JPH0634107B2 - Ｘ線用多層膜反射鏡 - Google Patents
Ｘ線用多層膜反射鏡Info
- Publication number
- JPH0634107B2 JPH0634107B2 JP61139977A JP13997786A JPH0634107B2 JP H0634107 B2 JPH0634107 B2 JP H0634107B2 JP 61139977 A JP61139977 A JP 61139977A JP 13997786 A JP13997786 A JP 13997786A JP H0634107 B2 JPH0634107 B2 JP H0634107B2
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- rays
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- ray
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Ｘ線リングラフィー、Ｘ線顕微鏡、シンクロ
トロン放射分光、Ｘ線レーザーなどの軟Ｘ線用光学系と
して広範囲に用いられるＸ線用多層膜反射鏡に関し、特
に正入射に近いＸ線を高い反射率で反射すると同時に、
高い耐Ｘ線性をもつＸ線用多層膜反射鏡に関する。
トロン放射分光、Ｘ線レーザーなどの軟Ｘ線用光学系と
して広範囲に用いられるＸ線用多層膜反射鏡に関し、特
に正入射に近いＸ線を高い反射率で反射すると同時に、
高い耐Ｘ線性をもつＸ線用多層膜反射鏡に関する。
従来、かかるＸ線用多層膜反射鏡は、180Åの軟Ｘ線に
対してAu/CあるいはRe/Cの組み合わせで（昭和59年度科
学研究費補助金研究結果報告書（研究課題番号5835000
1））、160.1Å，170.4Å，228Åの軟Ｘ線に対してMo/S
iの組み合わせて(Applied Optics24(1985),883)、ま
た、その他にもMO/C,Ta/C,W/C,AuPd/C,ReW/Cの組み合わ
せなどが報告されている。
対してAu/CあるいはRe/Cの組み合わせで（昭和59年度科
学研究費補助金研究結果報告書（研究課題番号5835000
1））、160.1Å，170.4Å，228Åの軟Ｘ線に対してMo/S
iの組み合わせて(Applied Optics24(1985),883)、ま
た、その他にもMO/C,Ta/C,W/C,AuPd/C,ReW/Cの組み合わ
せなどが報告されている。
しかし、屈折率の異なる２つの物質の組み合わせとし
て、上述の従来知られているものを用いた場合、100Å
近傍の軟Ｘ線に対しては、２つの物質の屈折率の差が大
きくならないばかりでなく、吸収率も大きいため、入射
角が０°〜40°という正入射に近い軟Ｘ線に対して数％
から20％の反射率しか得られず、また同様の条件で80Å
程度の軟Ｘ線に対しては、数％〜10％程度の反射率しか
得られない。
て、上述の従来知られているものを用いた場合、100Å
近傍の軟Ｘ線に対しては、２つの物質の屈折率の差が大
きくならないばかりでなく、吸収率も大きいため、入射
角が０°〜40°という正入射に近い軟Ｘ線に対して数％
から20％の反射率しか得られず、また同様の条件で80Å
程度の軟Ｘ線に対しては、数％〜10％程度の反射率しか
得られない。
反射鏡による結像系を作成する場合、反射鏡を数枚必要
とするものもある。そのため結像系全体としては、１枚
の反射鏡の反射率の何乗かで効いて来ることになる。そ
のため多層膜反射鏡の反射率が小さいことは非常に問題
である。
とするものもある。そのため結像系全体としては、１枚
の反射鏡の反射率の何乗かで効いて来ることになる。そ
のため多層膜反射鏡の反射率が小さいことは非常に問題
である。
また、吸収が大きいことは、反射率の低下を招くばかり
でなく、軟Ｘ線を入射することによる熱の発生を大きく
し劣化を招くため耐Ｘ線性の低下の原因ともなる。さら
に、Auなどをその一方の物質とした場合、融点の低さか
らも耐Ｘ線性が十分とはいえない。
でなく、軟Ｘ線を入射することによる熱の発生を大きく
し劣化を招くため耐Ｘ線性の低下の原因ともなる。さら
に、Auなどをその一方の物質とした場合、融点の低さか
らも耐Ｘ線性が十分とはいえない。
本発明は、上述従来例の問題点に鑑み成されたものであ
り、その目的は上記従来例の問題点を解決し波長80〜12
0Åの軟Ｘ線に対しても反射率が大きくかつ吸収係数が
小さく、なおかつ融点の高いＸ線用多層膜反射鏡を提供
することにある。
り、その目的は上記従来例の問題点を解決し波長80〜12
0Åの軟Ｘ線に対しても反射率が大きくかつ吸収係数が
小さく、なおかつ融点の高いＸ線用多層膜反射鏡を提供
することにある。
本発明の上記目的は、白金属の金属の一種以上よりなる
膜厚の10Å以上の第１の層と、Be，Ｂ，Ｃ及びSiのうち
