JPH06340579A

JPH06340579A - ６ｚ，８ｅ，１０ｅ立体配置にあるロイコトリエンｂ４の立体特異的合成法

Info

Publication number: JPH06340579A
Application number: JP6140723A
Authority: JP
Inventors: Guy Solladie; ギー、ソラディー; Guy Stone; ガイ、ストーン; Antonio Urbano-Pujol; アントニオ、ウルバーノ・プヨル; Jean Maignan; ジァン、メニャン
Original assignee: LOreal SA
Current assignee: LOreal SA
Priority date: 1993-06-01
Filing date: 1994-06-01
Publication date: 1994-12-13
Anticipated expiration: 2014-10-25
Also published as: US5434281A; ES2110194T3; DE69406494D1; CA2124744A1; FR2705959A1; CA2124744C; ATE159708T1; DE69406494T2; EP0628534B1; JP2967180B2; EP0628534A1; FR2705959B1

Abstract

(57)【要約】【目的】ロイコトリエンＢ₄を立体特異的に合成す
る。【構成】変換されるトリエーテルを得るように、次の
図式【化１】に従い還元的脱離にかけるジベンゾアートトリエーテル
を調製し、構造式【化２】で表わされる、６Ｚ，８Ｅ，１０Ｅ立体配置のロイコト
リエンＢ₄（ＬＴＢ₄）を立体特異的に合成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は６Ｚ，８Ｅ，１０Ｅ（或は６−ｃ
ｉｓ，８−ｔｒａｎｓ，１０−ｔｒａｎｓ）立体配置に
あるロイコトリエンＢ₄（以下ＬＴＢ₄と記す）の立体特
異的合成方法とこの方法の間に得られる幾つかの中間体
とに関する。

【０００２】ロイコトリエンが白血球中でのアラキドン
酸の代謝生成物であることは知られている。アラキドン
酸はロイコトリエンＡ₄と呼ばれている不安定なエポキ
シ化合物に変換され、それはそれ自身５−リポオキシゲ
ナーゼによりＬＴＢ₄に変換される。ＬＴＢ₄は白血球の
粘着と化学走性的運動を引き抜き起し、好中球において
集合と酵素の放出と超酸化物の形成とを刺戟する。ＬＴ
Ｂ₄はそれ故炎症およびアルギーの過程にかかわってい
る。

【０００３】ＬＴＢ₄はその生物学的源から充分な量で
単離するのは困難であり、薬理学的研究のための需要、
特に炎症過程に関する生物学的研究の背景における需要
が増大している。この研究においては決定されている立
体特異的形のロイコトリエンを得ることが非常に重要で
ある。

【０００４】本発明は構造式

【化３５】で表わされる、６Ｚ，８Ｅ，１０Ｅ形のＬＴＢ₄の立体
特異的合成方法に関する。それ故このロイコトリエンは
その中央のトリエン部分に、ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ，ｔｒ
ａｎｓ立体化学を持っている。

【０００５】この構造を持つＬＴＢ₄の合成特にＷｔｔ
ｉｇ反応による合成に関して多くの方法が提案された。
その方法は例えば次の文献：Ｅ．Ｊ．Ｃｏｒｅｙ，
Ａ．Ｍａｒｆａｔ，Ｇ．Ｇｏｔｏ，Ｆ．Ｂｒｉｏｎ，Ｊ
ＡＣＳ，１９８０，１０２，７９８４；Ｅ．Ｊ．Ｃｏｒ
ｅｖ，Ａ．Ｍａｒｆａｔ，Ｊ．Ｍｕｎｒｏｅ，Ｋ．Ｓ．
ｋｉｍ，Ｐ．Ｂ．Ｍｏｐｋｉｕｓ，Ｆ．Ｂｒｉｏｎ，Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．，１９８１，２２，
１０７７；Ｙ．Ｇｕｉｎｄｏｎ，Ｒ．Ｚａｍｂｏｎｉ，
Ｃ．Ｌａｕ，Ｊ．Ｒｏｋａｃｈ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎＬｅｔｔ．，１９８２，２３，７３９；Ｒ．Ｚａｍ
ｂｏｎｉ，Ｊ．Ｒｏｋａｃｈ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．，１９８２，２３，２６３１；Ｌ．Ｊ．
Ｍｉｌｌｓ，Ｐ．Ｃ．Ｎｏｒｔｈ，Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎＬｅｔｔ．，１９８３，２４，４０９；
Ｋ．Ｃ．Ｎｉｃｏｌｓｏｎ，Ｒ．Ｅ．Ｚｉｐｋｉｎ，
Ｒ．Ｅ．Ｄｏｌｌｅ，Ｂ．Ｄ．Ｈａｒｒｉｓ，ＪＡＣ
Ｓ，１９８４，１０６，３５４８；Ｃ．Ｋ．Ｈｅｎ，
Ｄ．ＤｉＴｕｌｌｉｏ，Ｙ．Ｆ．Ｗａｎｇ，Ｃ．Ｊ．
Ｓｉｈ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８６，５１，１
２５３；Ｙ．ＬｅＭｅｒｒｅｒ，Ｃ．Ｇｒａｖｉｅ
ｒ，Ｄ．Ｌａｎｇｕｉｎ−Ｍｉｃａｓ，Ｊ．Ｃ．Ｄｅｐ
ｅｚａｙ，ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．，１９
８６，２７，４１６１；Ｙ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，
Ｔ．Ｓｈｉｍａｚａｋｉ，Ｆ．Ｓｅｔｏ，Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．，１９８７，４７，５８４
９；Ｙ．Ｇｕｉｎｄｏｎ，Ｄ．Ｄｅｌｏｒｍｅ，Ｃ．
Ｋ．Ｌｅｎ，Ｒ．Ｚａｍｂｏｎｉ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，１９８８，５３，２６７；Ｙ．ＬｅＭｅｒｒｅ
ｒ，Ｃ．Ｇｒａｎｉｗｒ−Ｐｅｌｌｅｔｉｅｒ，Ｄ．Ｍ
ｉｃａｓ−Ｌａｎｇｕｉｎ，Ｍ．Ｍｅｓｔｒｅ，Ａ．Ｄ
ｕｒｅａｕｌｔ，Ｊ．Ｃ．Ｄｅｐｅｚａｙ，Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８９，５４，２４０９；Ｍ．Ａｖ
ｉｇｎｏｎ−Ｔｒｏｐｉｓ，Ｍ．Ｔｒｅｉｌｈｏｖ，
Ｊ．Ｌｅｂｒｅｔｏｎ，Ｊ．Ｒ．Ｐｏｕｇｎｙ，Ｉ．Ｆ
ｒｅｃｈａｒｄ−Ｏｒｔｕｎｏ，Ｃ．Ｈｕｙｎｈ，Ｇ．
Ｌｉｎｓｔｒｕｍｅｌｌｅ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．，１９８９，３０，６３３５；Ｙ．Ｋｏｂａ
ｙａｓｈｉ，Ｔ．Ｓｈｉｍａｚａｋｉ，Ｈ．Ｔａｇｕ
ｃｈｉ，Ｆ．Ｓｅｔｏ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９
９０，５５，５３２４；Ｍ．Ａｖｉｇｎｏｎ−Ｔｒｏｐ
ｉｓ，Ｍ．Ｔｒｅｉｌｈｏｖ，Ｊ．Ｒ．Ｐｏｕｇｎ
ｙ，Ｉ．Ｆｒｅｃｈａｒｄ−Ｏｒｔｕｎｏ，Ｇ．
Ｌｉｎｓｔｒｕｍｅｌｌｅ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔ．，１９９１，３５，７２７９；Ｍ．Ａｖｉｇｎ
ｏｎ−Ｔｒｏｐｉｓ，Ｊ．Ｍ．Ｂｅｒｊｅａｕｄ，
Ｊ．Ｒ．Ｐｏｕｇｎｙ，Ｉ．Ｆｒｅｃｈａｒｄ−Ｏ
ｒｔｕｎｏ，Ｄ．Ｇｕｉｌｌｅｒｍ，Ｇ．Ｌｉｎｓｔｒ
ｕｍｅｌｌｅ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９２，５
７，６５１；Ｍ．Ｔｒｅｉｌｈｏｖ，Ａ．Ｆａｕｖ
ｅ，Ｊ．Ｒ．Ｐｏｕｇｎｙ，Ｊ．Ｃ．Ｐｒｏｍ
ｅ，Ｍ．Ｖｅｓｃｈａｍｂｒｅ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，１９９２，５７，３２０３に記載されている。

