JPH0635408B2 - ハロゲノレゾルシン類の製造法 - Google Patents

ハロゲノレゾルシン類の製造法

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JPH0635408B2
JPH0635408B2 JP59270575A JP27057584A JPH0635408B2 JP H0635408 B2 JPH0635408 B2 JP H0635408B2 JP 59270575 A JP59270575 A JP 59270575A JP 27057584 A JP27057584 A JP 27057584A JP H0635408 B2 JPH0635408 B2 JP H0635408B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明はハロゲノレゾルシン類の製造法に関する。
[概要] 更に詳しくは本発明は、式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法に関す
る。
本発明の製造法は、2位にハロゲンを含まない対応する
レゾルシン類をスルホン化し、得られたスルホン酸をハ
ロゲン化し、これにより得られたハロゲン化スルホン酸
を酸加水分解によりプロトン脱スルホン化(Protode-su
lfonate)し、所望の場合には、存在することもある官
能基を修飾しうることから成る。
[発明の背景] ハロゲノレゾルシン類[I]は、近年産業上重要となった
化合物である。たとえば米国特許第4,296,039号で、2
−クロロレゾルシンおよび2−ブロモレゾルシンは、8
位がハロゲン化された、医薬目的で用いることができる
クマリン類を製造するために使用しうることが開示され
ている。しかし、2−ハロゲノレゾルシン類製造のため
の公知方法は満足な結果を与えない。すなわち、レゾル
シン類の直接的ハロゲン化は分離困難なハロゲン誘導体
混合物を生ずる。また、レゾルシン類をジヒドロレゾル
シンへ変換し、続いてハロゲン化およびハロゲノレゾル
シン類の形成をもたらすハロゲン化水素酸の脱離を行な
うことは、産業規模で実施するのが困難であることが証
明されている。
本発明は、2位にハロゲンを含まないレゾルシン類をス
ルホン化し、得られたスルホン酸をハロゲン化し、次い
でこのハロゲン化スルホン酸を酸加水分解によってプロ
トン脱スルホン化し、および存在することもある官能基
を必要に応じて修飾しうることから成る方法を提供する
ことにより達成される。
[発明の詳細な記載] 次に本発明の内容について詳述する。
本発明はハロゲン化フエノール類の製造法を提供する。
特に本発明の製造法は、式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の新規製造方法を提
供することができる。また本発明は2−ハロゲノレゾル
シン類[I]のエステル類、エーテル類および塩類および
塩類の製造法を提供することができる。
式[I]において、ハロゲン原子Xは、塩素、臭素、ヨウ
素またはフッ素であることができるが、好ましくは塩
素、臭素またはヨウ素である。
官能性に基づいて修飾されたヒドロキシル基のうち、特
に低級脂肪族アルコール類、たとえば炭素原子数1−7
のもの(たとえばメチル、エチル、n−プロピルおよび
イソプロピルアルコール、ブチルアルコールおよびアミ
ルアルコール)または芳香族アルコール類(たとえばベ
ンジルアルコールまたはフェネチルアルコール)でエー
テル化された基が特に重要である。他の官能性に基づい
て修飾されたヒドロキシル基はエステル化されたヒドロ
キシル基、特に次のような酸でエステル化されたヒドロ
キシル基である:炭素数1〜15を有する有機酸、たと
えば炭素数7を越えない低級脂肪酸(ギ酸、酢酸プロピ
オン酸、酪酸類)またはコハク酸およびマロン酸のよう