一種以上の元素からなる膜厚10Å以上の第２の層とが交
互に積層されているＸ線用多層膜反射鏡によって達成さ
れる。
膜厚の10Å以上の第１の層と、Be，Ｂ，Ｃ及びSiのうち
一種以上の元素からなる膜厚10Å以上の第２の層とが交
互に積層されているＸ線用多層膜反射鏡によって達成さ
れる。
第１図は、この発明の原理説明図である。
図中において本発明のＸ線用多層膜反射鏡は、平面ある
いは曲面の基板１上に、第１の層２および第２の層３が
交互に積層されてなる。
いは曲面の基板１上に、第１の層２および第２の層３が
交互に積層されてなる。
各々の層の膜厚ｄ１，ｄ２…は10Å以上であり、交互に
等しい膜厚であって（ｄ１＝ｄ３＝…，ｄ２＝ｄ４＝
…）も、全ての膜厚を変えても差しつかえないが、それ
ぞれの層中における軟Ｘ線の吸収による振幅の減少およ
びそれぞれの層の界面における反射光の位相の重なりに
よる反射光の強め合いの両者を考慮し、多層膜反射鏡全
体として最も高い反射率が得られるような厚さとするこ
とが好ましい。各層の厚さは10Åより小さい場合は界面
における２つの物質の拡散の効果により、反射鏡として
高い反射率が得られず好ましくない。また、積層数は数
層から数10層とされる。
等しい膜厚であって（ｄ１＝ｄ３＝…，ｄ２＝ｄ４＝
…）も、全ての膜厚を変えても差しつかえないが、それ
ぞれの層中における軟Ｘ線の吸収による振幅の減少およ
びそれぞれの層の界面における反射光の位相の重なりに
よる反射光の強め合いの両者を考慮し、多層膜反射鏡全
体として最も高い反射率が得られるような厚さとするこ
とが好ましい。各層の厚さは10Åより小さい場合は界面
における２つの物質の拡散の効果により、反射鏡として
高い反射率が得られず好ましくない。また、積層数は数
層から数10層とされる。
第１の層２は白金属の金属の一種以上からなり、Ru、R
h、Pdが好ましく用いられる。第２の層３はBe，Ｂ，Ｃ
及びSiの一種以上が用いられる。
h、Pdが好ましく用いられる。第２の層３はBe，Ｂ，Ｃ
及びSiの一種以上が用いられる。
交互に積層された層の最上層を第１の層にしたほうが、
交互層の最上層を第２の層にした場合よりも真空と第１
の層の界面における反射率の方が、真空と第２の層の界
面における反射率より大であるため大きな反射率が得ら
れ、より好ましい。
交互層の最上層を第２の層にした場合よりも真空と第１
の層の界面における反射率の方が、真空と第２の層の界
面における反射率より大であるため大きな反射率が得ら
れ、より好ましい。
交互に積層された層の最上層の上に更に保護膜を積層し
てもよく、保護層をなす物質としては高融点を有する酸
化物，硼化物，炭化物，窒化物あるいはＢ，Ｃ，Siなど
である。
てもよく、保護層をなす物質としては高融点を有する酸
化物，硼化物，炭化物，窒化物あるいはＢ，Ｃ，Siなど
である。
以下に本発明の具体的実施例を挙げ本発明を更に詳細に
説明する。
説明する。
〈波長114.0ÅのＸ線に対する多層膜反射鏡〉 実施例１ 第１図の第１物質をRu，第２物質をSiとして、それぞれ
の膜厚を36.4Å，23.5Åとして、41層積層することによ
り入射角０°で、38.6％の反射率が得られた。保護膜と
してＣを５Å最上層に積層した結果、入射角０°で37.9
％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を39.1Å，25.2
Åとして、41層積層することにより、入射角20°で40.1
％の反射率が得られた。保護膜としてＣを５Å最上層に
積層した結果、入射角20°で39.4％の反射率が得られ
た。
の膜厚を36.4Å，23.5Åとして、41層積層することによ
り入射角０°で、38.6％の反射率が得られた。保護膜と
してＣを５Å最上層に積層した結果、入射角０°で37.9
％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を39.1Å，25.2
Åとして、41層積層することにより、入射角20°で40.1
％の反射率が得られた。保護膜としてＣを５Å最上層に
積層した結果、入射角20°で39.4％の反射率が得られ
た。
実施例２ 第１物質をPd、第２物質をSiとして、それぞのの膜厚を
31.3Å，28.0Åとして、41層積層することにより入射角
０°で26.1％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を3
3.3Å，30.1Åとすることにより入射角20°で26.7％の
反射率が得られた。
31.3Å，28.0Åとして、41層積層することにより入射角
０°で26.1％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を3
3.3Å，30.1Åとすることにより入射角20°で26.7％の
