JPH0633348U - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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JPH0633348U
JPH0633348U JP6825692U JP6825692U JPH0633348U JP H0633348 U JPH0633348 U JP H0633348U JP 6825692 U JP6825692 U JP 6825692U JP 6825692 U JP6825692 U JP 6825692U JP H0633348 U JPH0633348 U JP H0633348U
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focusing
power source
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裕教 熊崎
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 Qレンズ電源4および走査電源5には、光通
信モジュールを搭載した通信用変換器6が隣接設置され
ている。Qレンズ電源4および走査電源5の動作を制御
する集束・走査コントローラ7と通信用変換器6との
間、および通信用変換器6・6同士の間は光通信が行わ
れるようになっており、Qレンズ電源4、走査電源5お
よび集束・走査コントローラ7による光ネットワークが
形成されている。 【効果】 集束・走査コントローラ7からQレンズ電源
4および走査電源5へ送信される制御信号がノイズの影
響を受け難くなり、ビーム集束・走査系の制御精度が向
上すると共に、サージによるデバイスの破損が回避さ
れ、ビーム集束・走査系の信頼性が向上する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、ウエハ等のイオン照射対象物内に不純物イオンを均一注入するイオ ン注入装置に関し、特に4極子レンズ等で静電的に集束されたイオンビームを、 高周波走査電圧が印加された走査電極により静電的に走査する静電走査方式のイ オン注入装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
イオン注入装置は、真空中でイオンを発生させた後、イオンビームとして引出 し、これを磁界を用いた質量分析法により所望のイオンビームのみを選択的に取 り出し、さらに上記イオンビームを所定のエネルギーまで加速してウエハ等のイ オン照射対象物に照射することで、イオン照射対象物内に不純物を注入するもの であり、半導体プロセスにおいてデバイスの特性を決定する不純物を任意の量お よび深さに制御性良く注入できることから、現在の集積回路の製造に重要な装置 になっている。
【0003】 上記イオン注入装置には、加速管により所定のエネルギーまで加速されたイオ ンビームをスポット状に集束した後、静電的にX方向(例えば水平方向)および X方向と直交するY方向(例えば垂直方向)に高周波電圧で走査する静電走査方 式のものがある。
【0004】 この静電走査方式のイオン注入装置は、図3に示すように、ビーム走査の前段 階でイオンビームをスポット状に集束する複数段構成(同図では3段)の4極子 レンズ(Qレンズ)51…と、上記Qレンズ51…により集束されたイオンビー ムをY方向に走査するY走査電極52と、X方向に走査するX走査電極53とを 有しており、上記Qレンズ51にはQレンズ電源54からQレンズ電圧が、また 、上記Y走査電極52およびX走査電極53には走査電源55から高周波走査電 圧が印加されるようになっている。
【0005】 上記Qレンズ電源54および走査電源55は、通常、同軸ケーブル57・57 により集束・走査コントローラ56と接続されている。そして、これらQレンズ 電源54および走査電源55の電圧出力・停止動作および出力電圧は、上記波形 整形器56から出力され、上記同軸ケーブル57・57により伝送されるアナロ グ信号p・qに基づいて制御されるようになっている。
【0006】 上記集束・走査コントローラ56は、Qレンズポテンショメータ値データを格 納する領域を有するメモリ56bと、走査電圧波形データを格納する領域を有す るメモリ56cとを有している。上記メモリ56bには、注入条件(イオン種、 エネルギー、ビーム電流、およびイオン注入角度等)に応じた複数のQレンズポ テンショメータ値データが、また、上記メモリ56cには、注入条件に応じた複 数の走査電圧波形データが予め記憶されている。そして、上記集束・走査コント ローラ56のCPU56aは、注入条件が設定されると、その注入条件に応じた 各データをメモリ56b・56cから読み出すようになっており、メモリ56b ・56cから読み出された各データはD/A変換回路56d・56eによりアナ ログ量に変換された上で、アイソレーションアンプ56f・56gを介して同軸 ケーブル57・57へ送出されるようになっている。
