JPH0634732U

JPH0634732U - 回転円盤式噴霧造粒装置

Info

Publication number: JPH0634732U
Application number: JP7088492U
Authority: JP
Inventors: 知二堀田
Original assignee: 三井石油化学工業株式会社
Priority date: 1992-10-12
Filing date: 1992-10-12
Publication date: 1994-05-10
Anticipated expiration: 2007-10-12
Also published as: JP2574269Y2

Abstract

(57)【要約】【目的】回転円盤内に加熱ガスを供給して、回転円盤
内に滞留する噴霧直前の原液を直接加熱し、熱効率を向
上させて必要最小限の加熱ガスで原液を加熱できるよう
にする。そして冷却雰囲気への温風による影響を少なく
して温度管理を容易にする。また高粘度液の場合、流動
性を十分に保って綿状物の発生を抑制する。【構成】加熱ガスを供給する供給管１４に回転自在継
手１３により回転自在に連結される中空の主軸１２に
は、下端部に椀型の回転円盤１７を固着し、下端に形成
された吹出口１６が円盤内に開口するようにする。回転
円盤内に供給され、円盤の回転に伴い膜状に広がる原液
は主軸１２の吹出口１６より吹出す加熱ガスで直接加熱
される。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、例えば溶融樹脂のような粘性液を微粒化させるのに用いられる回転円盤式噴霧造粒装置に関する。

【０００２】

【従来技術】

液体を微粒化させる装置、なかでも連続して均一な粒子を得ることのできる装置として一般に広く知られるものに、回転円盤式噴霧造粒装置がある。この装置は一般に、造粒塔と、モータにより回動駆動される主軸と、造粒塔内の主軸下端に固着され、椀型、ベーン型ないしピン型等の構造を有する回転円盤と、回転円盤内に原液を供給する供給装置とより構成され、回転円盤内に供給した原液を高速回転する円盤の遠心力により加速して周囲のエアー或いはＮ₂ガス中に飛ばし、微細化するようにしている。

【０００３】こうした装置を用いて溶融樹脂のような粘性液の造粒を行う場合、円盤の回転により周囲の冷気を巻込んで円盤内の粘性液が冷却され、その結果、粘性液の粘度が大となって円盤より飛び散る液が綿状となり、微粒化が困難となる。高粘度液の場合ことにそうである。そこで、こうした粘性液の造粒時には従来、回転円盤にエアーやＮ₂ガス等の加熱ガスを吹付け、粘性液の流動性を保って噴霧を安定化させるようにしている。

【０００４】図１は、従来より用いられているこうした造粒装置の一例を示すもので、椀型の回転円盤１上に粘性液を通す先細り管状の本体２と、本体２との間に加熱ガスを通すホッパー状のダクト３とを主軸４と同心円状に配置し、加熱ガスを回転円盤１に吹付けて本体２より回転円盤内に供給された粘性液を加熱するようにしている。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】上述する従来の装置では、円盤内の粘性液を円盤を介して間接加熱しているため、粘性液を所期の温度に維持するのに、多量ないし高温の加熱流体を必要とし、円盤周囲の冷気による冷却機能を損なうようになる。健全な粒子の形成にとって、高粘度液ほど円盤周囲の冷却雰囲気や冷却時間がきわめて重要な要素となるが、造粒塔内の冷気と温風との温度バランスは微妙で、冷却機能の低下を最小限にして、内部の粘性液を所期の温度に保つための温度管理はきわめて困難であり、温風による影響を少なくするには、造粒塔を大型化する必要がある。

【０００６】しかも上述する従来の装置では、造粒終了後、残留する付着物を除去したり、円盤の冷却を行うことができない。本考案は、上記の問題を解消することを目的としてなされたもので、加熱したガスを円盤内部の粘性液に直接当てるようにすることによって加熱ガスの使用量を必要最小限とし、また造粒終了後は、円盤内に残留する付着物を除去したり、円盤の冷却を行うことができるようにしたものである。

【０００７】

【課題の解決手段】

本考案の回転円盤式噴霧造立装置は、造粒塔と、加熱ガスの供給管に回転式管継手を介して回転自在に接続されると共に、下端に加熱ガスの吹出口を有し、モータによって回転駆動される中空の主軸と、造粒塔内の主軸の下端部に吹出口が内側に開口するようにして固着され、原液の供給口を備えた椀型、ベーン型ないしピン型等の構造を有する回転円盤とよりなるものである。

【０００８】

【作用】

供給口より回転円盤内に供給された原液は、円盤の回転に伴い、円盤内を膜状に移動し、供給管より主軸を通って主軸下端の吹出口より吹出す加熱ガスに当てられて直接加熱される。吹出口は、放射状に多数設けるか、或いはスリット状に形成し、ガスがカーテン状に吹出されて円盤内全周にくまなく均一に吹付けられるようにするのが望ましい。この場合、吹出口は同一の円周上に形成してもよいし、異なった円周上に形成してもよい。