な二塩基酸、芳香族酸(たとえば安息香酸、その誘導体
のような酸)あるいはスルホン酸、たとえば炭素数1〜
4のアルキルスルホン酸または単環アリールスルホン酸
(p−トルエンスルホン酸のような酸)など。
官能性に基づいて修飾されたカルボキシル基は、たとえ
ばエステル化されたカルボキシル基、好ましくは炭素数
1〜7を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジルア
ルコールもしくはフェネチルアルコールのような芳香脂
肪族(araliphatic)アルコールでエステル化されたカ
ルボキシル基である。官能性に基づいて修飾されたカル
ボキシル基に関し、ニトリル基−CNまたはアミド基
(たとえばアミド基−CONH2もしくは第二アミンか
ら誘導されるアミド基)が重要である。
アミノ基は、第一アミノ基(−NH2)または第二アミ
ノ基(−NH−R2)または第三アミノ基(−N(R3
4)であることができる(ここにR2、R3およびR4
RおよびR1について可能な基として後述するような非
置換炭化水素基)であることができる。また第一アミノ
基または第二アミノ基は、官能性に基づいて修飾された
アミノ基、特にたとえば官能性に基づいて修飾されたヒ
ドロキシル基に関して前述したアシル基でアシル化され
たアミノ基であることができる。
式[I]のRおよび/またはR1および前記R2、R3とR4
で表わされる炭化水素基は、脂肪族、芳香族または脂環
式炭化水素基であることができ、これらの基のそれぞれ
は他の系の炭化水素残基で置換されていてもよい。これ
らの基は、C112アルキル(好ましくはC17アルキ
ル)またはシクロアルキル(特にC37シクロアルキ
ル)であってよく、またこれらの基は1個ないしそれ以
上の基、たとえば1〜3個のアルキル基、好ましくは炭
素数4を越えない基(特にメチル基)で置換されていて
もよい。
RおよびR1がこれらを合わせて炭化水素基を表わす場
合、これはたとえば炭素数1〜7のアルキレン基である
のが好ましい。上記炭化水素基はそれぞれ有機官能基1
個ないしそれ以上(好ましくは1〜3個)、たとえば前
記有機官能基1個で置換されていてもよい。フエニル基
のような芳香族炭化水素基はハロゲン原子1個ないしそ
れ以上、特にハロゲン1〜3個で置換されることができ
るのが好ましい。
またRおよび/またはR1は塩素、臭素、ヨウ素または
フッ素のようなハロゲン原子であってよい。
本発明の製造法により得ることができる化合物[I]のエ
ステル類およびエーテル類は、好ましくは炭化水素また
は前記有機酸から誘導されるものである。
本発明者により完成された製造法は、その最初の工程に
おいて、レゾルシン[II](そのRおよびR1は式[I]の場
合と同意義を有する)をスルホン化することから成る。
スルホン化によりレゾルシンスルホン酸[IV](Rが水素
以外の基である場合)およびレゾルシンスルホン酸[II
I](Rが水素である場合)が導かれる。双方の場合、元
のレゾルシン化合物[II]中、Rおよび/またはR1がス
ルホン化工程で加水分解され得る基(たとえばアシルオ
キシもしくはアシルアミノ基のような基)を表わす場合
には、該Rおよび/またはR1を修飾することができ
る。次いで第二の製造工程においてレゾルシンスルホン
酸[III]または[IV]をハロゲン化してそれぞれハロゲノ
レゾルシンスルホン酸[V]または[VI]を得る。最後に第
三の製造工程において、ハロゲノレゾルシンスルホン酸
[V]または[VI]をプロトン脱スルホン化して2−ハロゲ
ノレゾルシン[I]を得る。プロトン脱スルホン化工程に
おちえ、酸性pHで加水分解されうる基Rおよび/または
1を遊離官能基に変換することができる。本発明の製
造法における上記種々の工程および操作は、各工程後中
間生成物を分離する分離工程法で行なうか、または操作
を中断せず、すなわち中間生成物を単離することなく行