【0007】 そして、上記同軸ケーブル57・57に伝送されたアナログ信号p・qを受信 したQレンズ電源54および走査電源55は、信号pに応じたレベルのQレンズ 電圧を発生すると共に、信号qに応じた波形の走査電圧を発生する。そして、Q レンズ電圧がQレンズ51…に、また、走査電圧がY走査電極52およびX走査 電極53に印加され、注入条件に応じた最適な(即ち、均一注入が行われるよう な)イオンビームの集束・走査がなされる。
【0008】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、上記静電走査方式のイオン注入装置においては、上記のビーム集束 ・走査系の制御精度や動作信頼性が装置の性能を決定する重要な要因の一つとな る。特に、イオン注入装置は、真空ポンプ、高電圧電源、モータ等のノイズ発生 部が多い周囲環境を持つものであり、このような悪環境の中でも、ビーム集束・ 走査系の制御精度や信頼性を充分に確保することが要求される。
【0009】 しかしながら、上記従来のイオン注入装置では、Qレンズ電源54および走査 電源55と集束・走査コントローラ56との間を接続する信号伝送媒体としてノ イズが乗り易い同軸ケーブル57が用いられているので、同軸ケーブル57によ り伝送されるアナログ信号p・qがノイズの影響を受け、ビーム集束・走査系の 制御精度の低下を招くことになる。また、信号ラインにサージが乗った場合、コ ントローラ制御回路等のデバイスの破損が生じ易く、ビーム集束・走査系の信頼 性の低下を招くことになる。
【0010】 したがって、上記従来イオン注入装置では、サージによる制御回路破損防止の ため、ディジタル信号に対してはフォトカプラ、アナログ信号に対してはアイソ レーションアンプを用いるという一般的な方法で信号伝送経路における絶縁を行 っている。しかしながら、ビーム集束・走査系にアイソレーションアンプ56f ・56gを使用した場合、その応答特性や再現特性が影響し、ビーム集束・走査 系の制御精度の低下を招く。
【0011】 本考案は、上記に鑑みなされたものであり、その目的は、ビーム集束・走査系 の制御精度および信頼性の向上を図ることができるイオン注入装置を提供するこ とにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
請求項1の考案に係るイオン注入装置は、上記の課題を解決するために、イオ ンビームを走査するための走査電極と、上記走査電極に走査電圧を印加する走査 電源と、上記走査電源に制御信号を送信して走査電源の動作(電圧出力開始・停 止動作および出力電圧波形整形動作等)を制御する走査電源制御手段とを備えた ものであり、以下の手段を講じたことを特徴としている。
【0013】 即ち、上記走査電源と上記走査電源制御手段との間の信号伝送を光信号により 行う光通信手段を有している。
【0014】 請求項2の考案に係るイオン注入装置は、上記の課題を解決するために、イオ ンビームを集束させるビーム集束手段と、上記ビーム集束手段に集束電圧を印加 する集束電源と、上記集束電源に制御信号を送信して集束電源の動作(電圧出力 開始・停止動作および出力電圧レベル調整動作等)を制御する集束電源制御手段 とを備えたものであり、以下の手段を講じたことを特徴としている。
【0015】 即ち、上記集束電源と上記集束電源制御手段との間の信号伝送を光信号により 行う光通信手段を有している。
【0016】
【作用】
上記請求項1の構成によれば、イオンビームは走査電源から走査電圧が印加さ れる走査電極によって走査される。この走査電源の動作制御は走査電源制御手段 の送信する制御信号により行われるようになっており、これら走査電源と走査電 源制御手段との間では、光通信手段による光通信が行われる。
【0017】 したがって、制御信号がノイズの影響を受け難くなり、ビーム走査系の制御精 度が向上する。また、信号伝送が光通信により行われるので、サージによるデバ イスの破損が回避され、ビーム走査系の信頼性が向上する。
【0018】 上記請求項2の構成によれば、イオンビームは集束電源から集束電圧が印加さ れるビーム集束手段によって集束される。この集束電源の動作制御は集束電源制 御手段の送信する制御信号により行われるようになっており、これら集束電源と 集束電源制御手段との間では、光通信手段による光通信が行われる。
【0019】 したがって、制御信号がノイズの影響を受け難くなり、ビーム集束系の制御精 度が向上する。また、信号伝送が光通信により行われるので、サージによるデバ イスの破損が回避され、ビーム集束系の信頼性が向上する。
【0020】
【実施例】
