JPH06337521A - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

露光方法及び露光装置

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JPH06337521A
JPH06337521A JP5290297A JP29029793A JPH06337521A JP H06337521 A JPH06337521 A JP H06337521A JP 5290297 A JP5290297 A JP 5290297A JP 29029793 A JP29029793 A JP 29029793A JP H06337521 A JPH06337521 A JP H06337521A
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JP
Japan
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mask
work
exposure
inert gas
air
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JP5290297A
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English (en)
Inventor
Hisao Hoshi
久夫 星
Tomoyuki Sukunami
友幸 宿南
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】プロキシミティー(近接)露光方式におけるパ
ターン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮
断操作を行なう際に、マスク及びワークの界面、若しく
は界面直近に存在する酸素を従来よりも短時間で効率良
く不活性ガスに置換できるようにすることにある。 【構成】光学マスク1とワーク4との離間対向間隙内に
沿って移動するエアーノズル3から不活性ガスN2 を噴
出させて光学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス
置換処理した後に紫外線、電子線露光する露光方法及び
露光装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置等
に使用されるカラーフィルター等のパターンを光学マス
クを用いて露光形成するためのパターン露光方法及び露
光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、基板上に形成された光重合型
感光材を露光するに際し、酸素による光重合反応阻害を
防止する目的で、露光前に該感光材を予めポリビニルア
ルコール等の透光性の樹脂膜で被覆する樹脂膜被覆方式
か、又は不活性ガス、具体的には窒素ガスを該感光材周
囲に充満させて、空気中の酸素を窒素N2 で置換する不
活性ガス置換方式によって酸素を遮断して露光する露光
方法が採用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のような樹脂膜被
覆方式は確実な方法ではあるが、樹脂塗布、乾燥工程等
を必要とし、その工程に掛かる時間が長くなる欠点を有
しており、それに比較して不活性ガス置換方式は、比較
的に簡潔な操作で行なうことができる。
【0004】図9、図10は、従来のプロキシミティー
(近接)露光方式におけるパターン露光に使用される露
光ステーションの概要側断面図と平面図であり、従来の
上記不活性ガス置換方式による酸素遮断操作の場合は、
図9に示すように、露光用窓部12aが形成されたマス
ク装着フレーム12の窓部12a外周端部上面にある段
差部12b内に、水平に装着固定されたマスク1(光学
マスク)と、該マスク1に対して平行に、下側に離間対
向してワークステージ15上に位置決め載置されたワー
ク4(例えばガラス基板等の基板上に感光材が形成され
たもの)との対向間隙に、外側より窒素ガスを噴出して
窒素ガスを注入することによって置換するものであり、
比較的簡潔な操作で行なうことができるものであるが、
一方、短時間で効率よくマスク1とワーク4の界面に存
在する空気中の酸素を窒素N2 に置換することがなかな
