JPH063518A - カラーフィルター作製法 - Google Patents
カラーフィルター作製法Info
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- JPH063518A JPH063518A JP16273992A JP16273992A JPH063518A JP H063518 A JPH063518 A JP H063518A JP 16273992 A JP16273992 A JP 16273992A JP 16273992 A JP16273992 A JP 16273992A JP H063518 A JPH063518 A JP H063518A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、生産性が高くてコストが安く、且
つクロム公害を発生しないカラーフィルターの作製法を
提案することを目的とする。 【構成】 ガラス基板上に画素間遮光部及び表示部周辺
遮光部をブラック顔料を混入したフォトレジストによっ
て形成する第１工程と、隣接する画素の色インキが画素
間遮光部で重り合うように各画素を印刷する第２工程
と、表示部周辺遮光部にブラック顔料を混入したフォト
レジストの遮光膜又は印刷による黒インキ遮光膜を重ね
る第３工程とからなるカラーフィルター作製法。
つクロム公害を発生しないカラーフィルターの作製法を
提案することを目的とする。 【構成】 ガラス基板上に画素間遮光部及び表示部周辺
遮光部をブラック顔料を混入したフォトレジストによっ
て形成する第１工程と、隣接する画素の色インキが画素
間遮光部で重り合うように各画素を印刷する第２工程
と、表示部周辺遮光部にブラック顔料を混入したフォト
レジストの遮光膜又は印刷による黒インキ遮光膜を重ね
る第３工程とからなるカラーフィルター作製法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示用に使用
するカラーフィルター、特にＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）用カラーフィルターの作製法に関するものである。
するカラーフィルター、特にＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）用カラーフィルターの作製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＴＦＴ用カラーフィルターの作製におけ
る現在最も一般的な方法は、特にその遮光部分を作製す
るに当たっては、クロム薄膜のパターニングされたもの
が使用されている。この工程を図８乃至図１３によって
説明する。 （１）ガラス基板１上にクロム薄膜１３をスパッターリ
ングまたは蒸着法によって形成する（図８）。 （２）フォトレジスト１４を塗布する（図９）。 （３）マスク５を露光しフォトレジスト１４に潜像を作
る（図１０）。 （４）現像し所定のフォトレジストを除去する（図１
１）。 （５）エッチングを行い所定のクロム薄膜１３を除去す
る（図１２）。 （６）残ったフォトレジスト膜を除去する（図１３）。
る現在最も一般的な方法は、特にその遮光部分を作製す
るに当たっては、クロム薄膜のパターニングされたもの
が使用されている。この工程を図８乃至図１３によって
説明する。 （１）ガラス基板１上にクロム薄膜１３をスパッターリ
ングまたは蒸着法によって形成する（図８）。 （２）フォトレジスト１４を塗布する（図９）。 （３）マスク５を露光しフォトレジスト１４に潜像を作
る（図１０）。 （４）現像し所定のフォトレジストを除去する（図１
１）。 （５）エッチングを行い所定のクロム薄膜１３を除去す
る（図１２）。 （６）残ったフォトレジスト膜を除去する（図１３）。
【０００３】以上の工程によって遮光膜を形成した後
に、画素部分に、顔料分散法（顔料を分散させたフォト
レジストによって画像を作る方法）や印刷法などで所定
の色を入れる。
に、画素部分に、顔料分散法（顔料を分散させたフォト
レジストによって画像を作る方法）や印刷法などで所定
の色を入れる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来技術には次
のような問題点がある。 （１）クロム薄膜を形成するにあたって、スパッターリ
ングや蒸着法を使用する為、生産性が悪い上に装置が高