【０００６】しかしこれらの方法は所望のｃｉｓ，ｔｒ
ａｎｓ，ｔｒａｎｓ立体配置を持つＬＴＢ₄を好収率
で、よい立体特異性を持って得ることを可能としていな
い。

【０００７】本発明はよりよい収率でよい立体特異性を
もって所望のＬＴＢ₄を得ることを可能とする方法に関
する。

【０００８】それ故、本発明の主題は、（イ）構造式
（２）

【化３６】｛この式で、Ａはシリル基、特にｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリル基（以下ＴＢＤＭＳと記す）またはｔｅｒｔ
−ブチルジフェニルシリル基（以下ＴＢＤＰＳと記す）
であり、その３つのＡ基に関しては互に他と異るシリル
基であることができ、Ｂは置換されていないベンゾイル
基またはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシ基またはアルキル基により
置換されているベンゾイル基、好ましくは置換されてい
ないベンゾイル基（以下Ｂｚと記す）である｝で表わさ
れるジベンゾアートを調製し、（ロ）構造式（１）で表
わされるＬＴＢ₄を得るために、構造式（３）

【化３７】で表わされるトリエーテルを得るように、構造式（２）
で表わされるジベンゾアートを、溶剤存在の下、温度−
１０〜３０℃でナトリウムアマルガムを用いて制御され
た還元的脱離にかけ、それから５−位と１２−位とにあ
る−ＯＡ基を−ＯＨ基に変換し、１−位にある−ＣＨ₂
ＯＡ基を−ＣＯＯＨ基に変換する、構造式

【化３８】で表わされる、６Ｚ，８Ｅ，１０Ｅを立体配置のＬＴＢ
₄の立体特異的合成方法である。

【０００９】溶剤としては、テトラヒドロフランまたは
メタノールまたはそれらの混合物を用いるのが好まし
い。

【００１０】本説明および請求項中においては、ＡとＢ
とは常に今与えた定義に相応する。

【００１１】好ましくは、構造式（２）で表わされるジ
ベンゾアートにおいては、１−位と５−位とにあるアル
コール官能基はｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基で置換
あるいはブロックされ、一方１２−位にあるアルコール
はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基により置換され
ている。Ｂ基は好ましくは置換されていないベンゾイル
基（Ｂｚ）である。それ故好ましい化合物は構造式
（２′）

【化３９】で表わされるジベンゾアートである。

【００１２】本発明に従えば、それ故隣接する二重結合
の立体化学を保持し乍ら、アリルジベンゾアートから完
全にｔｒａｎｅのジエンを形成させることが可能である
ことが発見された。

【００１３】ビタミンＡと１３−ｃｉｓレチノールの合
成（Ｇ．Ｓｏｌｌａｄｉｅ，Ａ．Ｇｉｒａｒｄｉｎ，
Ｇ．Ｌａｎｇ，Ｊ．Ｏｒｙ．Ｃｈｅｍ．，１９８９，５
４，２６２０）において低原子価チタニウム［Ｔｉ
（Ｏ）］を用い、アリル性ジオールから全ｔｒａｎｓジ
エンの形成反応を行うことが知られていた。

【化４０】

【００１４】この反応は、中央立体配置が次の如く

【化４１】書かれる構造式（２）で表わされるジベンゾアートの前
駆体アルコールを処理する場合は可能であろうと考えら
れるが、一方側に第２アリル性アルコール、他方側に第
２ビスアリル性アルコールが存在する場合には［Ｔｉ
（Ｏ）］による還元はよい結果を与えないことになる。
他方、本発明に従えば、予期できず、驚くべきことに、
ジベンゾアートの形中の２つのアルコールを保護し、１
電子移動のために［Ｔｉ（Ｏ）］の代りにナトリウムア
マルガムを用いることにより優れた状況の下でこの反応
が全く可能であり、ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ収
率は定量的であることが発見された。その反応は図式的
に次のように書くことができる。

【化４２】

【００１５】本発明に従うと、構造式（３）で表わされ
るトリエントリエーテルは好ましくは次の方法（イ）第
１段階で、構造式（４）

【化４３】で表わされる酸を得るように、構造式（３）で表わされ
るトリエーテルを溶剤、好ましくはジメチルホルムアミ
ド存在の下、室温でニクロム酸ピリジニウムと反応さ
せ、そして（ロ）第２段階で、構造式（１）で表わされ
るＬＴＢ₄を得るために、構造式（４）で表わされる酸
を、溶剤、好ましくはテトラヒドロフラン中弗化テトラ
ブチルアンモニウム溶液で処理する、で構造式（１）で
表わされるＬＴＢ₄に変換される。

