JPH063520A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH063520A JPH063520A JP16583792A JP16583792A JPH063520A JP H063520 A JPH063520 A JP H063520A JP 16583792 A JP16583792 A JP 16583792A JP 16583792 A JP16583792 A JP 16583792A JP H063520 A JPH063520 A JP H063520A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 遮光部と画素の急激な段差に起因する透明導
電膜の断線、膜厚が薄くなること、クラックの発生によ
り生じる透明導電膜の抵抗の増加を防げぐカラーフィル
タの製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 画素と開口部を有するシールを形成した基板
の画素形成面に表面が平滑な基板を密着固定する工程
と、表面が平滑な基板と密着固定した基板を、真空排気
装置を有する真空装置内に設置し、所定の圧力まで排気
した後、シールの開口部を、同じく真空装置内に設置さ
れた遮光部材料を溜めた容器に浸漬し、その状態で真空
装置を大気開放することで遮光部材料を表面が平滑な基
板で密着固定した基板の中に充填する工程と、遮光部材
料を硬化し、遮光部を形成する工程を特徴とするカラー
フィルタの製造方法。 【効果】 画素と遮光部の急激な段差に起因する透明導
電膜の断線、膜厚が薄くなること、クラックの発生によ
り生じる透明導電膜の抵抗の増加を防ぎ、高品質な大面
積のフラットディスプレイを実現できる。
電膜の断線、膜厚が薄くなること、クラックの発生によ
り生じる透明導電膜の抵抗の増加を防げぐカラーフィル
タの製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 画素と開口部を有するシールを形成した基板
の画素形成面に表面が平滑な基板を密着固定する工程
と、表面が平滑な基板と密着固定した基板を、真空排気
装置を有する真空装置内に設置し、所定の圧力まで排気
した後、シールの開口部を、同じく真空装置内に設置さ
れた遮光部材料を溜めた容器に浸漬し、その状態で真空
装置を大気開放することで遮光部材料を表面が平滑な基
板で密着固定した基板の中に充填する工程と、遮光部材
料を硬化し、遮光部を形成する工程を特徴とするカラー
フィルタの製造方法。 【効果】 画素と遮光部の急激な段差に起因する透明導
電膜の断線、膜厚が薄くなること、クラックの発生によ
り生じる透明導電膜の抵抗の増加を防ぎ、高品質な大面
積のフラットディスプレイを実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ等のフ
ラットディスプレイに使用されるカラーフィルタの製造
方法に関するものである。
ラットディスプレイに使用されるカラーフィルタの製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイはフラットディ
スプレイの主力として開発が盛んであり、その液晶ディ
スプレイに使用するカラーフィルタの開発も活発であ
る。
スプレイの主力として開発が盛んであり、その液晶ディ
スプレイに使用するカラーフィルタの開発も活発であ
る。
【０００３】従来、液晶ディスプレイ等のフラットディ
スプレイ用カラーフィルタとしては特開昭６２−１３６
２号などが出願されている。一例としてカラーフィルタ
の製造方法の工程図を図８に示す。以下図面を参照しな
がら、上記の従来のカラーフィルタの製造方法の一例に
ついて説明する。 （１）ガラス基板１上に黒の着色レジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、遮光部２
を形成する（図８（ａ））。 （２）同様に着色レジストからなる赤、緑、青の画素３
を、塗布、フォトリソグラフィ法を用いて順次形成する
（図８（ｂ））。 （３）遮光部２および画素３上に高分子樹脂等からなる
保護膜材料を塗布、そして熱処理により硬化し、保護膜
４を形成する（図８（ｃ））。 （４）スパッタリング法等を用いて透明導電膜５を形成
する（図８（ｄ））。
スプレイ用カラーフィルタとしては特開昭６２−１３６
２号などが出願されている。一例としてカラーフィルタ
の製造方法の工程図を図８に示す。以下図面を参照しな
がら、上記の従来のカラーフィルタの製造方法の一例に
ついて説明する。 （１）ガラス基板１上に黒の着色レジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、遮光部２