価となり、コストアップになっている。 （２）薄膜を形成してから改めてフォトレジストを使用
し、エッチング、剥離工程と、工程数が多く、同様にコ
ストアップの要因を作っている。 （３）公害対策上、クロムを使用する事はその廃液の処
理施設が複雑となり、付帯設備として高価な費用を必要
とする。 （４）クロム薄膜は光沢をもった金属膜である為、ディ
スプレーとして完成した際に、観察者側から入射した光
が反射し、表示効果を著しく低下させる原因になる。
のような問題点がある。 （１）クロム薄膜を形成するにあたって、スパッターリ
ングや蒸着法を使用する為、生産性が悪い上に装置が高
価となり、コストアップになっている。 （２）薄膜を形成してから改めてフォトレジストを使用
し、エッチング、剥離工程と、工程数が多く、同様にコ
ストアップの要因を作っている。 （３）公害対策上、クロムを使用する事はその廃液の処
理施設が複雑となり、付帯設備として高価な費用を必要
とする。 （４）クロム薄膜は光沢をもった金属膜である為、ディ
スプレーとして完成した際に、観察者側から入射した光
が反射し、表示効果を著しく低下させる原因になる。
【０００５】本発明は、生産性が高くてコストが安く、
且つクロム公害を発生しないカラーフィルターの作製法
を提案することを目的とするものである。
且つクロム公害を発生しないカラーフィルターの作製法
を提案することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決する手段】従来のクロム薄膜に代り、ブラ
ックタイプのフォトレジストを用い、以下の工程により
カラーフィルターを作製する。 （１）ガラス基板上にブラック顔料を混入したフォトレ
ジストを塗布する。 （２）マスクによって所定の画像露光をする。 （３）現像し、画素間遮光部と表示部周辺遮光部とを形
成する。 （４）画素部分に各々の色インキを印刷により入れる。
ックタイプのフォトレジストを用い、以下の工程により
カラーフィルターを作製する。 （１）ガラス基板上にブラック顔料を混入したフォトレ
ジストを塗布する。 （２）マスクによって所定の画像露光をする。 （３）現像し、画素間遮光部と表示部周辺遮光部とを形
成する。 （４）画素部分に各々の色インキを印刷により入れる。
【０００７】この際に、各々隣合う画素の色インキが各
々の間にある画素間遮光部上で重なる様にする。 （５）表示部周辺遮光部上に、黒インキを印刷し、遮光
膜を重ねて形成する。以上の工程における画素部分の形
成には、印刷法で行う方法と、顔料分散法によって行う
方法とがあり、どちらでも良い。
々の間にある画素間遮光部上で重なる様にする。 （５）表示部周辺遮光部上に、黒インキを印刷し、遮光
膜を重ねて形成する。以上の工程における画素部分の形
成には、印刷法で行う方法と、顔料分散法によって行う
方法とがあり、どちらでも良い。
【０００８】又、表示部周辺遮光部上の遮光膜形成にお
いては、画素部分形成に使用した各色インキをそのまま
３層重ねる方法と、ブラック顔料を混入したフォトレジ
ストを再度重ねる方法とがある。
いては、画素部分形成に使用した各色インキをそのまま
３層重ねる方法と、ブラック顔料を混入したフォトレジ
ストを再度重ねる方法とがある。
【０００９】
（１）従来の様にクロム薄膜を使わないので、スパッタ
ー装置や蒸着装置の様な高価な装置を使わなくなる。 （２）クロムのエッチング工程やレジストの剥離工程が
無くなり、工程が短縮される。 （３）エッチング工程が無いので、クロム（重金属）用
の公害処理設備は不要となる。 （４）画素間遮光部上で、隣接する画素の色が二重に重
なっているので、遮光性が一層高まる。 （５）表示部周辺遮光部においても、レジストや印刷イ
ンキを重ねてある為、単体のフォトレジストより遮光性
が上がっている。 （６）鏡面になるクロム薄膜が使用されていない為、フ
ィルター表面からの反射光をおさえることができる。
ー装置や蒸着装置の様な高価な装置を使わなくなる。 （２）クロムのエッチング工程やレジストの剥離工程が
無くなり、工程が短縮される。 （３）エッチング工程が無いので、クロム（重金属）用
の公害処理設備は不要となる。 （４）画素間遮光部上で、隣接する画素の色が二重に重
なっているので、遮光性が一層高まる。 （５）表示部周辺遮光部においても、レジストや印刷イ
ンキを重ねてある為、単体のフォトレジストより遮光性
が上がっている。 （６）鏡面になるクロム薄膜が使用されていない為、フ