本考案の一実施例について図1および図2に基づいて説明すれば、以下の通り である。
【0021】 本実施例に係るイオン注入装置は、イオンビームを静電的にX方向(例えば水 平方向)およびX方向と直交するY方向(例えば垂直方向)に高周波電圧で走査 する静電走査方式のものであり、図1に示すように、加速管(図示せず)により 所定のエネルギーまで加速されたイオンビームをスポット状に集束する集束手段 としての3重4極子レンズ(Qレンズ)1…と、スポット状のイオンビームをY 方向に走査する走査電極としての一対のY走査電極2およびイオンビームをX方 向に走査する走査電極としての一対のX走査電極3を有している。
【0022】 上記3段構成のQレンズ1…には、集束電源としてのQレンズ電源4からQレ ンズ電圧(集束電圧)が印加されるようになっている。また、一対のX走査電極 3には、走査電源5から互いに180°位相が異なり正負逆の高周波走査電圧が 印加されるようになっている。同様に、上記走査電源4からは、一対のY走査電 極2にも互いに180°位相が異なり正負逆の高周波走査電圧が供給される。
【0023】 上記Qレンズ電源4および走査電源5には、光通信モジュールを搭載した後述 の通信用変換器6・6が隣接設置されている。また、上記のQレンズ電源4の電 圧出力開始・停止動作およびQレンズ電圧4のレベル、並びに上記走査電源5の 電圧出力開始・停止動作および出力電圧波形は、集束・走査コントローラ(集束 電源制御手段、走査電源制御手段)7により制御されるようになっている。
【0024】 上記集束・走査コントローラ7は、上記通信用変換器6・6との間の通信制御 を行うネットワークインターフェースボード(NET I/F BOARD)7cおよび電気信 号を光信号に変換すると共に、受信した光信号を電気信号に変換する光通信モジ ュール7dを有している。そして、上記集束・走査コントローラ7と通信用変換 器6との間、および通信用変換器6・6同士の間では光通信が行われるようにな っており、いわゆる光ネットワークが形成されている。上記通信用変換器6と、 上記集束・走査コントローラ7に設けられたネットワークインターフェースボー ド7cおよび光通信モジュール7dにより光通信手段が構成されている。
【0025】 また、上記集束・走査コントローラ7は、Qレンズポテンショメータ値データ および走査電圧波形データを格納する領域を有するメモリ7bおよび各部の動作 を制御するCPU7aおよび光通信モジュール7dを有している。
【0026】 上記集束・走査コントローラ7のメモリ7bには、イオン種、エネルギー、ビ ーム電流、およびイオン注入角度等の注入条件に応じた複数のQレンズポテンシ ョメータ値データおよび複数の走査電圧波形データが予め記憶されている。尚、 上記Qレンズ電圧波形データおよび走査電圧波形データは、イオン注入角度、イ オン種、エネルギー、ビーム電流等の注入条件毎に採取された最適データであり 、実際のイオン注入処理を実験的に行うことにより得られたウエハ面内注入均一 性結果、または、ファラデーを用いたビーム走査速度の測定結果から、Qレンズ ポテンショメータ値の補正および、三角波を歪ませる波形補正を繰り返し行うこ とにより求められたものである。
【0027】 上記通信用変換器6は、図2に示すように、光通信モジュール6a、通信を制 御するためのゲートアレイ6b、各部の動作を制御するCPU6c、上記集束・ 走査コントローラ7から送られてきたデータを格納する領域が形成されたRAM 6dおよびRAM6dから読み出されたデータをアナログ量に変換するD/A変 換回路6eを備えている。上記D/A変換回路6eから出力されるアナログ信号 は、通信用変換器6に接続されているQレンズ電源4または走査電源5に送られ る。
【0028】 上記の構成において、イオン注入装置の動作を以下に説明する。
【0029】 図示しない入力装置より、イオン種、エネルギー、ビーム電流、およびイオン 注入角度等の注入条件が装置に入力されることにより、集束・走査コントローラ 7のCPU7aはスイープスタート信号出力と同時に、設定注入条件に応じたQ レンズポテンショメータ値データおよび走査電圧波形データをメモリ7bから読 み出す。上記メモリ7bから読み出されたデータ列は、ネットワークインターフ ェースボード7cにおいて光ネットワークに対応するプロトコルに変換され、光 通信モジュール7dから光信号として送信される。
【0030】 また、上記集束・走査コントローラ7のCPU7aは、スイープスタート信号 (制御信号)を光通信モジュール7dから光信号として送信させる。上記集束・ 走査コントローラ7からのスイープスタート信号はQレンズ電源4および走査電 源5に隣接設置された通信用変換器6・6において受信され、Qレンズ電源4お よび走査電源5の電圧出力動作が開始される。