を形成する（図８（ａ））。 （２）同様に着色レジストからなる赤、緑、青の画素３
を、塗布、フォトリソグラフィ法を用いて順次形成する
（図８（ｂ））。 （３）遮光部２および画素３上に高分子樹脂等からなる
保護膜材料を塗布、そして熱処理により硬化し、保護膜
４を形成する（図８（ｃ））。 （４）スパッタリング法等を用いて透明導電膜５を形成
する（図８（ｄ））。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うなカラーフィルタの製造方法には次のような課題があ
った。遮光部２と画素３の段差を平滑にするため保護膜
４を形成しているが、遮光部２と画素３の急激な段差の
ため、上記工程により得られるカラーフィルタにおいて
は、図８，９に示すように保護膜４にも大きな段差部が
できる。このため、保護膜４上に形成した透明導電膜５
は、ステップガバレージが悪く、断線部（図９ Ａ部）
や膜厚の薄い部分（図９ Ｂ部）が発生する。またクラ
ック（図９Ｃ部）が発生する問題があった。このため透
明導電膜５の抵抗が増大し、透明導電膜５に電圧を印加
する入力端子から遠くなるほど、電圧降下が大きくな
る。つまり、入力端子からの距離により画素３に対応し
ている位置の透明導電膜５に対して印加できる電圧が大
きく異なり、輝度むら等の問題を生じ、高品質で大面積
のディスプレイを作製するのが困難であった。
うなカラーフィルタの製造方法には次のような課題があ
った。遮光部２と画素３の段差を平滑にするため保護膜
４を形成しているが、遮光部２と画素３の急激な段差の
ため、上記工程により得られるカラーフィルタにおいて
は、図８，９に示すように保護膜４にも大きな段差部が
できる。このため、保護膜４上に形成した透明導電膜５
は、ステップガバレージが悪く、断線部（図９ Ａ部）
や膜厚の薄い部分（図９ Ｂ部）が発生する。またクラ
ック（図９Ｃ部）が発生する問題があった。このため透
明導電膜５の抵抗が増大し、透明導電膜５に電圧を印加
する入力端子から遠くなるほど、電圧降下が大きくな
る。つまり、入力端子からの距離により画素３に対応し
ている位置の透明導電膜５に対して印加できる電圧が大
きく異なり、輝度むら等の問題を生じ、高品質で大面積
のディスプレイを作製するのが困難であった。
【０００５】本発明は上記問題点に鑑み、遮光部２と画
素３の急激な段差の発生を防ぎ、高品質な大面積のフラ
ットディスプレイを実現するためのカラーフィルタの製
造方法を提供することを目的とする。
素３の急激な段差の発生を防ぎ、高品質な大面積のフラ
ットディスプレイを実現するためのカラーフィルタの製
造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明のカラーフィルタの製造方法は、以下のよう
な手段を用いる。
めに本発明のカラーフィルタの製造方法は、以下のよう
な手段を用いる。
【０００７】画素と開口部を有するシールを形成した基
板の画素形成面に表面が平滑な基板を密着固定する。そ
して表面が平滑な基板と密着固定した基板を、真空排気
系を有する真空装置内に設置し、所定の圧力まで排気し
た後、シールの開口部を、同じく真空装置内に設置され
た遮光部材料を溜めた容器に浸漬し、その状態で真空装
置を大気開放することで毛細管現象により遮光部材料を
表面が平滑な基板で密着固定した基板の中に充填され
る。その後、遮光部材料を硬化し、遮光部を形成するも
のである。
板の画素形成面に表面が平滑な基板を密着固定する。そ
して表面が平滑な基板と密着固定した基板を、真空排気
系を有する真空装置内に設置し、所定の圧力まで排気し
た後、シールの開口部を、同じく真空装置内に設置され
た遮光部材料を溜めた容器に浸漬し、その状態で真空装
置を大気開放することで毛細管現象により遮光部材料を
表面が平滑な基板で密着固定した基板の中に充填され
る。その後、遮光部材料を硬化し、遮光部を形成するも
のである。
【０００８】また、表面が平滑な基板に剥離材を塗布す
る工程を特徴とするものである。また、遮光部材料を光
硬化性樹脂としたことを特徴とするものである。
る工程を特徴とするものである。また、遮光部材料を光
硬化性樹脂としたことを特徴とするものである。
【０００９】また、開口部を有するシールを、画素形成
の際、画素材料で同時に形成する工程を特徴とするもの
である。
の際、画素材料で同時に形成する工程を特徴とするもの
である。
【００１０】また、シールと密着する面と反対の面に透
明導電膜が製膜された表面が平滑な基板を用いることを
特徴とするものである。
明導電膜が製膜された表面が平滑な基板を用いることを
特徴とするものである。
【００１１】
【作用】本発明は上記の手段により画素と遮光部の急激
な段差に起因する透明導電膜の断線や膜厚が薄くなるこ
とやクラックの発生を防ぐことができる。
な段差に起因する透明導電膜の断線や膜厚が薄くなるこ