反射率が得られた。
〈波長112.7ÅのＸ線に対する多層膜反射鏡〉 実施例３ 第１物質をRu、第２物質をBeとしてそれぞれの膜厚を2
6.6Å、30.6Åとして、41層積層することにより入射角
０°で77.2％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を2
7.4Å、33.4Åとして41層積層することにより入射角20
°で79.9％の反射率が得られた。
6.6Å、30.6Åとして、41層積層することにより入射角
０°で77.2％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を2
7.4Å、33.4Åとして41層積層することにより入射角20
°で79.9％の反射率が得られた。
〈波長108.7ÅのＸ線に対する多層膜反射鏡〉 実施例４ 第１物質をRh，第２物質をSiとして、それぞれの膜厚を
33.4Å，23.4Åとして、41層積層することにより入射角
０°で33.2％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を4
8.2Å，28.8Åとして41層積層することにより入射角20
°で38.7％の反射率が得られた。
33.4Å，23.4Åとして、41層積層することにより入射角
０°で33.2％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を4
8.2Å，28.8Åとして41層積層することにより入射角20
°で38.7％の反射率が得られた。
〈波長82.1ÅのＸ線に対する多層膜反射鏡〉 実施例５ 第１物質をRu，第２物質をＢとして、それぞれの膜厚を
20.1Å，21.8Åとして41層積層することによる入射角０
°で18.0％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を21.3
Å，23.4Åとして41層積層することにより入射角20°で
21.6％の反射率が得られた。
20.1Å，21.8Åとして41層積層することによる入射角０
°で18.0％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を21.3
Å，23.4Åとして41層積層することにより入射角20°で
21.6％の反射率が得られた。
実施例６ 第１物質をRh，第２物質をＢとして、それぞれの膜厚を
20.0Å，21.9Åとして41層積層することにより入射角０
°で15.7％の反射率が得られた。ぞぞれの膜厚を21.0
Å，23.6Åとして41層積層することにより入射角20°で
18.8％の反射率が得られた。
20.0Å，21.9Åとして41層積層することにより入射角０
°で15.7％の反射率が得られた。ぞぞれの膜厚を21.0
Å，23.6Åとして41層積層することにより入射角20°で
18.8％の反射率が得られた。
実施例７ 第１物質をPd，第２物質をＢとして、それぞれの膜厚を
19.4Å，22.4Åとして41層積層することにより入射角０
°で13.2％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を20.6
Å，24.0Åとして41層積層することにより入射角20°で
15.7％の反射率が得られた。
19.4Å，22.4Åとして41層積層することにより入射角０
°で13.2％の反射率が得られた。それぞれの膜厚を20.6
Å，24.0Åとして41層積層することにより入射角20°で
15.7％の反射率が得られた。
以上のように本発明のＸ線用多層膜反射鏡は80〜120Å
の波長のＸ線に対しても反射率が大きく、従来のＸ線用
多層膜反射鏡では反射率が小さいため適用されなかった
波長領域のＸ線レーザーを用いる分野にも好適に使用で
きる。
の波長のＸ線に対しても反射率が大きく、従来のＸ線用
多層膜反射鏡では反射率が小さいため適用されなかった
波長領域のＸ線レーザーを用いる分野にも好適に使用で
きる。
また本発明のＸ線用多層膜反射鏡は吸収率が小さいため
昇温蓄熱も小さく、また各層の構成材料の融点が高いた
め高い耐Ｘ線性を有する。このためにも、Ｘ線レーザー
の共振器用反射鏡として好適である。
昇温蓄熱も小さく、また各層の構成材料の融点が高いた
め高い耐Ｘ線性を有する。このためにも、Ｘ線レーザー
の共振器用反射鏡として好適である。
第１図は本発明のＸ線用多層膜反射鏡の模式的断面図で
ある。 １：基板 ２：第１の層 ３：第２の層 ４：保護層
ある。 １：基板 ２：第１の層 ３：第２の層 ４：保護層
Claims (2)
- 【請求項１】白金属の金属の一種以上を含む第１の層
と、Be，Ｂ，Ｃ及びSiのうち一種以上の元素を含む第２
の層とが交互に積層されていることを特徴とするＸ線用
多層膜反射鏡。 - 【請求項２】前記第１の層及び第２の層の層厚が10Å以
