JPH06347637A - 印刷方法 - Google Patents

印刷方法

Info

Publication number
JPH06347637A
JPH06347637A JP14197693A JP14197693A JPH06347637A JP H06347637 A JPH06347637 A JP H06347637A JP 14197693 A JP14197693 A JP 14197693A JP 14197693 A JP14197693 A JP 14197693A JP H06347637 A JPH06347637 A JP H06347637A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface tension
ink
printing
critical surface
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14197693A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Tabayashi
勲 田林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP14197693A priority Critical patent/JPH06347637A/ja
Publication of JPH06347637A publication Critical patent/JPH06347637A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ink Jet (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 (1)仕切パタンの臨界表面張力と間隙の被
印刷面の臨界表面張力との間の表面張力を有する印刷イ
ンキで印刷する。 (2)仕切の臨界表面張力が35ダイン未満で、間隙の
被印刷面の臨界表面張力が35ダイン以上で、インキの
表面張力が仕切と間隙の被印刷面の臨界表面張力から5
ダイン以上の差を有する。 (3)仕切はフッ素系撥水・撥油剤を含有する。 (4)カラーパタンは液晶用カラーフィルターである。 (5)カラーパタン印刷方法はインクジェット記録方法
である。 【効果】 仕切パタンによって確実にインキがはじか
れ、かつ光透過部の基板に確実にインキが濡れて、均一
な光透過性が得られ、かつ隣合う光透過部分への滲みが
少ない、欠陥画素のないカラーフィルターパターン印刷
が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカラーパターンの印刷方
法に関し、更に詳しくは、液晶等の表示素子製造のため
に用いるカラーフィルターの印刷方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶等の表示素子用カラーフィルタは、
透明基板上にR(赤)、G(緑)、B(青)の3原色画
素パターンを形成することにより得られる。
【0003】3原色画素パターンの形成法としては、従
来フォトリソグラフ法で形成したパターンを染色によっ
て得る方法やパターンニングした電極を利用した電着法
が一般的であるが、工程が複雑で製造コストがかかると
いう欠点を有していた。
【0004】低コストの製造方法として、従来からの印
刷版を用いた印刷法やインクジェット法などが知られて
いるが、印刷時の画素の広がりを防ぎ、パターン精度を
向上させる工夫が必要である。具体的には、特開昭59
−75205号公報に、濡れ性の悪い拡散防止パターン
と濡れ性の良い材料からなる色素で光透過部をインクジ
ェット法を用いて印刷する方法が提案されているが、開
示内容では十分な精度のカラーパターン印刷は得られな
かった。また、特開昭62−106407号公報に、イ
ンキとして仕切壁に対して濡れ難いインキが提案されて
いるが、同様に開示内容では十分な精度のカラーパター
ン印刷は不十分であった。更に、特開平4−12300
5号公報、特開平4−123006号公報及び特開平4
−123007号公報には、感光層とシリコーンゴム層
を積層させて露光・現像により撥水、撥油層を選択的に
形成し、滲みの少ない印刷を可能にする方法が提案され
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来技術の方法
では、仕切パターン(ブラックマトリックス)と印刷イ
ンキの組み合わせによっては、滲みによる印刷精度が不
十分であったり、部分的なインキの濡れ不足による欠陥
画素が生じるという欠点を有していた。
【0006】本発明が解決しようとする課題は、仕切に
よって確実にインキがはじかれ、かつ、透過部の基板に
確実にインキが濡れて滲みが少なく、かつ欠陥画素が少
ない印刷方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明を解
決するに至った。
【0008】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、下記の印刷方法を提供する。 (1)仕切パターンの間隙にカラーパターンを印刷する
方法において、仕切パターンの臨界表面張力と間隙の被
印刷面の臨界表面張力の間の表面張力の印刷インキで印
刷することを特徴とする印刷方法。
【0009】(2)仕切パターンの臨界表面張力が35
ダイン未満で、間隙の被印刷面の臨界表面張力が35ダ
イン以上で、インキの表面張力が仕切と間隙の被印刷面
の臨界表面張力から5ダイン以上の差を有することを特
徴とする前記(1)の印刷方法。
【0010】(3)仕切パターンがフッ素系撥水・撥油
剤を含有することを特徴とする前記(1)又は(2)の
印刷方法。
【0011】(4)カラーパターンが液晶用カラーフィ