ィルター表面からの反射光をおさえることができる。
【００１０】
第１実施例 本発明の第１実施例を図１乃至図５について説明する。
図において、１はガラス基板、２はブラック顔料を混入
したフォトレジスト、３は画素間遮光部、４は表示部周
辺遮光部、５はマスク、６は光源、７は画素用凹窩、８
はレッドの色インキ、９はグリーンの色インキ、１０は
ブルーの色インキ、１１は黒インキである。
図において、１はガラス基板、２はブラック顔料を混入
したフォトレジスト、３は画素間遮光部、４は表示部周
辺遮光部、５はマスク、６は光源、７は画素用凹窩、８
はレッドの色インキ、９はグリーンの色インキ、１０は
ブルーの色インキ、１１は黒インキである。
【００１１】カラーフィルターの作製は次のようにして
行う。 （１）ガラス基板１上に、ブラック顔料を混入したフォ
トレジスト２をロールコータで膜厚０．８〜１．８μｍ
程度塗布し、乾燥後ＰＶＡを塗布して乾燥する（図
１）。 （２）画素間及び表示部周辺の遮光部分に対応する位置
に露光用開口を有するマスク５を、前記フォトレジスト
２の表面にかぶせ、光源６で露光する（図２）。 （３）フォトレジスト２を現像、乾燥して、画素間遮光
部３及び表示部周辺遮光部４を形成する（図３）。 （４）各画素用凹窩に、レッドの色インキ８、グリーン
の色インキ９及びブルーの色インキ１０を所定の配列で
印刷する（図４）。
行う。 （１）ガラス基板１上に、ブラック顔料を混入したフォ
トレジスト２をロールコータで膜厚０．８〜１．８μｍ
程度塗布し、乾燥後ＰＶＡを塗布して乾燥する（図
１）。 （２）画素間及び表示部周辺の遮光部分に対応する位置
に露光用開口を有するマスク５を、前記フォトレジスト
２の表面にかぶせ、光源６で露光する（図２）。 （３）フォトレジスト２を現像、乾燥して、画素間遮光
部３及び表示部周辺遮光部４を形成する（図３）。 （４）各画素用凹窩に、レッドの色インキ８、グリーン
の色インキ９及びブルーの色インキ１０を所定の配列で
印刷する（図４）。
【００１２】この際に、隣接する色インキ８と９、９と
１０等が各々の間にある画素間遮光部３の上で重なるよ
うに印刷する。 （５）表示部周辺遮光部４の上に、黒インキ１１を印刷
し、黒インキ遮光膜を重ねる（図５）。 画素間遮光部３及び表示部周辺遮光部４は、ブラック顔
料を混入したフォトレジスト２のみでは遮光性が充分で
はないが、２種以上の色インキ又は黒インキの遮光膜を
重ねることにより、充分な遮光性をもつようになる。 第２実施例 本発明の第２実施例を図６について説明する。
１０等が各々の間にある画素間遮光部３の上で重なるよ
うに印刷する。 （５）表示部周辺遮光部４の上に、黒インキ１１を印刷
し、黒インキ遮光膜を重ねる（図５）。 画素間遮光部３及び表示部周辺遮光部４は、ブラック顔
料を混入したフォトレジスト２のみでは遮光性が充分で
はないが、２種以上の色インキ又は黒インキの遮光膜を
重ねることにより、充分な遮光性をもつようになる。 第２実施例 本発明の第２実施例を図６について説明する。
【００１３】本実施例は第１実施例の（５）項におい
て、表示部周辺遮光部４の上に、黒インキ１１を印刷す
る工程に替え、ブラック顔料を混入したフォトレジスト
２を再度重ねるもので、第１実施例と同様な効果が得ら
れる。 第３実施例 本発明の第３実施例を図７について説明する。
て、表示部周辺遮光部４の上に、黒インキ１１を印刷す
る工程に替え、ブラック顔料を混入したフォトレジスト
２を再度重ねるもので、第１実施例と同様な効果が得ら
れる。 第３実施例 本発明の第３実施例を図７について説明する。
【００１４】本実施例は第１実施例の（５）項におい
て、表示部周辺遮光部４の上に、黒インキ１１を印刷す
る工程に替え、各色インキ８、９、１０を重ねて印刷す
るもので、第１実施例と同様な効果が得られる。なお、
上記の第１、第２、第３実施例においては、画素部分を
印刷法で形成する場合について説明したが、画素部分を
顔料分散法（顔料を分散させたフォトレジストによって
画像を作る方法）で形成してもよい。
て、表示部周辺遮光部４の上に、黒インキ１１を印刷す
る工程に替え、各色インキ８、９、１０を重ねて印刷す
るもので、第１実施例と同様な効果が得られる。なお、
上記の第１、第２、第３実施例においては、画素部分を
印刷法で形成する場合について説明したが、画素部分を
顔料分散法（顔料を分散させたフォトレジストによって
画像を作る方法）で形成してもよい。
【００１５】
