JPH0634434B2 - 回路基板 - Google Patents
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- JPH0634434B2 JPH0634434B2 JP62253128A JP25312887A JPH0634434B2 JP H0634434 B2 JPH0634434 B2 JP H0634434B2 JP 62253128 A JP62253128 A JP 62253128A JP 25312887 A JP25312887 A JP 25312887A JP H0634434 B2 JPH0634434 B2 JP H0634434B2
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- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 38
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 38
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 31
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 19
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 19
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 10
- 229920006269 PPS film Polymers 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODPYDILFQYARBK-UHFFFAOYSA-N 7-thiabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical compound C1=CC=C2SC2=C1 ODPYDILFQYARBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229920003043 Cellulose fiber Polymers 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZQISRDCJNBUVMM-YFKPBYRVSA-N L-histidinol Chemical compound OC[C@@H](N)CC1=CNC=N1 ZQISRDCJNBUVMM-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 alkali metal carboxylic acid Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 description 1
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010512 thermal transition Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ポリフェニレンスルフィドフィルム上に金
属や導電性塗料等により電気回路が形成された回路基板
に関する。
属や導電性塗料等により電気回路が形成された回路基板
に関する。
[従来技術及びその欠点] 従来より、フレキシブル回路基板としてポリエステルフ
ィルムに銅箔等を接着したものが用いられている。しか
しながら、これは耐熱性に劣るという欠点を有する。こ
の問題を解決するために、例えば特公昭61-53880に記載
されているように、2軸配向ポリフェニレンスルフィル
ドフィルムを基板としたフレキブル回路基板が提案され
ている。この2軸配向ホリフェニレンスルフィド系回路
基板は耐熱性に優れ、寸法安定性、機械的特性にも優れ
るが、ポリフェニレンスルフィドフィルム上に接着剤で
銅等の金属層を貼着し、接着剤を約150 ℃程度の温度下
で熱硬化させると、金属層とポリフェニレンスルフィド
フィルムとの熱膨張係数の差により、回路基板がそって
しまうという問題がある。硬化温度の低い接着剤を用い
ても、回路基板は多かれ少なかれ他の配線と結合されね
ばらなず、ここで一般に使用されるハンダ浴に回路基板
を浮かべるとやはり回路基板がそってしまう。
ィルムに銅箔等を接着したものが用いられている。しか
しながら、これは耐熱性に劣るという欠点を有する。こ
の問題を解決するために、例えば特公昭61-53880に記載
されているように、2軸配向ポリフェニレンスルフィル
ドフィルムを基板としたフレキブル回路基板が提案され
ている。この2軸配向ホリフェニレンスルフィド系回路
基板は耐熱性に優れ、寸法安定性、機械的特性にも優れ
るが、ポリフェニレンスルフィドフィルム上に接着剤で
銅等の金属層を貼着し、接着剤を約150 ℃程度の温度下
で熱硬化させると、金属層とポリフェニレンスルフィド
フィルムとの熱膨張係数の差により、回路基板がそって
しまうという問題がある。硬化温度の低い接着剤を用い
ても、回路基板は多かれ少なかれ他の配線と結合されね
ばらなず、ここで一般に使用されるハンダ浴に回路基板
を浮かべるとやはり回路基板がそってしまう。
[発明が解決しようとする問題点] この発明の目的は、ハンダ浴に浮かべた際にもそること
がなく、かつ耐熱性、寸法安定性、機械特性に優れた回
路基板を提供することである。
がなく、かつ耐熱性、寸法安定性、機械特性に優れた回
路基板を提供することである。
[問題点を解決するための手段] 本願発明者らは、鋭意研究の結果、2軸配向ポリフェニ
レンスルフィドフィルムと特定の熱膨張係数を有する繊
維シートとの積層体のポリフェニレンスルフィドフィル
ム側に回路を形成すると、ハンダ浴に浮かべた際にも回