【００１６】事実驚くべきことに、結合鎖末端にあるシ
リル化エーテルは、５−位と１２−位にある他の２つの
シリル化エーテルに影響を与えることなく開裂され、そ
れをニクロム酸ピリジニウムにより酸化することが可能
であることが発見された。

【００１７】構造式（２）で表わされるジベンゾアート
は好ましくは次の方法により調製される。（イ）第１段階において、構造式（７）

【化４４】で表わされるプロパルギルジオールを得るように、構造
式（５）

【化４５】で表わされるプロパルギルアルコールと、構造式（６）

【化４６】で表わされるアルデヒドとを反応させ、構造式（５）で
表わされるプロパルギルアルコールは予め、溶剤、好ま
しくはテトラヒドロフラン中、温度−７０〜９０℃でｎ
−ブチルリチウムで処理し、それから溶剤、好ましくは
テトラヒドロフラン中に溶解された構造式（６）で表わ
されるアルデヒドと反応させ、温度を漸進的に室温に戻
し、（ロ）第２段階で、構造式（８）

【化４７】で表わされるジオールを得るように、溶剤、好ましくは
ヘキサン中に溶解している、構造式（７）で表わされる
ポロパルギルジオールを、室温、キノリン存在の下にＬ
ｉｎｄｌａｒ触媒を用いて還元し、そして（ハ）第３段
階で、前記して定義した構造式（２）で表わされるジベ
ンゾアートを得るように、構造式（８）で表わされるジ
オールを室温で、溶剤、好ましくピリジン中に溶解した
塩化ベンゾイルで処理する。

【００１８】前記して定義した構造式（６）で表わされ
るアルデヒドは、例えばＧ．Ｓｏｌｌａｄｉｅ，Ｃ．Ｈ
ａｍｄｏｕｃｈｉ，Ｃ．Ｚｉａｎｉ−Ｃｈａｒｉｆ，Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＡｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９
１、２，４５７に述べられている既知の化合物である。

【００１９】Ｌｉｎｄｌａｒ触媒はｐｄ／ＣａＣＯ₃／
ＰｂＯより成っている。それは例えば、Ｆｉｅｓｅｒ
ａｎｄＦｉｅｓｅｒ，ＲｅａｇｅｎｔｓｆｏｒＯ
ｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ”−Ｊ．Ｗｉｌｅ
ｙ，１９６７−第１巻，５６６頁に記載されている。

【００２０】構造式（５）

【化４８】で表わされるプロパルギルアルコールは好ましくは次の
方法により調製される。（イ）第１段階で、構造式（１０）

【化４９】で表わされるジブロミドを得るように、１９９２年７月
２１日出願のフランス特許出願第９２−０８９７８号の
実施例の第８段階で、Ａ＝ＴＢＤＭＳで述べられてい
る、構造式（９）

【化５０】で表わされているアルデヒドを出発材料として用い、溶
剤、好ましくはジクロロメタン中、室温でトリフェニル
ホスフィンと亜鉛末、それからＣＢｒ₄と反応させ、
（ロ）第２段階で、構造式（１１）

【化５１】で表わされるアルキンを得るために、構造式（１０）で
表わされるジブロミドを溶剤、好ましくはテトラヒドロ
フラン中、温度−５０℃以下、好ましくは−８０℃程度
でｎ−ブチルリチウムと反応させ、（ハ）第３段階で、
構造式（１２）

【化５２】で表わされるプロパルギルアルデヒドを得るように、溶
剤、好ましくはテトラヒドロフラン中に溶解されてい
る、構造式（１１）で表わされるアルキンを、温度−７
０〜−９０℃でｎ−ブチルリチウム溶液、それからＮ−
ホルミルピペリジン溶液と反応させ、温度を漸進的に室
温に戻し、（ニ）第４段階で、構造式（１３）

【化５３】で表わされるアルデヒドを得るように、構造式（１２）
で表わされるアルデヒドを、水素雰囲気下、溶剤媒質、
好ましくはテトラヒドロフラン中でＬｉｎｄｉａｒ触媒
とキノリンと一諸にし、そして（ホ）第５段階で、構造
式（５）で表わされるプロパルギルアルコールを得るよ
うに、構造式（１３）で表わされるアルデヒドを溶剤、
特にテトラヒドロフラン中に溶解し、それから臭化アセ
チレンマグマグネシウムを添加する。

【００２１】本発明全般並に請求項中において、術語
“室温”とは温暖な気候中の、囲まれていてエア−コン
ディショニングしていない空間中で達成できる温度範
囲、即ち約５〜３５℃を表わす。

【００２２】前記の調製方法の間に中間体として調製さ
れた幾つかの化合物は新規である。これは構造式２〜５
と７と８と１０〜１３とで表わされる化合物に関する場
合である。