【発明の効果】本発明によるカラーフィルター作製法
は、ガラス基板上に画素間遮光部及び表示部周辺遮光部
をブラック顔料を混入したフォトレジストによって形成
する第１工程と、隣接する画素の色インキが画素間遮光
部で重り合うように各画素を印刷する第２工程と、表示
部周辺遮光部にブラック顔料を混入したフォトレジスト
の遮光膜又は印刷による黒インキ遮光膜を重ねる第３工
程とからなることにより、次の効果を有する。
は、ガラス基板上に画素間遮光部及び表示部周辺遮光部
をブラック顔料を混入したフォトレジストによって形成
する第１工程と、隣接する画素の色インキが画素間遮光
部で重り合うように各画素を印刷する第２工程と、表示
部周辺遮光部にブラック顔料を混入したフォトレジスト
の遮光膜又は印刷による黒インキ遮光膜を重ねる第３工
程とからなることにより、次の効果を有する。
【００１６】一般に、カラーフィルターの遮光膜は（特
にＴＦＴ用の遮光膜は）、透過濃度で３．５以上必要と
いわれ、これを満たすものとして、クロム薄膜以外は考
えられなかった。フォトレジストによる遮光膜は、工程
短縮や価格面から望まれていたものの、遮光性がＭＡＸ
２．０〜２．５程度しかなく、従来は使用できなかっ
た。
にＴＦＴ用の遮光膜は）、透過濃度で３．５以上必要と
いわれ、これを満たすものとして、クロム薄膜以外は考
えられなかった。フォトレジストによる遮光膜は、工程
短縮や価格面から望まれていたものの、遮光性がＭＡＸ
２．０〜２．５程度しかなく、従来は使用できなかっ
た。
【００１７】しかし、本発明によると、遮光膜上にさら
に画素部分の色を重ね合わせる事により、遮光性が一段
と向上し（〜３．０程度）、フォトレジスト遮光膜の実
用化が可能になる。従って、クロム薄膜使用時に発生す
る表示画面の表面からの反射光が減り、従来以上に表示
品位の高いものを得ることができる。
に画素部分の色を重ね合わせる事により、遮光性が一段
と向上し（〜３．０程度）、フォトレジスト遮光膜の実
用化が可能になる。従って、クロム薄膜使用時に発生す
る表示画面の表面からの反射光が減り、従来以上に表示
品位の高いものを得ることができる。
【００１８】また、従来の様にクロム薄膜を使わないの
で、スパッター装置や蒸着装置の様な高価な装置を設置
する必要がなくなり、クロムのエッチング工程やレジス
トの剥離工程が不要となって、工程が短縮される。更
に、エッチング工程が無いので、クロム（重金属）用の
公害処理設備も不要となる。
で、スパッター装置や蒸着装置の様な高価な装置を設置
する必要がなくなり、クロムのエッチング工程やレジス
トの剥離工程が不要となって、工程が短縮される。更
に、エッチング工程が無いので、クロム（重金属）用の
公害処理設備も不要となる。
【図１】本発明の第１実施例における最初の工程を示す
図である。
図である。
【図２】図１の次の工程を示す図である。
【図３】図２の次の工程を示す図である。
【図４】図３の次の工程を示す図である。
【図５】図４の次の工程（最終工程）を示す図である。
【図６】本発明の第２実施例における最終工程を示す図
である。
である。
【図７】本発明の第３実施例における最終工程を示す図
である。
である。
【図８】従来のクロム薄膜を使用する方法における最初
の工程を示す図である。
の工程を示す図である。
【図９】図８の次の工程を示す図である。
【図１０】図９の次の工程を示す図である。
【図１１】図１０の次の工程を示す図である。
【図１２】図１１の次の工程を示す図である。
【図１３】図１２の次の工程を示す図である。
１ ガラス基板 ２ ブラック顔料を混入したフォトレジスト ３ 画素間遮光部 ４ 表示部周辺遮光部 ８ レッドの色インキ ９ グリーンの色インキ １０ ブルーの色インキ １１ 黒インキ
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板上に画素間遮光部及び表示部
周辺遮光部をブラック顔料を混入したフォトレジストに
よって形成する第１工程と、隣接する画素の色インキが
画素間遮光部で重り合うように各画素を印刷する第２工
程と、表示部周辺遮光部にブラック顔料を混入したフォ
トレジストの遮光膜又は印刷による黒インキ遮光膜を重
ねる第３工程とからなることを特徴とするカラーフィル
ター作製法。 - 【請求項２】 ガラス基板上に画素間遮光部及び表示部
周辺遮光部をブラック顔料を混入したフォトレジストに
よって形成する第１工程と、隣接する画素の色インキが