とやクラックの発生を防ぐことができる。
【００１２】以下にその説明を行う。表面が平滑な基板
と基板の間の画素以外の空間に遮光部材料を充填、硬化
するために遮光部と画素の上面は表面が平滑な基板によ
り同一の平滑な面となる。このため従来のような画素と
遮光部の重なりによる急激な段差を生じないので急激な
段差に起因する透明導電膜の断線、膜厚が薄くなるこ
と、クラックの発生を防ぐことができる。
と基板の間の画素以外の空間に遮光部材料を充填、硬化
するために遮光部と画素の上面は表面が平滑な基板によ
り同一の平滑な面となる。このため従来のような画素と
遮光部の重なりによる急激な段差を生じないので急激な
段差に起因する透明導電膜の断線、膜厚が薄くなるこ
と、クラックの発生を防ぐことができる。
【００１３】また、表面が平滑な基板に剥離材を塗布す
ることにより、表面が平滑な基板を剥離する際、表面が
平滑な基板側に遮光部材料が付着することなしに剥離で
きる。
ることにより、表面が平滑な基板を剥離する際、表面が
平滑な基板側に遮光部材料が付着することなしに剥離で
きる。
【００１４】また、透光部材料を光硬化性樹脂とするこ
とにより硬化の際、体積収縮による段差の発生を小さく
することができる。
とにより硬化の際、体積収縮による段差の発生を小さく
することができる。
【００１５】また、開口部を有するシールを、画素形成
の際、画素材料で同時に形成することにより工程数を増
やさずに精度よくシールを形成できる。
の際、画素材料で同時に形成することにより工程数を増
やさずに精度よくシールを形成できる。
【００１６】また、シールと密着する面と反対の面に透
明導電膜が製膜された表面が平滑な基板を用いることに
より、従来、画素、保護膜の耐熱温度以上に基板加熱で
きないため透明導電膜の低抵抗化が図られなかったが、
先に表面が平滑な基板（例えばガラス基板）に高温で製
膜、また基板加熱を行うことで、低抵抗、高透過率な良
質の透明導電膜を形成でき、かつ平滑な基板上なので透
明導電膜の断線、膜厚が薄くなることやクラックの発生
を生じない。
明導電膜が製膜された表面が平滑な基板を用いることに
より、従来、画素、保護膜の耐熱温度以上に基板加熱で
きないため透明導電膜の低抵抗化が図られなかったが、
先に表面が平滑な基板（例えばガラス基板）に高温で製
膜、また基板加熱を行うことで、低抵抗、高透過率な良
質の透明導電膜を形成でき、かつ平滑な基板上なので透
明導電膜の断線、膜厚が薄くなることやクラックの発生
を生じない。
【００１７】このように上記手段により、画素と遮光部
の急激な段差に起因する透明導電膜の断線や膜厚が薄く
なることやクラックの発生を防ぐことができる。
の急激な段差に起因する透明導電膜の断線や膜厚が薄く
なることやクラックの発生を防ぐことができる。
【００１８】
【実施例】以下本発明の一実施例のカラーフィルタの製
造方法について、図面を参照しながら説明する。本発明
の実施例の形成工程を、図１〜図７に示す。なお、図８
で説明した従来例の各工程において基板上に形成される
カラーフィルタの構成要素と同機能の要素については、
本実施例においても、それと同一符号をつけて説明を省
略する。本実施例の工程を以下に述べる。 （ａ）まず図１に示す様にガラス基板１上に着色レジス
トを塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてＲ，Ｇ，Ｂ
の画素３を順次同じ高さに形成する。またその際、図２
に示すように同時に画素材料よりなるシール６を開口部
７を設けて画素３と同じ高さに形成する。 （ｂ）表面が平滑な基板８に剥離材９を塗布し、ガラス
基板１の画素形成面に密着固定し密着基板１０を形成す
る（図３）。 （ｃ）密着基板１０を真空排気系１１、リーク系１２を
有する真空装置１３内に設置し、所定の圧力まで真空排
気する（図４）。 （ｄ）真空装置１３内の顔料を分散させた黒の着色レジ
スト１４が溜められた容器１５に密着基板１０のシール
の開口部７を浸漬する。そして真空装置１３を大気開放
すると、顔料を分散させた黒の着色レジスト１４が表面
が平滑な基板８とガラス基板１の間の画素３以外の空間
に吸い込まれて充填される（図５）。また更に真空装置
を減圧してより一層充填する。 （ｅ）真空装置１４より取り出し、光照射、ホットプレ
ート１６上で加熱し、顔料を分散させた黒の着色レジス
ト１４を硬化し、遮光部１７を形成する（図６）。 （ｆ）表面が平滑な基板８を剥離する（図７）。
造方法について、図面を参照しながら説明する。本発明
の実施例の形成工程を、図１〜図７に示す。なお、図８
で説明した従来例の各工程において基板上に形成される
カラーフィルタの構成要素と同機能の要素については、
本実施例においても、それと同一符号をつけて説明を省
略する。本実施例の工程を以下に述べる。 （ａ）まず図１に示す様にガラス基板１上に着色レジス