【0031】 上記のように光信号に変換されて集束・走査コントローラ7から送信された制 御信号としてのQレンズポテンショメータ値データ信号および走査電圧波形デー タ信号は、図2に示すように、通信用変換器6の光通信モジュール6aにおいて 受信され、ゲートアレイ6bを介してCPU6cに取り込まれる。上記Qレンズ 電源4に隣接設置された通信用変換器6のCPU6cは、Qレンズポテンショメ ータ値データ信号を受信したとき、Qレンズポテンショメータ値データをRAM 6dに一旦格納すると共に、所定の読み出し速度でRAM6dから格納データを 読み出す。また、上記走査電源5に隣接設置された通信用変換器6のCPU6c は、走査電圧波形データ信号を受信したとき、走査電圧波形データをRAM6d に一旦格納すると共に、所定の読み出し速度でRAM6dから格納データを読み 出す。
【0032】 上記RAM6dから読み出されたQレンズポテンショメータ値データまたは走 査電圧波形データは、D/A変換回路6eによりアナログ量に変換された上でQ レンズ電源4または走査電源5に送られる。
【0033】 そして、上記通信用変換器6のD/A変換回路6eから出力されたアナログ信 号を受信したQレンズ電源4および走査電源5は、受信信号に応じたレベルのQ レンズ電圧を発生すると共に、受信信号に応じた波形の走査電圧を発生する。こ のとき、上記Qレンズ電源4で発生されたQレンズ電圧はQレンズ1…に、また 、走査電源5で発生された走査電圧はY走査電極2およびX走査電極3に印加さ れる。
【0034】 これにより、イオン源(図示せず)から高真空中に引き出された後、質量分析 装置(図示せず)により所定のイオンのみが選別され、さらに加速管(図示せず )により所定エネルギーまで加速されたイオンビームは、Qレンズ1…により集 束された後、Y走査電極2およびX走査電極3により走査され、ウエハの全面に 照射される。
【0035】 尚、上記Qレンズ電源4および走査電源5の動作は、集束・走査コントローラ 7より通信用変換器6・6にスイープストップ信号(制御信号)が送信されるこ とにより停止される。
【0036】 上記のように、本イオン注入装置では、走査電源5には通信用変換器6が隣接 設置され、また、集束・走査コントローラ7にはネットワークインターフェース ボード7cおよび光通信モジュール7dが設けられており、走査電源5と集束・ 走査コントローラ7との間で、通信用変換器6を介した光通信が行われるように なっている。
【0037】 したがって、本イオン注入装置では、集束・走査コントローラ7から送信され る制御信号としてのスイープスタート信号、スイープストップ信号および走査電 圧波形データ信号がノイズの影響を受け難くなり、ビーム走査系の制御精度が向 上する。また、本イオン注入装置では、従来のようにフォトカプラやアイソレー ションアンプを使用した信号伝送経路の絶縁を行う必要がないので、サージによ るデバイスの破損が回避され、ビーム走査系の信頼性が向上する。
【0038】 また、本イオン注入装置では、Qレンズ電源4にも通信用変換器6が隣接設置 され、Qレンズ電源4と集束・走査コントローラ7との間でも、通信用変換器6 を介した光通信が行われるようになっている。
【0039】 したがって、本イオン注入装置では、集束・走査コントローラ7から送信され る制御信号としてのスイープスタート信号、スイープストップ信号およびQレン ズポテンショメータ値データ信号がノイズの影響を受け難くなり、ビーム集束系 の制御精度が向上すると共に、従来のようなサージによるデバイスの破損が回避 され、ビーム走査系の信頼性が向上する。
【0040】 以上のように、本イオン注入装置は、ビーム集束・走査系に光ネットワークを 導入することにより、真空ポンプ、高電圧電源、モータ等のノイズ発生部が多い という悪環境の中でも、ビーム集束・走査系の制御精度や信頼性を充分に確保す ることができるものとなっている。
【0041】 また、従来では、走査電圧波形データおよびQレンズポテンショメータ値デー タは、リアルタイムで集束・走査コントローラより送信されるようになっている ので、ノイズの影響を受け易いという問題を有している。これに対し、本実施例 のイオン注入装置では、走査電圧波形データおよびQレンズポテンショメータ値 データは、注入条件が決定されたときに、集束・走査コントローラ7から一括し て送信されるだけであり、この後、Qレンズ電源4および走査電源5は、集束・ 走査コントローラ7から送信されるスイープスタート信号、スイープストップ信 号のみによりコントロールされる。即ち、集束・走査コントローラ7から一括し て送信された各データは、Qレンズ電源4および走査電源5に隣接設置された通 信用変換器6のRAM6dに一旦格納され、集束・走査コントローラ7からスイ ープスタート信号が送信されたときに、RAM6dから順次読み出され、D/A 変換回路6eでアナログ量に変換されてリアルタイムでQレンズ電源4および走 査電源5に取り込まれるようになっている。このため、走査電圧波形データおよ びQレンズポテンショメータ値データは、ノイズの影響を受け難く、ビーム走査 系およびビーム集束系の制御精度が向上する。
