JPH04369604A - カラーフィルタの欠陥部修正方法 - Google Patents

カラーフィルタの欠陥部修正方法

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JPH04369604A
JPH04369604A JP3147111A JP14711191A JPH04369604A JP H04369604 A JPH04369604 A JP H04369604A JP 3147111 A JP3147111 A JP 3147111A JP 14711191 A JP14711191 A JP 14711191A JP H04369604 A JPH04369604 A JP H04369604A
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JP
Japan
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protective film
color
film layer
light
shielding material
Prior art date
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Pending
Application number
JP3147111A
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English (en)
Inventor
Akio Sonehara
章夫 曽根原
Soichi Matsuo
松尾 壮一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置用のカラ
ーフィルタを製造する工程において、カラーフィルタに
生じる突起部や白欠陥部を修正する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】先ず、図4によりカラーフィルタの製造
方法の1例について説明する。ガラス等の透明基板1上
に例えばスクリーン印刷にて、線幅60μm、ピッチ2
00μm、膜厚2μm程度のストライブ状パターンから
なるブラック遮光層2を形成する(A)。このブラック
遮光層は設けなくてもよい。次に、ブラック遮光層2の
上から、1色目、例えばレッドの着色用感材を塗布した
後、フォトマスクを配置し露光した後、現像を行いレッ
ドパターン層3を形成し(B)、2色目以降は例えば、
グリーン、ブルーの着色用感材を塗布した後、フォトマ
スクを配置し露光した後、現像を行いグリーン、ブルー
のパターン層4、5を形成する(C、D)。各カラーパ
ターン層は長手方向の両側がブラック遮光層2に対して
20〜30μm程度の重なりを持ち膜厚は2μm程度で
ある。次に、物理化学的保護、表面の整面化、平坦化を
目的として、カラーパターン層の上に光硬化性樹脂を塗
布して保護膜層6を膜厚2〜3μm程度に形成する(E
)。さらに、保護膜層6の上に真空成膜法を用いて酸化
インジウム錫(ITO)を成膜した後、マスク蒸着法、
エッチング法等により電極パターン加工を行い、透明電
極層7を形成してカラーフィルタを製造する(F)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記カラーフィルタの
製造工程において、図5に示すように着色用感材の塗布
工程において、ゴミ等の異物9が混入しこれがカラーパ
ターン層3に残留したり、カラーパターン層5の表面に
ゴミ等の異物10が付着すると、カラーパターン層の上
に保護膜層6を形成したとき、ゴミ等の異物9、10に
対応する部分に突起部11が形成されてしまう。また、
フォトマスクにゴミが付着するとカラーパターン層4に
白欠陥部12が生じてしまう。このような欠陥は、カラ
ーフィルタの表面に設けられる液晶セル内の液晶の配向
を阻害したり、撮像した映像や表示する映像の欠陥にな
り、カラーフィルタを使用した製品が不良になってしま
う。そこで、例えば、保護膜層を形成した後にレーザー
により保護膜に穴をあけ、これを塞ぐ方法を採用するこ
とが考えられるが、保護膜層は着色層の凹凸を平坦化し
、透明電極を形成しやすくする必要があり、前述の方法
を採用すると保護膜層の平滑性は極めて劣化してしまう
という問題を生じる。また、保護膜層は、透明電極を形