か困難である。
【0005】このような不活性ガス置換、具体的には窒
素ガス置換による酸素遮断方式においては、図9に示す
ように、マスク1と、それに平行に離間対向するワーク
4との間の側方に設置されたノズル13から窒素ガスN
2 を噴出させ、噴出した窒素ガスN2 は、その周辺の空
気を巻き込みながら、マスク1とワーク4との間隙に流
れ込む。
【0006】この場合、マスク1とワーク4との離間対
向相当部分の領域サイズは、例えば300mm×300
mm〜500mm×500mmであり、それに対してそ
のマスク1とワーク4との間の近接間隔は、数mm〜十
数mmと狭いため、マスク1とワーク4との対向間隙内
に流れ込む窒素ガスN2 の流れが悪く、したがってマス
ク1とワーク4のそれぞれ界面に吸着している酸素やそ
の周囲の酸素を精度よく窒素N2 に置換するためには、
マスク1とワーク4との対向間隙内の窒素ガスN2 の流
れをよくする必要があった。
【0007】また、図9に示すように、マスク1とワー
ク4との対向間隙に窒素ガスN2 が良好に流れても(常
温における窒素ガス流体の粘性計数(粘度)は、水の流
体の粘性計数の約50分の1の200マイクロポアズ程
度)、ワーク4の界面(若しくは界面の直近)に存在す
る空気、即ち光重合反応を阻害する酸素は、容易には窒
素ガスと置換しないことが判明している。
【0008】図9に示すような窒素置換方式による置換
操作では、上記のようにマスク1やワーク4の界面に吸
着したりして存在する酸素、あるいは界面直近に存在す
る酸素が、マスク1とワーク4のそれぞれ界面より離れ
た間隙空間で観察される酸素よりも、はるかに強い光重
合反応阻害をもたらしていることがわかった。
【0009】本発明は、プロキシミティー(近接)露光
方式におけるパターン露光において不活性ガス置換方式
により酸素の遮断操作を行なう際に、マスク及びワーク
の界面、若しくは界面直近に存在する酸素を従来よりも
短時間で効率良く不活性ガスに置換できるようにするこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
光学マスクとワークとを互いに平行に対向させ、光学マ
スクをワークの感光材面に近接乃至重ね合わせて露光す
る露光方法において、光学マスクとワークとの離間対向
間隙内に沿って移動するエアーノズルから不活性ガスを
噴出させて光学マスクとワークとの対向界面を不活性ガ
ス置換処理した後に紫外線露光することを特徴とする露
光方法である。
【0011】また、本発明の第2の発明は、露光用光源
を備え、且つ光学マスクとワークとを互いに平行に離間
乃至近接若しくは接触対向動作させるそれぞれマスクフ
レーム及びワークステージと、該光学マスクとワークと
の離間対向間隙内外を移動可能な不活性ガス噴出用のエ
アーノズルとを備えたことを特徴とする露光装置であ
る。
【0012】
【実施例】本発明における第1の発明の露光方法を、実
施例に従って以下に詳細に説明すれば、図1は本発明の
不活性ガス置換方式による酸素遮断操作を行なって光学
マスクからワークに対してパターン露光するための第1
実施例における露光方法を示す断面図であり、図2はそ
の平面図である。
【0013】図1において、光学マスク(光学的マス
ク)1と、それに平行に離間対向するワーク4(例えば
ガラス基板上に光重合硬化型感光材を塗布したもの)と
の間隙の中央近傍に、移動可能な2本一対の窒素ガスN
2 噴出用のエアーノズル3(例えば中空バー状のもの)
を設け、該エアーノズル3のワーク4と対向する一方の
部位に窒素ガスN2 を噴出させる細いスリット3a(又
は小孔)、又は該エアーノズル3の光学マスク1及びワ
ーク4と対向する互いに相対する両側部位にそれぞれ窒
素ガスN2 を噴出させる細いスリット3a,3b(又は
小孔)を設ける。
【0014】図2は、図1の概要平面図であり、窒素ガ
スN2 の噴出量は、中央部で多いことが好ましく、スリ
ット幅は中央部から外側にかけて順次細くすることが好
ましいが、本発明においてはこれに限定するものではな
い。また、スリット3a,3bのギャップを保持するた
めに適宜ブリッジを設けることができる。
【0015】例えば、上記実施例において、カラーフィ
ルター製造等に使用される光学マスク1は、通常450
mm×450mm以上のサイズであり、上記エアーノズ
ル3を使用する際におけるマスク1とワーク4との対向