ルターであることを特徴とする前記(1)、(2)又は
(3)の印刷方法。
【0012】(5)カラーパターン印刷方法がインクジ
ェット記録方法であることを特徴とする前記(1)、
(2)、(3)又は(4)の印刷方法。
【0013】本発明の方法によれば、仕切パターンの臨
界表面張力と、仕切で囲まれた間隙(光透過部)の臨界
表面張力との間の表面張力を有するインキを用いて印刷
することにより、光透過部である仕切に囲まれた間隙を
確実に印刷することが可能となる。
【0014】仕切の臨界表面張力が35ダイン未満で、
間隙の被印刷面の臨界表面張力が35ダイン以上で、イ
ンキの表面張力が仕切と間隙の被印刷面の臨界表面張力
から5ダイン以上の差を有する時、滲みもなく、また斑
のない均一な画素が得られる。
【0015】仕切パターンは、グラビア印刷法、フォト
レジスト法、熱転写法等公知の方法によって製作可能で
あるが、本発明の印刷方法に用いる仕切パターンを形成
するバインダーの選択には、なるべく低極性の樹脂が好
ましい。フォトレジスト法による仕切製造法では、一般
的なフォトレジストでも使用可能であるが、より臨界表
面張力を低下させるために、感光層とシリコーンゴム層
を積層させて露光・現像により撥水、撥油層を選択的に
形成する方法か、あるいは前もってレジスト中にフッ素
系あるいはシリコーン系の撥水又は撥油剤を添加させて
もよい。
【0016】仕切用樹脂としては、具体的に以下のもの
があるが、これらに限られたものではなく、撥インキ性
の点から臨界表面張力はなるべく低い方が好ましい。
【0017】
【表1】
【0018】これら樹脂は1種類以上の組み合わせで用
いられ、場合により35ダイン/cm以上の臨界表面張力
を有する樹脂を組み合わすこともできる。
【0019】また、樹脂だけで臨界表面張力が高く、撥
インキ性が不十分な場合には、シリコーンやフッ素系の
撥水・撥油剤の添加により臨界表面張力を下げても良
い。
【0020】仕切の着色には、カーボンブラック、チタ
ンブラックの如き顔料や黒色染料などの黒色着色剤が使
用できる。
【0021】35ダイン/cm以上の樹脂を組み合わせた
り、着色したりする場合は、仕切壁形成後の臨界表面張
力が35ダイン/cm未満である方が好ましい。
【0022】仕切で囲まれた間隙(光透過部)の臨界表
面張力が35ダイン以上の材料は、少なくともインキと
接触する表面にあればよく、具体的には下記表2のもの
が挙げられ、最も好ましい光透過部材としては、透明
性、均一性の点からガラスであるが、これらに限られた
ものではない。
【0023】
【表2】
【0024】本印刷法のインキは、水性・油性インキど
ちらでも使用可能であるが、仕切と間隙の被印刷面の臨
界表面張力から5ダイン以上の差を有するインキ組成で
ある必要がある。即ち、仕切の臨界表面張力から5ダイ
ン以上の差がない表面張力のインキの場合には、仕切の
仕切効果が悪く、隣合う他の間隙にインキが流れ込み易
く、また逆に間隙の被印刷面の臨界表面張力から5ダイ
ン以内の表面張力のインキの場合には、間隙の濡れが不
十分となり、印刷の均一性が失われてしまう。また、こ
れらインキ組成は、すでに公知のものが使用可能であ
る。
【0025】本発明の印刷方法で使用し得る水性インキ
は、水を主体に、着色剤、水溶性樹脂を含有し、必要に
応じて水溶性有機溶剤や各種助剤類を含有する。
【0026】着色剤としては、顔料と水溶性染料とがあ
り、水溶性染料としては酸性染料、塩基性染料、直接染
料、反応性染料、分散染料、食品用色素等の中から選択
できる。顔料としては、例えば、モノアゾ系、ジスアゾ
系、フタロシアニン系、キナクリドン系等の有機顔料が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0027】上記水性インキの水溶性有機溶媒は、水分
蒸発に伴うノズル目詰まりを防ぎ、仕切で囲まれた間隙
(光透過部)へのインキの濡れを均一にし、蒸発を遅延
させてインキ皮膜の均一化を図る目的で使用されてもよ
く、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、グリセリンのごとき
グリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニ
ルエーテルのごときグリコールエーテル類;N−メチル
−2−ピロリドンのごときピロリドン類;トリエタノー
ルアミンのごときアルカノールアミン類;メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコールのごときアルコー
ル類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【0028】これらの水溶性有機溶媒は、フィルター媒
体上での乾燥性、ノズル目詰まり、染料溶解性、顔料分
散性などを考慮して、適宜単独若しくは複数を組合せて
使用でき、インク組成物中の使用量はできるだけ少ない
方が望ましい。
【0029】水は、染料の溶解安定性のため、インクジ
ェット記録では重金属イオンによるノズルの目詰りを防
止するために、イオン交換水以上の純度のものを用いる
必要がある。
【0030】上記水性インキの水溶性樹脂は、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、カゼ
イン、グリュー、ポリアクリル酸、セラック、スチレン
−アクリル酸共重合物、スチレン−無水マレイン酸共重
合物、グリシジルメタクリレート−アクリル酸共重合物
等のアンモニウム塩、アルカリ金属塩や、ポリアミンス
ルフォン、ポリビニルアミン、ポリビニルピリジン、ポ
リエチレンイミン、ポリエチレンイミン−エピクロルヒ
ドリン反応物、ポリアミド−ポリアミン樹脂又はそれら
の酸中和物等の他、光硬化型の感光性の樹脂やオリゴマ
ー、モノマーがあり、具体的には、ゼラチン・カゼイン