上である特許請求の範囲第１項記載のＸ線用多層膜反射
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61139977A JPH0634107B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Ｘ線用多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61139977A JPH0634107B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Ｘ線用多層膜反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62297800A JPS62297800A (ja) | 1987-12-24 |
| JPH0634107B2 true JPH0634107B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=15258072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61139977A Expired - Lifetime JPH0634107B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Ｘ線用多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634107B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0799400B2 (ja) * | 1986-04-25 | 1995-10-25 | オボニツク・シンセテイツク・マテイリアルズ・カンパニ−・インコ−ポレ−テツド | 高反射能、高分解能のｘ線分散性反射性構造体とそれを用いた分光分析方法 |
| JPS63191951A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | Jeol Ltd | Ｘ線分光素子 |
| JP2583609B2 (ja) * | 1989-07-05 | 1997-02-19 | オリンパス光学工業株式会社 | 多層膜反射鏡 |
| US5565052A (en) * | 1992-03-05 | 1996-10-15 | Industrieanlagen-Betriebsgesellschaft Gmbh | Method for the production of a reflector |
| DE4220472C2 (de) * | 1992-03-05 | 2002-08-22 | Industrieanlagen Betriebsges | Verfahren zur Herstellung von Leichtbaureflektoren mittels Silicium-Wafern |
| JP4521696B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2010-08-11 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射多層膜付き基板及び反射型マスクブランクス並びに反射型マスク |
| JP5158331B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2013-03-06 | 大日本印刷株式会社 | Ｅｕｖ露光装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3887261A (en) * | 1973-03-23 | 1975-06-03 | Ibm | Low-loss reflection coatings using absorbing materials |
| US4693933A (en) * | 1983-06-06 | 1987-09-15 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | X-ray dispersive and reflective structures and method of making the structures |
-
1986
- 1986-06-18 JP JP61139977A patent/JPH0634107B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62297800A (ja) | 1987-12-24 |
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