成する等の熱履歴を経るため、熱的に安定でなければな
らず、保護膜層形成後の修正は、熱的な歪等が発生した
場合には、クラック等の欠陥が発生するきっかけとなる
可能性があり、また、液晶層と着色層の化学的な分離の
点でも不利になる。
【0004】本発明は上記問題を解決するものであって
、保護膜層を形成する前にレーザーにより欠陥部を除去
することにより、カラーフィルタの製造工程で生じる欠
陥部を容易に修正することができる方法を提供すること
を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】そのために、請求項1に
記載のカラーフィルタの欠陥部修正方法は、カラーパタ
ーン層の欠陥部表面に保護膜層を形成し、該欠陥部へレ
ーザービームを照射して欠陥部を除去した後、該除去部
分に前記カラーパターン層の色に対応した遮光性材料を
塗布し、次に、前記保護膜層を機械的に剥離させて前記
除去部分に遮光性材料を残留させ、最後に、遮光性材料
を紫外線又は熱により硬化させることを特徴とし、請求
項2に記載のカラーフィルタの欠陥部修正方法は、カラ
ーパターン層の欠陥部表面に保護膜層を形成し、該欠陥
部へレーザービームを照射して欠陥部を除去した後、該
除去部分に前記カラーパターン層の色に対応した遮光性
材料を塗布し、次に、該遮光性材料を紫外線又は熱によ
り硬化させ、最後に、前記保護膜層を機械的に剥離させ
て前記除去部分に遮光性材料を残留させることを特徴と
し、請求項3に記載のカラーフィルタの欠陥部修正方法
は、カラーパターン層の表面に仮の保護膜層を形成した
後、カラーパターン層の欠陥部にレーザービームを照射
して欠陥部を除去し、次に、前記仮の保護膜層を溶剤洗
浄で除去し、最後に、カラーフィルタの真の保護膜層を
形成することを特徴とする。
【0006】
【作用】本発明においては、例えば図2に示すように、
異物9が混入した欠陥部に剥離性及び可撓性の良い材料
からなる保護膜層13を形成した後、欠陥部へレーザー
ビームを照射して異物9の周囲部分を除去した後、除去
部分にカラーパターン層3の色に対応した遮光性材料1
4を塗布し、次に、保護膜層13を機械的に剥離すると
除去部分に遮光性材料14が残る。最後に、遮光性材料
14が顔料等により着色された光硬化性樹脂の場合には
、透明基板1の表側又は裏側から紫外線を照射して遮光
性材料14を硬化させ、遮光性材料14が顔料等により
着色された熱硬化性樹脂の場合には、オーブンに入れて
遮光性材料14を硬化させ修正を終える。なお、透明基
板1の表側又は裏側からアンダー露光により紫外線を照
射して遮光性材料14の一部を硬化させた後、保護膜層
13を機械的に剥離するようにしてもよい。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図1及び図2は本発明のカラーフィルタの欠陥
部修正方法の1実施例を示し、図1は修正方法を説明す
るための図、図2は修正工程を示す拡大断面図である。
【0008】図2(A)において、1は透明基板、2は
ブラック遮光層、3はカラーパターン層を示し、カラー
パターン層3に異物9が混入した状態を示している。先
ず図1のステップ21及び図2(B)に示すように、異
物9が混入した欠陥部に保護膜層13をスポイト又はデ
ィスペンサにより塗布後、乾燥して形成する。この保護
膜層13は、カラーパターン層3に対して剥離性及び可
撓性の良い材料を用いる。本実施例においては、塩化ビ
ニル酢酸ビニル共重合体をトルエンとメチルエチルケト
ンの混合溶媒に固形分が15重量%となるように希釈し
た合成樹脂溶液を用いた。
【0009】次に、ステップ22及び図2(C)に示す
ように、欠陥部へレーザービームを照射して異物9の周
囲部分を除去した後、ステップ23及び図2(D)に示
すように、除去部分にカラーパターン層3の色に対応し
た遮光性材料14を塗布する。なお、欠陥部がブラック
遮光層であればブラックを塗布する。この遮光性材料1
4は光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂からなる。次に、ス
テップ24、25及び図2(E)に示すように、保護膜
層13を機械的に剥離すると除去部分に遮光性材料14
が残る。最後に、遮光性材料14が顔料等により着色さ
れた光硬化性樹脂の場合には、透明基板1の表側又は裏