路基板がそらないことを見出し、この発明を完成した。
レンスルフィドフィルムと特定の熱膨張係数を有する繊
維シートとの積層体のポリフェニレンスルフィドフィル
ム側に回路を形成すると、ハンダ浴に浮かべた際にも回
路基板がそらないことを見出し、この発明を完成した。
すなわち、この発明は、2軸配向ポリフェニレンスルフ
ィドフィルムと、300 ℃で不融で、かつ100 ℃から200
℃の熱膨張係数が50x10-61/℃以下の繊維シートとを積
層した積層体の2軸配向ポリフェニレンスルフィドフィ
ルム側に電気回路を形成して成る回路基板を提供する。
ィドフィルムと、300 ℃で不融で、かつ100 ℃から200
℃の熱膨張係数が50x10-61/℃以下の繊維シートとを積
層した積層体の2軸配向ポリフェニレンスルフィドフィ
ルム側に電気回路を形成して成る回路基板を提供する。
[発明の効果] この発明の回路基板は、接着剤の硬化時にもハンダ浴に
浮かべた時にも実質的にそらず、また、ポリフェニレン
スルフィドの性質上、耐熱性、寸法安定性及び機械的特
性に優れている。
浮かべた時にも実質的にそらず、また、ポリフェニレン
スルフィドの性質上、耐熱性、寸法安定性及び機械的特
性に優れている。
[発明の具体的説明] 本発明において、2軸配向ポリフェニレンスルフィドフ
ィルム(以下、PPS−BOと省略することがある)と
は、ポリフェニレンスルフィドを主成分とする樹脂組成
物を、溶融成形してシート状とし、2軸延伸、熱処理し
てなるフィルムである。
ィルム(以下、PPS−BOと省略することがある)と
は、ポリフェニレンスルフィドを主成分とする樹脂組成
物を、溶融成形してシート状とし、2軸延伸、熱処理し
てなるフィルムである。
該フィルムの配向度は、広角X線回折で2θ=20〜2
1度の結晶ピークについて求めた配向度OFがEnd 方向
及びEdge方向で0.07〜0.50、Through 方向で0.60〜1.00
の範囲にあることが好ましい。
1度の結晶ピークについて求めた配向度OFがEnd 方向
及びEdge方向で0.07〜0.50、Through 方向で0.60〜1.00
の範囲にあることが好ましい。
該フィルムの厚さは3〜200μmの範囲が好ましい。
本発明において、ポリフェニレンスルフィドを主成分と
する樹脂組成物とは、ポリフェニレンスルフィドを70
重量%以上、好ましくは90重量%以上含む組成物をい
う。
する樹脂組成物とは、ポリフェニレンスルフィドを70
重量%以上、好ましくは90重量%以上含む組成物をい
う。
ポリフェニレンスルフィドの含有量が70重量%未満で
は、組成物としての結晶性、熱転移度等が低くなり、該
組成物から成るフィルムの特長である耐熱性、寸法安定
性、機械的特性等を損なう。
は、組成物としての結晶性、熱転移度等が低くなり、該
組成物から成るフィルムの特長である耐熱性、寸法安定
性、機械的特性等を損なう。
該組成物は、これから成形されるフィルムの耐熱性、寸
法安定性、機械的特性等に悪影響を与えないならば、3
0重量%以下の範囲でポリフェニレンスルフィド以外の
ポリマー、無機又は有機のフィラー、滑剤、着色剤、紫
外線吸収剤等を含んでいても差支えない。
法安定性、機械的特性等に悪影響を与えないならば、3
0重量%以下の範囲でポリフェニレンスルフィド以外の
ポリマー、無機又は有機のフィラー、滑剤、着色剤、紫
外線吸収剤等を含んでいても差支えない。
該樹脂組成物の溶融粘度は、温度300 ℃、剪断速度200
1/sec.のもとで500 〜12000 ポイズ(より好ましくは70
0 〜10000 ポイズ)の範囲がフィルムの成形性の点で好
ましい。
1/sec.のもとで500 〜12000 ポイズ(より好ましくは70
0 〜10000 ポイズ)の範囲がフィルムの成形性の点で好
ましい。
本発明においてポリフェニレンスルフィド(以下PPS
と省略することがある)とは、繰り返し単位の70モル
%以上(好ましくは85モル%以上)が構成式 で示される構成単位から成る重合体をいう。かかる成分
が70モル%未満ではポリマーの結晶性、熱転移温度等
が低くなり、ポリフェニレンスルフィドを主成分とする
樹脂組成物から成るフィルムの特長である耐熱性、寸法
安定性、機械的特性等を損なう。
と省略することがある)とは、繰り返し単位の70モル
%以上(好ましくは85モル%以上)が構成式 で示される構成単位から成る重合体をいう。かかる成分
が70モル%未満ではポリマーの結晶性、熱転移温度等
が低くなり、ポリフェニレンスルフィドを主成分とする
樹脂組成物から成るフィルムの特長である耐熱性、寸法
安定性、機械的特性等を損なう。
繰り返し単位の30モル%未満、好ましくは15モル%
未満であれば共重合可能なスルフィド結合を含有する単
位が含まれていても差支えない。
未満であれば共重合可能なスルフィド結合を含有する単
位が含まれていても差支えない。
本発明において用いられる繊維シートとは、紙、不織
布、織布等の総称で、セルロース繊維をベースとした天
然紙が好ましく、市販の紙をそのまま用いることができ
る。繊維シートは300 ℃で不融で、かつ、100 ℃〜200
℃における熱膨張係数が50x10-61/℃以下、好ましくは
30x10-61/℃以下である。300 ℃で不融とは、300 ℃の
ハンダに30秒間浮かべて溶融しないことを意味する。
また、熱膨張係数は、後で詳述する方法により、天秤法
で、200 ℃まで昇温した後、100 ℃まで降温し、その降
温時の温度変化に対する繊維シートの寸法変化量から求
めた値である。繊維シートの厚さは5μmないし200 μ
mが好ましい。また、繊維シートには例えば酸化アルミ
ニウム、酸化ケイ素等のような無機物が含まれていても
よい。さらに、回路基板に透孔を設けた際に透孔の内壁
がケバ立つことを防止するために繊維シートに樹脂を含
浸し又はこれでコーティングしてもよい。
布、織布等の総称で、セルロース繊維をベースとした天
然紙が好ましく、市販の紙をそのまま用いることができ