・グリュー系などの水溶性樹脂をベースとした感光性樹
脂、グリコールやカルボン酸塩などの水溶性基が導入さ
れたグリシジルメタクリレート、セルロース誘導体、ポ
リウレタンポリメタアクリレート誘導体ながあるがある
がこれらに限られたものではない。
【0031】助剤としては、アルカリ金属の水酸化物
や、アルカノールアミンのようなpH調整剤、防菌・防
黴剤、金属封鎖剤、顔料分散剤、界面活性剤等を必要に
応じて使用してもよい。
【0032】本発明の印刷方法で使用し得る油性インキ
の表面張力は、界面活性剤を使用しない場合、使用する
有機溶剤の表面張力とほぼ等しく、そのため有機溶剤と
しては、仕切と間隙の被印刷面の臨界表面張力から5ダ
イン以上の差を有する表面張力を示すものが必要であ
り、具体的にはメタノール、エタノール、プロパノール
等の脂肪族アルコール類、ジメチルケトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、グリコール類、グリコールエー
テル類、グリコールエステル類、アミド類、アミノアル
コール類、モルホリン、ピリジン等の含窒素化合物等が
挙げられ、二種類以上組合わせて使用することも可能で
ある。しかし、表面張力の小さい脂肪族炭化水素化合物
やナフテン系炭化水素、フッ素系溶剤、シリコーン系溶
剤等の低極性溶剤は仕切への濡れが良すぎることから好
ましくない。
【0033】上記油性インキのバインダー樹脂は、前記
有機溶剤に可溶であれば、特に制限無く使用することが
できる。具体的には、アクリル樹脂、スチレンアクリル
樹脂、フェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、変性エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、塩酢
ビ系樹脂、石油系樹脂、ロジンエステル等が挙げられる
が、これらに限定されるものではなく、また同時に2種
類以上混合して使用することもできる。
【0034】上記油性インキの着色剤としては、従来各
種の着色分野で使用されているモノアゾ系、ジスアゾ
系、金属錯塩系、アントラキノン系、フタロシアニン
系、トリアリルメタン系等の油溶性染料、カーボンブラ
ック、酸化チタン、亜鉛華、硫化亜鉛等の無機顔料、モ
ノアゾ系、ジスアゾ系、フタロシアニン系、キナクリド
ン系等の有機顔料が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。
【0035】上記油性インキで印刷されたインキ皮膜の
密着性を高めるために、当該インキにフタル酸エステ
ル、セバシン酸エステル、ステアリン酸エステル、リン
酸エステル、クエン酸エステル、アジピン酸エステル、
マレイン酸エステル、トリメリット酸エステル等の可塑
剤を使用しても良い。
【0036】カラーパターンが液晶用カラーフィルター
である時、本発明の印刷方法は最もその効果を示す。
【0037】カラーパターン印刷方法がインクジェット
記録方法である印刷方法は、印刷精度やコスト的に有利
な方法である。インクジェット記録法では、一般にノズ
ル径に近い液滴が噴射され、かつ被印刷面上でさらにド
ットが広がるため、使用するインクジェット記録装置の
ノズル径はカラーパターンの間隙(光透過部)の大きさ
よりも小さい必要がある。
【0038】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。以下の実施例中、「部」は『重量部』を表わ
す。
【0039】(インキ例1)顔料(R:ブリリアントカ
ーミン6B、G:フタロシアニングリーン、B:フタロ
シアニンブルー)8部、樹脂(ポリビニルピロリドン、
K値=15)5部、ジエチレングリコール1部、「ソル
スパーズ27000」(ICI社製分散剤)1部、エタ
ノール10部、イオン交換水75部を混合し、ボールミ
ルにて24時間分散した後、0.5ミクロンメンブラン
フィルターを用いて濾過を行ない、各々RGBのジェッ
トプリンター用インキを得た。このときインキの表面張
力は、3色とも43ダインであった。
【0040】(インキ例2)染料(R:C.I.ソルベ
ントレッド132、G:C.I.ソルベントブルー67
とソルベントイエロー89との混合物、B:C.I.ソ
ルベントブルー67)4部、ダイナールBR−113
(三菱レーヨン(株)製アクリル樹脂、分子量約3000
0)12.0部、KR−216(信越化学工業(株)製シ
リコーン樹脂、重合度約300)2.0部、エピクロン
1050(大日本インキ化学工業(株)製エポキシ樹脂)
4.0部、セバシン酸ジエチル1.5部、メチルエチル
ケトン54.5部、メタノール18.0部を十分に撹
拌、溶解した後、この溶液を0.5ミクロンメンブラン
フィルターを用いて濾過を行ない、各々RGBのジェッ
トプリンター用インキを得た。このときインキの表面張
力は、3色とも27ダインであった。
【0041】(実施例1)臨界表面張力55ダインのガ
ラス上に、レジスト法により臨界表面張力24ダインの
シリコーン樹脂からなる線幅20ミクロン、ピッチ11
0ミクロン、厚さ2ミクロンの仕切パターンを形成し
た。次に、60ミクロンのノズル径のコンティニュアス
式インクジェット記録装置を用いて、仕切で囲まれた光
透過部分にRGBの順に交互に上記インキ例1の表面張
力44ダインの水性インキで印刷を行った結果、光透過
部分が均一でかつ隣合う光透過部分へのブリードのない
カラーフィルターが得られた。
【0042】(比較例1)臨界表面張力55ダインのガ
ラス上に、レジスト法により臨界表面張力43ダインの
ポリエチレンテレフタレートからなる線幅20ミクロ
ン、ピッチ110ミクロン、厚さ2ミクロンの仕切パタ
ーンを形成した。次に、60ミクロンのノズル径のコン
ティニュアス式インクジェット記録装置を用いて仕切で
囲まれた光透過部分にRGBの順に交互に上記インキ例
1の表面張力44ダインの水性インキで印刷を行った結