【０００９】造粒後、円盤内をクリーニングする必要のあるときには、加熱ガスを吹込んで残留する付着物を除去し、ついで加熱ガスの代わりに冷気を通して円盤を冷却する。

【００１０】

【実施例】

図２は、回転円盤が椀型をなす噴霧造粒装置について示すもので、図示しない造粒塔に軸受１１により回転自在に軸支される中空の主軸１２は、上端において回転式管継手１３によりエア、Ｎ₂ガス等の加熱ガスを供給する供給管１４と回転自在に連結され、下端を塞ぐ塞１５の直上にガスの吹出口１６を９０°ごと水平に形成している。

【００１１】椀型の回転円盤１７は、主軸１２に下端より装入されて締付ナット１８の締着により固定され、上部に液留まり１９が形成されて供給口２０より供給された原液が溜まり、底部の円周方向に一定間隔で形成された供給口２１より逐次回転円盤内に流入するようになっており、円盤内に送られた原液は、主軸１１と共に高速で回転する円盤の遠心力により円盤内を膜状に広がり、吹出口１６より吹出す加熱ガスで加熱されて円盤下端より飛ばされるようになっている。

【００１２】造粒終了後、回転円盤内をクリーニングする必要があるときには、加熱ガスを吹込んで付着物を除去する。ついで、加熱ガスの代わりに冷気を主軸を通して供給し冷却する。図３は、回転円盤がベーン型ないしピン型をなす噴霧造粒装置について示すもので、供給管１４に回転式管継手１３より回転自在に連結される中空の主軸２３には、下端の小径部にボス部を備えた円板２４と、図４及び図５に詳細に示されるように、吹出口２５を９０°ごと形成した座金２６が嵌挿されて締付けナット２７の締着により固定され、円板２４上には主軸２３より大径の透孔２８を備え、円板２４と共に回転円盤を構成する環状の円板２９が適宜数（通常は４ケ以上）適宜な間隔で設けたスペーサ３０を介して固定されている。

【００１３】主軸２３にはまた、その下端部に上下の円板間に開口する吹出口３１を９０° ごと水平に形成し、またその下方に座金２６を吹出口２５に連通する吹出口３２を形成している。本装置は以上のように構成され、主軸２３との間の円板２９の開口部２８より供給された原液は、主軸２３と共に高速で回転する円盤の回転に伴い、円板２４上を膜状に広がって、スペーサ間より飛ばされるが、円板内に供給されてから飛ばされるまでの間、吹出口３１より吹出す加熱ガスにより直接加熱され、また座金２６の吹出口２５より吹出す加熱ガスで円板２４を介して間接加熱されるようになっている。

【００１４】

【考案の効果】

本考案の回転円板式噴霧造粒装置は以上のように構成され、回転円盤内に供給され、回転円盤内に滞留する噴霧直前の原液を直接加熱できるため、熱効率が向上して必要最小限の加熱ガスで原液を加熱できるようになり、冷却雰囲気への温風による影響が少なくなって温度管理が容易となる。しかも高粘度液の場合、直接加熱により、粘度が十分に維持され、流動性を保つことができるようになるため、綿状物の発生を抑制できるようになる。また円盤内部を直接加熱できるため、噴霧前の円盤の加熱及び噴霧後の円盤内付着物の除去、除去後の冷却等が容易にできる。

【００１５】また吹出口を放射状に多数設けるか、或いはスリット状にすることによって円盤内全周を均一にくまなく加熱することができる。また回転円盤の場合、吹出口を回転円盤内と回転円盤下に設けることよって原液を直接加熱及び間接加熱することができ、熱効率がより向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】回転円盤が椀型をなす従来例の概略的な断面
図。

【図２】回転円盤が椀型をなす本考案に係る回転円盤
式噴霧造粒装置の断面図。

【図３】回転円盤がベーン型ないしピン型をなす同装
置の断面図。

【図４】図３に用いられる座金の拡大断面図。

【図５】同座金の平面図。

【符号の説明】

１２、２３・・・主軸１３・・・回転式
管継手１４・・・供給管１６、２５、３
１、３２・・・吹出口１７・・・回転円盤２０、２１・・・
供給口２４、２９・・・円板２６・・・座金

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】造粒塔と、加熱ガスの供給管に回転式管
継手を介して回転自在に接続されると共に、下端に加熱
ガスの吹出口を有し、モータによって回転駆動される中
空の主軸と、造粒塔内の主軸の下端部に吹出口が内側に
開口するようにして固着され、原液の供給口を備えた椀
型、ベーン型ないしピン型等の構造を有する回転円盤と
よりなる回転円盤式噴霧造粒装置。
【請求項２】噴出口は放射状に多数設けられるか、或
いはスリット状に形成される請求項１記載の回転円盤式
噴霧造粒装置。
【請求項３】吹出口と同一円周上に形成される請求項
２記載の回転円盤式噴霧造粒装置。
【請求項４】吹出口は異なった円周上に形成される請
求項２記載の回転円盤式噴霧造粒装置。
【請求項５】回転円盤がベーン型ないしピン型で、吹
出口が回転円盤内と回転円盤下に開口する請求項１また
は２のいづれかの請求項に記載の回転円盤式噴霧造粒装
置。