.Kirz and H.Rarbac
k,Rev.Sci.Instrum.56,1(1985).）、薄膜の厚さｄを３
０００Å以下に抑えることにより、１０％以上の透過率
が得られる。
条件を満たすように構成された拡散板の具体的な構成を
例示する。第１の拡散板は４０Å付近の波長で用いる拡
散板であり、薄膜にＳｉ3 Ｎ4 を用い、微粒子にＡｕ
（金）を用いて構成する。ここで、Ｓｉ3 Ｎ4 の質量吸
収係数は１．８７×１０4 ｃｍ2 ／ｇであり、密度は
３．４４ｇ／ｃｍ3 であるので（J.Kirz and H.Rarbac
k,Rev.Sci.Instrum.56,1(1985).）、薄膜の厚さｄを３
０００Å以下に抑えることにより、１０％以上の透過率
が得られる。
【００１４】上記薄膜上に、蒸着等の手法により、軟Ｘ
線波長の１〜１０００倍の大きさの金を微粒子状に形成
する。金は蒸着時に粒塊を形成しやすく、容易に微粒子
を形成することができる（例えば、山下他，レーザ研
究，16,535(1988). ）。また、金の減衰係数κは0.0093
5 であり（B.L.Henke et al.,At.Data Nucl.Data Table
s 27,1(1982)より計算によって算出）、１００Å程度の
厚さにしたとき７０％の透過率が得られ、光量損失が極
めて小さくなる。なお、本実施例では微粒子の形成に金
を用いているが、外径を等しくすれば他の物質を用いて
もよい。
線波長の１〜１０００倍の大きさの金を微粒子状に形成
する。金は蒸着時に粒塊を形成しやすく、容易に微粒子
を形成することができる（例えば、山下他，レーザ研
究，16,535(1988). ）。また、金の減衰係数κは0.0093
5 であり（B.L.Henke et al.,At.Data Nucl.Data Table
s 27,1(1982)より計算によって算出）、１００Å程度の
厚さにしたとき７０％の透過率が得られ、光量損失が極
めて小さくなる。なお、本実施例では微粒子の形成に金
を用いているが、外径を等しくすれば他の物質を用いて
もよい。
【００１５】一方、第２の拡散板は１５０Å付近の波長
で用いる拡散板であり、薄膜にベリリウム（Ｂｅ）を用
い、微粒子にアルミニウム（Ａｌ）を用いて構成する。
この薄膜状に軟Ｘ線波長の１〜１０００倍の大きさのＡ
ｌの微粒子をレーザアブレーション等の手法によって形
成する。ここで、Ｂｅの減衰係数κは0.0022であり（Ha
ndbook of Optical Constant of Solids II ）、１００
０Å程度の厚さにしたとき１０％の透過率が得られる。
で用いる拡散板であり、薄膜にベリリウム（Ｂｅ）を用
い、微粒子にアルミニウム（Ａｌ）を用いて構成する。
この薄膜状に軟Ｘ線波長の１〜１０００倍の大きさのＡ
ｌの微粒子をレーザアブレーション等の手法によって形
成する。ここで、Ｂｅの減衰係数κは0.0022であり（Ha
ndbook of Optical Constant of Solids II ）、１００
０Å程度の厚さにしたとき１０％の透過率が得られる。
【００１６】このようにして、波長が２０００Åより短
い波長であっても透過し得る薄膜上に光を散乱する微粒
子を形成した拡散板を構成することにより、上述した既
存の透過型拡散板では吸収されてしまう波長の光を透過
させるとともに散乱させることのできる透過型の拡散板
を構成することができ、光学系配置の自由度が大きくな
るとともに、装置全体のコンパクト化にもなる。
い波長であっても透過し得る薄膜上に光を散乱する微粒
子を形成した拡散板を構成することにより、上述した既
存の透過型拡散板では吸収されてしまう波長の光を透過
させるとともに散乱させることのできる透過型の拡散板
を構成することができ、光学系配置の自由度が大きくな
るとともに、装置全体のコンパクト化にもなる。
【００１７】図２は本発明の拡散板を使用した軟Ｘ線顕
微鏡の第２実施例の構成を示す図である。この第２実施
例は、ＳＲ光源を用いて構成したものである。すなわ
ち、図示しないＳＲ光源からの指向性のよい放射光２１
は拡散板２２に入射し、拡散板２２で拡散された後にゾ
ーンプレート型コンデンサ２３に入射し、ゾーンプレー
ト型コンデンサ２３を経て試料２４に照射される。この
とき拡散板２２およびゾーンプレート型コンデンサ２３
はケーラ照明を構成する。その後試料２４を出射した光
はゾーンプレートの対物レンズ２５に入射し、画像検出
器２６上に結像される。なお、本実施例では、図示して
いないが、光学系は全て真空中に置かれているので、試
料２４は真空中に置いても、図示しない試料室に収容し
てもよい。
微鏡の第２実施例の構成を示す図である。この第２実施
例は、ＳＲ光源を用いて構成したものである。すなわ
ち、図示しないＳＲ光源からの指向性のよい放射光２１
は拡散板２２に入射し、拡散板２２で拡散された後にゾ
ーンプレート型コンデンサ２３に入射し、ゾーンプレー
ト型コンデンサ２３を経て試料２４に照射される。この
とき拡散板２２およびゾーンプレート型コンデンサ２３
はケーラ照明を構成する。その後試料２４を出射した光
はゾーンプレートの対物レンズ２５に入射し、画像検出
器２６上に結像される。なお、本実施例では、図示して