なうことができる。前記のようにスルホン化またはプロ
トン脱スルホン化工程で加水分解することができる基R
および/またはR1は、たとえばアシルオキシもしくは
アシルアミノ基である。
本発明の製造法は次の反応工程で示すことができる: 上記から明らかなように、本発明の2−ハロゲノレゾル
シン類[I]の製造法は(a)式: [式中、RおよびR1は式[I]の場合と同意義。]で示さ
れるレゾルシンまたはその誘導体をスルホン化し、(b)
得られたスルホン化生成物をハロゲン化し、(c)得られ
たハロゲン化生成物をプロトン脱スルホン化し、必要に
応じて遊離官能基を官能的に修飾し、および/または修
飾された対応する官能基から該官能基を遊離させ、およ
び/または遊離官能基もしくは修飾された官能基の間で
相互に変換し、および/または得られた生成物を可能で
あればその塩に変換することから成る方法である。
第一の処理工程であるスルホン化は、自体公知のスルホ
ン化処理により行なうことができる。たとえばレゾルシ
ノール出発化合物[II]を、濃度約90〜98%の硫酸ま
たはタイター約10〜20%の遊離三酸化硫黄を発煙硫
酸で処理することができる。この反応は好ましくは約+
5〜+100℃の適当な温度で進行させるべきである。
出発化合物がレゾルシンまたは水素以外の基である置換
基R11個のみを有する誘導体である場合、レゾルシン
スルホン酸[III]が得られる。他方、置換基Rのみまた
は置換基RとR1の双方が水素以外の基である出発化合
物[II]を用いる場合、前記式[IV]に対応するスルホン化
生成物を得ることができるが、ここでRおよび/または
1を前記のように修飾でき、たとえば修飾されたアシ
ルオキシもしくはアシルアミノであるRおよび/または
1基はこれを加水分解してヒドロキシル基もしくはア
ミノ基にすることができることに留意する必要がある。
必要に応じてレゾルシンスルホン酸[III]および[IV]
を、自体常套の方法で単離することができる。たとえば
該レゾルシンスルホン酸をアルカリ金属またはアルカリ
土金属(たとえばナトリウム、カリウムまたはカルシウ
ム)との塩のような塩型として単離することができる。
この塩は、自体公知の方法たとえばスルホン化混合物を
水酸化物(たとえば水酸化アルカリ)の水溶液で処理す
ることにより製造することができる。
レゾルシンスルホン酸の塩を、自体公知方法により単離
することができる(その酸の種類およびその濃度に従っ
て方法を変更する)。レゾルシンスルホン酸またはその
誘導体のナトリウム塩のような多くの塩類は、これをた
とえば濾過または濃縮により単離することができる。レ
ゾルシンスルホン酸[III]および[IV]すなわち置換基R
およびR1の少なくとも1個が水素以外の化合物[III]お
よび[IV]の大部分ならびにその塩類(たとえばそのナト
リウム塩のようなアルカリ塩類)は新規化合物である。
本発明の第二の処理工程であるハロゲン化反応は、自体
公知の方法により実施でき、前記第一の処理工程で得ら
れたスルホン化反応混合物を用い、可能な限り水で希釈
後および/またはレゾルシンスルホン酸類をその塩(特
に前記アルカリ塩)に変換後に進行させることができ
る。またもし下記ハロゲン化方法が許容されるのであれ
ば、無水またはほとんど無水の条件下、遊離酸もしくは
その塩(たとえばアルカリ塩)のいずれかを用い、使用
する試剤に対して不活性でなければならない有機液体中
で操作することができる。
ハロゲン化反応については、塩素、臭素、ヨウ素または
フッ素によるハロゲン化反応に関する文献に記載され
た、フエノール性芳香族構造に対するすべてのハロゲン
化剤を使用することができる。この方法において、化合
物[III]および/または[IV]に塩素または臭素原子を導
入するのが好ましいことが判明したならば、塩素または
臭素をそのまま用い、酸性、塩基性もしくは中性条件で
操作することができる。また別法として、(1)容易にハ
