JPH063445Y2 - バツチ廃液処理プロセスの▲pH▼制御装置 - Google Patents
バツチ廃液処理プロセスの▲pH▼制御装置Info
- Publication number
- JPH063445Y2 JPH063445Y2 JP6246487U JP6246487U JPH063445Y2 JP H063445 Y2 JPH063445 Y2 JP H063445Y2 JP 6246487 U JP6246487 U JP 6246487U JP 6246487 U JP6246487 U JP 6246487U JP H063445 Y2 JPH063445 Y2 JP H063445Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- control
- batch
- treatment process
- waste liquid
- parameter
- Prior art date
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- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は化学工場からバッチ的に排出される廃液のPH
値を中和して河川などに放流するためのバッチ廃液処理
プロセスのPH制御の制御性の改善に関する。
値を中和して河川などに放流するためのバッチ廃液処理
プロセスのPH制御の制御性の改善に関する。
〈従来技術〉 第1図に基いてバッチ廃液処理プロセスの一般構成を説
明する。1はプロセスからの廃液Fを一時的に貯蓄する
廃液槽であり、槽内の廃液は、バッチ開始信号Bで開閉
制御される開閉弁2および入力管路3を介して中和槽4
に導かれる。
明する。1はプロセスからの廃液Fを一時的に貯蓄する
廃液槽であり、槽内の廃液は、バッチ開始信号Bで開閉
制御される開閉弁2および入力管路3を介して中和槽4
に導かれる。
5は中和用の酸溶液タンク、6は同じく中和用のアルカ
リ溶液タンクであり、各タンクの溶液は、廃液FのPH
値に基づいて一方が選択され、夫々流量制御弁7,8お
よび共通の中和管路9を介して中和槽4に供給される。
リ溶液タンクであり、各タンクの溶液は、廃液FのPH
値に基づいて一方が選択され、夫々流量制御弁7,8お
よび共通の中和管路9を介して中和槽4に供給される。
10は中和槽内溶液F′のPHのセンサーであり、その
測定値PV1はコントローラ11に導かれる。
測定値PV1はコントローラ11に導かれる。
コントローラ11はバッチ開始信号Bでスタートし、測
定値PV1とPH7に対応する設定値SV1の偏差を制
御演算した操作出力MVH又はMVNを制御弁7又は8
に供給する。
定値PV1とPH7に対応する設定値SV1の偏差を制
御演算した操作出力MVH又はMVNを制御弁7又は8
に供給する。
この場合、PHの測定値により溶液F′のPH値が7以
上のアルカリ性のときは操作出力MVHを発信して酸溶
液タンク5から中和溶液を供給し、PH値が7以下の酸
性であるときはMVNを発信してアルカリ溶液タンク6
より中和溶液を供給する。
上のアルカリ性のときは操作出力MVHを発信して酸溶
液タンク5から中和溶液を供給し、PH値が7以下の酸
性であるときはMVNを発信してアルカリ溶液タンク6
より中和溶液を供給する。
中和槽4内の溶液F′は、出力管路12,ポンプ13,
開閉弁14を介して、更に廃棄管路15を経て河川16
に排出される。
開閉弁14を介して、更に廃棄管路15を経て河川16
に排出される。
17は中和槽のレベルセンサーで、PV2はその測定値
である。18はバッチ信号Bでスタートするレベル監視
コントローラで、測定値PV2が排出レベル設定値SV
2に達したときに開閉弁14を開く操作信号MV2を発
信する。
である。18はバッチ信号Bでスタートするレベル監視
コントローラで、測定値PV2が排出レベル設定値SV
2に達したときに開閉弁14を開く操作信号MV2を発
信する。
〈考案が解決しようとする問題点〉 プロセス廃液Fは、製造されている製品の種類や、工場
の運転状態によりバッチ毎に著しく異なったPH値を示
すものである。従来、コントローラ11としては非線形
P,I,Dコントローラが使用される場合が多く、P,
I,Dパラメータはあらかじめプリセットされた値であ
るために、廃液のPH値から見て著しく不適当な場合が
ある。
の運転状態によりバッチ毎に著しく異なったPH値を示
すものである。従来、コントローラ11としては非線形
P,I,Dコントローラが使用される場合が多く、P,
I,Dパラメータはあらかじめプリセットされた値であ
るために、廃液のPH値から見て著しく不適当な場合が
ある。
この様な不都合を解消する手段としては、バッチの開始
毎に最適なP,I,Dパラメータを自動的にチューニン
グするセルフチューニングコントローラも使用され始め
ているが、P,I,Dパラメータの初期値が適当でない
と、チューニングの収束時間が長くなったり収束不能と
なって、かえって大きなハンチングを生ずる欠点があ
る。
毎に最適なP,I,Dパラメータを自動的にチューニン
グするセルフチューニングコントローラも使用され始め
ているが、P,I,Dパラメータの初期値が適当でない
と、チューニングの収束時間が長くなったり収束不能と