果、得られたカラーフィルターは光透過部分が一部不均
一でかつ隣合う光透過部分へのブリードが一部に見られ
た。
【0043】(実施例2)臨界表面張力43ダインのマ
イラー(ポリエチレンテレフタレート)上に、レジスト
法により臨界表面張力18ダインのフッ素系撥油剤を含
有するポリ1,2−ブタジエン樹脂からなる線幅10ミ
クロン、ピッチ60ミクロン、厚さ2ミクロンの仕切パ
ターンを形成し、30ミクロンのノズル径のコンティニ
ュアス式インクジェット記録装置を用いて、仕切で囲ま
れた光透過部分にRGBの順に交互に上記インキ例2の
表面張力が27ダインの油性インキで印刷を行った結
果、光透過部分が均一でかつ隣合う光透過部分へのブリ
ードのないカラーフィルターが得られた。
【0044】(比較例1)臨界表面張力43ダインのマ
イラー(ポリエチレンテレフタレート)上に、レジスト
法により臨界表面張力28ダインのポリジメチルシロキ
サン(シリコーン樹脂)からなる線幅10ミクロン、ピ
ッチ60ミクロン、厚さ2ミクロンの仕切パターンを形
成した。次に、30ミクロンのノズル径のコンティニュ
アス式インクジェット記録装置を用いて、仕切で囲まれ
た光透過部分にRGBの順に交互に上記インキ例2の表
面張力27ダインの油性インキで印刷を行った結果、得
られたカラーフィルターは光透過部分は均一であるが、
隣合う光透過部分へのブリードが一部に見られた。
【0045】
【発明の効果】本発明の印刷方法によれば、仕切パター
ンによって確実にインキがはじかれ、かつ光透過部の基
板に確実にインキが濡れて、均一な光透過性が得られ、
かつ隣合う光透過部分への滲みが少ない、欠陥画素のな
いカラーフィルターパターン印刷が得られる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 仕切パターンの間隙にカラーパターンを
    印刷する方法において、仕切パターンの臨界表面張力と
    間隙の被印刷面の臨界表面張力との間の表面張力を有す
    る印刷インキを用いて印刷することを特徴とする印刷方
    法。
  2. 【請求項2】 仕切パターンの臨界表面張力が35ダイ
    ン未満で、間隙の被印刷面の臨界表面張力が35ダイン
    以上で、かつ、インキの表面張力が仕切パターン及び間
    隙の被印刷面の臨界表面張力から5ダイン以上の差を有
    することを特徴とする請求項1記載の印刷方法。
  3. 【請求項3】 仕切パターンがフッ素系撥水・撥油剤を
    含有することを特徴とする請求項2記載の印刷方法。
  4. 【請求項4】 カラーパターンが液晶用カラーフィルタ
    ーであることを特徴とする請求項1、2又は3記載の印
    刷方法。
  5. 【請求項5】 カラーパターン印刷方法がインクジェッ
    ト記録方法であることを特徴とする請求項1、2、3又
    は4記載の印刷方法。
JP14197693A 1993-06-14 1993-06-14 印刷方法 Pending JPH06347637A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14197693A JPH06347637A (ja) 1993-06-14 1993-06-14 印刷方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14197693A JPH06347637A (ja) 1993-06-14 1993-06-14 印刷方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06347637A true JPH06347637A (ja) 1994-12-22

Family

ID=15304505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14197693A Pending JPH06347637A (ja) 1993-06-14 1993-06-14 印刷方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06347637A (ja)

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5691011A (en) * 1996-06-14 1997-11-25 The Dow Chemical Company Dispersion-preventing pattern for liquid crystal display device
EP0823644A3 (en) * 1996-08-08 1998-07-15 Canon Kabushiki Kaisha Production processes of color filter and liquid crystal display device
US5817441A (en) * 1996-08-07 1998-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Process for preparation of color filter and liquid crystal display device
US5888679A (en) * 1997-03-27 1999-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Production process of color filter, color filter produced thereby and liquid crystal display device using such color filter
