JPH063496A - 放射光発生装置 - Google Patents
放射光発生装置Info
- Publication number
- JPH063496A JPH063496A JP16455792A JP16455792A JPH063496A JP H063496 A JPH063496 A JP H063496A JP 16455792 A JP16455792 A JP 16455792A JP 16455792 A JP16455792 A JP 16455792A JP H063496 A JPH063496 A JP H063496A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- magnetic field
- synchrotron radiation
- deflected
- deflection electromagnet
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Abstract
(57)【要約】
【構成】放射光発生装置は、部分的に磁場強度の異なる
偏向電磁石２、偏向電磁石の２極間に位置し電子ビーム
を入出射するためのビームダクト５，６と複数の放射光
取り出し口７を有する真空容器３から構成される。本発
明の放射光発生装置に入射した電子ビームは磁場強度分
布の影響で軌道半径を変えながら３６０°またはその整
数倍に近い偏向を受けた後に出射する。 【効果】放射光発生装置に入射した電子ビームはほぼ３
６０°の整数倍の偏向を受けて出射するため、放射光発
生部である偏向部を増すために追加しなければならない
磁石の台数は最小限になる。
偏向電磁石２、偏向電磁石の２極間に位置し電子ビーム
を入出射するためのビームダクト５，６と複数の放射光
取り出し口７を有する真空容器３から構成される。本発
明の放射光発生装置に入射した電子ビームは磁場強度分
布の影響で軌道半径を変えながら３６０°またはその整
数倍に近い偏向を受けた後に出射する。 【効果】放射光発生装置に入射した電子ビームはほぼ３
６０°の整数倍の偏向を受けて出射するため、放射光発
生部である偏向部を増すために追加しなければならない
磁石の台数は最小限になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工業用の放射光発生装
置に係り、特に、多数の放射光光源が必要な放射光発生
施設に関する。
置に係り、特に、多数の放射光光源が必要な放射光発生
施設に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の放射光発生施設では電子蓄積リン
グの偏向部から放射光を取り出すので、放射光光源とな
る偏向部の角度の総和は３６０°であり、偏向部を増す
ための装置は特開平1−186798 号公報に示されるよう
に、複数台の偏向電磁石を追加する。
グの偏向部から放射光を取り出すので、放射光光源とな
る偏向部の角度の総和は３６０°であり、偏向部を増す
ための装置は特開平1−186798 号公報に示されるよう
に、複数台の偏向電磁石を追加する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の放射光発生施設
では放射光光源となる偏向部は軌道半径が一定の偏向電
磁石を用いており、各偏向部での偏向角は３６０°より
も小さくなければならない。従って、一平面内で偏向部
の総偏向角を３６０°よりも大きくするには最低二台の
極性の異なる偏向電磁石を追加しなければならなかっ
た。
では放射光光源となる偏向部は軌道半径が一定の偏向電
磁石を用いており、各偏向部での偏向角は３６０°より
も小さくなければならない。従って、一平面内で偏向部
の総偏向角を３６０°よりも大きくするには最低二台の
極性の異なる偏向電磁石を追加しなければならなかっ
た。
【０００４】本発明の目的は、放射光発生部を増すため
に追加する偏向電磁石の台数を最低限にすることができ
る放射光発生装置を提供することにある。
に追加する偏向電磁石の台数を最低限にすることができ
る放射光発生装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、磁場強
度を部分的に変えた偏向電磁石、及び、入射した電子ビ
ームが偏向電磁石中で軌道半径を変えながら３６０°ま
たはその整数倍に近い偏向を受けて出射するように入出
射部を設けることにある。本発明の目的は、最小の台数
の電磁石の追加で放射光発生部を増すことができる放射
光発生装置を提供することにある。
度を部分的に変えた偏向電磁石、及び、入射した電子ビ
ームが偏向電磁石中で軌道半径を変えながら３６０°ま
たはその整数倍に近い偏向を受けて出射するように入出
射部を設けることにある。本発明の目的は、最小の台数
の電磁石の追加で放射光発生部を増すことができる放射
光発生装置を提供することにある。
【０００６】
【作用】本発明の放射光発生装置で用いる偏向電磁石に
入射した電子ビームは、部分的に変化する磁場強度分布
によって偏向電磁石中で軌道半径を変えながら旋回す
る。この電子ビームが３６０°またはその整数倍に近い
偏向を受けたところで出射するように出射部を設けるこ
とによって最低一台の電磁石の追加で放射光発生部を増
すことができる。
入射した電子ビームは、部分的に変化する磁場強度分布
によって偏向電磁石中で軌道半径を変えながら旋回す
る。この電子ビームが３６０°またはその整数倍に近い
偏向を受けたところで出射するように出射部を設けるこ
とによって最低一台の電磁石の追加で放射光発生部を増
すことができる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。図１は本発明の放射光発生装置の真空容器３を上か
ら見た断面図であり、電子ビーム軌道１も併わせて示し
てある。図２は本発明の放射光発生装置に用いる偏向電
磁石の単磁極形状の例である。
る。図１は本発明の放射光発生装置の真空容器３を上か