画素間遮光部で重り合うように各画素を印刷する第２工
程とからなり、前記第２工程に際し、表示部周辺遮光部
に各画素の色インキを重ねて印刷することを特徴とする
カラーフィルター作製法。 - 【請求項３】 各画素を印刷する第２工程に替え、所定
の顔料を混入したフォトレジストにより各画素を形成す
る請求項１記載のカラーフィルター作製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16273992A JPH063518A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | カラーフィルター作製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16273992A JPH063518A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | カラーフィルター作製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063518A true JPH063518A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15760344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16273992A Pending JPH063518A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | カラーフィルター作製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063518A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100816333B1 (ko) * | 2001-08-30 | 2008-03-24 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 색 필터 기판 및 박막 트랜지스터 기판및 이들의 제조 방법 |
| JP2014048596A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板と表示装置、およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 |
-
1992
- 1992-06-22 JP JP16273992A patent/JPH063518A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100816333B1 (ko) * | 2001-08-30 | 2008-03-24 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 색 필터 기판 및 박막 트랜지스터 기판및 이들의 제조 방법 |
| US7443465B2 (en) | 2001-08-30 | 2008-10-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Color filter plate and thin film transistor plate for liquid crystal display, and methods for fabricating the plates |
| US7742130B2 (en) | 2001-08-30 | 2010-06-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Color filter plate and thin film transistor plate for liquid crystal display, and methods for fabricating the plates |
| JP2014048596A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板と表示装置、およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 |
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