【００２３】その結果、本発明の他の主題は中間体とし
て有用な新規の化合物としての次の化合物である。（ａ）構造式

【化５４】で表わされるジベンゾアート、好ましは構造式

【化５５】で表わされるジベンゾアート（ｂ）構造式

【化５６】で表わされるトリエン、好ましく構造式

【化５７】で表わされるトリエン。（ｃ）構造式

【化５８】で表わされる酸、好ましく構造式

【化５９】で表わされる酸（ｄ）構造式

【化６０】で表わされるプロパルギルアルコール、好ましくは構造
式

【化６１】で表わされるプロパルギルアルコール（ｅ）構造式

【化６２】で表わされるプロパルギルジオール、好ましくは構造式

【化６３】で表わされるプロパルギルジオール（ｆ）構造式

【化６４】で表わされるジオール、好ましくは構造式

【化６５】で表わされるジオール（ｇ）構造式

【化６６】（この式で、２つのＡ基の中少くとも１つはＴＢＤＰＳ
である）で表わされるアルデヒド（ｈ）構造式

【化６７】で表わされるジブロミド、好ましくは構造式

【化６８】で表わされるジブロミド（ｉ）構造式

【化６９】で表わされるアルキン、好ましくは構造式

【化７０】で表わされるアルキン（ｊ）構造式

【化７１】で表わされるプロパルギルアルデヒド、好ましくは構造
式

【化７２】で表わわされるプロパルギルアルデヒド（ｋ）構造式

【化７３】で表わされるアルデヒド、好ましく構造式

【化７４】で表わされるアルデヒド

【００２４】以下に、純粋に説明として、限定を意味す
ることなく調製実施例を与える。

【００２５】

【実施例】

第１段階：構造式

【化７５】で表わされる（ｓ）−３，７−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−１，１−ジブロモヘプテンの調製ＣＨ₂Ｃｌ₂（７０ｍｌ）中のトリフェニルホスフィン
（１４．５ｇ，５５ｍｍｏｌ，１０当量）溶液を亜鉛末
（３．６ｇ，５５ｍｍｏｌ，１０当量）に添加する。
それからＣＨ₂Ｃｌ₂（８０ｍｌ）中のＣＢｒ₄（１８．
２５ｇ，５５ｍｍｏｌ，１０当量）溶液を加える。反応
混合物を室温で２４時間撹拌し、ＣＨ₂Ｃｌ₂（５０ｍ
ｌ）に溶解されている（−）−２（Ｓ）−２，６−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−ヘキサノール
（２．０ｇ，５５ｍｍｏｌ）を添加する。２時間撹拌
後、ヘキサンを加え、固形物を濾過する。その固形物を
ヘキサンで洗浄し、溶剤を蒸発させる。それから粗反応
生成物をシリカ上のクロマトグラフィーにかける（エー
テル／ヘキサン：1/100 ）。純粋なジブロミド（構造式
１９）２．６ｇ（９１％）を得る。

【００２６】得られた生成物の特性は次の通り。ａ）［α］_D＝−２．５°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ₃）ｂ）¹ＨＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ：
６．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｈ−２），
４．２７（ｍ，１Ｈ，Ｈ−３），３．６１（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝６．１Ｈｚ，Ｈ−７），１．６−１．３（ｍ，６
Ｈ，Ｈ−４，Ｈ−５，Ｈ−６），０．８９と０．８８
（２ｓ，１８Ｈ，ｔ−Ｂｕ），０．０８と０．０６と
０．０５（３ｓ，１２Ｈ，ＣＨ₃−Ｓｉ）ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ：１４２．２（Ｃ
−２），８８（Ｃ−１），７３．５（Ｃ−３），６３
（Ｃ−７），３６．６と３２．６（Ｃ−４，Ｃ−５），
２６と２５．８（ｔ−Ｂｕ），２１．３（Ｃ−６），１
８．４と１８．１（Ｃ−Ｓｉ），４．５，−４．９と−
５．３（ＣＨ₃−Ｓｉ）．

【００２７】第２段階：構造式

【化７６】で表わされるアルキンの調製。ジブロミド（構造式１
９）（２．６ｇ，５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）（７０ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却す
る。それから、ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１．
４５Ｍ溶液（８．６ｍｌ，１２．５ｍｍｏｌ，２．５
当量）を滴下して加える。その反応混合物を−７８℃で
１時間撹拌し、続け、室温で１時間撹拌しつづける。エ
ーテルで希釈し、飽和ＮＨ₄Ｃｌ溶液を用いて加水分解
を行い、それから飽和ＮａＣｌ溶液を用いて洗浄を行
う。エーテルで抽出後生成物をシリカカラム上（エーテ
ル／ヘキサン：1/50 ）で生成するとアルキン（構造式
２０）１．５７ｇとなる。

【００２８】得られた生成物の特性は次の通り。ａ）［α］_D＝−２７°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ₃）ｂ）¹ＨＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ：
４．３３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．１と６．２Ｈｚ，Ｈ−
３），３．６１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，Ｈ−
７），２．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｈ−
１），１．７−１．４（ｍ，６Ｈ，Ｈ−４，Ｈ−５，Ｈ
−６），０．９０と０．８９（２ｓ，１８Ｈ，ｔ−Ｂ
ｕ），０．１３と０．１０と０．０４（３ｓ，１２Ｈ，
ＣＨ₃Ｓｉ），ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：８５．６（Ｃ−
１），７１．９（Ｃ−２），６３（Ｃ−３），６２．７
（Ｃ−７），３８．４と３２．４（Ｃ−４とＣ−５），
２６と２５．７（ｔ−Ｂｕ），２１．６（Ｃ−６），１
８．３と１８．２（Ｃ−Ｓｉ），−４．５７と−５．１
１と−５．３２（ＣＨ₃−Ｓｉ）．

【００２９】第３段階：構造式

【化７７】で表わされる（−）−４（Ｓ）−４．８−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２−オクチン−１−アー
ルの調製ヘキサン中のブチリウム１．５Ｍ溶液（３ｍｌ，４．５
ｍｍｏｌ，１．６当量）を−７．８℃でＴＨＦ（５ｍ
ｌ）中に溶解されているアルキン（構造式２０）（１
ｇ，２．８ｍｍｏｌ）に添加する。添加後１〜２時間
で温度を−４０℃に上げる。ＴＨＦ（５ｍｌ）中のＮ−
ホルミルピペリジン（１ｇ，８．８ｍｍｏｌ，３．１
当量）溶液をこの温度で加える。−４０℃で撹拌を１時
間続け、室温で１時間続ける。エーテルでの希釈と、飽
和ＮａＣｌ溶液による有機層の洗浄と、溶剤の蒸発との
後、生成物をクロマトグラフィー（エーテル／ヘキサ
ン：５／９５）により精製する。アルデヒド（構造式２
１）０．９ｇ（８３％）が得られる。

【００３０】得られた生成物の特性は次の通り。ａ）［α］_D＝−３１°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ₃）ｂ）¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）：δ
９．２２（ｓ，１Ｈ，Ｈ−１），４．５２（ｔ，１Ｈ，
Ｊ＝６．３Ｈｚ，Ｈ−４），３．６１（ｔ−２Ｈ，Ｊ
＝６．０Ｈｚ，Ｈ−８），１．８−１．４（ｍ，６
Ｈ，Ｈ−５，Ｈ−６，Ｈ−７），０．９０と０．８８
（２ｓ，１８Ｈ，ｔ−Ｂｕ），０．１３と０．１１と
０．０４（３ｓ，１２Ｈ，ＣＨ₃Ｓｉ），ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ：１７６．１
（Ｃ−１），９７．５と８３．５（Ｃ−２，Ｃ−３），
６２．６（Ｃ−４，Ｃ−８），３７．５と３２．２（Ｃ
−５，Ｃ−６），２５．８と２５．６（ｔ−Ｂｕ），２
１．４（Ｃ−７）１８．２と１８（Ｃ−Ｓｉ），−４．
７と−５．２と−５．４（ＣＨ₃−Ｓｉ）．

