JPH06331913A - 2ビーム光走査装置 - Google Patents
2ビーム光走査装置Info
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- JPH06331913A JPH06331913A JP11723493A JP11723493A JPH06331913A JP H06331913 A JPH06331913 A JP H06331913A JP 11723493 A JP11723493 A JP 11723493A JP 11723493 A JP11723493 A JP 11723493A JP H06331913 A JPH06331913 A JP H06331913A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 16
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- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 2個の半導体レーザを用いて感光体上に2ビ
ーム同時走査を行なう2ビーム光走査装置において、主
走査方向ビームと副走査方向ビームとを別々に容易な調
整で高精度にビーム位置調整を行なう。 【構成】 2組の半導体レーザ1A,1Bとビーム整形
用光学系2A,2Bとを有し、ビーム合成プリズム3に
より前記2つのビームを合成し、偏向器6、結像光学系
により感光体10面上に2ラインを同時に走査して書き込
みを行なう2ビーム光走査装置において、前記ビーム整
形用光学系2A,2Bと、前記ビーム合成プリズム3と
の間に、書き込み主走査方向および副走査方向の各ビー
ム位置を調整するプリズム14,15を設けたことを特徴と
する2ビーム光走査装置。
ーム同時走査を行なう2ビーム光走査装置において、主
走査方向ビームと副走査方向ビームとを別々に容易な調
整で高精度にビーム位置調整を行なう。 【構成】 2組の半導体レーザ1A,1Bとビーム整形
用光学系2A,2Bとを有し、ビーム合成プリズム3に
より前記2つのビームを合成し、偏向器6、結像光学系
により感光体10面上に2ラインを同時に走査して書き込
みを行なう2ビーム光走査装置において、前記ビーム整
形用光学系2A,2Bと、前記ビーム合成プリズム3と
の間に、書き込み主走査方向および副走査方向の各ビー
ム位置を調整するプリズム14,15を設けたことを特徴と
する2ビーム光走査装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザプリンタ等の
光書き込み装置に関し、特に2個の半導体レーザを使用
して、2ライン同時に、2つのビームを走査する2ビー
ム光走査に関するものである。
光書き込み装置に関し、特に2個の半導体レーザを使用
して、2ライン同時に、2つのビームを走査する2ビー
ム光走査に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザビーム記録を行なうための
光走査光学系において、高速走査を達成しようとすれ
ば、偏向ミラー(ポリゴンミラー等)の回転速度を早め
る必要が生じ、エアーベアリング等の高精度の製造技術
が不可欠となり、コスト高になる問題点がある。
光走査光学系において、高速走査を達成しようとすれ
ば、偏向ミラー(ポリゴンミラー等)の回転速度を早め
る必要が生じ、エアーベアリング等の高精度の製造技術
が不可欠となり、コスト高になる問題点がある。
【0003】一方、特開昭54-158251号公報に開示され
るように、半導体レーザの発光部を複数個使用して、複
数本の走査線を同時に走査する方式も知られている。し
かし、走査線のピッチを制御するために、発光部間の距
離間隔を精密に調整して配置する必要がある。更には、
これらの発光部の配列方向の角度制御を精密に行なう必
要があり、そのために高精度の調整機構が不可欠とな
る。
るように、半導体レーザの発光部を複数個使用して、複
数本の走査線を同時に走査する方式も知られている。し
かし、走査線のピッチを制御するために、発光部間の距
離間隔を精密に調整して配置する必要がある。更には、
これらの発光部の配列方向の角度制御を精密に行なう必
要があり、そのために高精度の調整機構が不可欠とな
る。
【0004】また、特開昭58-68016号公報に開示された
走査光学系は、副走査方向の走査線ピッチを可変にした
ものであり、特開昭63-50809号公報に開示された光書き
込み装置は、副走査方向の走査光路を2個の調整ねじを
使用して調整するものである。
走査光学系は、副走査方向の走査線ピッチを可変にした
ものであり、特開昭63-50809号公報に開示された光書き
込み装置は、副走査方向の走査光路を2個の調整ねじを
使用して調整するものである。
【0005】さらに、特開昭62-86324号公報に開示され
たものは、コリメータユニット自体の位置調整を行なう
