JPH06333819A - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板端縁を良好に洗浄できるとともに、薄膜
の膜厚の均一性を損なわずに、かつ、処理効率を低下さ
せることなく盛り上がり部分を除去できるようにする。 【構成】 回転塗布によって表面に薄膜が形成された角
型基板１を基板保持手段で保持し、その角型基板１の端
縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズル３を
設けるとともに、溶剤ノズル３による溶剤吐出位置に近
い基板中心側の位置に露光用の光を照射する光ファイバ
ー管７を設け、溶剤ノズル３および光ファイバー管７を
角型基板１の端縁に沿って移動させ、角型基板１の端縁
に対する洗浄と溶剤の滲み込みによって生じる盛り上が
り部分に対する露光とを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト塗布液
や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター用の染色剤
といった薄膜が表面に塗布された液晶用のガラス基板や
フォトマスク用のガラス基板、半導体ウエハ、サーマル
ヘッド製造用のセラミック基板などの基板に対し、その
薄膜塗布後の基板の端縁に溶剤を吐出して、基板の端縁
に付着した不要薄膜を溶解除去するために、表面に薄膜
が塗布された基板を保持する基板保持手段と、その基板
保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少
なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
する溶剤ノズルとを備えた基板端縁洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような基板では、各種の処理装置
に搬入したり搬出したりするために、基板を基板搬送装
置で保持するときに、塗布された薄膜が塵となって基板
表面を汚染する問題があった。

【０００３】そこで、本願出願人は、基板保持手段によ
って保持されている基板の端縁の表裏両面に向けて溶剤
を吐出する溶剤ノズルを設けるとともに、その溶剤ノズ
ルから吐出された溶剤によって溶解された溶解物を外方
に吹き飛ばすガスノズルを設けて構成された基板端縁洗
浄装置を先に提案した。

【０００４】この基板端縁洗浄装置によれば、基板の表
裏両面において、基板端縁に沿った同一の位置に溶剤ノ
ズルとガスノズルとを配置し、かつ、溶剤ノズルをガス
ノズルに対して基板端縁側に配置することにより、溶剤
ノズルから吐出された溶剤によって溶解された溶解物を
ガスノズルから吹き出されるガスによって基板の外方に
吹き飛ばすように構成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た基板端縁洗浄装置では、溶剤が基板表面の薄膜側に滲
み込んでくることにより、溶剤によって洗浄された部分
と薄膜部分との境界部において溶剤で一旦溶解された薄
膜材が盛り上がってしまう欠点があった。

【０００６】上述のような盛り上がり部分が大きくなる
と、通常の後段プロセスで盛り上がり部分を除去するこ
とが困難になる。そのため、ガスノズルから吹き出され
るガスの流量を多くして盛り上がり部分を無くすことが
試みられたが、ガスノズルから吹き出された多量のガス
によって基板の端縁以外の薄膜部分にも影響を及ぼし、
有効エリア内の薄膜の膜厚を均一にできない欠点があっ
た。

【０００７】そこで、フォトレジスト液を基板表面に塗
布してから基板の端縁を洗浄した後に露光処理を行い、
その後、現像工程に移行する前に、盛り上がり部分を露
光する、いわゆる周辺露光を行って、現像時に、盛り上
がり部分を同時に除去するといったことが行われている
が、周辺露光という工程が増えるために処理効率が低下
する欠点があった。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板端縁を良好に洗浄できるととも
に、薄膜の膜厚の均一性を損なわずに、かつ、処理効率
を低下させることなく盛り上がり部分を除去できるよう
にすることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述のような
目的を達成するために、表面に薄膜が塗布された基板を
保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保
持された基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一
方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルとを
備えた基板端縁洗浄装置において、基板保持手段によっ
て保持された基板の端縁の溶剤ノズルによる溶剤吐出位
置に近い基板中心側の位置に露光用の光を照射する光照
射手段と、溶剤ノズルおよび光照射手段を、基板の端縁
に沿って相対的に移動する移動手段とを設けて構成す
る。