【００３１】第４段階：構造式

【化７８】で表わされる、（＋）−４（Ｓ）−４，８−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−２（Ｚ）−オクテン−
１−アールの調製プロパルギルアルデヒド（構造式２１）（７００ｍｇ，
１．８２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（７０ｍｌ）に溶解す
る。Ｌｉｎｄｌａｒ（１００ｍｇ）とキノリン（１００
μｌ）を加える。水素雰囲気の下、水素化を１時間続け
る。エーテルでの希釈とシリカを通す濾過と溶剤の蒸発
との後、生成物をクロマトグラフィー（エーテル／ヘキ
サン：５／２）で精製する。構造式（２２）で表わされ
るアルデヒド５８０ｍｇ（８２％）が単離される。

【００３２】得られた生成物の特性は次の通り。ａ）［α］_D＝＋９°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ₃）ｂ）¹ＨＮＭＲ：δ：１０．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
７．６Ｈｚ，Ｈ−１），６．４８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．３と１１．５Ｈｚ，Ｈ−３），５．８９（ｄｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１，７．６と１１．５Ｈｚ，Ｈ−
２），４．９５（ｍ，１Ｈ，Ｈ−４），３．５９（ｔ，
２Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，Ｈ−８），１．７−１．３
（ｍ，６Ｈ，Ｈ−５，Ｈ−６，とＨ−７），０．８７と
０．８６（２ｓ，１８Ｈ，ｔ−Ｂｕ），０．０５と０．
０２と０．０１（３ｓ，１２Ｈ，ＣＨ₃−Ｓｉ），ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣＬ₃）：δ：１９１（Ｃ−
１），１５４．５と１２８（Ｃ−２とＣ−３），６８．
９（Ｃ−４），６２．８（Ｃ−８），３８と３２．６
（Ｃ−５とＣ−６），２５．９と２５．７（ｔ−Ｂ
ｕ），２１．５（Ｃ−７），１８．３と１８．１（Ｃ−
Ｓｉ）−４．５と−４．８と−５．４（ＣＨ₃−Ｓ
ｉ）．

【００３３】第５段階：構造式

【化７９】で表わされる、６（Ｓ）−６，１０−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−３−ヒドロキシ−４（Ｚ）−
デセン−１−インの調製ＴＨＦ中臭化アセチレンマグネシウムの０．５Ｍ溶液
（６ｍｌ，３ｍｍｏｌ，２当量）をＴＨＦ（５ｍｌ）
中に溶解しているアルデヒド（構造式２２）（５８０ｍ
ｇ，１．５ｍｍｏｌ）に滴下して加える。１５分後、
その反応混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ溶液を用いて加水分解
し、エーテルで抽出し、そしてその有機相を飽和ＮａＣ
ｌ溶液で洗浄する。溶剤の蒸発、クロマトグラフィーに
よる精製後、プロパルギルアルコール（構造式１６）
（ジアステレオ異性体混合物）６００ｍｇ（９７％）が
単離された。図１はプロトンＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ
ｌ₃，２００ＭＨｚ）を示す。（［α］_D＝＋１１°
（ｃ＝０．６５，ＣＨＣｌ₃）。

【００３４】第６段階：構造式

【化８０】で表わされる、［１４（Ｚ），５（Ｓ），１２（Ｒ）］
−１，５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
１４−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−８，１
１−ビスヒドロキシ−１４−エイコセン−９−インの精
製ＴＨＦ（５ｍｌ）中のプロパルギルアルコール（構造式
１６）（６００ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ，１当量）をヘ
キサン中のｎ−ブチルリチウム１．５Ｍ溶液（２ｍｌ，
３ｍｍｏｌ，２．２５当量）により−７８℃で処理す
る。それから温度を１〜２時間の間に−４０℃に上昇す
るのにまかせ、この温度でＴＨＦ（５ｍｌ）中に溶解さ
れている、構造式

【化８１】で表わされる、［４（Ｚ），２（Ｒ）］−２−（ｔ−ブ
チルフェニルシリルオキシ）−４−デセン−１−アール
（６００ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ，１当量）を加える。
撹拌を−４０℃で１時間、それから室温で１時間続け
る。エーテルによる希釈、飽和ＮＨ₄Ｃｌ溶液による加
水分解、有機相の飽和ＮａＣｌ溶液による洗浄、溶剤の
蒸発、そしてクロマトグラフィーによる精製（エーテル
／ヘキサン：３０／７０）の後プロパルギルジオール
（構造式１７）（ジアステレオ異性体混合物）８５０ｍ
ｇ（７１％）を得る。図２はプロトンＮＭＲスペクトル
（ＣＤＣｌ₃２００ＭＨｚ）を示す。（［α］_D＝＋１１
°（Ｃ＝２，ＣＨＣｌ₃））。

【００３５】第７段階：構造式

【化８２】で表わされる、［６（Ｚ），９（Ｚ），１４（Ｚ），５
（Ｓ），１２（Ｒ）］−１，５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−１２−（ブチルジフェニルオキ
シ）−８，１１−ジヒドロキシ−６，９，１４−エイコ
サトリエンの調製ヘキサン（４０ｍｌ）中に溶解されているプロパルギル
ジオール（構造式１７）（４００ｍｇ，０．５ｍｍｏ
ｌ）を水素雰囲気の下、キノリン（５０ｍｌ）存在の下
でＬｉｎｄａｒ触媒（２００ｍｇ）により４時間還元す
る。エーテルによる希釈、シリカゲルを通す濾過の後、
溶剤を蒸発し、生成物をクロマトグラフィー（エーテル
／ヘキサン：５０／５０）により精製する。ジオール
（構造式１８）２２５ｍｇ（５５％）をジアステレオ異
性体混合物の形で得る。図３はプロトンＮＭＲスペクト
ル（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）を、図４は¹³ＣＮＭ
Ｒスペクトル（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）を示す。
（［α］_D＝＋１１（ｃ＝２，ＣＨＣｌ₃））。

【００３６】第８段階：構造式

【化８３】で表わされる、［６（Ｚ），９（Ｚ），１４（Ｚ），５
（Ｓ），１２（Ｒ）］−１，５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリオキシ）−１２−（ｔ−ブチルフェニルオキ
シ）−８，１１−ビスベンズオキシ−６，９，１４−エ
イコサトリエンの調製ピリジン（５ｍｌ）中に溶解しているジオール（構造式
１８）（２０５ｍｇ，０．２５当量）を０℃で、塩化ベ
ンゾイル（１５０μｌ，１８１．５ｍｇ，５当量）によ
り処理する。室温で３時間撹拌後、エーテルにより希釈
し、５％硫酸を加える。有機相を飽和ＮＨ₄ＣｌとＮａ
Ｃｌとの溶液で洗浄する。溶剤の蒸発、クロマトグラフ
ィーによる精製（エーテル／ヘキサン：５／９５）の後
ジベンゾアート（構造式２′）２３５ｍｇ（９０％）を
ジアステレオ異性体混合物の形で単離する。図５は¹³Ｃ
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）
を、図６はプロトンＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃，２
００ＭＨ₃）を示す。