2ビームレーザプリンタに関するものである。
たものは、コリメータユニット自体の位置調整を行なう
2ビームレーザプリンタに関するものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】2ビーム光走査装置に
おいては、上記副走査方向の走査線ピッチの調整と、主
走査方向ドットのインデックスからの距離調整とを行な
う必要がある。これら両走査方向の従来の調整方法は、
高精度な機構と、複雑な微調整を要していた。
おいては、上記副走査方向の走査線ピッチの調整と、主
走査方向ドットのインデックスからの距離調整とを行な
う必要がある。これら両走査方向の従来の調整方法は、
高精度な機構と、複雑な微調整を要していた。
【0007】この発明の目的は、上述の従来例のように
高度の設計技術や高精度の製造技術あるいは調整機構を
必要とせずに、簡便な構造と方法により、高速化を実現
するとともに、主走査方向のインデックスからのドット
位置調整と、副走査方向の走査線ドットピッチを調整す
ることができる2ビーム光走査装置を提供することにあ
る。
高度の設計技術や高精度の製造技術あるいは調整機構を
必要とせずに、簡便な構造と方法により、高速化を実現
するとともに、主走査方向のインデックスからのドット
位置調整と、副走査方向の走査線ドットピッチを調整す
ることができる2ビーム光走査装置を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するこの
発明の2ビーム光走査装置は、2組の半導体レーザとビ
ーム整形用光学系を有し、ビーム合成プリズムにより前
記2つのビームを合成し、偏向器、結像光学系により感
光体面上に2ラインを同時に走査して書き込みを行なう
2ビーム光走査装置において、前記ビーム整形用光学系
と、前記ビーム合成プリズムとの間に、書き込み主走査
方向および副走査方向の各ビーム位置を調整するプリズ
ムを設けたことを特徴とするものである。
発明の2ビーム光走査装置は、2組の半導体レーザとビ
ーム整形用光学系を有し、ビーム合成プリズムにより前
記2つのビームを合成し、偏向器、結像光学系により感
光体面上に2ラインを同時に走査して書き込みを行なう
2ビーム光走査装置において、前記ビーム整形用光学系
と、前記ビーム合成プリズムとの間に、書き込み主走査
方向および副走査方向の各ビーム位置を調整するプリズ
ムを設けたことを特徴とするものである。
【0009】また、この発明の2ビーム光走査装置は、
2組の半導体レーザとビーム整形用光学系を有し、ビー
ム合成プリズムにより前記2つのビームを合成し、偏向
器、結像光学系により感光体面上に2ラインを同時に走
査して書き込みを行なう2ビーム光走査装置において、
前記ビーム整形用光学系と、前記ビーム合成プリズムと
の間の少くとも一方に、ビーム位置調整プリズムを配置
し、該プリズムおよびプリズム保持枠体を揺動可能に保
持する回転軸と回転可能にする微調整手段を備えたこと
を特徴とするものである。
2組の半導体レーザとビーム整形用光学系を有し、ビー
ム合成プリズムにより前記2つのビームを合成し、偏向
器、結像光学系により感光体面上に2ラインを同時に走
査して書き込みを行なう2ビーム光走査装置において、
前記ビーム整形用光学系と、前記ビーム合成プリズムと
の間の少くとも一方に、ビーム位置調整プリズムを配置
し、該プリズムおよびプリズム保持枠体を揺動可能に保
持する回転軸と回転可能にする微調整手段を備えたこと
を特徴とするものである。
【0010】
【実施例】以下、この発明の2ビーム光走査装置を添付
図面に基いて説明する。
図面に基いて説明する。
【0011】図1はこの発明の2ビーム光走査装置の一
実施例を示す全体構成図である。
実施例を示す全体構成図である。
【0012】図において、1A,1Bは半導体レーザ、
2A,2Bはコリメータレンズ(ビーム整形用光学
系)、3はビーム合成プリズム、4はアパーチャー、5
は第1シリンドリカルレンズ、6はポリゴンミラー、7
はfθレンズ、8は第2シリンドリカルレンズ、9はミ
ラー、10は感光体ドラムをそれぞれ示している。なお、
11はタイミング検出用のミラー、12は同期検知器、13は
上記ポリゴンミラー6の駆動モータである。また、14は
主走査方向調整用の1組のプリズムセット、15は副走査
方向ピッチ調整用の1組のプリズムセットである。
2A,2Bはコリメータレンズ(ビーム整形用光学
系)、3はビーム合成プリズム、4はアパーチャー、5
は第1シリンドリカルレンズ、6はポリゴンミラー、7
はfθレンズ、8は第2シリンドリカルレンズ、9はミ
ラー、10は感光体ドラムをそれぞれ示している。なお、
11はタイミング検出用のミラー、12は同期検知器、13は
上記ポリゴンミラー6の駆動モータである。また、14は
主走査方向調整用の1組のプリズムセット、15は副走査
方向ピッチ調整用の1組のプリズムセットである。
【0013】半導体レーザ1Aから出射したビームは、