トを塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてＲ，Ｇ，Ｂ
の画素３を順次同じ高さに形成する。またその際、図２
に示すように同時に画素材料よりなるシール６を開口部
７を設けて画素３と同じ高さに形成する。 （ｂ）表面が平滑な基板８に剥離材９を塗布し、ガラス
基板１の画素形成面に密着固定し密着基板１０を形成す
る（図３）。 （ｃ）密着基板１０を真空排気系１１、リーク系１２を
有する真空装置１３内に設置し、所定の圧力まで真空排
気する（図４）。 （ｄ）真空装置１３内の顔料を分散させた黒の着色レジ
スト１４が溜められた容器１５に密着基板１０のシール
の開口部７を浸漬する。そして真空装置１３を大気開放
すると、顔料を分散させた黒の着色レジスト１４が表面
が平滑な基板８とガラス基板１の間の画素３以外の空間
に吸い込まれて充填される（図５）。また更に真空装置
を減圧してより一層充填する。 （ｅ）真空装置１４より取り出し、光照射、ホットプレ
ート１６上で加熱し、顔料を分散させた黒の着色レジス
ト１４を硬化し、遮光部１７を形成する（図６）。 （ｆ）表面が平滑な基板８を剥離する（図７）。
【００１９】以上の工程によれば、画素３、遮光部１７
の段差は生じないため、この上に形成する保護膜にも急
激な段差は発生せず、この保護膜上に形成する透明導電
膜の断線、膜厚が薄くなること、またクラックの発生が
防げるので、高品質な大面積のフラットディスプレイを
実現することができる。
の段差は生じないため、この上に形成する保護膜にも急
激な段差は発生せず、この保護膜上に形成する透明導電
膜の断線、膜厚が薄くなること、またクラックの発生が
防げるので、高品質な大面積のフラットディスプレイを
実現することができる。
【００２０】なお、本実施例では画素を着色レジストを
用いてフォトリソグラフィ法により形成したが、印刷
法、電着法等を用いて形成してもよい。
用いてフォトリソグラフィ法により形成したが、印刷
法、電着法等を用いて形成してもよい。
【００２１】また、本実施例では遮光部材料として顔料
を分散させた黒の着色レジストを用いたが、顔料を分散
させたインキ、他の高分子樹脂でもよい。
を分散させた黒の着色レジストを用いたが、顔料を分散
させたインキ、他の高分子樹脂でもよい。
【００２２】また、光硬化性の遮光部材料を用いてもよ
く、これにより体積収縮を低減し、より平滑なカラーフ
ィルタを実現できる。
く、これにより体積収縮を低減し、より平滑なカラーフ
ィルタを実現できる。
【００２３】また、本実施例ではシールの開口部を一つ
としたが、複数個でもよい。また、本実施例では遮光部
材料を真空装置内で充填し、遮光部を形成したが、先に
Ｃｒ等の金属によりスパッタリング、フォトリソグラフ
ィ法等により遮光部を形成したものに対して真空装置内
で高分子樹脂等の遮光部材料を充填してもよい。
としたが、複数個でもよい。また、本実施例では遮光部
材料を真空装置内で充填し、遮光部を形成したが、先に
Ｃｒ等の金属によりスパッタリング、フォトリソグラフ
ィ法等により遮光部を形成したものに対して真空装置内
で高分子樹脂等の遮光部材料を充填してもよい。
【００２４】また、本実施例ではシールの高さを画素と
同じ高さとしたが、シールの高さを画素より高くし、か
つ遮光部材料を真空装置内で充填するかわりに、保護膜
材料を充填し、保護膜を形成してもよい。これにより画
素等による段差を生じていても、保護膜により平滑な面
が得られる。
同じ高さとしたが、シールの高さを画素より高くし、か
つ遮光部材料を真空装置内で充填するかわりに、保護膜
材料を充填し、保護膜を形成してもよい。これにより画
素等による段差を生じていても、保護膜により平滑な面
が得られる。
【００２５】また、本実施例では最後に表面が平滑な基
板を剥離したが、剥離しない状態でカラーフィルタとし
て用いてもよい。
板を剥離したが、剥離しない状態でカラーフィルタとし
て用いてもよい。
【００２６】また、シールと密着する面と反対の面に透
明導電膜が製膜された表面が平滑な基板を用いることに
より、従来、画素、保護膜の耐熱温度以上に基板加熱で
きないため透明導電膜の低抵抗化が図られなかったが、
先に表面が平滑な基板（例えばガラス基板）に高温で製
膜、また基板加熱を行うことで、低抵抗、高透過率な良
質の透明導電膜を形成でき、かつ平滑な基板上なので透
明導電膜の断線、膜厚が薄くなること、クラックの発生
を生じないカラーフィルタを形成できる。
明導電膜が製膜された表面が平滑な基板を用いることに
より、従来、画素、保護膜の耐熱温度以上に基板加熱で
きないため透明導電膜の低抵抗化が図られなかったが、
先に表面が平滑な基板（例えばガラス基板）に高温で製
膜、また基板加熱を行うことで、低抵抗、高透過率な良