【００３７】第９段階：構造式

【化８４】で表わされる、［６（Ｚ），８（Ｅ），１０（Ｅ），１
４（Ｚ），５（Ｓ），１２（Ｒ）］−１，５−ビス（ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）−１２−（ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ）−６，８，１０，１４−エイ
コサテトラエンの調製ＴＨＦ（１０ｍｌ）とメタノール（３ｍｌ）との混合物
中に溶解されているジベンゾアート（構造式２′）（２
１０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）をＮａ₂ＨＰＯ₄（２００
ｍｇ）で、−２０℃に冷却した後、“Ｒｅａｇｅｎｔｓ
ｆｏｒＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｆｉ
ｅｓｅｒａｎｄＦｉｅｓｅｒ，ＪｏｈｎＷｉｌｅ
ｙ，Ｎ．Ｙ．，１９６７，第１巻，１０３０頁”に従っ
て調製した６ｗｔ％ナトリウムアマルガム（１ｇ，２．
６ｍｍｏｌ，１３当量）で処理する。２時間反応させ
た後、反応混合物をエーテルで希釈し、それからシリカ
ゲルを通じて濾過する。溶剤蒸発後、生成物をクロマト
グラフィーで精製する。純粋なトリエン（構造式１４）
１３０ｍｇ（８１％）を得る。

【００３８】生成物は次の特性を持つ。（ａ）［α］_D＝＋４８°（ｃ＝０．３，ＣＨＣｌ₃）（ｂ）¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）：
δ：７．７１と７．３９（２ｍ，１０Ｈ，芳香族Ｈ），
６．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．１と１４．３Ｈ
ｚ，Ｈ−８），６．０８（ｍ，１Ｈ，Ｈ−１０），５．
９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，Ｈ−７），５．
９２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．０と１５．０Ｈｚ，Ｈ
ｚ，Ｈ−９），５．６９（ｄｄ，１Ｈ−，Ｊ＝６．８と
１４．７Ｈｚ，Ｈ−１１），５．５−５．２（ｍ，３
Ｈ，Ｈ−６，Ｈ１４とＨ−１５），４．５５（ｍ，１
Ｈ，Ｈ−５），４．２２（ｇ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ，Ｈ−１２），３．６３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈ
ｚ，Ｈ−１），２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ−１６），１．
８８（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，Ｈ−１３），１．７
−１．２（ｍ，１２Ｈ，Ｈ−２，Ｈ−３，Ｈ−４，Ｈ−
１７，Ｈ−１８，Ｈ−１９），１．１１（ｓ，９Ｈ，ｔ
−Ｂｕ），０．９５−０．８５（ｍ，２１Ｈ，ｔ−Ｂ
ｕ，Ｈ−２０）０．１１と０．０８と０．０７（３ｓ，
１２Ｈ，ＣＨ₃，Ｓｉ），（ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ：１３６．５，
１３５．５，１３３．４，１３２．１，１３０．２，１
２７．５，１２７．３，１２４．５（８ビニルＣ），１
３６（２Ｃ），１３５．９（２Ｃ），１３４．３，１３
４．１，１２９．５，１２９．４，１２７．５（２
Ｈ），１２７．４（２Ｃ）［１０ａｒｏｍ．Ｃ］，７４
と６９．１（Ｃ−５とＣ−１２），６３．２（Ｃ−
１），３８．３，３６，３２．８，３１．５，２９．
２，２７．３，２２．６，２１．８（８脂肪族Ｃ），２
７．１と２６．０と２５．９（９Ｃ，ｔ−Ｂｕ），１
９．３と１８．４と１８．２（３Ｃ，ｔ−Ｂｕ），１
４．１（Ｃ−２０），−４．２と−４．８と−５．３
（ＣＨ₃−Ｓｉ）．

【００３９】第１０段階：構造式

【化８５】で表わされる、５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−１２（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−Ｌ
ＴＢ₄調製ジメチルホルムアミド中に溶解されているトリエン（構
造式１４）（１００ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）をニク
ロム酸ピリジニウム（ＰＤＣ）（４５０ｍｇ，１．２ｍ
ｍｏｌ，１０当量）を用い、室温で２４時間処理す
る。再びＰＤＣ（２２５ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ，５当
量）を加え、再び２４時間撹拌を続ける。エーテルで希
釈後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ溶液で処理する。それか
ら有機相を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄する。溶剤の蒸発と
調製用薄層クロマトグラフィー（エタノールで予備洗浄
したシリカ、溶離液：エーテル／ヘキサン：３０／７
０、脱酸素）の後酸（構造式１５）５３ｍｇ（６２％）
が単離される。

【００４０】得られた生成物は次の特性を持つ。（ａ）［α］_D＝＋６５°（ｃ＝０．６，ＣＨＣｌ₃）ｂ）¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）：δ
７．６５と７．３５（２ｍ，１０Ｈ，芳香族Ｈ），６．
２５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．０と１４．３Ｈｚ，Ｈ−
８），６．０６（ｍ，１Ｈ，Ｈ−１０），５．３３
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，Ｈ−７），５．９１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．８と１５．０Ｈｚ，Ｈ−
９），５．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７と１４．７Ｈ
ｚ，Ｈ−１１），５．５−５．２（ｍ，３Ｈ，Ｈ−６，
Ｈ−１４，Ｈ−１５），４．５３（ｍ，１Ｈ，Ｈ−
５），４．２０（ｇ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，Ｈ−１
２），２．４−２．１（ｍ，４Ｈ，Ｈ−２，Ｈ−１
６），１．８５（ｍ，２Ｈ，Ｈ−１３），１．７−１．
２（ｍ，１０Ｈ，Ｈ−３，Ｈ−４，Ｈ−１７，Ｈ−１
８，Ｈ−１９），１．０８（ｓ，９Ｈ，ｔ−Ｂｕ），
０．９−０．８（ｍ−１２Ｈ，ｔ−ＢｕとＨ−２０），
０．０８と０．０４（２ｓ，ＣＨ₃−Ｓｉ），（ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ：１７９．４
（Ｃ−１），１３．６８，１３４．８，１３４，７，１
３２．１，１３０．１，１２７．９，１２７．０，１２
４．５（８ビニルＣ），１３６．０（２Ｃ），１３５．
９（２Ｃ），１３４．３，１３４，１，１２９．５，１
２９．４，１２７．５（２Ｃ），１２７．４（２Ｃ）
［１２芳香族Ｃ］７３．９と６８．６（Ｃ−５，Ｃ−１
２），３７．７，３６．０，３３．９，３１．５，２
９．２，２７．３，２２．６，２０．６（８脂肪族
Ｃ），２７．０と２５．９（６Ｃ，ｔ−Ｂｕ），１９．
３と１８．１（２Ｃ，ｔ−Ｂｕ），１４．１（Ｃ−２
０），−４．２と−４．８（ＣＨ₃−Ｓｉ）．