間隙は20mm以下、好ましくは10mm以下である。
【0016】窒素ガスN2 噴出用のエアーノズル3の断
面形状は何ら制限は無いが、外径は極力小さいことが好
ましく、例えば10mm未満が好ましい。
【0017】次に、エアーノズル3からの窒素ガスN2
の噴出工程から、露光工程までを以下に順を追って説明
する。
【0018】図1において、マスクフレーム2に対して
上側又は下側より装着した光学マスク1(ガラス基板上
にクロム又はクロムと酸化クロムとによる遮光膜がパタ
ーン形成されたフォトマスク、あるいはガラス基板上に
銀塩乳剤による黒化遮光膜がパターン形成された銀塩写
真マスク等)と、それに平行に離間対向するワーク4
(例えばガラス基板上に光重合硬化型感光材を塗布した
もの)との間隙の中央近傍に位置決めされている1対の
エアーノズル3,3のそれぞれスリット3a,3bよ
り、ガス噴出流速を高速にして窒素ガスN2 をワーク4
に向けて若しくは光学マスク1とワーク4との両方に向
けて噴出させながら、該エアーノズル3,3を、その対
向間隙内に沿って互いに反対方向に移動させながら、そ
の対向間隙より外側に移動させる。なお、エアーノズル
3の移動速度は、例えば100mm/秒〜200mm/
秒が適当であり、移動を終了するまでの窒素ガスN2
噴出時間は、およそ3秒程度である。
【0019】図3に示すように、エアーノズル3を光学
マスク1とワーク4との対向間隙内より外に退避させた
後は、直ちに光学マスク1とワーク4とを接近させてプ
ロキシミティー(近接)状態にして、適宜アライメント
工程によって光学マスク1とワーク4との互いの対向面
内での相対的位置決め(露光のための見当整合)を素早
く行った後に、直ちに紫外線露光する。
【0020】なお、プロキシミティー状態にした後のマ
スク1とワーク4との対向間隙は、例えば0.1mm以
下であり、この近接間隙を保持した状態における露光工
程に要する数秒間では、その光学マスク1とワーク4と
の近接対向間隙内に外気の流れはほとんどみられないも
のである。
【0021】露光が終了した後は、マスク1とワーク4
とを互いに離反させて、元の平行な離間対向状態に戻
す。なお、ワークステージ5上のワーク4は、適宜次工
程に搬送される。
【0022】続いて、エアーノズル3,3を、マスク1
とワーク4との離間対向間隙内の中央部近傍に戻す。な
お、エアーノズル3は、ワーク4がワークステージ5上
に搬入される以前にも適宜窒素ガスN2 を噴出させるこ
とは可能である。
【0023】次に、本発明における第2の発明の露光装
置を、実施例に従って以下に詳細に説明する。図4は本
発明装置の第1実施例の概要側断面図であり、マスクフ
レーム2と、それと平行に離間対向して、互いに相対的
に接近乃至は離反動作するするワークステージ5とを備
える。
【0024】該マスクフレーム2とワークステージ5の
相対的な接近乃至離反動作は、エアーシリンダー、モー
ターにより駆動動作させ、該マスクフレーム2とワーク
ステージ5との両方に対して垂直方向の適宜ガイド(図
示せず)に沿って、接近乃至離反動作するようにしたも
のである。
【0025】マスクフレーム2は、四角形状の露光用窓
部2aを備え、該マスクフレーム2の上面には、マスク
1を装着するための段差部2bを備え、該段差部2aは
フォトマスク1の外周が嵌合できる形状に形成されてい
て、フォトマスク1をマスクフレーム2上側より段差部
2b内に装着するものである。なお段差部2a上面、又
は上面及び内周面には、適宜弾力性、あるいは硬質性の
ゴム製、プラスチック製の緩衝材(図示せず)を設ける
ことは可能である。
【0026】前記マスクフレーム2の露光用窓部2a上
方には、ハロゲン、キセノン、アーク等の紫外線照射用
の点光源若しくは紫外線照射用の走査光源等の光源28
を備える。
【0027】ワークステージ5は、その上面に平坦面を
備え、該平坦面には、ワーク4を吸着固定するためのエ
アー吸着手段24(装着固定手段)を備え、該エアー吸
着手段24は、ワークステージ5上面に孔設された複数
の吸引孔25と、該吸引孔25と連通するエアー流路2
6と、エアー吸引管27とを備え、エアー吸引管27よ
りエアーを吸引することによって吸着孔25のバキュー
ム力によってワーク4をワークステージ5上に装着固定
するものである。
【0028】図5は本発明装置の第2実施例の概要側断
面図であり、マスクフレーム2と、それと平行に離間対