なって、かえって大きなハンチングを生ずる欠点があ
る。
本考案はこの様な問題点を解消することができるるPH
制御装置の提供を目的とする。
制御装置の提供を目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉 本考案の構成上の特徴は、バッチ的に排出されて中和槽
に貯蓄されるプロセス廃液のPH測定値に基づいてこれ
を中和するための酸又はアルカリ溶液を上記中和槽に供
給する制御手段を有し、中和された槽内液を河川等に導
くバッチ廃液処理プロセスのPH制御装置において、供
給制御手段として、前回のバッチ時に決定されている制
御パラメータを初期値として一定時間制御を実行し、そ
の制御結果の偏差が一定値以下であれば前記制御パラメ
ータを新制御パラメータとし、前記偏差が一定値以上で
あれば過去複数回のバッチの際に決定された制御パラメ
ータより最適な制御パラメータを推定演算して設定する
セルフチューニングコトンローラを設けた点にある。
に貯蓄されるプロセス廃液のPH測定値に基づいてこれ
を中和するための酸又はアルカリ溶液を上記中和槽に供
給する制御手段を有し、中和された槽内液を河川等に導
くバッチ廃液処理プロセスのPH制御装置において、供
給制御手段として、前回のバッチ時に決定されている制
御パラメータを初期値として一定時間制御を実行し、そ
の制御結果の偏差が一定値以下であれば前記制御パラメ
ータを新制御パラメータとし、前記偏差が一定値以上で
あれば過去複数回のバッチの際に決定された制御パラメ
ータより最適な制御パラメータを推定演算して設定する
セルフチューニングコトンローラを設けた点にある。
〈作用〉 本考案によれば、制御手段としてセルフチューニングコ
ントローラが用いられ、次回バッチ時のチューニング開
始の制御パラメータの初期値が、過去複数回のバッチの
際に決定された最適パラメータ値の実績に基づく学習演
算機能により決定される。
ントローラが用いられ、次回バッチ時のチューニング開
始の制御パラメータの初期値が、過去複数回のバッチの
際に決定された最適パラメータ値の実績に基づく学習演
算機能により決定される。
〈実施例〉 ハードウェア的な構成は、従来技術で説明した第1図の
構成と同様のため、各要素についての説明は省略する。
構成と同様のため、各要素についての説明は省略する。
「本考案の特徴点は、コントローラ11として、以下に
説明する最適パラメータ決定手順を備えるセルフチュー
ニングコントローラを設置したことにある。」 第2図のフローチャートに基づいて手順を説明する。
説明する最適パラメータ決定手順を備えるセルフチュー
ニングコントローラを設置したことにある。」 第2図のフローチャートに基づいて手順を説明する。
(1)まずバッチ開始で廃液が中和槽に供給されると、
ステップでコントローラは前回のバッチ時に決定され
ているプリセットP,I,Dパラメータを初期値として
一定時間制御を実行する。
ステップでコントローラは前回のバッチ時に決定され
ているプリセットP,I,Dパラメータを初期値として
一定時間制御を実行する。
(2)その制御結果の偏差がステップで判断され、偏
差が一定値以上大きい場合には制御が悪い、と見なして
ステップに進む。
差が一定値以上大きい場合には制御が悪い、と見なして
ステップに進む。
(3)ステップでは、適応制御のためのセルフチュー
ニングが実行され、新しいP,I,Dパラメータが算出
される。
ニングが実行され、新しいP,I,Dパラメータが算出
される。
(4)この新しいP,I,Dパラメータによりステップ
で一定時間制御して再びステップによる偏差がチェ
ックされ、偏差が一定値以下となれば制御は良い、と見
なしてステップに進む。
で一定時間制御して再びステップによる偏差がチェ
ックされ、偏差が一定値以下となれば制御は良い、と見
なしてステップに進む。
(5)ステップでは、プリセットP,I,Dパラメー
タ又はステップで算出された新しいP,I,Dパラメ
ータをメモリーし、今回のバッチ制御におけるP,I,
Dパラメータとして採用してPH制御を実行すると共
に、ステップに進む。
タ又はステップで算出された新しいP,I,Dパラメ
ータをメモリーし、今回のバッチ制御におけるP,I,
Dパラメータとして採用してPH制御を実行すると共
に、ステップに進む。
(6)ステップは本考案の特徴部を成す学習演算機能
であり、過去K回のバッチ制御時に決定されて使用され
た最適P,I,Dパラメータ値に基づいて次回のバッチ
制御のスタート時のプリセットP,I,Dパラメータ値
を推定する。
であり、過去K回のバッチ制御時に決定されて使用され
た最適P,I,Dパラメータ値に基づいて次回のバッチ
制御のスタート時のプリセットP,I,Dパラメータ値
を推定する。
第3図は推定演算の一例を示す説明図であり、現在のチ
ューニングパラメータ値をPn,過去5回のチューニン
グパラメータ値を夫々Pn−1〜Pn−5としたとき、
次回のプリセットパラメータ値Pn+1を、現在及び過
去5回の移動平均値として推定する。
ューニングパラメータ値をPn,過去5回のチューニン
グパラメータ値を夫々Pn−1〜Pn−5としたとき、
次回のプリセットパラメータ値Pn+1を、現在及び過
去5回の移動平均値として推定する。
(7)ステップでは、ステップで推定されて決定さ
れたプリセットP,I,Dパラメータ値が初期値として