【００４１】第１１段階：構造式

【化８６】で表わされる、ＬＴＢ₄の調製酸（構造式１５）のシリル化されたエーテルの加水分解
をＫｏｂａｙａｓｈ等、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９
９０，５５，５３２４により記述されている条件の下
で行う。ＴＨＦ中の弗化テトラブチルアンモニウム（Ｔ
ＢＡＦ）１．１Ｍ溶液（６５０μｌ，０．７ｍｍｏｌ
を、ＴＨＦ（２ｍｌ）中に溶解されている酸（構造式１
５）（５０ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）に加える。室
温、２４時間後、エーテルで希釈し、リン酸塩緩衝液
（水２００ｍｌ中Ｎａ₂ＨＰＯ₄・１２Ｈ₂Ｏ７．３８
ｇとクエン酸２．０４ｇとから調製）を用いて加水分解
する。有機相を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、溶剤を蒸発
させ、調製用シリカ板上でのクロマトグラフィー（エタ
ノールで予備洗浄、溶離液：メタノール／エーテル：２
／９８、脱酸素）で精製して、ＬＴＢ₄１６．７ｍｇ
（７１％）を得る。

【００４２】得られたＬＴＢ₄は次の特性を持つ。（ａ）［α］_D＝＋１２．７°（ｃ＝０．３，ＣＨＣ
ｌ₃）（ｂ）¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，２００ＭＨｚ）：δ
６．４９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚと１４．
０Ｈｚ，Ｈ−８），６．２７（ｍ，２Ｈ，Ｈ−９，Ｈ
−１０），６．０８（ｔ−，１Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈ
ｚ，Ｈ−７），５．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．２と１
４．４Ｈｚ，Ｈ−１１），５．６５−５．３０（ｍ，
３Ｈ，Ｈ−６，Ｈ−１４，Ｈ−１５），４．６０（ｍ，
１Ｈ，Ｈ−５），４．２２（ｇ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈ
ｚ，Ｈ−１２），２．５−２．２（ｍ，４Ｈ，Ｈ−２，
Ｈ−１３），２．１５−１．９５（ｍ，２Ｈ，Ｈ−１
６），１．８−１．２（ｍ，１２Ｈ，Ｈ−３，Ｈ−４，
Ｈ−１７，Ｈ−１８，．Ｈ−１９，Ｈ−２０），０．８
８（ｔ−３Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ｈ−２０），（ｃ）¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：１７８．９（Ｃ
−１），１３７．１，１３４．８，１３４．１，１３
２．９，１３０．４，１２７．７，１２７．７，１２
７．０，１２４．４（８ビニルＣ），７２．９と６８．
１（Ｃ−５とＣ−１２），３６．９，３５．６，３３．
９，３１．５，２９．２，２７．３，２２．６，２０．
５（８脂肪族Ｃ），１４．１（Ｃ−２０）．

【００４３】得られたＬＴＢ₄のＮＭＲスペクトルはこ
の化合物に関する文献中に記載されているそれに相応す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の第５段階で得られた生成物のプロト
ンＮＭＲスペクトルを示す線図である。

【図２】実施例１の第６段階で得られた生成物のプロト
ンＮＭＲスペクトルを示す線図である。

【図３】実施例１の第７段階で得られた生成物のプロト
ンＮＭＲスペクトルを示す線図である。

【図４】実施例１の第７段階で得られた生成物の¹³ＣＮ
ＭＲスペクトルを示す線図である。

【図５】実施例１の第８段階で得られた生成物の¹³ＣＮ
ＭＲスペクトルを示す線図である。

【図６】実施例１の第８段階で得られた生成物のプロト
ンＮＭＲスペクトルを示す線図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者アントニオ、ウルバーノ・プヨルスペイン国マドリッド28043、トレラグナ 81番２セ (72)発明者ジァン、メニャンフランス国トラムブレ・レ・ゴネッス 93290、リュー・アレヴィ８番

