JPH06342208A - マスク保護用ペリクル - Google Patents
マスク保護用ペリクルInfo
- Publication number
- JPH06342208A JPH06342208A JP13057393A JP13057393A JPH06342208A JP H06342208 A JPH06342208 A JP H06342208A JP 13057393 A JP13057393 A JP 13057393A JP 13057393 A JP13057393 A JP 13057393A JP H06342208 A JPH06342208 A JP H06342208A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- film
- pellicle film
- photomask
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ペリクル外部の気圧の変動に伴うペリクル膜
の形状変化によるペリクル膜破損を防止し、信頼性の高
いマスク保護用ペリクルを提供することである。 【構成】 ペリクル膜をフォトマスクに対して平行から
ずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに装着す
る。
の形状変化によるペリクル膜破損を防止し、信頼性の高
いマスク保護用ペリクルを提供することである。 【構成】 ペリクル膜をフォトマスクに対して平行から
ずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに装着す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造工程
のうちのフォトリソグラフィー工程に用いられるマスク
保護用ペリクルに関するものである。
のうちのフォトリソグラフィー工程に用いられるマスク
保護用ペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程には、フォトマス
クのパターンを半導体ウェーハに転写してパターンを形
成するフォトリソグラフィー工程が必要である。この工
程でフォトマスクのパターン面に塵埃等の異物が付着し
ていると、これがウェーハにも転写され、パターン欠陥
が生じ、結果的に半導体装置の製造歩留りが低下する。
このようなことを防ぐために、従来は、マスク保護用ペ
リクルを用いていた。
クのパターンを半導体ウェーハに転写してパターンを形
成するフォトリソグラフィー工程が必要である。この工
程でフォトマスクのパターン面に塵埃等の異物が付着し
ていると、これがウェーハにも転写され、パターン欠陥
が生じ、結果的に半導体装置の製造歩留りが低下する。
このようなことを防ぐために、従来は、マスク保護用ペ
リクルを用いていた。
【０００３】図２（Ａ）は従来のマスク保護用ペリクル
を模式的に示した斜視図で、２１はペリクルフレーム、
２２はペリクル膜、２３はフォトマスクである。ペリク
ルフレーム２１の上面には、粘着剤を用いて透光性のペ
リクル膜２２を張設している。ペリクルフレーム２１の
下面にも粘着剤を塗布し、フォトマスク２３上にペリク
ルフレーム２１を装着している。図２（Ａ）に示すよう
に従来のマスク保護用ペリクルは、ペリクルフレーム２
１のペリクル膜２２が装着される面が平坦なため、ペリ
クル膜２２は平坦に張設されていた。
を模式的に示した斜視図で、２１はペリクルフレーム、
２２はペリクル膜、２３はフォトマスクである。ペリク
ルフレーム２１の上面には、粘着剤を用いて透光性のペ
リクル膜２２を張設している。ペリクルフレーム２１の
下面にも粘着剤を塗布し、フォトマスク２３上にペリク
ルフレーム２１を装着している。図２（Ａ）に示すよう
に従来のマスク保護用ペリクルは、ペリクルフレーム２
１のペリクル膜２２が装着される面が平坦なため、ペリ
クル膜２２は平坦に張設されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図２（Ｂ）は、図２
（Ａ）のｂ−ｂ部分の断面図である。図２（Ｂ）に示す
ように、従来のマスク保護用ペリクルは、ペリクル外部
の気圧が常圧の場合は、ペリクル膜２２のように平坦で
あるが、ペリクル外部の気圧がペリクル内部より低くな
ると、ペリクル膜２２ａのように凸状になる。このた
め、凸状のペリクル膜２２ａがフォトマスクのケースに
触れて傷ついたり、破れることがあり、フォトマスクの
パターン面への塵埃等の付着防止というペリクル本来の
機能を果さなくなるという問題点があった。
（Ａ）のｂ−ｂ部分の断面図である。図２（Ｂ）に示す
ように、従来のマスク保護用ペリクルは、ペリクル外部
の気圧が常圧の場合は、ペリクル膜２２のように平坦で
あるが、ペリクル外部の気圧がペリクル内部より低くな
ると、ペリクル膜２２ａのように凸状になる。このた
め、凸状のペリクル膜２２ａがフォトマスクのケースに
触れて傷ついたり、破れることがあり、フォトマスクの
パターン面への塵埃等の付着防止というペリクル本来の
機能を果さなくなるという問題点があった。
【０００５】また、ペリクルフレーム２１の高さを単純
に低くすると上記の問題点は解決できるが、ペリクル外
部の気圧が上がりペリクル膜２２ｂのように凹状になる
場合、ペリクル膜２２ｂとフォトマスク２３の距離が近
くなり、ペリクル膜上の塵埃等がウェーハに転写されて
しまうという問題点があった。
に低くすると上記の問題点は解決できるが、ペリクル外
部の気圧が上がりペリクル膜２２ｂのように凹状になる
場合、ペリクル膜２２ｂとフォトマスク２３の距離が近
くなり、ペリクル膜上の塵埃等がウェーハに転写されて
しまうという問題点があった。
【０００６】本発明の目的は、ペリクル外部の気圧の変
動に伴うペリクル膜の形状変化によるペリクル膜破損を
防止し、信頼性の高いマスク保護用ペリクルを提供する
ことである。
動に伴うペリクル膜の形状変化によるペリクル膜破損を
防止し、信頼性の高いマスク保護用ペリクルを提供する
ことである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明におけるマスク保
護用ペリクルは、ペリクル膜をフォトマスクに対して平
行からずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに
装着したことを特徴とするものである。
護用ペリクルは、ペリクル膜をフォトマスクに対して平
行からずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに
装着したことを特徴とするものである。
【０００８】
【実施例】図１（Ａ）および（Ｂ）は、実施例のマスク
保護用ペリクルを模式的に示した図である。このうち
（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は（Ａ）のｂ−ｂ部分の断面図
である。
保護用ペリクルを模式的に示した図である。このうち
（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は（Ａ）のｂ−ｂ部分の断面図
である。
【０００９】本実施例が図２の従来例と異なる点は、四
辺形のペリクルフレーム１１のうち、１組の対向する二
辺のペリクルフレームの高さが０．５〜３ｍｍ程度異な
っているため、ペリクル膜をフォトマスクに対して平行
からずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに装
着したことである。ペリクルフレーム１１へのペリクル
膜１２やフォトマスク１３の設置方法は、従来例と同様
である。
辺形のペリクルフレーム１１のうち、１組の対向する二
辺のペリクルフレームの高さが０．５〜３ｍｍ程度異な
っているため、ペリクル膜をフォトマスクに対して平行
からずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに装
着したことである。ペリクルフレーム１１へのペリクル
膜１２やフォトマスク１３の設置方法は、従来例と同様
である。
【００１０】次に、図１（Ａ）および（Ｂ）に従って、
実施例の動作を説明する。
実施例の動作を説明する。
【００１１】ペリクル外部が常圧の場合は、ペリクル膜
１２の形状変化はないので、（Ｂ）のペリクル膜１２の
ように平坦になる。
１２の形状変化はないので、（Ｂ）のペリクル膜１２の
ように平坦になる。
【００１２】ペリクル外部の気圧が下がった場合、ペリ
クル膜１２は（Ｂ）のペリクル膜１２ａのように凸状態
になるが、通常の気圧変化ではペリクル膜１２ａがペリ
クルフレーム１１の一番高い上面より高くなることはな
い。そこで、凸状態のペリクル膜１２ａがフォトマスク
のケースに触れて傷ついたり破れることはない。
クル膜１２は（Ｂ）のペリクル膜１２ａのように凸状態
になるが、通常の気圧変化ではペリクル膜１２ａがペリ
クルフレーム１１の一番高い上面より高くなることはな
い。そこで、凸状態のペリクル膜１２ａがフォトマスク
のケースに触れて傷ついたり破れることはない。
【００１３】ペリクル外部の気圧が上がった場合、ペリ
クル膜１２は、図１（Ｂ）のペリクル膜１２ｂのように
凹状になる。しかし、通常の気圧変化では、ペリクル膜
１２ｂがペリクルフレーム１１の一番低い上面より低く
なることはない。したがって、ペリクルフレーム１１の
低い辺の高さを適切に選べば、凹状のペリクル膜１２ｂ
の表面上に付着した塵埃等がウェーハ上に転写されるこ
とはない。
クル膜１２は、図１（Ｂ）のペリクル膜１２ｂのように
凹状になる。しかし、通常の気圧変化では、ペリクル膜
１２ｂがペリクルフレーム１１の一番低い上面より低く
なることはない。したがって、ペリクルフレーム１１の
低い辺の高さを適切に選べば、凹状のペリクル膜１２ｂ
の表面上に付着した塵埃等がウェーハ上に転写されるこ
とはない。
【００１４】尚、上記実施例ではペリクルフレームの形
状を四辺形としたが、これに限るものではなく、輪形等
の形状でもよい。
状を四辺形としたが、これに限るものではなく、輪形等
の形状でもよい。
【００１５】
【発明の効果】本発明では、ペリクル膜をフォトマスク
に対して平行からずれた一定の角度を持たせてペリクル
フレームに装着したため、ペリクル外部の気圧の変動に
伴うペリクル膜の形状変化によるペリクル膜破損を防止
し、信頼性の高いマスク保護用ペリクルを提供すること
ができる。
に対して平行からずれた一定の角度を持たせてペリクル
フレームに装着したため、ペリクル外部の気圧の変動に
伴うペリクル膜の形状変化によるペリクル膜破損を防止
し、信頼性の高いマスク保護用ペリクルを提供すること
ができる。
【図１】本発明の実施例のマスク保護用ペリクルを模式
的に示した図である。
的に示した図である。
【図２】従来例を模式的に示した図である。
１１………ペリクルフレーム １２，１２ａ，１２ｂ………ペリクル膜 １３………フォトマスク
Claims (1)
- 【請求項１】 ペリクル膜をフォトマスクに対して平行
からずれた一定の角度を持たせてペリクルフレームに装
着したことを特徴とするマスク保護用ペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13057393A JPH06342208A (ja) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | マスク保護用ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13057393A JPH06342208A (ja) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | マスク保護用ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06342208A true JPH06342208A (ja) | 1994-12-13 |
Family
ID=15037471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13057393A Withdrawn JPH06342208A (ja) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | マスク保護用ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06342208A (ja) |
-
1993
- 1993-06-01 JP JP13057393A patent/JPH06342208A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000801 |