メモリーされ、次のバッチ制御のために待機状態とな
る。
れたプリセットP,I,Dパラメータ値が初期値として
メモリーされ、次のバッチ制御のために待機状態とな
る。
ステップにおける学習演算の態様は、上述した移動平
均演算が一般的であるが、他のパラメータを導入したア
ルゴリズムによる演算であってもよく、プリセットP,
I,Dパラメータの推定精度の高いアルゴリズムを経験
的に構築することも可能である。
均演算が一般的であるが、他のパラメータを導入したア
ルゴリズムによる演算であってもよく、プリセットP,
I,Dパラメータの推定精度の高いアルゴリズムを経験
的に構築することも可能である。
また、本考案に使用されるセルフチューニングコントロ
ーラとしては、限界感度法,インデシャル応答法,エキ
スパート法など、種々の公知の手法を用いることができ
る。
ーラとしては、限界感度法,インデシャル応答法,エキ
スパート法など、種々の公知の手法を用いることができ
る。
〈考案の効果〉 以上説明したように、本考案によればバッチ制御のスタ
ート時点から適切なプリセットP,I,Dパラメータに
よりチューニングが可能な制御装置を容易に実現するこ
とができ、PHの変動が激しい廃液処理プロセスのハン
チングを著しく減少させその制御性を向上させることが
できる。
ート時点から適切なプリセットP,I,Dパラメータに
よりチューニングが可能な制御装置を容易に実現するこ
とができ、PHの変動が激しい廃液処理プロセスのハン
チングを著しく減少させその制御性を向上させることが
できる。
第1図は本考案の実施例を示す構成図、第2図はその動
作手順を説明するフローチャート図、第3図は学習演算
機能の動作説明図である。 1…廃液槽、2,14,…開閉弁、3…入力管路、4…
中和槽、5…酸溶液タンク、6…アルカリ溶液タンク、
7,8…制御弁、9…中和管路、10…PHセンサー、
11…セルフチューニグコントローラ、12…出力管
路、13…ポンプ、15…廃液管路、16…河川、17
…レベルセンサー、18…レベル監視コントローラ
作手順を説明するフローチャート図、第3図は学習演算
機能の動作説明図である。 1…廃液槽、2,14,…開閉弁、3…入力管路、4…
中和槽、5…酸溶液タンク、6…アルカリ溶液タンク、
7,8…制御弁、9…中和管路、10…PHセンサー、
11…セルフチューニグコントローラ、12…出力管
路、13…ポンプ、15…廃液管路、16…河川、17
…レベルセンサー、18…レベル監視コントローラ
Claims (1)
- 【請求項1】バッチ的に排出されて中和槽に貯蓄される
プロセス廃液のPH測定値に基づいてこれを中和するた
めの酸又はアルカリ溶液を上記中和槽に供給する制御手
段を有し、中和された槽内液を河川等に導くバッチ廃液
処理プロセスのPH制御装置において、上記制御手段と
して、前回のバッチ時に決定されている制御パラメータ
を初期値として一定時間制御を実行し、その制御結果の
偏差が一定値以下であれば前記制御パラメータを新制御
パラメータとし、前記偏差が一定値以上であれば過去複
数回のバッチの際に決定された制御パラメータより最適
な制御パラメータを推定演算して設定するセルフチュー
ニングコントローラを設けたことを特徴とするバッチ廃
液処理プロセスのPH制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6246487U JPH063445Y2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | バツチ廃液処理プロセスの▲pH▼制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6246487U JPH063445Y2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | バツチ廃液処理プロセスの▲pH▼制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63171808U JPS63171808U (ja) | 1988-11-08 |
| JPH063445Y2 true JPH063445Y2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=30896769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6246487U Expired - Lifetime JPH063445Y2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | バツチ廃液処理プロセスの▲pH▼制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063445Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP6246487U patent/JPH063445Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63171808U (ja) | 1988-11-08 |
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