JPH06333900A - 基板用回転式洗浄処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板表面を短時間で隈無く洗浄できるように
する。 【構成】 角型基板をその表面が水平になる姿勢で保持
する回転台を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設け、そ
の回転台に保持された角型基板の表面に対して、超音波
振動子１７により超音波振動が付与された洗浄液を、細
長い形状の供給口１５を通じて、一方向に延びるカーテ
ン状にして角型基板に供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置または
液晶素子製造装置において、半導体ウエハ、液晶用ガラ
ス角型基板やワークなどの基板を所定の処理前もしくは
処理後に洗浄するために、基板をその表面が水平になる
姿勢で保持する基板保持手段を鉛直方向の軸芯周りで回
転可能に設けるとともに、基板保持手段に保持された基
板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備えた基
板用回転式洗浄処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板用回転式洗浄処理装
置は、基板表面に付着している細かいパーティクルを除
去するために、基板をその表面が水平になる姿勢で回転
させながら、ノズルから超音波振動が与えられた純水な
どの洗浄液を基板表面に供給し、かつ、そのノズルを揺
動させて基板表面全体の洗浄を行うように構成されてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
のものでは、円筒容器の上部に円形の超音波振動子を付
設し、そして、円筒容器の下側の縦断面形状を逆円錐形
にして、その下端部に小径の円形開口部を形成し、その
円形開口部から基板表面にスポット的に洗浄液を供給し
ているため、基板の回転とノズルの揺動との協働によっ
て基板表面全面を洗浄するようにしているものの、その
超音波振動による洗浄効果を受ける領域が狭く、基板の
回転とノズルの揺動との相対的な関係から、洗浄液が供
給される軌跡が螺旋状になり、場合によっては洗浄でき
ない箇所も生じる欠点があった。

【０００４】また、洗浄効果を十分に発揮させるために
は時間がかかるとともに細かい付着粒子を除去しづら
く、処理効率および洗浄性能のいずれもが低い欠点があ
った。更に、角型基板などのように、洗浄しようとする
基板が大きくなると、より一層処理に時間を要する欠点
があった。

【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の基板用回転式洗
浄処理装置は、基板表面を短時間で隈無く洗浄できるよ
うにすることを目的とし、また、請求項２に係る発明の
基板用回転式洗浄処理装置は、洗浄液に対して良好に超
音波振動を付与できるようにすることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の基
板用回転式洗浄処理装置は、上述のような目的を達成す
るために、基板をその表面が水平になる姿勢で保持する
基板保持手段を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設ける
とともに、基板保持手段に保持された基板の表面に洗浄
液を供給する洗浄液供給手段を備えた基板用回転式洗浄
処理装置において、洗浄液供給手段に、超音波振動が付
与された洗浄液を一方向に延びるカーテン状にして基板
に供給するように細長い形状の供給口を備えさせて構成
する。

【０００７】また、請求項２に係る発明の基板用回転式
洗浄処理装置は、上述のような目的を達成するために、
請求項１に係る発明の基板用回転式洗浄処理装置におけ
る供給口を設けた箱状容器に、供給口に連なる洗浄液貯
留部を設け、洗浄液を流入する洗浄液流入手段を洗浄液
貯留部に接続するとともに、箱状容器の長手方向全長に
わたる状態で、貯留された洗浄液に超音波振動を付与す
る超音波発振手段を付設して構成する。

【０００８】上記超音波発振手段を設ける場合、矩形の
超音波振動子を箱状容器の長手方向に配列して構成すれ
ば良い（請求項３）。

【０００９】

【作用】請求項１に係る発明の基板用回転式洗浄処理装
置の構成によれば、細長い形状の供給口から、超音波振
動が付与された洗浄液を一方向に延びるカーテン状にし
て基板に多量に供給し、基板の回転との協働により、超
音波振動が付与された洗浄液を基板表面全面に水流圧の
大きい状態で供給することができる。