いないが、光学系は全て真空中に置かれているので、試
料２４は真空中に置いても、図示しない試料室に収容し
てもよい。
【００１８】この軟Ｘ線顕微鏡に上記拡散板２２として
上述した第１実施例と同じ２種類の構成の拡散板を組み
合わせることにより、上記第１実施例と同様の作用効果
が得られる。
上述した第１実施例と同じ２種類の構成の拡散板を組み
合わせることにより、上記第１実施例と同様の作用効果
が得られる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の拡散板は
軟Ｘ線を透過する薄膜を具える透過型拡散板として構成
されるから、光軸が曲げられたり光学系の構成および配
置の自由度が小さくなる反射型拡散板の不具合は生じな
い。また、本発明の拡散板は上記薄膜上に軟Ｘ線波長の
１〜１０００倍の大きさを有する微粒子を形成されるか
ら、既存の透過型拡散板では吸収されてしまう波長の光
を、光量損失の少ないミー散乱領域で散乱させることが
できる。なお、微粒子の大きさを軟Ｘ線波長の１０００
倍未満にしているので、拡散板の拡散性能が拡散板とし
て不十分な値に低下することもない。
軟Ｘ線を透過する薄膜を具える透過型拡散板として構成
されるから、光軸が曲げられたり光学系の構成および配
置の自由度が小さくなる反射型拡散板の不具合は生じな
い。また、本発明の拡散板は上記薄膜上に軟Ｘ線波長の
１〜１０００倍の大きさを有する微粒子を形成されるか
ら、既存の透過型拡散板では吸収されてしまう波長の光
を、光量損失の少ないミー散乱領域で散乱させることが
できる。なお、微粒子の大きさを軟Ｘ線波長の１０００
倍未満にしているので、拡散板の拡散性能が拡散板とし
て不十分な値に低下することもない。
【図１】本発明の拡散板を使用した軟Ｘ線顕微鏡の第１
実施例の構成を示す図である。
実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明の拡散板を使用した軟Ｘ線顕微鏡の第２
実施例の構成を示す図である。
実施例の構成を示す図である。
１ 高出力パルスレーザ ２ 集光レンズ ３ 入射窓 ４ 真空容器 ５ ターゲット ６ 軟Ｘ線 ７ 斜入射型コンデンサミラー ８ 拡散板 ９ 試料室 １０ 薄膜窓 １１ 薄膜窓 １２ 試料 １３ シュヴァルツシルド型対物レンズ １４ 画像検出器
Claims (1)
- 【請求項１】 軟Ｘ線を透過する薄膜上に、軟Ｘ線波長
の１〜１０００倍の大きさを有する微粒子を形成して成
ることを特徴とする、拡散板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12601493A JPH06331798A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 拡散板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12601493A JPH06331798A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 拡散板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06331798A true JPH06331798A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14924595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12601493A Withdrawn JPH06331798A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 拡散板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06331798A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0751533A1 (en) * | 1995-06-26 | 1997-01-02 | Shimadzu Corporation | X-ray microscope |
| CN102778748A (zh) * | 2011-05-11 | 2012-11-14 | 同济大学 | 一种等离子体诊断用显微镜瞄准装置及其应用方法 |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP12601493A patent/JPH06331798A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0751533A1 (en) * | 1995-06-26 | 1997-01-02 | Shimadzu Corporation | X-ray microscope |
| CN102778748A (zh) * | 2011-05-11 | 2012-11-14 | 同济大学 | 一种等离子体诊断用显微镜瞄准装置及其应用方法 |
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