【0042】 尚、本実施例では、光ネットワークを形成することにより、Qレンズ電源4と 集束・走査コントローラ7との間、および走査電源5と集束・走査コントローラ 7との間の信号伝送を可能にしているが、これに限定されるものではなく、Qレ ンズ電源4と集束・走査コントローラ7との間、および走査電源5と集束・走査 コントローラ7との間で、それぞれ独立した光通信がなされるようになっていて もよい。
【0043】 また、本実施例では、通信用変換器6をQレンズ電源4や走査電源5とは別体 としてこれらに隣接設置しているが、通信用変換器6をQレンズ電源4や走査電 源5に組み込むことによって一体構造としてもよい。
【0044】
【考案の効果】
請求項1の考案のイオン注入装置は、以上のように、イオンビームを走査する ための走査電極と、上記走査電極に走査電圧を印加する走査電源と、上記走査電 源に制御信号を送信して走査電源の動作を制御する走査電源制御手段とを備えた ものであって、上記走査電源と上記走査電源制御手段との間の信号伝送を光信号 により行う光通信手段を有している構成である。
【0045】 それゆえ、制御信号がノイズの影響を受け難くなり、ビーム走査系の制御精度 の向上が図られると共に、サージによるデバイスの破損が回避され、ビーム走査 系の信頼性の向上が図られるという効果を奏する。
【0046】 請求項2の考案のイオン注入装置は、以上のように、イオンビームを集束させ るビーム集束手段と、上記ビーム集束手段に集束電圧を印加する集束電源と、上 記集束電源に制御信号を送信して集束電源の動作を制御する集束電源制御手段と を備えたものであり、上記集束電源と上記集束電源制御手段との間の信号伝送を 光信号により行う光通信手段を有している構成である。
【0047】 それゆえ、制御信号がノイズの影響を受け難くなり、ビーム集束系の制御精度 の向上が図られると共に、サージによるデバイスの破損が回避され、ビーム集束 系の信頼性の向上が図られるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示すものであり、イオン注
入装置におけるビーム集束・走査系の要部の構成を示す
ブロック図である。
【図2】上記ビーム集束・走査系に用いられている通信
用変換器の要部の構成を示すブロック図である。
【図3】従来例を示すものであり、イオン注入装置にお
けるビーム集束・走査系の要部の構成を示すブロック図
である。
【符号の説明】
1 4極子レンズ(ビーム集束手段) 2 X走査電極(走査電極) 3 Y走査電極(走査電極) 4 Qレンズ電源(集束電源) 5 走査電源 6 通信用変換器(光通信手段) 7 集束・走査コントローラ(集束電源制御手段、走
査電源制御手段) 7c ネットワークインターフェースボード(光通信手
段) 7d 光通信モジュール(光通信手段)

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】イオンビームを走査するための走査電極
    と、上記走査電極に走査電圧を印加する走査電源と、上
    記走査電源に制御信号を送信して走査電源の動作を制御
    する走査電源制御手段とを備えたイオン注入装置におい
    て、 上記走査電源と上記走査電源制御手段との間の信号伝送
    を光信号により行う光通信手段を有していることを特徴
    とするイオン注入装置。
  2. 【請求項2】イオンビームを集束させるビーム集束手段
    と、上記ビーム集束手段に集束電圧を印加する集束電源
    と、上記集束電源に制御信号を送信して集束電源の動作
    を制御する集束電源制御手段とを備えたイオン注入装置
    において、 上記集束電源と上記集束電源制御手段との間の信号伝送
    を光信号により行う光通信手段を有していることを特徴
    とするイオン注入装置。
JP6825692U 1992-09-30 1992-09-30 イオン注入装置 Pending JPH0633348U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6388745A (ja) * 1986-09-30 1988-04-19 Nissin Electric Co Ltd イオン注入装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6388745A (ja) * 1986-09-30 1988-04-19 Nissin Electric Co Ltd イオン注入装置

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