る。繊維シートは300 ℃で不融で、かつ、100 ℃〜200
℃における熱膨張係数が50x10-61/℃以下、好ましくは
30x10-61/℃以下である。300 ℃で不融とは、300 ℃の
ハンダに30秒間浮かべて溶融しないことを意味する。
また、熱膨張係数は、後で詳述する方法により、天秤法
で、200 ℃まで昇温した後、100 ℃まで降温し、その降
温時の温度変化に対する繊維シートの寸法変化量から求
めた値である。繊維シートの厚さは5μmないし200 μ
mが好ましい。また、繊維シートには例えば酸化アルミ
ニウム、酸化ケイ素等のような無機物が含まれていても
よい。さらに、回路基板に透孔を設けた際に透孔の内壁
がケバ立つことを防止するために繊維シートに樹脂を含
浸し又はこれでコーティングしてもよい。
本発明の回路基板では、ポリフェニレンスルフィドフィ
ルムと繊維シートの積層体のポリフェニレンスルフィド
フィルム側に回路基板が形成されている。すなわち、繊
維シート(Bμm)/PPSフィルム(Aμm)/回路の構成
を有する。回路が繊維シート側に形成されるとそりを低
下させる効果が得られない。また、ポリフェニレンスル
フィドを省略して繊維シート上に回路を形成したものは
100 ℃で長時間放置すると繊維シートが劣化し、また、
機械的強度、耐電圧の信頼性に乏しい。
ルムと繊維シートの積層体のポリフェニレンスルフィド
フィルム側に回路基板が形成されている。すなわち、繊
維シート(Bμm)/PPSフィルム(Aμm)/回路の構成
を有する。回路が繊維シート側に形成されるとそりを低
下させる効果が得られない。また、ポリフェニレンスル
フィドを省略して繊維シート上に回路を形成したものは
100 ℃で長時間放置すると繊維シートが劣化し、また、
機械的強度、耐電圧の信頼性に乏しい。
積層体を構成するポリフェニレンスルフィド(Aμm)と
繊維シート(Bμm)の厚さの比率A/Bは繊維シートの
熱膨張係数によって異なるが、A/Bがあまりにも小さ
いと機械強度が低下し、また逆にあまりにも大きいと回
路基板のそりが大きくなり、ハンダ耐熱性を向上させる
効果が小さくなるので、特に限定されないが0.1 ないし
4.0 が好ましい。
繊維シート(Bμm)の厚さの比率A/Bは繊維シートの
熱膨張係数によって異なるが、A/Bがあまりにも小さ
いと機械強度が低下し、また逆にあまりにも大きいと回
路基板のそりが大きくなり、ハンダ耐熱性を向上させる
効果が小さくなるので、特に限定されないが0.1 ないし
4.0 が好ましい。
PPSフィルム/繊維シート積層体の厚さは10μmな
いし200 μmが好ましい。
いし200 μmが好ましい。
上述した本発明の回路基板の繊維シート側にさらにポリ
フェニレンスルフィドフィルムを積層して、PPSフィ
ルム(Aμm)/繊維シート(Bμm)/PPSフィルム(A′
μm)/回路という構成にしてもよい。この場合のPP
Sフィルムの厚さの和と繊維シートの厚さの比率(A+
A′)/Bは、繊維シートの熱膨張係数によって異なるが、
値があまりにも小さいと機械強度が低下し、また逆にあ
まりにも大きいと回路基板のそりが大きくなり、ハンダ
耐熱性を向上させる効果が小さくなるので、特に限定さ
れないが0.1 ないし4.0 が好ましい。また、この場合も
積層体の厚さは10μmないし200 μmが好ましい。
フェニレンスルフィドフィルムを積層して、PPSフィ
ルム(Aμm)/繊維シート(Bμm)/PPSフィルム(A′
μm)/回路という構成にしてもよい。この場合のPP
Sフィルムの厚さの和と繊維シートの厚さの比率(A+
A′)/Bは、繊維シートの熱膨張係数によって異なるが、
値があまりにも小さいと機械強度が低下し、また逆にあ
まりにも大きいと回路基板のそりが大きくなり、ハンダ
耐熱性を向上させる効果が小さくなるので、特に限定さ
れないが0.1 ないし4.0 が好ましい。また、この場合も
積層体の厚さは10μmないし200 μmが好ましい。
また、上述したPPSフィルム(Aμm)/繊維シート(B
μm)/PPSフィルム(A′μm)/回路の、回路が形成
されていないPPSフィルム上に第2の回路を形成して
回路/PPSフィルム(Aμm)/繊維シート(Bμm)/P
PSフィルム(A′μm)/回路という構成にしてもよ
い。この場合の各層の厚さや比や積層体の厚さの好まし
い範囲は上記と同様である。
μm)/PPSフィルム(A′μm)/回路の、回路が形成
されていないPPSフィルム上に第2の回路を形成して
回路/PPSフィルム(Aμm)/繊維シート(Bμm)/P
PSフィルム(A′μm)/回路という構成にしてもよ
い。この場合の各層の厚さや比や積層体の厚さの好まし
い範囲は上記と同様である。
ポリフェニレンスルフィドフィルム上の電気回路は、例
えば銅、アルミニウム等の金属箔又は蒸着膜のような金
属層や導電性塗料等により形成することができる。
えば銅、アルミニウム等の金属箔又は蒸着膜のような金
属層や導電性塗料等により形成することができる。
この発明の回路基板は、例えば以下の方法により製造す
ることができる。
ることができる。
本発明に用いるポリフェニレンスルフィドは、硫化アル
カリとパラジハロベンゼンとを極性溶媒中に高温高圧下
に反応させて得られる。特に硫化ナトリウムとパラジク
ロルベンゼンをN−メチルピロリドン等のアミド系高沸
点極性溶媒中で反応させるのが好ましい。この場合、重
合度を調整するために、カ性アルカリ、カルボン酸アル
カリ金属塩等のいわゆる重合助剤を添加して230 ℃〜28
0 ℃で反応させるのが最も好ましい。重合系内の圧力及
び重合時間は使用する助剤の種類や量及び所望する重合
度等によって適宜決定する。得られた粉状又は粒状のポ
リマーを、水及び/又は溶媒で洗浄して、副生塩、重合
助剤、未反応モノマー等を分離する。
カリとパラジハロベンゼンとを極性溶媒中に高温高圧下
に反応させて得られる。特に硫化ナトリウムとパラジク
ロルベンゼンをN−メチルピロリドン等のアミド系高沸