【００１０】使用する溶剤としては、フォトレジスト塗
布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイ
ソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類や、四塩化炭素、トリクロル
エチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロルエタ
ン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロ
ゲン化炭化水素類や、テトラヒドロブラン、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエ
ーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキ
サイドなどを用いることができる。また、染色剤を溶解
する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノ
ール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトン
などを用いることができ、そして、これらの液体中に基
板との濡れを良くするために界面活性剤を添加しても良
い。

【００１１】

【作用】本発明に係る基板端縁洗浄装置の構成によれ
ば、表面に均一に薄膜を塗布した基板を基板保持手段に
保持し、その基板の表裏両面の少なくともいずれか一方
の端縁に溶剤ノズルから溶剤を吐出して基板の端縁の薄
膜を溶解して除去するとともに、その溶剤吐出位置に近
い基板中心側の位置、すなわち、溶剤の滲み込みにより
盛り上がりを生じる部分に光を照射して、薄膜の盛り上
がり部分を露光し、後の現像工程において盛り上がり部
分を除去することができる。

【００１２】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。図１は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の実
施例の一部切欠全体概略側面図、図２は全体概略平面図
であり、回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型
基板１を載置して真空吸着により保持する基板保持手段
２の周囲４箇所それぞれに、角型基板１の表面の端縁に
溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズル３…と、
溶剤および溶解した不要薄膜を吸引する排気管４…とが
備えられて、基板端縁洗浄装置５が構成されている。

【００１３】排気管４に、接続チューブ６ａとドレンタ
ンク６ｂとを介して真空吸引源６ｃが接続されるととも
に、図３の要部の側面図、および、図４の要部の平面図
に示すように、排気管４の開口端４ａが、基板保持手段
２に保持された角型基板１の端縁よりも中央側に突出さ
れ、その突出した上側部分に２本の溶剤ノズル３，３が
差し込まれ、溶剤ノズル３の吐出端が、排気管４の開口
端４ａよりも内奥側に位置され、排気流が高速の箇所で
溶剤を吐出して端縁洗浄を行うように構成されている。

【００１４】また、排気管４は、その鉛直方向での開口
断面積が開口端４ａから離れる程小さくなるように構成
され、真空吸引源６ｃの排気吸引力が比較的小さくて
も、開口端４ａでの排気流をより高速にできるようにな
っている。

【００１５】排気管４の開口端４ａの両端それぞれに、
光照射手段としての光ファイバー管７が設けられ、溶剤
ノズル３からの溶剤の吐出位置に近い基板中心側の位置
に露光用の光を照射するように構成されている。

【００１６】前記溶剤ノズル３，３、排気管４および光
ファイバー管７，７がノズルブロック８に一体的に取り
付けられ、そのノズルブロック８を取り付けた支持アー
ム９が、固定フレーム１０に付設した上下一対のガイド
１１，１１を介して、角型基板１の端縁に沿って移動可
能に設けられている。

【００１７】基板保持手段２に保持された角型基板１の
ひとつの角部に対応する箇所に、正逆転可能な駆動機構
としての電動モータ１２を設けたモータブラケット１３
が立設されるとともに、電動モータ１２の駆動軸に駆動
プーリー１４が連動連結されている。

【００１８】基板保持手段２に保持された角型基板１の
ひとつの角部に対応する箇所に１個の遊転プーリー１５
が、そして、他の３箇所の角部に対応する箇所に２個づ
つの遊転プーリー１５，１５がそれぞれ設けられ、駆動
プーリー１４と遊転プーリー１５…とにわたって一対の
ワイヤー１６，１６が巻回され、そのワイヤー１６，１
６の所定の四箇所それぞれに支持アーム９が連結され、
電動モータ１２の正逆転により、四個の溶剤ノズル３
…、排気管４…および光ファイバー管７…それぞれを角
型基板１の各辺に沿わせて往復移動し、角型基板１の端
縁を洗浄できるように移動手段が構成されている。