WO1999048339A1 (en) * 1998-03-17 1999-09-23 Seiko Epson Corporation Substrate for patterning thin film and surface treatment thereof
US6022647A (en) * 1997-10-24 2000-02-08 Canon Kabushiki Kaisha Method for making color filter substrate, color filter substrate produced by the method, and liquid crystal device using the substrate
JP2000106278A (ja) * 1997-09-02 2000-04-11 Seiko Epson Corp 有機el素子の製造方法及び有機el素子
WO2001030585A1 (en) * 1999-10-29 2001-05-03 3M Innovative Properties Company Donor sheet and color filter, and organic el device and method for producing them
JP2003077652A (ja) * 2001-08-31 2003-03-14 Dainippon Printing Co Ltd エレクトロルミネッセント素子の製造方法
JP2004031361A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004031362A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004031360A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004031363A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004055555A (ja) * 1997-09-02 2004-02-19 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004146388A (ja) * 1997-08-21 2004-05-20 Seiko Epson Corp 有機半導体膜の形成方法、及びアクティブマトリクス基板の製造方法
US6743556B2 (en) 2001-08-09 2004-06-01 Creo Srl Method for accurate placement of fluid materials on a substrate
US6746102B2 (en) 2000-08-03 2004-06-08 Creo Srl Method and apparatus for fabrication of color filters
JP2004518298A (ja) * 2001-01-24 2004-06-17 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 基板上に細条を設ける方法
US6887631B2 (en) * 2001-06-01 2005-05-03 Seiko Epson Corporation Color filter and electro-optical device
WO2005096684A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Zeon Corporation 回路基板、回路基板の製造方法及び回路基板を備えた表示装置
JP2006028405A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
JP2006265474A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2007026976A (ja) * 2005-07-20 2007-02-01 Toppan Printing Co Ltd 印刷物及びその製造方法
JP2007256699A (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
WO2007122932A1 (ja) 2006-03-23 2007-11-01 Zeon Corporation ノルボルネン化合物付加重合体フィルム、その製造方法及びその用途
CN100375239C (zh) * 2003-08-08 2008-03-12 精工爱普生株式会社 抗蚀剂图案及配线图案的形成方法、半导体装置的制造法
JPWO2006041027A1 (ja) * 2004-10-13 2008-05-15 シャープ株式会社 機能基板
KR100850757B1 (ko) * 2007-06-14 2008-08-06 삼성전기주식회사 기판의 표면처리방법 및 미세배선 형성방법
US7514187B2 (en) 1998-12-21 2009-04-07 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor
US7732003B2 (en) 2003-08-08 2010-06-08 Seiko Epson Corporation Bank forming method, wiring pattern forming method, electro-optical device, and electronic apparatus
JP2010524030A (ja) * 2007-04-05 2010-07-15 エルジー・ケム・リミテッド カラーフィルタの製造方法およびこれによって製造されたカラーフィルタ