点極性溶媒中で反応させるのが好ましい。この場合、重
合度を調整するために、カ性アルカリ、カルボン酸アル
カリ金属塩等のいわゆる重合助剤を添加して230 ℃〜28
0 ℃で反応させるのが最も好ましい。重合系内の圧力及
び重合時間は使用する助剤の種類や量及び所望する重合
度等によって適宜決定する。得られた粉状又は粒状のポ
リマーを、水及び/又は溶媒で洗浄して、副生塩、重合
助剤、未反応モノマー等を分離する。
このポリマーを2軸配向フィルムに成形するには、押出
機により溶融された該樹脂を口金から定量的に金属ドラ
ムの上にキャスティングし、急速冷却することによって
無配向、非晶状態のシートを得て、該シートを周知の方
法で2軸延伸、熱処理する。延伸は長手方向、幅方向と
も90〜110 ℃で3.0 倍〜4.5 倍の範囲で行なう。熱処
理は240 ℃〜融点の範囲で、定長又は15%以下の制限
収縮下に1〜60秒間行なう。さらに、該フィルムの熱
的寸法安定性を向上させるために、一方向又は二方向に
リラックスしてもよい。なお、後の工程において繊維シ
ートと接着する際の接着性を向上させる目的で、コロナ
放電処理やプラズマ処理等の表面処理をフィルムに施し
ておくことが好ましい。
機により溶融された該樹脂を口金から定量的に金属ドラ
ムの上にキャスティングし、急速冷却することによって
無配向、非晶状態のシートを得て、該シートを周知の方
法で2軸延伸、熱処理する。延伸は長手方向、幅方向と
も90〜110 ℃で3.0 倍〜4.5 倍の範囲で行なう。熱処
理は240 ℃〜融点の範囲で、定長又は15%以下の制限
収縮下に1〜60秒間行なう。さらに、該フィルムの熱
的寸法安定性を向上させるために、一方向又は二方向に
リラックスしてもよい。なお、後の工程において繊維シ
ートと接着する際の接着性を向上させる目的で、コロナ
放電処理やプラズマ処理等の表面処理をフィルムに施し
ておくことが好ましい。
一方、市販の天然紙のような、上記した繊維シートを準
備する。
備する。
次に、上述のようにして得たポリフェニレンスルフィド
フィルムと繊維シートとを接着剤で接着する。接着剤は
特に限定されないが、耐熱性及び作業性から考えて熱硬
化型の溶剤系が好ましく、例えばウレタン系、エポキシ
系、アクリル系、シリコーン系接着剤等を挙げることが
できる。
フィルムと繊維シートとを接着剤で接着する。接着剤は
特に限定されないが、耐熱性及び作業性から考えて熱硬
化型の溶剤系が好ましく、例えばウレタン系、エポキシ
系、アクリル系、シリコーン系接着剤等を挙げることが
できる。
次に積層方法は、2軸配向ポリフェニレンスルフィドフ
ィルム(又は繊維シート)の片面に接着剤を塗布し、乾
燥した後、加熱ロール又は加熱プレスで繊維シート(又
はポリフェニレンスルフィドフィルム)を貼り合せる。
このようにして得られる積層体の繊維シート側にさらに
第2のポリフェニレンスルフィドフィルムを貼り合せる
場合にも、上記と同様に行なうことができる。また、接
着剤の塗布の方法としては、グラビアロール法、リバー
スロールコータ法、ダイコータ法等の周知の方法を採用
することができる。バッチ式で行なう場合には、メタリ
ングバー、アプリケータ、ガラス棒等で接着剤を塗布す
ることができる。塗布後の溶剤の乾燥は、用いる溶剤の
種類により異なり、通常は溶剤の沸点付近の温度で残存
溶剤が完全になくなる条件が選ばれる。又、貼り合せの
条件は、温度50℃〜200℃ 、線圧1〜50kg/cm の範
囲で行なうのがよい。また、必要に応じて接着剤の硬化
を行なう。硬化条件は接着剤の種類や組成、厚みによっ
て異なるが、常温ないし200 ℃で0.5 時間〜100 時間の
範囲内が好ましい。
ィルム(又は繊維シート)の片面に接着剤を塗布し、乾
燥した後、加熱ロール又は加熱プレスで繊維シート(又
はポリフェニレンスルフィドフィルム)を貼り合せる。
このようにして得られる積層体の繊維シート側にさらに
第2のポリフェニレンスルフィドフィルムを貼り合せる
場合にも、上記と同様に行なうことができる。また、接
着剤の塗布の方法としては、グラビアロール法、リバー
スロールコータ法、ダイコータ法等の周知の方法を採用
することができる。バッチ式で行なう場合には、メタリ
ングバー、アプリケータ、ガラス棒等で接着剤を塗布す
ることができる。塗布後の溶剤の乾燥は、用いる溶剤の
種類により異なり、通常は溶剤の沸点付近の温度で残存
溶剤が完全になくなる条件が選ばれる。又、貼り合せの
条件は、温度50℃〜200℃ 、線圧1〜50kg/cm の範
囲で行なうのがよい。また、必要に応じて接着剤の硬化
を行なう。硬化条件は接着剤の種類や組成、厚みによっ
て異なるが、常温ないし200 ℃で0.5 時間〜100 時間の
範囲内が好ましい。
次にこのようにして得た積層体のポリフェニレンスルフ
ィドフィルム上に電気回路を形成する。金属層で電気回
路を形成する場合には、特に限定されないが、通常、上
記と同様にして金属箔を上記積層体のポリフェニレンス
ルフィドフィルム上に貼り合せた後、又は蒸着膜を形成
した後、周知の方法により金属箔又は蒸着膜をエッチン
グする。導電性塗料で回路を形成する場合には、一般的
に周知のスクリーン印刷法が用いられる。導電性塗料の
硬化方法は、通常、180 ℃〜250 ℃の温度で1分〜2時
間が好ましい。
ィドフィルム上に電気回路を形成する。金属層で電気回
路を形成する場合には、特に限定されないが、通常、上
記と同様にして金属箔を上記積層体のポリフェニレンス
ルフィドフィルム上に貼り合せた後、又は蒸着膜を形成
した後、周知の方法により金属箔又は蒸着膜をエッチン
グする。導電性塗料で回路を形成する場合には、一般的
に周知のスクリーン印刷法が用いられる。導電性塗料の
硬化方法は、通常、180 ℃〜250 ℃の温度で1分〜2時
間が好ましい。
次に本発明に関する特性の測定方法及び効果の評価方法
についてまとめて記載する。
についてまとめて記載する。