向して、互いに相対的に接近乃至は離反動作するするワ
ークステージ5とを備える。
【0029】該マスクフレーム2とワークステージ5の
相対的な接近乃至離反動作は、エアーシリンダー、モー
ターにより駆動動作させ、該マスクフレーム2とワーク
ステージ5との両方に対して垂直方向の適宜ガイド(図
示せず)に沿って、接近乃至離反動作するようにしたも
のである。
【0030】マスクフレーム2は、四角形状の露光用窓
部2aを備え、該マスクフレーム2の下面にマスク1を
吸着固定するためのエアー吸着によるマスク装着手段2
0を備え、該マスク装着手段20は、マスクフレーム2
の下面に孔設されたスリット状、長孔状、小孔状の複数
の吸着孔21と、該吸着孔21に連通するエアー通路2
2と、エアー吸引管23とを備え、エアー吸引管23よ
り適宜バキュームポンプ(図示せず)にてエアーを吸引
することによって吸着孔21のバキューム力によってマ
スク1をマスクフレーム下面に吸着固定するものであ
る。なお、吸着孔21の周囲には、適宜弾力性のあるゴ
ム製、プラスチック製のリング状のシール材(図示せ
ず)を設け、吸着孔21とマスク面との間で吸引エアー
の洩れが生じないようにすることは可能である。
【0031】前記マスクフレーム2の露光用窓部2a上
方には、ハロゲン、キセノン、アーク等の紫外線照射用
の点光源若しくは紫外線照射用の走査光源等の光源28
を備える。
【0032】ワークステージ5は、その上面に平坦面を
備え、該平坦面には、ワーク4を吸着固定するためのエ
アー吸着手段24(装着固定手段)を備え、該エアー吸
着手段24は、ワークステージ5上面に孔設された複数
の吸引孔25と、該吸引孔25と連通するエアー流路2
6と、エアー吸引管27とを備え、エアー吸引管27よ
りエアーを吸引することによって吸着孔25のバキュー
ム力によってワーク4をワークステージ5上に装着固定
するものである。
【0033】図6は本発明装置の第3実施例の概要側断
面図であり、マスクフレーム2と、それと平行に離間対
向して、互いに相対的に接近乃至は離反動作するするワ
ークステージ5とを備え、マスクフレーム2には、該マ
スクフレーム2の下面にマスク1を装着固定するための
メカニカルクランプによるマスク装着手段30を備え
る。
【0034】該マスク装着手段30は、マスクフレーム
2の下面と相対する平行なクランプ板31と、該クラン
プ板31を上下動作させる作動シャフト32と、該シャ
フト32を駆動動作させる駆動源33を備える。
【0035】作動シャフト32は、例えばエアーシリン
ダーの作動ロッドであり、前記クランプ板31を該作動
シャフト32に取付けることによって、クランプ板31
を上下動作可能にして、マスクフレーム2下面とクラン
プ板31との間にマスク1を挟み込んで装着固定するも
のである。
【0036】また、例えば、前記作動シャフト32は、
モーターにて駆動回転するネジシャフトであり前記クラ
ンプ板31を該ネジシャフトに螺着し、マスクフレーム
2の一部に適宜垂直ガイド(図示せず)を設けることに
よって、ネジシャフトの正回転、逆回転によってクラン
プ板31を上下動作させることができ、マスクフレーム
2下面とクランプ板31との間にマスク1を挟み込んで
装着固定するようにしてもよい。
【0037】次に本発明装置の第1実施例、第2実施
例、第3実施例において、エアーノズル3の移動機構に
ついて以下に説明すれば、図7は2本1対のエアーノズ
ル3,3の移動機構を示す概要側断面図、図8はその平
面図であって、図7、図8に示すマスクフレーム2に対
するフォトマスク1の装着方式は、上記図5に示した第
2実施例及び図6に示した第3実施例の装着方式を採用
しているが、第1実施例の装着方式を採用することは可
能である。
【0038】図7、図8に示すように、一方のエアーパ
イプ3の一端部と他端部がそれぞれ両側一対の可動ブロ
ック50,50に取付けられ、他方のエアーノズル3の
一端部と他端部がそれぞれ両側一対の可動ブロック5
1,51上に取り付けられている。
【0039】それぞれ前記両側一対の可動ブロック5
0,50、及び両側一対の可動ブロック51,51は、
図8に示すように、ワークステージ5の相対する1対の
両側部に互いに平行に、且つワークステージ5に対して
平行に備えた1対のストレートガイド45,45に沿っ
て移動可能であり、該可動ブロック50,51は、それ