コリメータレンズ2Aにより平行光になり、次いでビー
ム合成プリズム3に入射する。前記半導体レーザ1Aに
対して直交配置された半導体レーザ1Bから出射したビ
ームも同様に、コリメータレンズ2Bにより平行光とな
り、その後、ビーム合成プリズム3に入射する。なお、
この半導体レーザ1Bから出射したビームは、副走査方
向には、前記半導体レーザ1Aから出射したビームと所
定のピッチだけずらせて配置してある。上記両ビームは
アパーチャー4を通過し、第1結像光学系の第1シリン
ドリカルレンズ5を経てポリゴンミラー6に入射する。
この反射光は、fθレンズ、第2シリンドリカルレンズ
8から成る第2結像光学系を透過し、ミラー9を介して
感光体ドラム10面上に、所定のスポット径で、副走査方
向に所定ピッチずれた状態で、2ライン同時に走査す
る。なお、主走査方向は図示しない調整機構により、既
に微調整してある。
コリメータレンズ2Aにより平行光になり、次いでビー
ム合成プリズム3に入射する。前記半導体レーザ1Aに
対して直交配置された半導体レーザ1Bから出射したビ
ームも同様に、コリメータレンズ2Bにより平行光とな
り、その後、ビーム合成プリズム3に入射する。なお、
この半導体レーザ1Bから出射したビームは、副走査方
向には、前記半導体レーザ1Aから出射したビームと所
定のピッチだけずらせて配置してある。上記両ビームは
アパーチャー4を通過し、第1結像光学系の第1シリン
ドリカルレンズ5を経てポリゴンミラー6に入射する。
この反射光は、fθレンズ、第2シリンドリカルレンズ
8から成る第2結像光学系を透過し、ミラー9を介して
感光体ドラム10面上に、所定のスポット径で、副走査方
向に所定ピッチずれた状態で、2ライン同時に走査す
る。なお、主走査方向は図示しない調整機構により、既
に微調整してある。
【0014】1ライン毎の同期検知は、走査開始前の光
束をミラー11を介して第2結像光学系に導き、同期検知
器12に入射させる。
束をミラー11を介して第2結像光学系に導き、同期検知
器12に入射させる。
【0015】図2は前記1組のプリズムセット14(15)
のビーム角度調整を説明する図である。図2(A)に示
す従来の方法では、光路の振れ角θを得るためコリメー
タレンズ2A(2B)を直接角度θだけ振らせるため、
コリメータレンズ2A(2B)の正確な角度調整が困難
である。図2(B)は本発明による光路偏向方法を示
し、2枚のプリズム14A,14Bから成る1組のプリズム
セット14をコリメータレンズ出射付近に配置し、該プリ
ズムセット14を角度αだけ回転させることにより光路を
所望の光路の振れ角θだけ振らせるようにした。
のビーム角度調整を説明する図である。図2(A)に示
す従来の方法では、光路の振れ角θを得るためコリメー
タレンズ2A(2B)を直接角度θだけ振らせるため、
コリメータレンズ2A(2B)の正確な角度調整が困難
である。図2(B)は本発明による光路偏向方法を示
し、2枚のプリズム14A,14Bから成る1組のプリズム
セット14をコリメータレンズ出射付近に配置し、該プリ
ズムセット14を角度αだけ回転させることにより光路を
所望の光路の振れ角θだけ振らせるようにした。
【0016】図3は上述の2枚1組のプリズム14A,14
Bから成るプリズムセット14の入射角に対する出射振れ
角の関係を説明する光路図である。
Bから成るプリズムセット14の入射角に対する出射振れ
角の関係を説明する光路図である。
【0017】1枚のプリズム14Aの入射面(第1面)の
法線方向となす角度θ1から入射したビームは、該プリ
ズム14Aの出射面(第2面)から出射して振れ角Xを形
成する。この振れ角Xの一般式は、次式(1),
(2),(3),(4)の連立式で得られる。
法線方向となす角度θ1から入射したビームは、該プリ
ズム14Aの出射面(第2面)から出射して振れ角Xを形
成する。この振れ角Xの一般式は、次式(1),
(2),(3),(4)の連立式で得られる。
【0018】 θ2=Sin-1(n/N・Sinθ1) ・・・・(1) θ3=A1−θ2 ・・・・(2) θ4=Sin-1(N/n・Sinθ3) ・・・・(3) X =(θ1−θ2)+(θ4−θ3) ・・・・(4) 2枚のプリズム14A,14Bを組にして用いた場合の振れ
角Yの一般式は、次式(5),(6),(7),
(8),(9)の連立式で得られる。
角Yの一般式は、次式(5),(6),(7),
(8),(9)の連立式で得られる。
【0019】 θ5=A1+B−θ4 ・・・・(5) θ6=Sin-1(n/N・Sinθ5) ・・・・(6) θ7=A2+θ6 ・・・・(7) θ8=Sin-1(N/n・Sinθ7) ・・・・(8) Y =X+(θ5−θ6)−(θ8−θ7) ・・・・(9) ここでA1,A2は各プリズム14A,14Bの頂角 Bは両プリズム14A,14Bの各第1面のなす角 nは空気中の屈接率(=1) Nはプリズムの屈折率(FK7,780nmで1.51072) ここでプリズム14A,14Bの各頂角A1,A2をそれぞ