【００１９】以上の構成により、溶剤ノズル３…、排気
管４…および光ファイバー管７…それぞれを角型基板１
の各辺に沿わせて往復移動し、図５の要部の拡大側面図
に示すように、角型基板１の端面およびそれに近い端縁
に溶剤ノズル３…から溶剤を供給して不要な薄膜を溶解
除去するとともに、溶剤ノズル３…からの溶剤吐出位置
に近い基板中心側の位置の、溶剤の滲み込みによって盛
り上がりを生じる部分に露光用の光を照射し、後工程で
の現像時に盛り上がり部分を除去できるようになってい
る。

【００２０】上述実施例では、角型基板１の端縁に対す
る洗浄と露光処理とは同時に行うことにより、処理効率
を一層向上できるようにしているが、端縁洗浄と露光処
理とを、それぞれ独立して行うようにしても良い。

【００２１】上述実施例では、基板端縁洗浄装置をフォ
トレジスト塗布液などによる薄膜形成のための回転塗布
装置とは別に専用に構成し、スループットを向上できる
ように構成しているが、本発明としては、回転塗布装置
内に組み込み、回転塗布装置の基板保持手段を基板端縁
洗浄装置の基板保持手段２に兼用構成するものでも良
い。

【００２２】また、上記実施例では、基板保持手段２に
保持された角型基板１の４辺それぞれに対応して溶剤ノ
ズル３と排気管４と光ファイバー管７とを設けている
が、本発明としては、１辺にのみ対応させて設けるもの
でも良い。その場合、溶剤ノズル３と排気管４と光ファ
イバー管７とを固定しておいて、角型基板１を移動させ
るように移動手段を構成しても良い。

【００２３】また、光照射手段としては、上述のような
光ファイバー管７に限らず、例えば、ノズルブロック８
に光源ランプを設け、その光源ランプからの光を通す細
幅のスリットを排気管４の開口端に沿うように設け、溶
剤ノズル３からの溶剤の吐出位置に近い基板中心側の位
置に露光用の光を線状に照射できるように構成するもの
でも良い。

【００２４】また、上記実施例では、光ファイバー管７
を角型基板１の表面よりも上方側に設けているが、例え
ば、液晶用ガラス角型基板のような透明な基板に対して
は、基板の裏面よりも下方側に設けて、基板を透過させ
て露光用の光を照射するように構成しても良い。

【００２５】また、本発明は角型基板１に限らず、円形
の基板を洗浄処理する基板端縁洗浄装置にも適用でき
る。

【００２６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る基板端縁洗浄装置によれば、基板の表裏両面の少
なくともいずれか一方の端縁に対する洗浄と、その洗浄
による溶剤の滲み込みによって生じる盛り上がり部分に
対する露光とを同じ装置で行うことができるから、多量
のガス供給によって盛り上がり部分を除去する場合のよ
うに膜厚の均一性を損なうことを回避でき、また、現像
の直前に周辺露光を行う場合のような周辺露光ユニット
とそこへの基板の搬入・搬出が不用になって処理効率を
向上でき、全体として、基板端縁を良好に洗浄できると
ともに、薄膜の膜厚の均一性を損なわずに、かつ、処理
効率を低下させることなく盛り上がり部分を除去できる
ようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板端縁洗浄装置の実施例の一部
切欠全体概略側面図である。

【図２】全体概略平面図である。

【図３】要部の側面図である。

【図４】要部の平面図である。

【図５】要部の拡大側面図である。

【符号の説明】

１…角型基板 ２…基板保持手段 ３…溶剤ノズル ５…基板端縁洗浄装置 ７…光ファイバー管

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に薄膜が塗布された基板を保持する
   基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された
   前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に
   溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルとを備え
   た基板端縁洗浄装置において、 前記基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の
   前記溶剤ノズルによる溶剤吐出位置に近い基板中心側の
   位置に露光用の光を照射する光照射手段と、 前記溶剤ノズルおよび光照射手段を、前記基板の端縁に
   沿って相対的に移動する移動手段と、 を設けたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。