(1) 300 ℃での溶融状態の評価 300 ℃(±5℃以下の精度)のハンダ液面に30秒間浮
かべた時の溶融状態を目視で観察する。
かべた時の溶融状態を目視で観察する。
(2) 熱膨張係数 差動トランスと加熱炉を組み込んだ天秤を用い、200 ℃
まで昇温した後、100 ℃まで降温し、その降温時の温度
変化に対する試料の寸法変化量をプロットし、その勾配
より求める。試料のサイズは50 mm x 5 mmとし、0.2 g/
5 mm幅の荷重を加えて測定する。
まで昇温した後、100 ℃まで降温し、その降温時の温度
変化に対する試料の寸法変化量をプロットし、その勾配
より求める。試料のサイズは50 mm x 5 mmとし、0.2 g/
5 mm幅の荷重を加えて測定する。
(3) 2軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの配向
度 各試料の延伸方向をそろえて厚み1mm、幅1mm、長さ1
0mmの短冊状に成型(成型時の各フィルムの固定はコロ
ジオンの5%酢酸アミル溶液を用いた)し、フィルムの
膜面に沿ってX線を入射(Edge及びEnd 方向)してプレ
ート写真を撮影した。X線発生装置は理学電機製、D-3F
型装置を用い、40 kV-20 mA でNiフィルターを通したCu
-Kα線をX線源とした。
度 各試料の延伸方向をそろえて厚み1mm、幅1mm、長さ1
0mmの短冊状に成型(成型時の各フィルムの固定はコロ
ジオンの5%酢酸アミル溶液を用いた)し、フィルムの
膜面に沿ってX線を入射(Edge及びEnd 方向)してプレ
ート写真を撮影した。X線発生装置は理学電機製、D-3F
型装置を用い、40 kV-20 mA でNiフィルターを通したCu
-Kα線をX線源とした。
試料−フィルム間距離は41mmでコダックノンスクリー
ンタイプフィルムを用い多重露出(15分及び30分)
法を採用した。次にプレート写真上の(200) ピースの強
度をφ=0゜(赤道線上)10゜、20゜、30゜の位
置で写真の中心から半径方向にデンシトメーターを走査
し、黒化度Iを読み取り各試料の配向度(OF)を OF=I(φ=30゜)/I(φ=0゜) と定義した。
ンタイプフィルムを用い多重露出(15分及び30分)
法を採用した。次にプレート写真上の(200) ピースの強
度をφ=0゜(赤道線上)10゜、20゜、30゜の位
置で写真の中心から半径方向にデンシトメーターを走査
し、黒化度Iを読み取り各試料の配向度(OF)を OF=I(φ=30゜)/I(φ=0゜) と定義した。
ここで、I(φ=30゜)は30゜の走査の最大強度、
I(φ=0゜)は赤道線走査の最大強度である。なおI
(φ=0゜)はφ=0゜とφ=180゜、I(φ=30
゜)はφ=30゜とφ=150゜の強度の平均値を用い
た。デンシトメーターの測定条件は次のようである。
I(φ=0゜)は赤道線走査の最大強度である。なおI
(φ=0゜)はφ=0゜とφ=180゜、I(φ=30
゜)はφ=30゜とφ=150゜の強度の平均値を用い
た。デンシトメーターの測定条件は次のようである。
装置は小西六写真工業製サクラマイクロデンシトメータ
ーモデルPDM-5 タイプAを使用し、測定濃度範囲は0.0
〜4.0D(最小測定面積4μm2換算)、光学系倍率10
0倍でスリット幅1μm、高さ10μmを使用し、フィ
ルム移動速度50μm/秒でチャート速度は1mm/ 秒で
ある。
ーモデルPDM-5 タイプAを使用し、測定濃度範囲は0.0
〜4.0D(最小測定面積4μm2換算)、光学系倍率10
0倍でスリット幅1μm、高さ10μmを使用し、フィ
ルム移動速度50μm/秒でチャート速度は1mm/ 秒で
ある。
(4) ハンダ耐熱性 各温度(±5℃以下の精度)に設定したハンダ液面に電
気回路面が接するように20秒間浮かべて取り出す。そ
の時の基板の平面性の悪化したハンダの温度で表わし
た。
気回路面が接するように20秒間浮かべて取り出す。そ
の時の基板の平面性の悪化したハンダの温度で表わし
た。
(5) 耐屈曲回数(MIT) 金属層から成る電気回路を塩化第2鉄水溶液でエッチン
グし、120 ℃で50時間エージングした後、ASTM-D-217
6-63T に準じて測定した。
グし、120 ℃で50時間エージングした後、ASTM-D-217
6-63T に準じて測定した。
(6) そり度 銅箔を用いたフレキシブル配線基板は、50mm x 50 mm
にサンプリングし、120 ℃で5分間エージングした。そ
りが発生しているサンプルの一片をガラス板にセロテー
プで固定することによりそれと対称の片がそり上る。そ
のそり上った辺から垂直下のガラス板までの距離をそり
度(mm)とした。
にサンプリングし、120 ℃で5分間エージングした。そ
りが発生しているサンプルの一片をガラス板にセロテー
プで固定することによりそれと対称の片がそり上る。そ
のそり上った辺から垂直下のガラス板までの距離をそり
度(mm)とした。
一方、導電性塗料(「ハイソール」KO-0107東レ株式会
社製)を用いたフレキシブル配線基板は、200 ℃、10
分の条件で該塗料を硬化させた後、銅箔を用いた場合と
同様の方法で測定した。
社製)を用いたフレキシブル配線基板は、200 ℃、10
分の条件で該塗料を硬化させた後、銅箔を用いた場合と
同様の方法で測定した。
(7) 表面電気抵抗値 荷重500gの4cm角型電極で測定した表面抵抗(Ω/□)
で表示した。
で表示した。
[発明の実施例] 次に本発明の実施例及び比較例を示し、この発明の効果
を具体的に説明する。
を具体的に説明する。
実施例1 (1) 本発明に用いるPPS−BOの調製 (a)PPSポリマーの調製 オートクレーブに硫化ナトリウム32.6 kg(250モル、結
晶水40重量%を含む)、水酸化ナトリウム100 g、安
息香酸ナトリウム36.1 kg(250モル)、及びN−メチル−
2−ピロリドン(以下NMPと略称する。)79.2 kg を
仕込みかくはんしながら徐々に205 ℃まで昇温し、水6.