れ4°、両プリズム14A,14Bの各第1面のなす角度Bを
2.05°と設定し、プリズムセット14の回転角をαを10°
にしたとき、光路の振れ角θは0.065°となる。すなわ
ち、角度の倍率は、θ/α=0.065/10=0.0065となり、
従って、コリメータレンズ2A(2B)の調整回転角θ
と、プリズムセット14の調整角αとの比、θ/αは1/1
00以下にすることができるから、微細な主走査方向の光
路調整を、2枚構成のプリズムセット14によって容易に
行なうことができる。また、同様にして副走査方向の光
路調整も、1組のプリズムセット15を回転させることに
よって、容易にピッチ調整を行なうことができる。
れ4°、両プリズム14A,14Bの各第1面のなす角度Bを
2.05°と設定し、プリズムセット14の回転角をαを10°
にしたとき、光路の振れ角θは0.065°となる。すなわ
ち、角度の倍率は、θ/α=0.065/10=0.0065となり、
従って、コリメータレンズ2A(2B)の調整回転角θ
と、プリズムセット14の調整角αとの比、θ/αは1/1
00以下にすることができるから、微細な主走査方向の光
路調整を、2枚構成のプリズムセット14によって容易に
行なうことができる。また、同様にして副走査方向の光
路調整も、1組のプリズムセット15を回転させることに
よって、容易にピッチ調整を行なうことができる。
【0020】図4は、この発明による2ビーム光走査装
置の要部平面図、図5は、主走査および副走査ビーム調
整用プリズムユニットを示し、図5(A)は平面図、図
5(B)は左側面図、図5(C)は背面図をそれぞれ示
す。図6は副走査プリズムユニットの部分斜視図であ
る。
置の要部平面図、図5は、主走査および副走査ビーム調
整用プリズムユニットを示し、図5(A)は平面図、図
5(B)は左側面図、図5(C)は背面図をそれぞれ示
す。図6は副走査プリズムユニットの部分斜視図であ
る。
【0021】前記2枚のプリズム15A,15Bから成るプ
リズムセット15はホルダー16に収容されている。該ホル
ダー16は支軸17により揺動回転自在に指示されている。
該支軸17の軸端には、ホイール18が固定され、ウォーム
19の回転により減速従動回転する。上記ウォーム19に対
するホイールの達成比は、1/10〜1/20に設定してある。
該ウォーム19の軸端には、つまみ20が固定されている。
リズムセット15はホルダー16に収容されている。該ホル
ダー16は支軸17により揺動回転自在に指示されている。
該支軸17の軸端には、ホイール18が固定され、ウォーム
19の回転により減速従動回転する。上記ウォーム19に対
するホイールの達成比は、1/10〜1/20に設定してある。
該ウォーム19の軸端には、つまみ20が固定されている。
【0022】上記つまみ20を手動または電動により回転
させることにより、その回転角βは、ウォーム19とホイ
ール18の減速比により減速されて、支軸17は減速された
減速回転角αで回転される。これにより支軸17と一体と
なすホルダー16および内蔵されるプリズムセット15は、
上下方向に揺動して微少な振れ角θによって移動され
る。従ってつまみ20の回転角は第1段のウォーム・ホイ
ール減速手段により1/20〜1/30に減速され、さらに第2
段のプリズムセット15の揺動により約1/100に減速され
て、1/2000〜1/3000の減速振れ角θの形成を達成する。
これによってつまみ20をゆっくり大きく回して、微少な
振れ角調整を高精度に行なうことができる。
させることにより、その回転角βは、ウォーム19とホイ
ール18の減速比により減速されて、支軸17は減速された
減速回転角αで回転される。これにより支軸17と一体と
なすホルダー16および内蔵されるプリズムセット15は、
上下方向に揺動して微少な振れ角θによって移動され
る。従ってつまみ20の回転角は第1段のウォーム・ホイ
ール減速手段により1/20〜1/30に減速され、さらに第2
段のプリズムセット15の揺動により約1/100に減速され
て、1/2000〜1/3000の減速振れ角θの形成を達成する。
これによってつまみ20をゆっくり大きく回して、微少な
振れ角調整を高精度に行なうことができる。
【0023】なお、上記ウォーム19とホイール18は、ワ
ンウェイ駆動伝達であるから、ホルダー16側から回転力
が加えられても、ウォーム・ホイール手段により抑止さ
れて回転することはなく、つまみ20により調整終了後に
は逆転防止ロックされて移動することはない。また、上
記ホルダー16にはばね21の一端が掛止されていて、ウォ
ーム・ホイール手段や他の伝達手段のバックラッシュ等
のガタを取り除くことができる。
ンウェイ駆動伝達であるから、ホルダー16側から回転力
が加えられても、ウォーム・ホイール手段により抑止さ
れて回転することはなく、つまみ20により調整終了後に
は逆転防止ロックされて移動することはない。また、上