質の透明導電膜を形成でき、かつ平滑な基板上なので透
明導電膜の断線、膜厚が薄くなること、クラックの発生
を生じないカラーフィルタを形成できる。
【００２７】
【発明の効果】本発明のカラーフィルタの製造方法によ
れば画素と遮光部による急激な段差に起因する透明導電
膜の断線、膜厚が薄くなること、またクラックの発生に
より生じる透明導電膜の抵抗の増加を防げる。よって、
輝度むら等のない、良好な表示性能を有する高品質な大
面積のディスプレイを製造することができ、実用上多大
な効果を奏するものである。
れば画素と遮光部による急激な段差に起因する透明導電
膜の断線、膜厚が薄くなること、またクラックの発生に
より生じる透明導電膜の抵抗の増加を防げる。よって、
輝度むら等のない、良好な表示性能を有する高品質な大
面積のディスプレイを製造することができ、実用上多大
な効果を奏するものである。
【図１】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図２】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図３】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図４】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図５】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図６】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図７】本発明の一実施例のカラーフィルタ製造工程図
【図８】従来のカラーフィルタ製造工程図
【図９】従来のカラーフィルタの製造方法により得られ
たカラーフィルタの断面図
たカラーフィルタの断面図
【符号の説明】 １ ガラス基板 ２ 遮光部 ３ 画素 ４ 保護膜 ５ 透明導電膜 ６ 画素材料よりなるシール ７ 開口部 ８ 表面が平滑な基板 ９ 剥離材 １０ 密着基板 １１ 真空排気系 １２ リーク系 １３ 真空装置 １４ 顔料を分散させた黒の着色レジスト １５ 容器 １６ ホットプレート １７ 遮光部
Claims (5)
- 【請求項１】画素と開口部を有するシールを形成した基
板の前記画素形成面に表面が平滑な基板を密着固定する
工程と、前記表面が平滑な基板と密着固定した前記基板
を、真空排気系を有する真空装置内に設置し、前記真空
装置を所定の圧力まで排気した後、前記基板の前記シー
ルの開口部を、同じく前記真空装置内に設置された遮光
部材料を溜めた容器に浸漬し、その状態で前記真空装置
を大気開放し、前記遮光部材料を前記表面が平滑な基板
で密着固定した前記基板の中に充填する工程と、前記遮
光部材料を硬化し、遮光部を形成する工程とを少なくと
も含むカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】表面が平滑な基板に剥離材を塗布する工程
を少なくとも含む請求項１記載のカラーフィルタの製造
方法。 - 【請求項３】遮光部材料を光硬化性樹脂としたことを特
徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】一つまたは複数の開口部を有するシール
を、画素形成の際、画素材料で同時に形成する工程を少
なくとも含む請求項１記載のカラーフィルタの製造方
法。 - 【請求項５】シールと密着する面と反対の面に透明導電
膜が形成された表面が平滑な基板を用いることを特徴と
する請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16583792A JPH063520A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16583792A JPH063520A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063520A true JPH063520A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15819945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16583792A Pending JPH063520A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063520A (ja) |
-
1992
- 1992-06-24 JP JP16583792A patent/JPH063520A/ja active Pending
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