ぞれ接続部50a,51aを介して駆動手段40に一体
的に取付けられている。
【0040】駆動手段40は、例えば一方の可動ブロッ
ク50,50を一体的に取り付けたエンドレスチェーン
41と、それを巻回して駆動回転送行させるスプロケッ
ト41a,41bにより構成され、また他方の可動ブロ
ック51,51を一体的に取り付けたエンドレスチェー
ン42と、それを巻回して駆動回転送行させるスプロケ
ット42a,42bにより構成される。
【0041】スプロケット41a,41aと、スプロケ
ット42a,42aとを同速度にて同期させてモーター
にて駆動回転させることによって、それぞれ両側一対の
可動ブロック50,50と51,51を介してエアーノ
ズル3,3は互いに平行に、マスク1とワーク4との離
間対向間隙内を移動させるものである。
【0042】
【作用】本発明は、露光直前において、光学マスクとワ
ークとの離間対向間隙内に沿ってエアーノズルを移動さ
せながら光学マスクとワークとの対向界面に不活性ガス
を噴出させて不活性ガス置換処理するようにしたので、
光学マスクとワークとの対向界面に最も接近した状態の
もとで不活性ガスが噴出でき、界面、及び界面直近に存
在する空気、即ち光重合硬化反応を阻害する酸素を強制
的に且つ従来よりも強力に剥ぎ取る作用があり、比較的
少量の不活性ガス(窒素ガスN2 )の使用量によって、
短時間に高濃度の不活性ガス(窒素ガスN2 )雰囲気を
作ることができ、従来よりも精度のあるガス置換操作が
できるものである。
【0043】以下に本発明の具体的実施例を示す。 <実施例1>厚味5mm、サイズ450mm×450m
mのマスクと、厚味1.1mm、サイズ320mm×4
00mmのガラス基板を準備した。窒素ガスN2 噴出用
のエアーノズルとして、外径6mm、内径5mm、長さ
500mmのステンレス製のパイプの相対する上下2個
所に、幅0.2mmのスリット孔を400mmの長さに
設け、該スリット孔には20mm間隔に2mm幅のブリ
ッジを形成した。
【0044】続いて、上記ガラス基板上に下記重量組成
比(重量部)による光重合型顔料分散感光材を膜厚1.
8μmにて塗布し、70℃、20分間乾燥してワークを
形成した。 光重合型顔料分散感光材の重量組成比 A;有機顔料C.I.PIG.RED177 1.0重量部 B;以下の組成比からなるアニオン性アクリル共重合体 1.2重量部 メタクリル酸 15重量部 メチルメタクリレート 15重量部 ヒドロキシメタクリレート 20重量部 ブチルメタクリレート 20重量部 シクロヘキシルアクリレート 30重量部 C;多官能アクリルモノマー(アロニックスM−300) 1.8重量部 東亜合成(株)製 D;光重合開始剤(イルガキュアー907) 0.2重量部 E;有機溶剤 15.8重量部
【0045】マスクをマスクフレームに装着し、ワーク
をワークステージ上に載置して固定した後に、該マスク
とワークとの対向間隙を8mmに保持して、窒素ガスN
2 噴出用のエアーノズルから、毎分120リットルの割
合で窒素ガスN2 を噴出させながら、100mm/秒の
速度にてエアーノズルを移動させ、約2.5秒間窒素ガ
スN2 を噴出して、マスクとワークとの対向間隙外側に
エアーノズルを退避させた。
【0046】退避後は、エアーノズルからの窒素ガスN
2 の噴出量を毎分30リットルに低下させてその状態を
7秒程度保持しながらマスクとワークを50μmの対向
間隙になるように接近させてプロキシミティー状態に保
持し、アライメント後に紫外線露光した。この時の紫外
線(365nm)の照射エネルギーは、20mW/cm
2 で、露光時間は2秒間程度であり、露光後は、pH1
0.1の弱アルカリ水で現像した結果、良好な着色画像
が得られた。
【0047】この時の酸素濃度は、ワーク全面に亘って
0.5%以下に保たれた。なお、移動するエアーノズル
による窒素ガスN2 噴出に要した時間は2.5秒間であ
り、退避後の窒素ガスN2 噴出に要した時間は7秒間程
度であり、消費した窒素ガスN2 の量は8.5リットル
程度であった。
【0048】<比較例>厚味5mm、サイズ450mm
×450mmのマスクと、厚味1.1mm、サイズ32
0mm×400mmのガラス基板を準備し、ガラス基板
上に実施例1と同様の重量組成比(重量部)による光重
合型顔料分散感光材を膜厚1.8μmにて塗布し、70
℃、20分間乾燥してワークを形成した。