9 kgを含む留出液7.0 を除去した。残留混合物に1,4-
ジクロルベンゼン37.5 kg(255モル)及びNMP20.0 kg
を加え、265 ℃で4時間加熱した。反応生成物を熱湯で
8回洗浄し、溶融粘度2900ポイズ、非ニュートン係数1.
17、ガラス転移点91℃、融点285℃の高重合度ポリ
フェニレンスルフィド21.1 kg (収率78%)を得た。
晶水40重量%を含む)、水酸化ナトリウム100 g、安
息香酸ナトリウム36.1 kg(250モル)、及びN−メチル−
2−ピロリドン(以下NMPと略称する。)79.2 kg を
仕込みかくはんしながら徐々に205 ℃まで昇温し、水6.
9 kgを含む留出液7.0 を除去した。残留混合物に1,4-
ジクロルベンゼン37.5 kg(255モル)及びNMP20.0 kg
を加え、265 ℃で4時間加熱した。反応生成物を熱湯で
8回洗浄し、溶融粘度2900ポイズ、非ニュートン係数1.
17、ガラス転移点91℃、融点285℃の高重合度ポリ
フェニレンスルフィド21.1 kg (収率78%)を得た。
(b)溶融成形 上記(a)で得られた組成物を180 ℃で2時間、減圧下
で乾燥した後、該組成物に滑剤として、ステアリン酸カ
ルシウム粉末を0.1 重量%添加し、ミキサーでかくはん
混合した後、直径40mmのエクストルーダのホッパに投
入した。310 ℃で溶融された該組成物を長さ250 mm、間
隙1.5 mmの直線状のリップを有する口金から押出し、表
面温度を30℃に保った金属ドラム上にキャストして冷
却固化した。
で乾燥した後、該組成物に滑剤として、ステアリン酸カ
ルシウム粉末を0.1 重量%添加し、ミキサーでかくはん
混合した後、直径40mmのエクストルーダのホッパに投
入した。310 ℃で溶融された該組成物を長さ250 mm、間
隙1.5 mmの直線状のリップを有する口金から押出し、表
面温度を30℃に保った金属ドラム上にキャストして冷
却固化した。
得られたフィルムは、幅が230 mm、厚さ380 μm、密度
1.315 の未延伸フィルムであった。
1.315 の未延伸フィルムであった。
(c)2軸延伸、熱処理 上記(b)で得られたフィルムをロール群から成る縦延
伸装置によって、フィルムの長手方向に延伸温度98℃
で3.9 倍に延伸し、続いてフィルムをテンタに供給し、
延伸温度98℃で幅方向に3.7 倍延伸し、さらに同一テ
ンタ内に後続する熱処理室で270 ℃、10秒間の熱処理
をして、2軸配向フィルムを得た。さらに、該フィルム
をフリー状態で250 ℃2分間強制収縮させた。さらに該
フィルムの片面に6000 J/m2のコロナ放電処理を施し、
このフィルムをPPS−BO−1(厚さ25μm)とす
る。
伸装置によって、フィルムの長手方向に延伸温度98℃
で3.9 倍に延伸し、続いてフィルムをテンタに供給し、
延伸温度98℃で幅方向に3.7 倍延伸し、さらに同一テ
ンタ内に後続する熱処理室で270 ℃、10秒間の熱処理
をして、2軸配向フィルムを得た。さらに、該フィルム
をフリー状態で250 ℃2分間強制収縮させた。さらに該
フィルムの片面に6000 J/m2のコロナ放電処理を施し、
このフィルムをPPS−BO−1(厚さ25μm)とす
る。
(2) 本発明に用いる繊維シートの準備 市販のクラフト紙(厚さ100 μm)を用いた(紙−1と
する)。この紙は300 ℃で全く溶融せず、熱膨張係数は
9 x 10-6/℃であった。
する)。この紙は300 ℃で全く溶融せず、熱膨張係数は
9 x 10-6/℃であった。
(3) 接着剤の調製 市販のエポキシ系接着剤である「ケミットエポキシ TE
5920」(東レ株式会社製)を用いた。この接着剤の主剤
と硬化剤の混合比を主剤/硬化剤=100/15とし、メタノ
ール/トルエンの混合溶剤で30重量%になるように調
整した。
5920」(東レ株式会社製)を用いた。この接着剤の主剤
と硬化剤の混合比を主剤/硬化剤=100/15とし、メタノ
ール/トルエンの混合溶剤で30重量%になるように調
整した。
(4) 積層体の調製 PPS−BO−1のコロナ処理面にグラビアロール法で
先に調製した接着剤をコーティングした。溶剤の乾燥条
件は100 ℃で3分間であり、接着剤の厚みは硬化後で1
0μmになるよう調整した。続いて後続するロールラミ
ネータで紙−1と貼り合せた。貼り合せの条件は温度12
0 ℃、線圧3 kg/cmとした。得られた積層体は150 ℃で
60分間硬化させた(積層体−1とする)。
先に調製した接着剤をコーティングした。溶剤の乾燥条
件は100 ℃で3分間であり、接着剤の厚みは硬化後で1
0μmになるよう調整した。続いて後続するロールラミ
ネータで紙−1と貼り合せた。貼り合せの条件は温度12
0 ℃、線圧3 kg/cmとした。得られた積層体は150 ℃で
60分間硬化させた(積層体−1とする)。
次にもう1層のPPS−BO−1のコロナ処理面に上記
の条件で接着剤をコーティングし、先に得られたPPS
−BO−1/紙/−1の紙−1の側に上記の条件で貼り
合せた。得られた積層体を150 ℃で60分間硬化させた
(積層体−2)。
の条件で接着剤をコーティングし、先に得られたPPS
−BO−1/紙/−1の紙−1の側に上記の条件で貼り
合せた。得られた積層体を150 ℃で60分間硬化させた
(積層体−2)。
(5) 回路基板の調製 積層体−1のPPS−BO−1側及び積層体−2の片面
に6000 J/m2のコロナ処理を行ない該処理面に接着剤を
介して厚さ35μmの電解銅箔を積層した。使用した接
着剤は、先の積層体の作製に用いたものと同じであり、
塗布厚みは硬化後で10μmになるよう調整し、貼り合
せ及び硬化の条件は先の積層体の作製の場合と同じであ
った。得られた2種類の銅貼り品は、5mmの間隔で5mm