記ホルダー16にはばね21の一端が掛止されていて、ウォ
ーム・ホイール手段や他の伝達手段のバックラッシュ等
のガタを取り除くことができる。
【0024】以上のように、半導体レーザ1Bから出射
したビームは副走査方向のピッチを、つまみ20により容
易に、かつ精密に調整することが可能になる。
したビームは副走査方向のピッチを、つまみ20により容
易に、かつ精密に調整することが可能になる。
【0025】また、主走査方向の振れ角を調整するた
め、上記と同様の構成をさすウォーム・ホイール手段を
設けることにより、手動または電動により、光路の振れ
角を容易かつ高精度に行なうことができる。なお、図5
に示す主走査ビーム調整用プリズムユニットにおいて、
前記副走査ビーム調整用プリズムユニットと同じ機能を
有する部分には、同番号を付している。
め、上記と同様の構成をさすウォーム・ホイール手段を
設けることにより、手動または電動により、光路の振れ
角を容易かつ高精度に行なうことができる。なお、図5
に示す主走査ビーム調整用プリズムユニットにおいて、
前記副走査ビーム調整用プリズムユニットと同じ機能を
有する部分には、同番号を付している。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の2ビー
ム光走査装置によれば、主走査方向および副走査方向の
各ビーム位置を調整するプリズムを設け、さらに該プリ
ズムを微動回転にする微調整手段を設けたことにより、
主走査方向ビームと副走査方向ビームとを、別々に容易
な調整で高精度にビーム位置調整することができるとい
う顕著な効果を奏する。
ム光走査装置によれば、主走査方向および副走査方向の
各ビーム位置を調整するプリズムを設け、さらに該プリ
ズムを微動回転にする微調整手段を設けたことにより、
主走査方向ビームと副走査方向ビームとを、別々に容易
な調整で高精度にビーム位置調整することができるとい
う顕著な効果を奏する。
【図1】この発明に係る2ビーム光走査装置の全体構成
図。
図。
【図2】1組のプリズムセットのビーム角度調整を説明
する図。
する図。
【図3】1組のプリズムセットによる光路図。
【図4】この発明による2ビーム光走査装置の要部平面
図。
図。
【図5】主走査および副走査ビーム調整用プリズムユニ
ットの平面図、左側面図および背面図。
ットの平面図、左側面図および背面図。
【図6】副走査プリズムユニットの部分斜視図。
1A,1B 半導体レーザ 2A,2B コリメータレンズ 3 ビーム合成プリズム 5 第1シリンドリカルレンズ 6 ポリゴンミラー(偏向器) 7 fθレンズ 8 第2シリンドリカルレンズ 10 感光体ドラム 12 同期検知器 13 駆動モータ 14 主走査方向調整用のプリズムセット 14A,14B プリズム 15 副走査方向ピッチ調整用のプリズムセット 15A,15B プリズム 16 ホルダー 17 支軸 18 ホイール 19 ウォーム 20 つまみ 21 ばね(弾性部材) θ,X,Y 光路の振れ角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 真次 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 2組の半導体レーザとビーム整形用光学
系を有し、ビーム合成プリズムにより前記2つのビーム
を合成し、偏向器、結像光学系により感光体面上に2ラ
インを同時に走査して書き込みを行なう2ビーム光走査
装置において、前記ビーム整形用光学系と、前記ビーム
合成プリズムとの間に、書き込み主走査方向および副走
査方向の各ビーム位置を調整するプリズムを設けたこと
を特徴とする2ビーム光走査装置。 - 【請求項2】 2組の半導体レーザとビーム整形用光学
系を有し、ビーム合成プリズムにより前記2つのビーム
を合成し、偏向器、結像光学系により感光体面上に2ラ
インを同時に走査して書き込みを行なう2ビーム光走査
装置において、前記ビーム整形用光学系と、前記ビーム
合成プリズムとの間の少くとも一方に、ビーム位置調整
プリズムを配置し、該プリズムおよびプリズム保持枠体
を揺動可能に保持する回転軸と回転可能にする微調整手
段を備えたことを特徴とする2ビーム光走査装置。 - 【請求項3】 前記微調整手段は、手動および/または
電動により前記回転軸を回転可能にすることを特徴とす
る請求項2に記載の2ビーム光走査装置。 - 【請求項4】 前記微調整手段が、ウォームおよびホイ
ールから成るワンウェー減速伝達手段であり、駆動側の
ウォームに手動つまみ又は駆動源を接続し、従動側のホ
イールに前記プリズム保持枠体の回転軸を接続したこと
を特徴とする請求項2または3に記載の2ビーム光走査
装置。 - 【請求項5】 前記プリズム保持枠体に弾性部材を係合
させ、前記ホイールを回転させる方向に付勢したことを