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（イ）構造式（２）【化１】（この式で、Ａはシリル基であり、Ｂは置換されていな
いベンゾイル基またはＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基またはアル
キル基により置換されているベンゾイル基である）で表
わされるジベンゾアートを調製し、（ロ）構造式（３）【化２】で表わされるトリエーテルを得るように、構造式（２）
で表わされるジベンゾアートを、溶剤存在の下、温度−
１０〜−３０℃でナトリウムアマルガムを用いて制御さ
れた還元的脱離にかけ、それから構造式（１）【化３】で表わされるロイコトリエンを得るために、５−位と１
２−位とにある−ＯＡ基を−ＯＨ基に変換し、それから
１−位にある−ＣＨ₂ＯＡ基を−ＣＯＯＨ基に変換す
る、構造式（１）で表わされる、６Ｚ，８Ｅ，１０Ｅ立
体配置のロイコトリエンＢ₄（ＬＴＢ₄）の立体特異的合
成方法。
【請求項２】構造式（２）において、Ａがｔｏｒｔ−
ブチルジメチルシリル基（ＴＢＤＭＳ）とｔｅｒｔ−ブ
チルジフエニル基（ＴＢＤＰＳ）とより成る群から選択
されるシリル基であり、Ａ基については互に他と異って
いることができる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】構造式（２）で表わされるジベンゾアー
トが構造式【化４】（この式で、Ｂｚは置換されていないベンゾイル基であ
る）で表わされる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】還元的脱離を、テトラヒドロフランとメ
タノールとそれらの混合物とからなる群から選択された
溶剤存在の下、ナトリウムアマルガムを用いて行う、請
求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】構造式（３）で表わされるトリエーテル
を、次の段階（イ）第１段階で構造式（４）【化５】で表わされる酸を得るように、構造式（３）で表わされ
るトリエーテルを、溶剤の存在の下で、室温でニクロム
酸ピリジニウムと反応させ、（ロ）第２段階で、構造式
（１）で表わされるロイコトリエンＢ₄を得るために、
構造式（４）で表わされる酸を、溶剤中弗化テトラブチ
ルアンモニウム溶液と反応させるにより構造式（１）で
表わされるロイコトリエンＢ₄に変換させる、請求項１
〜４のいずれか記載の方法。
【請求項６】ジメチルホルムアミドを第１段階での溶
剤として用い、テトラヒドロフランを第２段階での溶剤
として用いる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】構造式（２）で表わされるジベンゾアー
トを、次の段階で（イ）第１段階で、構造式（７）【化６】で表わされるプロパルギルジオールを得るように、構造
式（５）【化７】で表わされるプロパルギルアルコールと、構造式（６）【化８】で表わされるアルデヒドとを反応させ、構造式（５）で
表わされるプロパルギルアルコールは予め溶剤中、温度
−７０〜−９０℃でｎ−ブチルリチウムで処理してお
き、それから溶剤中に溶解させた、構造式（６）で表わ
されるアルドヒドと反応させ、温度は漸進的に室温に戻
し、（ロ）第２段階で、構造式（８）【化９】で表わされるジオールを得るように、溶剤中に溶解され
ている構造式（７）で表わされるプロパルギルジオール
を、室温で、キノリン存在下、Ｌｉｎｄｌａｒ触媒を用
いて還元し、そして（ハ）第３段階で、構造式（２）で
表わされるジベンゾアートを得るように、構造式（８）
表わされるジオールを、室温で、溶剤中に溶解されてい
る塩化ベンゾイルで処理して調製する、請求項１〜６の
いずれかに記載の方法。
【請求項８】テトラヒドロフランを第１段階での溶剤
として用い、ヘキサンを第２段階での溶剤として用い
る、請求項７に記載の方法。
【請求項９】構造式（５）【化１０】で表わされるプロパルギルアルコールを、次の段階
（イ）第１段階で、構造式（１０）【化１１】で表わされるジブロミドを得るように、構造式（９）【化１２】で表わされるアルデヒドを出発材料として用い、室温
で、溶剤中トリフェニルホスフィンと亜鉛末と、それか
らＣＢｒ₄と反応させ、（ロ）第２段階で、構造式（１
１）【化１３】で表わされるアルキンを得るために、構造式（１０）で
表わされるジブロミドを溶剤中温度−５０℃以下でｎ−
ブチルリチウムと反応させ、（ハ）第３段階で、構造式
（１２）【化１４】で表わされるプロパルギルアルデヒドを得るように、溶
剤中に溶解している構造式（１１）で表わされるアルキ
ンを温度−７０〜−９０℃で、ｎ−ブチルリチウム溶液
と、それからＮ−ホルミルピペリジン溶液と反応させ、
温度を徐徐に室温に戻し、（ニ）第４段階で、構造式
（１３）【化１５】で表わされるアルデヒドを得るように、構造式（１２）
で表わされるアルデヒドを水素雰囲気の下、溶剤媒質中
でＬｉｎｄｌａｒ触媒およびキノリンと一緒にさせ、そ
して（ホ）第５段階で、構造式（５）で表わされるプロ
パルギルアルコールを得るように、構造式（１３）で表
わされるアルデヒドを溶剤に溶解し、それから臭化アセ
チレンマグネシウムを添加する。により調製する請求項
７又は８に記載の方法。
【請求項１０】 −第１段階でジクロロメタンを溶剤と
して用い、 −第２段階で、反応をテトラヒドロフラン中温度−８０
℃程度で行い、 −第３段階で、構造式（１１）で表わされるアルキンを
テトラヒドロフラン中の溶液で反応させ、 −第４段階で、テトラヒドロフランを溶剤として用い、
そして −第５段階で、構造式（１３）で表わされるアルドヒド
をテトラヒドロフランに溶解する、請求項９に記載の方
法。
【請求項１１】構造式【化１６】｛この式で、Ａは互に他と独立して、ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基（ＴＢＤＭＳ）またはｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）であり、Ｂは置換
されていないベンゾイル基（Ｂｚ）またはＣ₁〜Ｃ₆アル
コキシ基またはアルキル基により置換されているベンゾ
イル基である｝で表わされるジベンゾアート。
【請求項１２】構造式【化１７】（この式で、ＴＢＤＭＳとＴＢＤＰＳとＢｚとは請求項
１１で与えられた意味をもつ）で表わされる請求項１１
に記載のジベンゾアート。
【請求項１３】構造式【化１８】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるトリエン。
【請求項１４】構造式【化１９】（この式で、ＴＢＤＭＳとＴＢＤＰＳとは請求項１１に
おけると同じ意味をもつ）で表わされる請求項１３に記
載のトリエン。
【請求項１５】構造式【化２０】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味を持
つ）で表わされる酸。
【請求項１６】構造式【化２１】（この式で、ＴＢＤＭＳとＴＢＤＰＳとは請求項１１に
おけると同じ意味をもつ）で表わされる請求項１５に記
載の酸。
【請求項１７】構造式【化２２】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるプロパルギルアルコール。
【請求項１８】構造式【化２３】（この式で、ＴＢＤＭＳは請求項１１におけると同じ意
味をもつ）で表わされる請求項１７に記載のプロパルギ
ルアルコール。
【請求項１９】構造式【化２４】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるプロパルギルジオール。
【請求項２０】構造式【化２５】（この式で、ＴＢＤＭＳとＴＢＤＰＳとは請求項１１に
おけると同じ意味をもつ）で表わされる請求項１９に記
載のプロパルギルジオール。
【請求項２１】構造式【化２６】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるジブロミド。
【請求項２２】構造式【化２７】（この式で、ＴＢＤＭＳは請求項１１におけると同じ意
味をもつ）で表わされる請求項２１に記載のジブロミド
【請求項２３】構造式【化２８】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるアルキン。
【請求項２４】構造式【化２９】（この式で、ＴＢＤＭＳは請求項１１におけると同じ意
味をもつ）で表わされる請求項２３に記載のアルキン。
【請求項２５】構造式【化３０】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるプロパルギルアルデヒド。
【請求項２６】構造式【化３１】（この式で、ＴＢＤＭＳは請求項１１におけると同じ意
味をもつ）で表わされる請求項２５に記載のプロパルギ
ルアルデヒド。
【請求項２７】構造式【化３２】（この式で、Ａは請求項１１におけると同じ意味をも
つ）で表わされるアルデヒド。
【請求項２８】構造式【化３３】（この式で、ＴＢＤＭＳは請求項１１におけると同じ意
味をもつ）で表わされる請求項２７に記載のアルデヒ
ド。
【請求項２９】構造式【化３４】（この式で、２つのＡ基の中少くとも１つは、ＴＢＤＰ
Ｓであり、ＴＢＤＰＳは請求項１１で与えられている意
味をもつ）で表わされるアルデヒド。