US8040470B2 (en) 2005-12-16 2011-10-18 Fujifilm Corporation Method for producing partition wall for color filter, substrate with partition wall for color filter, color filter for display element, and display device
US8349392B2 (en) * 2007-10-09 2013-01-08 Toppan Printing Co., Ltd. Printed material and manufacturing method thereof
US8815477B2 (en) 2008-05-28 2014-08-26 Toppan Printing Co., Ltd. Color filter manufacturing method, patterned substrate manufacturing method, and small photomask
CN115989088A (zh) * 2020-09-03 2023-04-18 株式会社大塚制药工场 印刷基材及其制造方法

Cited By (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5691011A (en) * 1996-06-14 1997-11-25 The Dow Chemical Company Dispersion-preventing pattern for liquid crystal display device
US5817441A (en) * 1996-08-07 1998-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Process for preparation of color filter and liquid crystal display device
EP0823644A3 (en) * 1996-08-08 1998-07-15 Canon Kabushiki Kaisha Production processes of color filter and liquid crystal display device
US6042974A (en) * 1996-08-08 2000-03-28 Canon Kabushiki Kaisha Production processes of color filter and liquid crystal display device
US5888679A (en) * 1997-03-27 1999-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Production process of color filter, color filter produced thereby and liquid crystal display device using such color filter
JP2004146388A (ja) * 1997-08-21 2004-05-20 Seiko Epson Corp 有機半導体膜の形成方法、及びアクティブマトリクス基板の製造方法
JP2004031360A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2000106278A (ja) * 1997-09-02 2000-04-11 Seiko Epson Corp 有機el素子の製造方法及び有機el素子
JP2004055555A (ja) * 1997-09-02 2004-02-19 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004031363A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004031361A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
JP2004031362A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法
US6022647A (en) * 1997-10-24 2000-02-08 Canon Kabushiki Kaisha Method for making color filter substrate, color filter substrate produced by the method, and liquid crystal device using the substrate
JP2006086128A (ja) * 1998-03-17 2006-03-30 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法
US7273801B2 (en) 1998-03-17 2007-09-25 Seiko Epson Corporation Method of forming thin film patterning substrate including formation of banks
US7442955B2 (en) 1998-03-17 2008-10-28 Seiko Epson Corporation Method of forming thin film patterning substrate including formation of banks
US7214959B2 (en) 1998-03-17 2007-05-08 Seiko Epson Corporation Method of forming thin film patterning substrate including formation of banks