【００１０】また、請求項２に係る発明の基板用回転式
洗浄処理装置の構成によれば、箱状容器内の洗浄液貯留
部に洗浄液を流入させ、その洗浄液貯留部内に貯留され
た洗浄液に超音波振動を付与し、その超音波振動が付与
された洗浄液を供給口を通じて即座に基板表面に供給す
ることができる。

【００１１】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。

【００１２】図１は本発明に係る基板用回転式洗浄処理
装置の実施例を示す全体概略縦断面図、図２は要部の平
面図であり、角型基板１を載置保持する基板保持手段と
しての回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水平回転可能
に設けられ、その回転台２の半径方向外周がカバー３で
覆われるとともに、そのカバー３の外方が化粧カバー４
で覆われ、かつ、下方に廃液回収ケース５が設けられて
いる。

【００１３】回転台２は、その基板保持面が角型基板１
の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に形成さ
れ、その上面の所定箇所に分散して支持ピン６…が設け
られるとともに、角型基板１の四隅それぞれに一対づつ
の位置決めピン７，７…が設けられ、かつ、回転台２
に、出力軸８を介して電動モータ９が連結され、位置決
めピン７，７…によって角型基板１が回転台２と一体的
に水平回転されるようになっている。

【００１４】化粧カバー４の内部の所定箇所に、回転台
２の回転軸芯Ｐに向けて純水などの洗浄液を噴出供給す
る洗浄ノズル１０…が並設されている。また、鉛直方向
の軸芯Ｐ１周りで揺動可能に、廃液回収ケース５を固定
部としてアングル形状の支持アーム１１が設けられると
ともに、その支持アーム１１の先端に、超音波振動が付
与された洗浄液を供給する洗浄液供給手段１２が設けら
れ、支持アーム１１の揺動により、角型基板１の最外縁
の回転軌跡よりも外方の待機位置と、回転台２の回転軸
芯Ｐに近い箇所を移動して待機位置とは反対側の角型基
板１の最外縁の回転軌跡部分まで洗浄液を供給可能な位
置とにわたって洗浄液供給手段１２を往復移動できるよ
うに構成されている。

【００１５】前記洗浄液供給手段１２は、支持アーム１
１の先端に連接された平面視で矩形状の箱状容器１３内
に洗浄液貯留部１４を設けるとともに、箱状容器１３内
の下部に、その長手方向に沿った細長い形状の供給口１
５を洗浄液貯留部１４に連なる状態で備え、洗浄液貯留
部１４に相当する箇所において、箱状容器１３に、洗浄
液流入手段としての洗浄液供給パイプ１６を接続すると
ともに、箱状容器１３の上部に、図３の要部の縦断面図
に示すように、その長手方向全長にわたる状態で矩形の
超音波振動子１７を配列して構成され、超音波振動が付
与された洗浄液を一方向に延びるカーテン状にして角型
基板１に供給できるようになっている。

【００１６】以上の構成により、角型基板１を回転しな
がら、その角型基板１の表面に洗浄ノズル１０…から洗
浄液を供給して角型基板１の表面を洗浄処理するか、あ
るいは、洗浄液供給手段１２を揺動変位して供給口１５
をその長手方向に移動しながら、そこから超音波振動が
付与された洗浄液を供給して角型基板１の表面を洗浄処
理し、しかる後に、洗浄液の供給を停止した状態で角型
基板１の回転を継続し、洗浄液を遠心力により振り切っ
て乾燥処理できるようになっている。

【００１７】上記超音波振動が付与された洗浄液を供給
するときの角型基板１の回転数としては、洗浄効果を充
分得る上からは、700rpm以上であれば良い。

【００１８】上記実施例では、支持アーム１１を鉛直方
向の軸芯Ｐ１周りで回転することにより、供給口１５を
角型基板１の最外縁の回転軌跡のほぼ直径に相当する範
囲にわたって水平方向で往復変位するように構成してい
るが、少なくとも、供給口１５の長手方向の一端側が角
型基板１の回転軸芯Ｐ上にまで移動するとともに他端側
が角型基板１の回転軸芯Ｐから最も遠ざかった位置まで
移動するように供給口１５を移動させるように構成すれ
ば良い。また、その移動させる手段としては、上述実施
例のような揺動構成に限らず、例えば、エアシリンダな
どを利用して水平方向で直線的に移動させるような構成
を採用しても良い。