側から紫外線を照射して遮光性材料14を硬化させ修正
を終える。また、遮光性材料14が顔料等により着色さ
れた熱硬化性樹脂の場合には、オーブンに入れて遮光性
材料14を硬化させ修正を終える。
【0010】なお、ステップ24とステップ25を逆に
して、透明基板1の表側又は裏側からアンダー露光によ
り紫外線を照射して遮光性材料14の一部を硬化させた
後、保護膜層13を機械的に剥離するようにしてもよい
。また、上記実施例においては突起の原因となる異物9
の除去、修正について説明しているが、図5で説明した
白欠陥部12の修正についても同様の方法で修正可能で
ある。
【0011】次に図3により本発明の他の実施例につい
て説明する。本実施例は異物の除去に適用される。カラ
ーパターンが形成されている表面は、凹凸が大きくカラ
ーパターン形成時の異物による欠陥が観察しにくく、表
面を滑らかにして異物の検出を容易にするために、先ず
、ステップ31において、溶剤洗浄で除去可能な仮の保
護膜層をスピンコート法により形成する。この保護膜層
としては、異物の検出が容易にできる樹脂を選定する。 本実施例においては商品名レノタックを用いた。次に、
ステップ32において、観察が容易になった異物にレー
ザービームを20μm程度のスポットで照射して異物の
周囲部分を除去した後、ステップ33において、仮の保
護膜層を溶剤洗浄で除去し、最後にステップ34におい
て、ITO耐性の良好な真の保護膜層をスピンコート法
により形成する。本実施例においては、欠陥部が20μ
m程度の白抜きのスポットになるが、肉眼では判別でき
ないためカラーパターンの修正は行わない。なお、欠陥
部が20μm程度以上の大きさの場合には、図2に示す
方法で修正する。
【0012】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、保護膜層を形成する前にレーザーにより欠陥部
を除去するため、修正による多少の凹凸は次の工程での
保護膜形成により平坦化されるという効果を有し、また
、保護膜層形成後の修正のように、熱的な歪等が発生す
る恐れがないと共に、液晶層と着色層の化学的な分離の
点でも不利になることがない。そして、カラーフィルタ
の製造工程で生じる欠陥部を容易に修正することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の欠陥部修正方法の1実施例を説明する
ための図
【図2】本発明の欠陥部修正方法の1実施例示す拡大断
面図
【図3】本発明の欠陥部修正方法の他の実施例を説明す
るための図
【図4】カラーフィルタの製造方法を説明するための拡
大断面図
【図5】カラーフィルタの欠陥部を説明するための拡大
断面図
【符号の説明】
1…透明基板、2…ブラック遮光層、3…カラーパター
ン層、9…異物、13…保護膜層、14…遮光性材料。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カラーパターン層の欠陥部表面に保護膜層
    を形成し、該欠陥部へレーザービームを照射して欠陥部
    を除去した後、該除去部分に前記カラーパターン層の色
    に対応した遮光性材料を塗布し、次に、前記保護膜層を
    機械的に剥離させて前記除去部分に遮光性材料を残留さ
    せ、最後に、遮光性材料を紫外線又は熱により硬化させ
    ることを特徴とするカラーフィルタの欠陥部修正方法。
  2. 【請求項2】カラーパターン層の欠陥部表面に保護膜層
    を形成し、該欠陥部へレーザービームを照射して欠陥部
    を除去した後、該除去部分に前記カラーパターン層の色
    に対応した遮光性材料を塗布し、次に、該遮光性材料を
    紫外線又は熱により硬化させ、最後に、前記保護膜層を
    機械的に剥離させて前記除去部分に遮光性材料を残留さ
    せることを特徴とするカラーフィルタの欠陥部修正方法
    。
  3. 【請求項3】カラーパターン層の表面に仮の保護膜層を
    形成した後、カラーパターン層の欠陥部にレーザービー
    ムを照射して欠陥部を除去し、次に、前記仮の保護膜層
    を溶剤洗浄で除去し、最後に、カラーフィルタの真の保
    護膜層を形成することを特徴とするカラーフィルタの欠
    陥部修正方法。
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