CN1293784C (zh) * 1998-03-17 2007-01-03 精工爱普生株式会社 薄膜构图衬底、薄膜形成方法和薄膜元件
WO1999048339A1 (en) * 1998-03-17 1999-09-23 Seiko Epson Corporation Substrate for patterning thin film and surface treatment thereof
US7015503B2 (en) 1998-03-17 2006-03-21 Seiko Epson Corporation Method of forming thin film patterning substrate including formation of banks
US7932518B2 (en) 1998-03-17 2011-04-26 Seiko Epson Corporation Method of forming thin film patterning substrate including formation of banks
US7514187B2 (en) 1998-12-21 2009-04-07 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor
US7704650B2 (en) 1999-10-29 2010-04-27 3M Innovative Properties Company Donor sheet, color filter, organic EL element and method for producing them
US7713676B2 (en) 1999-10-29 2010-05-11 Seiko Epson Corporation Donor sheet, color filter, organic EL element and method for producing them
WO2001030585A1 (en) * 1999-10-29 2001-05-03 3M Innovative Properties Company Donor sheet and color filter, and organic el device and method for producing them
JP2001130141A (ja) * 1999-10-29 2001-05-15 Three M Innovative Properties Co ドナーシートならびにカラーフィルタ、有機el素子及びそれらの製造方法
US6746102B2 (en) 2000-08-03 2004-06-08 Creo Srl Method and apparatus for fabrication of color filters
JP2004518298A (ja) * 2001-01-24 2004-06-17 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 基板上に細条を設ける方法
US6887631B2 (en) * 2001-06-01 2005-05-03 Seiko Epson Corporation Color filter and electro-optical device
US7282843B2 (en) 2001-06-01 2007-10-16 Seiko Epson Corporation Electro-optical display having an arrangement of active and dummy coloring pixels performing as a color filter element
US6743556B2 (en) 2001-08-09 2004-06-01 Creo Srl Method for accurate placement of fluid materials on a substrate
JP2003077652A (ja) * 2001-08-31 2003-03-14 Dainippon Printing Co Ltd エレクトロルミネッセント素子の製造方法
US7732003B2 (en) 2003-08-08 2010-06-08 Seiko Epson Corporation Bank forming method, wiring pattern forming method, electro-optical device, and electronic apparatus
CN100375239C (zh) * 2003-08-08 2008-03-12 精工爱普生株式会社 抗蚀剂图案及配线图案的形成方法、半导体装置的制造法
WO2005096684A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Zeon Corporation 回路基板、回路基板の製造方法及び回路基板を備えた表示装置
JP2006028405A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
JPWO2006041027A1 (ja) * 2004-10-13 2008-05-15 シャープ株式会社 機能基板
JP5105877B2 (ja) * 2004-10-13 2012-12-26 シャープ株式会社 機能基板
US7910271B2 (en) 2004-10-13 2011-03-22 Sharp Kabushiki Kaisha Functional substrate
JP2006265474A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2007026976A (ja) * 2005-07-20 2007-02-01 Toppan Printing Co Ltd 印刷物及びその製造方法