幅に、かつ碁盤の目に銅が残るようにエッチングした。
このようにして得られた回路基板を基板−1及び基板−
2とする。
に6000 J/m2のコロナ処理を行ない該処理面に接着剤を
介して厚さ35μmの電解銅箔を積層した。使用した接
着剤は、先の積層体の作製に用いたものと同じであり、
塗布厚みは硬化後で10μmになるよう調整し、貼り合
せ及び硬化の条件は先の積層体の作製の場合と同じであ
った。得られた2種類の銅貼り品は、5mmの間隔で5mm
幅に、かつ碁盤の目に銅が残るようにエッチングした。
このようにして得られた回路基板を基板−1及び基板−
2とする。
また、先に得られた積層体−1のPPS−BO−1側及
び積層体−2の片面に圧力0.6 mmHgの二酸化炭素ガス中
で、印加電圧2KV、処理速度0.25 m/分の条件でプラ
ズマ処理を行ない、該処理面に導電性塗料([ハイソー
ル」K0-0107 東レ株式会社製)を8μmの厚さに塗布
し、200℃、10分の条件で硬化させた。該導電性塗料
の表面電気抵抗値は8 x 10-1Ω/□であった。得られた
回路基板を基板−3、基板−4とする。
び積層体−2の片面に圧力0.6 mmHgの二酸化炭素ガス中
で、印加電圧2KV、処理速度0.25 m/分の条件でプラ
ズマ処理を行ない、該処理面に導電性塗料([ハイソー
ル」K0-0107 東レ株式会社製)を8μmの厚さに塗布
し、200℃、10分の条件で硬化させた。該導電性塗料
の表面電気抵抗値は8 x 10-1Ω/□であった。得られた
回路基板を基板−3、基板−4とする。
(6) 比較例1〜5 実施例1と同様にして、厚さ100 μmのPPS−BOを
作製した(PPS−BO−2とする)。PPS−BO−
2に実施例1の条件で銅箔を用いた回路基板を作製した
(比較例1)。
作製した(PPS−BO−2とする)。PPS−BO−
2に実施例1の条件で銅箔を用いた回路基板を作製した
(比較例1)。
さらに、実施例1で使用した紙−1も同様の回路基板を
作製した(比較例2)。
作製した(比較例2)。
さらに、実施例1で作製した積層体−1の紙−1側に銅
箔を用いた回路基板を作製した(比較例−3)。
箔を用いた回路基板を作製した(比較例−3)。
次に上記のPPS−BO−2及び積層体−1の紙側に実
施例1と同様に導電性塗料を用いた回路基板を作製した
(PPS−BO−2を用いたものを比較例4、積層体−
1を用いたものを比較例5とする)。
施例1と同様に導電性塗料を用いた回路基板を作製した
(PPS−BO−2を用いたものを比較例4、積層体−
1を用いたものを比較例5とする)。
(7) 評価 第1表に銅箔を用いた回路基板の評価結果を示す。本発
明の回路基板は、PPS−BO単体のものに比べて、そ
りが著しく小さく(ほとんどフラット)、かつハンダ耐
熱性が一段と優れていることがわかる。また、PPSフ
ィルムの融点近くまでハンダの温度を上昇させたが平面
性が急激に悪化することはなかった。一方、紙をベース
とした回路基板は、銅を内側(PPS−BO単体とは逆
の方向)に大きくそる。また、120 ℃で50時間放置し
た後の機械的強度が非常に悪い。また、PPS−BOと
紙の2層体の紙側に銅箔を用いた回路を形成すると、そ
りの点で不利であることがわかる。
明の回路基板は、PPS−BO単体のものに比べて、そ
りが著しく小さく(ほとんどフラット)、かつハンダ耐
熱性が一段と優れていることがわかる。また、PPSフ
ィルムの融点近くまでハンダの温度を上昇させたが平面
性が急激に悪化することはなかった。一方、紙をベース
とした回路基板は、銅を内側(PPS−BO単体とは逆
の方向)に大きくそる。また、120 ℃で50時間放置し
た後の機械的強度が非常に悪い。また、PPS−BOと
紙の2層体の紙側に銅箔を用いた回路を形成すると、そ
りの点で不利であることがわかる。
第2表に導電性塗料を用いた回路基板の評価結果を示
す。そりの状態は、銅箔を用いた場合と同傾向にある。
す。そりの状態は、銅箔を用いた場合と同傾向にある。
実施例2 (1) 回路基板の作製 実施例1で作製した基板−2のもう一方の面に実施例1
の条件で銅箔を用いた回路を作製した(基板−5とす
る)。
の条件で銅箔を用いた回路を作製した(基板−5とす
る)。
比較のために上記比較例1のもう一方の面にも同様の回
路基板を作製した(比較例6とする)。
路基板を作製した(比較例6とする)。
(2) 評価 第3表に評価結果を示す。本発明の回路基板(回路/PPS
/BO/紙/PPS-BO/回路)は、PPS−BO単体のものに比
べてそり状態は変わらないもののハンダ耐熱性が一段と
向上しているのがわかる。
/BO/紙/PPS-BO/回路)は、PPS−BO単体のものに比
べてそり状態は変わらないもののハンダ耐熱性が一段と
向上しているのがわかる。
実施例3 (1) PPS−BOの作製 実施例1と同様にして12μmと50μmのPPS−B
Oを作製した(12μmのものをPPS−BO−3、5
0μmのものをPPS−BO−4とする)。
Oを作製した(12μmのものをPPS−BO−3、5
0μmのものをPPS−BO−4とする)。
(2) 紙の準備 下記の5種類の紙を準備した。
紙−2:コイル絶縁紙、厚さ25μm 紙−3:NF−7(白)[四国製紙(株)]、厚さ70
μm 紙−4:耐油紙[四国製紙(株)]、厚さ55μm 紙−5:研磨紙用原紙C.W.S−BM、厚さ130 μm 紙−6:セラフォームM-20[四国製紙(株)]、厚さ8
0μm 上記の紙は全て300 ℃で溶融せず、熱膨張係数も本発明
の範囲であった。
μm 紙−4:耐油紙[四国製紙(株)]、厚さ55μm 紙−5:研磨紙用原紙C.W.S−BM、厚さ130 μm 紙−6:セラフォームM-20[四国製紙(株)]、厚さ8
0μm 上記の紙は全て300 ℃で溶融せず、熱膨張係数も本発明