ら見た断面図であり、電子ビーム軌道１も併わせて示し
てある。図２は本発明の放射光発生装置に用いる偏向電
磁石の単磁極形状の例である。
【０００８】図１に示した本発明の放射光発生装置は、
部分的に磁場強度の異なる偏向電磁石２、偏向電磁石の
２極間に位置し電子ビームを入出射するためのビームダ
クト５，６と複数の放射光取り出し口７を有する真空容
器３から構成される。また、磁極中ではあるがビーム軌
道が直線でなければならない部分には磁気シールド板４
が真空容器３の上下に取付けられている。その磁極中に
入射した電子ビーム１は磁気シールド部分４を出ると偏
向電磁石２中の磁場の影響を受けて円軌道を描く。この
実施例では電子ビーム１が進行するにつれて磁場強度が
強くなるようにしてあるので、電子ビーム１の軌道半径
は次第に小さくなり、ほぼ３６０°の偏向を受けて出射
用の磁気シールド部４に到達すると磁場の影響を受けな
くなって出射用ビームダクト６から出射する。このよう
にして、一つの偏向電磁石をビームラインに挿入するこ
とにより放射光発生部を増すことができる。電子ビーム
１の偏向角は３６０°の整数倍に近ければ何度でも良
い。
部分的に磁場強度の異なる偏向電磁石２、偏向電磁石の
２極間に位置し電子ビームを入出射するためのビームダ
クト５，６と複数の放射光取り出し口７を有する真空容
器３から構成される。また、磁極中ではあるがビーム軌
道が直線でなければならない部分には磁気シールド板４
が真空容器３の上下に取付けられている。その磁極中に
入射した電子ビーム１は磁気シールド部分４を出ると偏
向電磁石２中の磁場の影響を受けて円軌道を描く。この
実施例では電子ビーム１が進行するにつれて磁場強度が
強くなるようにしてあるので、電子ビーム１の軌道半径
は次第に小さくなり、ほぼ３６０°の偏向を受けて出射
用の磁気シールド部４に到達すると磁場の影響を受けな
くなって出射用ビームダクト６から出射する。このよう
にして、一つの偏向電磁石をビームラインに挿入するこ
とにより放射光発生部を増すことができる。電子ビーム
１の偏向角は３６０°の整数倍に近ければ何度でも良
い。
【０００９】図２，図３はこのような軌道半径変化を起
こさせるための磁場分布を磁極間隔が異なる部分を作る
ことによって実現するための偏向電磁石２の磁極形状で
ある。図２は電子ビームが１８０°偏向したときに強い
磁場領域に入るものであり、図３は電子ビームの進行に
ともなって磁場強度が滑らかに強くなるものである。こ
の磁場強度分布は図１に示した電子ビーム軌道と類似の
軌道を実現できる分布であれば良い。
こさせるための磁場分布を磁極間隔が異なる部分を作る
ことによって実現するための偏向電磁石２の磁極形状で
ある。図２は電子ビームが１８０°偏向したときに強い
磁場領域に入るものであり、図３は電子ビームの進行に
ともなって磁場強度が滑らかに強くなるものである。こ
の磁場強度分布は図１に示した電子ビーム軌道と類似の
軌道を実現できる分布であれば良い。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、最小の台数の電磁石の
追加で放射光発生部を増すことができる放射光発生装置
を提供することができる。
追加で放射光発生部を増すことができる放射光発生装置
を提供することができる。
【図１】本発明の放射光発生装置の真空容器を上から見
た説明図。
た説明図。
【図２】本発明の放射光発生装置に用いる偏向電磁石の
斜視図。
斜視図。
【図３】本発明の放射光発生装置に用いる偏向電磁石の
斜視図。
斜視図。
１…電子ビーム、２…偏向電磁石、３…真空容器、４…
磁気シールド板、５…入射用ビームダクト、６…出射用
ビームダクト、７…放射光取り出し口、１０…磁場強度
変更用突出部。
磁気シールド板、５…入射用ビームダクト、６…出射用
ビームダクト、７…放射光取り出し口、１０…磁場強度
変更用突出部。
Claims (1)
- 【請求項１】電子ビームを偏向し放射光を発生させる放
射光発生装置であって、磁場強度を部分的に変えた偏向
電磁石，前記偏向電磁石の２極間に位置し複数の放射光
取り出し口を有する真空容器、前記真空容器に前記電子
ビームを入出射するためのビームダクトから構成される
装置であって、前記偏向電磁石に入射した前記電子ビー
ムが前記偏向電磁石中で部分的に異なる磁場強度の影響
で軌道半径を変えながら３６０°またはその整数倍に近
い偏向を受けて出射するように入出射部を設けることを
特徴とする放射光発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16455792A JPH063496A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 放射光発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16455792A JPH063496A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 放射光発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063496A true JPH063496A (ja) | 1994-01-11 |
Family
ID=15795432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16455792A Pending JPH063496A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 放射光発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063496A (ja) |
-
1992
- 1992-06-23 JP JP16455792A patent/JPH063496A/ja active Pending
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