US8040470B2 (en) 2005-12-16 2011-10-18 Fujifilm Corporation Method for producing partition wall for color filter, substrate with partition wall for color filter, color filter for display element, and display device
WO2007122932A1 (ja) 2006-03-23 2007-11-01 Zeon Corporation ノルボルネン化合物付加重合体フィルム、その製造方法及びその用途
JP2007256699A (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP2010524030A (ja) * 2007-04-05 2010-07-15 エルジー・ケム・リミテッド カラーフィルタの製造方法およびこれによって製造されたカラーフィルタ
US8597861B2 (en) 2007-04-05 2013-12-03 Lg Chem, Ltd. Method for manufacturing color filter and color filter manufactured by using the same
KR100850757B1 (ko) * 2007-06-14 2008-08-06 삼성전기주식회사 기판의 표면처리방법 및 미세배선 형성방법
US8349392B2 (en) * 2007-10-09 2013-01-08 Toppan Printing Co., Ltd. Printed material and manufacturing method thereof
US8815477B2 (en) 2008-05-28 2014-08-26 Toppan Printing Co., Ltd. Color filter manufacturing method, patterned substrate manufacturing method, and small photomask
CN115989088A (zh) * 2020-09-03 2023-04-18 株式会社大塚制药工场 印刷基材及其制造方法
US12319077B2 (en) 2020-09-03 2025-06-03 Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. Printed base material and method for producing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06347637A (ja) 印刷方法
US7846247B2 (en) Ink set for ink jet recording and ink jet recording method
US6270930B1 (en) Production apparatus and production process for color filter, and liquid crystal display device using color filter produced thereby
US10100214B2 (en) Ink composition for ink jet
JP3208774B2 (ja) カラーインクジェット記録方法
JPH0341171A (ja) インクジェット記録方式を用いたカラー印刷方法
EP0864437B1 (en) Color recording liquids, cartridges, recording methods and devices
JPH11216851A (ja) バーコード印刷方法および印刷物
US6051628A (en) Water-resistant ink jet ink
JP2001288393A (ja) 記録用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、液晶ディスプレイパネルの製造方法、液晶ディスプレイパネル、及び黄色インク
KR20080033029A (ko) 침투방지제, 침투방지방법 및 용제잉크
JPH0892513A (ja) カラーインクジェットインク及び記録方法
KR20120093136A (ko) 잉크, 반전 인쇄법, 액정 컬러 필터 및 액정 컬러 필터 제조 방법
WO2001022127A1 (en) Dye compositions and uses
JP2002302629A (ja) インクジェット用非水系顔料インク
JP6119737B2 (ja) ディスプレイ用カラーフィルタ
JPS637956B2 (ja)
US12305052B2 (en) Ink set, recording method, and recording device
JP2003012982A (ja) インク組成物
JP2002201389A (ja) インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法
JP2025121025A (ja) 昇華転写用インクジェットインクセット、及びインクジェット記録方法
JP4466219B2 (ja) カラーフィルタの製造方法とこの製造方法よりなるカラーフィルタ
JP2001214096A (ja) 記録用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルタの製造方法、被膜性インク、液晶ディスプレイパネルの製造方法、及び、液晶ディスプレイパネル
JP2000009920A (ja) 表示装置用カラーフィルタ及び表示装置
JPH07305007A (ja) インクジェット用水性分散インク及びその製造方法