の範囲であった。
(3) 回路基板の作製 上記のPPS−BO(PPS−BO−3、PPS−BO
−4)と実施例1で作製したPPS−BO−1と上記の
紙(紙−2〜紙−6)とを組み合せて10種類の積層体
を作製した。積層体の構成は全てPPS−BO/紙/P
PS−BOとした。また、積層の条件は、実施例1の条
件を用いた。次いで、得られた10種類の積層体の片面
に実施例1と同様の条件で金箔を用いた回路を形成した
(基板−6〜基板−15)。
−4)と実施例1で作製したPPS−BO−1と上記の
紙(紙−2〜紙−6)とを組み合せて10種類の積層体
を作製した。積層体の構成は全てPPS−BO/紙/P
PS−BOとした。また、積層の条件は、実施例1の条
件を用いた。次いで、得られた10種類の積層体の片面
に実施例1と同様の条件で金箔を用いた回路を形成した
(基板−6〜基板−15)。
(4) 評価 第4表に評価結果を示す。本発明で言う熱膨張係数が大
きくなると、回路基板のそりの状態が大きくなることが
わかる。ハンダ耐熱性は全て優れていた。
きくなると、回路基板のそりの状態が大きくなることが
わかる。ハンダ耐熱性は全て優れていた。
比較例7 実施例1の方法で、25μm厚みの未延伸フィルムを作
成した(PPS−NO−1とする。)。また、該未延伸
フィルムを270℃の温度で3分間熱処理した。その時
のフィルムの密度は1.358であった(PPS−NO
−2とする。)。
成した(PPS−NO−1とする。)。また、該未延伸
フィルムを270℃の温度で3分間熱処理した。その時
のフィルムの密度は1.358であった(PPS−NO
−2とする。)。
上記2種のフィルムを各々実施例1の条件で繊維シート
の両面に積層した。更に実施例1と同様の方法で回路基
板を作成した。PPS−NO−1を用いたものを基板−
16、PPS−NO−2を用いたものを基板−17とす
る。
の両面に積層した。更に実施例1と同様の方法で回路基
板を作成した。PPS−NO−1を用いたものを基板−
16、PPS−NO−2を用いたものを基板−17とす
る。
第5表に評価結果を示す。第1表の実施例1の結果と比
較すると、熱処理していない未延伸フィルムを用いた基
板−16はハンダ耐熱温度が低く、熱処理した未延伸フ
ィルムを用いた基板−17は機械的強度が悪いことが判
る。従って、未延伸フィルムでは本発明の目的を達成で
きない。
較すると、熱処理していない未延伸フィルムを用いた基
板−16はハンダ耐熱温度が低く、熱処理した未延伸フ
ィルムを用いた基板−17は機械的強度が悪いことが判
る。従って、未延伸フィルムでは本発明の目的を達成で
きない。
Claims (2)
- 【請求項1】2軸配向ポリフェニレンスルフィドフィル
ムと、300 ℃で不融で、かつ100 ℃から200 ℃の熱膨張
係数が50x10-61/℃以下の繊維シートとを積層した積層
体の2軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム側に電
気回路を形成して成る回路基板。 - 【請求項2】前記繊維シートは紙である特許請求の範囲
第1項記載の回路基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253128A JPH0634434B2 (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253128A JPH0634434B2 (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 回路基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0195585A JPH0195585A (ja) | 1989-04-13 |
| JPH0634434B2 true JPH0634434B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=17246892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253128A Expired - Lifetime JPH0634434B2 (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 回路基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634434B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0645416B1 (en) * | 1993-03-31 | 2001-05-23 | Toray Industries, Inc. | Resin-impregnated fiber sheet |
| JP2011140150A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Toray Ind Inc | 積層体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS593991A (ja) * | 1982-06-29 | 1984-01-10 | 東レ株式会社 | プリント配線板 |
-
1987
- 1987-10-07 JP JP62253128A patent/JPH0634434B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0195585A (ja) | 1989-04-13 |
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