【００１９】また、本発明としては、水平方向には変位
させずに、角型基板１の回転台２上への搬入・搬出を行
えるように鉛直方向にのみ変位させるものでも良い。こ
の構成に際しては、角型基板１の回転との協働により、
超音波振動を付与した洗浄液を角型基板１の表面に直接
的に供給する上からは、供給口１５の長手方向長さを角
型基板１の最外縁の回転軌跡の半径に相当する長さに設
定するとともに、供給口１５を、その長手方向の一端側
が角型基板１の回転軸芯Ｐ上に位置するとともに他端側
が角型基板１の回転軸芯Ｐから最も遠ざかった箇所に位
置するようにするのが望ましいが、例えば、供給口１５
の長手方向長さを角型基板１の最外縁の回転軌跡の半径
に相当する長さよりも短いものに設定するとともに、角
型基板１の回転軸芯Ｐを跨ぐように位置させ、角型基板
１の回転軸芯Ｐに近い箇所では超音波振動を付与した洗
浄液を角型基板１の表面に直接的に供給しながらも、角
型基板１の外縁側に対しては、角型基板１の回転に伴う
遠心力により流動される洗浄液により洗浄できるように
構成するものでも良い。

【００２０】本発明は、上述実施例のような角型基板１
を洗浄する場合に限らず、円形の基板を洗浄する場合に
も適用できる。

【００２１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の基板用回転式洗浄処理装置によれば、細
長い形状の供給口から、超音波振動が付与された洗浄液
を一方向に延びるカーテン状にして基板に多量に供給す
るから、単位時間当りの洗浄液の供給領域を拡大できる
とともに、超音波振動効果に加えて、基板の回転に伴う
遠心力を受けての水流の圧力で基板表面に付着した粒子
をその基板表面全面にわたって良好に除去でき、基板表
面を短時間で隈無く良好に洗浄できるようになった。

【００２２】また、請求項２に係る発明の基板用回転式
洗浄処理装置によれば、箱状容器内の洗浄液貯留部に洗
浄液を流入させ、その洗浄液貯留部内に貯留された洗浄
液に超音波振動を付与し、その超音波振動が付与された
洗浄液を供給口を通じて基板表面に即座に供給するか
ら、洗浄液に対して良好に超音波振動を付与でき、超音
波振動による洗浄能力を高くできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板用回転式洗浄処理装置の実施
例を示す全体概略縦断面図である。

【図２】要部の平面図である。

【図３】要部の縦断面図である。

【符号の説明】

１…角型基板 ２…基板保持手段としての回転台 ５…固定部としての廃液回収ケース １２…洗浄液供給手段 １３…箱状容器 １４…洗浄液貯留部 １５…供給口 １６…洗浄液流入手段としての洗浄液供給パイプ １７…超音波振動子 Ｐ…鉛直方向の軸芯

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板をその表面が水平になる姿勢で保持
   する基板保持手段を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設
   けるとともに、前記基板保持手段に保持された基板の表
   面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備えた基板用回
   転式洗浄処理装置において、 前記洗浄液供給手段に、超音波振動が付与された洗浄液
   を一方向に延びるカーテン状にして前記基板に供給する
   ように細長い形状の供給口を備えさせたことを特徴とす
   る基板用回転式洗浄処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の供給口を設けた箱状容
   器に、前記供給口に連なる洗浄液貯留部を設け、洗浄液
   を流入する洗浄液流入手段を前記洗浄液貯留部に接続す
   るとともに、前記箱状容器の長手方向全長にわたる状態
   で、貯留された洗浄液に超音波振動を付与する超音波発
   振手段を付設してある基板用回転式洗浄処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の超音波発振手段が、矩
   形の超音波振動子を箱状容器の長手方向に配列したもの
   である基板用回転式洗浄処理装置。