特徴とする請求項4に記載の2ビーム光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11723493A JPH06331913A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 2ビーム光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11723493A JPH06331913A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 2ビーム光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06331913A true JPH06331913A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14706709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11723493A Pending JPH06331913A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 2ビーム光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06331913A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6775041B1 (en) | 1999-04-20 | 2004-08-10 | Ricoh Company, Ltd. | Multibeam scanning apparatus |
| JP2007108766A (ja) * | 2006-11-06 | 2007-04-26 | Toshiba Corp | マルチビーム露光装置 |
| US7706040B2 (en) | 2002-03-15 | 2010-04-27 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus, illuminant apparatus and image forming apparatus |
| US7813021B2 (en) | 2006-06-21 | 2010-10-12 | Ricoh Company, Ltd. | Light scanning apparatus and image forming apparatus including light scanning apparatus |
| US10108104B2 (en) | 2007-02-21 | 2018-10-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method and apparatus for controlling multiple beam spacing |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP11723493A patent/JPH06331913A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6775041B1 (en) | 1999-04-20 | 2004-08-10 | Ricoh Company, Ltd. | Multibeam scanning apparatus |
| US7075688B2 (en) | 1999-04-20 | 2006-07-11 | Ricoh Company, Ltd. | Multibeam scanning apparatus |
| US7706040B2 (en) | 2002-03-15 | 2010-04-27 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus, illuminant apparatus and image forming apparatus |
| US7813021B2 (en) | 2006-06-21 | 2010-10-12 | Ricoh Company, Ltd. | Light scanning apparatus and image forming apparatus including light scanning apparatus |
| JP2007108766A (ja) * | 2006-11-06 | 2007-04-26 | Toshiba Corp | マルチビーム露光装置 |
| US10108104B2 (en) | 2007-02-21 | 2018-10-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method and apparatus for controlling multiple beam spacing |
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