【0049】マスクをマスクフレームに装着し、ワーク
をワークステージ上に載置して固定した後に、該マスク
とワークとの対向間隙を8mmに保持して、その対向間
隙より外側のマスクフレームの四辺にある窒素ガスN2
噴出ノズルから、毎分120リットルの割合で窒素ガス
2 を噴出させた。
【0050】続いて、マスクとワークを50μmの対向
間隙になるように接近させてプロキシミティー状態に保
持し、アライメント後に、紫外線露光した。
【0051】この時の酸素濃度は、ワーク全面に亘って
0.5%以下に保たれたが、窒素ガスN2 噴出に要した
時間は15秒〜20秒で、実施例に比較して大幅に時間
を要し、消費した窒素ガスN2 の量は30〜40リット
ル程度であった。
【0052】
【発明の効果】本発明の露光方法及び露光装置は、プロ
キシミティー(近接)露光方式におけるパターン露光に
おいて不活性ガス置換方式により酸素の遮断操作を行な
う際において、光学マスク及びワークの界面、若しくは
界面直近に存在する酸素を従来よりも短時間で効率良く
排除して不活性ガスに置換できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光方法を説明する概要側断面図であ
る。
【図2】本発明の露光方法を説明する概要平面図であ
る。
【図3】本発明の露光方法を説明する概要平面図であ
る。
【図4】本発明の露光装置の第1実施例を説明する概要
側断面図である。
【図5】本発明の露光装置の第2実施例を説明する概要
側断面図である。
【図6】本発明の露光装置の第3実施例を説明する概要
平面図である。
【図7】本発明の露光装置のエアーノズルの移動機構を
説明する概要側断面図である。
【図8】本発明の露光装置のエアーノズルの移動機構を
説明する概要平面図である。
【図9】従来の露光方法を説明する概要側断面図であ
る。
【図10】従来の露光方法を説明する概要平面図であ
る。
【符号の説明】
1…光学マスク 2…マスクフレーム 2a…露光用窓
部 2b…段差部 3…エアーノズル 3a,3b…スリット(小孔) 4
…ワーク 5…ワークステージ 12…マスクフレーム 12a…露光用窓部 12b…
段差部 13…ノズル 15…ワークステージ 20…マスク装着手段 21…吸引孔 22…エアー流
路 23…吸引管 24…装着固定手段 25…吸引孔 26…エアー流路
27…吸引管 28…露光用光源 30…マスク装着手段 31…クランプ板 32…作動
シャフト 33…駆動源 40…移動駆動手段 41…エンドレスチェーン 41a,41b…スプロケット 42…エンドレスチェ
ーン 42a,42b…スプロケット 45…ガイド 50…可動ブロック 51…可動ブロック

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光学マスクとワークとを互いに平行に対向
    させ、光学マスクをワークの感光材面に近接乃至重ね合
    わせて露光する露光方法において、光学マスクとワーク
    との離間対向間隙内に沿って移動するエアーノズルから
    不活性ガスを噴出させて光学マスクとワークとの対向界
    面を不活性ガス置換処理した後に紫外線露光することを
    特徴とする露光方法。
  2. 【請求項2】露光用光源を備え、且つ光学マスクとワー
    クとを互いに平行に離間乃至近接若しくは接触対向動作
    させるそれぞれマスクフレーム及びワークステージと、
    該光学マスクとワークとの離間対向間隙内外を移動可能
    な不活性ガス噴出用のエアーノズルとを備えたことを特
    徴とする露光装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008276040A (ja) * 2007-05-02 2008-11-13 Ushio Inc マスクステージ
JP2010040831A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Orc Mfg Co Ltd 露光装置における基板の露光方法
JP2017058414A (ja) * 2015-09-14 2017-03-23 ウシオ電機株式会社 プロキシミティ露光装置およびプロキシミティ露光方法

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