ロゲンを形成し、またクロロ化およびブロモ化に関する
文献に記載され推奨されている誘導体(たとえば塩化ス
ルフリルまたは臭化スルフリル、クロロまたはブロモア
ミド類もしくはイミド類、過臭素エーテル類(ether pe
rbromines)たとえば過臭素ジオキサン(dioxane perbr
omine)のような誘導体)を使用するか、または(2)酸性
の水性条件中、金属(たとえばアルカリ性金属)臭素ま
たは塩素化物の混合物もしくは同様の金属の臭素酸塩ま
たは塩素酸塩の混合物により起るような酸化還元反応の
いずれかを用いることにより、反応媒体系内で(in sit
u)塩素または臭素自体を形成されることができる。
ヨウ素導入のため、反応系内でヨウ素を遊離する化合
物、たとえば水性の酸性条件中ヨウ化物とヨウ素酸塩の
混合物を用いるのが好ましい。
化合物[III]または[IV]のフルオロ化は、たとえば適当
な、好ましくは無水の条件下、二フッ化キセノンまたは
ペルクロリルフルオリド(C1FO3)で処理すること
により行なうことができる。
クロロ化およびブロモ化反応を水性条件で操作する場
合、反応系内で塩素および臭素に対応するハロゲンを生
成させるときのみ、すなわち同一反応媒体中および特に
対応するハロゲン化水素酸適当量の存在下において、ハ
ロゲン化反応は予期しえない程良好な結果をもたらすこ
とが確かめられた。これに反してハロゲンそのままを反
応媒体に加えて使用するとき、ハロゲン化は二次的生産
物を副生して反応が進み、これが収率の低下を招来し、
ハロゲノレゾルシンスルホン酸および最終のハロゲノレ
ゾルシン類の精製をも困難にする。
それ故、レゾルシンスルホン酸[III]および[IV]または
その塩類のクロロ化もしくはブロモ化を最適収率で達成
するためには、反応媒体中で容易にハロゲンを遊離する
か、反応媒体中でハロゲンが発生するか、または酸化還
元反応によりハロゲンが発生する前記のような試剤から
出発して、その反応系内で発生する塩素もしくは臭素を
用い、水性溶液中で操作する必要がある。特に希塩酸と
アルカリ塩素酸塩水溶液の混合物は塩素発生を有利に
し、希臭化水素酸とアルカリ臭素酸塩水溶液の混合物は
臭素発生を有利にする。塩素酸塩または臭素酸塩の代わ
りに二酸化マンガンのような他の酸化剤を使用すること
ができる。
水溶液中でのクロロ化またはブロモ化反応は、相当量の
酸、特にそのハロゲンに対応するハロゲン化水素酸の存
在下に行なうのが好ましい。特にハロゲン化水素酸約8
〜25%を含む水溶液中で処理すべきであって、約−5
〜+10℃の適当な温度で反応させるのが好ましい。ま
たレゾルシンスルホン酸またはその塩のクロロ化もしく
はブロモ化反応、特に遊離ハロゲンを用いる反応は、こ
の処理条件で用いる試剤と反応しない適当な希釈剤を使
用する非水性条件で行なうことができる。この方法にお
いて、たとえばニトロベンゼン、ジメチルホルムアミ
ド、四塩化炭素、塩化メチレン、濃硫酸など、またはそ
れらの混合物、例えば硫酸とベンゼン、ならびに硫酸、
ニトロベンゼンおよび塩化メチレンの混合物を使用する
ことができる。また少量の水(約8%を越えない量)を
反応媒体中に存在させることができる。良好な収率を得
るため、30℃を越えない温度で処理する必要がある。
ハロゲン化剤として塩素または臭素、および硫酸−ニト
ロベンゼンから成る希釈混合物を用いることにより、最
も良好な収率を得る温度は約+5〜+25℃である。
スルホン化反応で生成したレゾルシンスルホン酸を単離
することなく、得られた混合物を直接クロロ化またはブ
ロモ化することができる。この操作において、ニトロベ
ンゼンのような希釈剤適当量と塩素または臭素を加える
ことで充分である。
ハロゲン化されたレゾルシンスルホン酸[V]および[VI]
はそれ自体新規化合物である。ハロゲン化反応により得
られた混合物を水で希釈して得られた酸水溶液に、対応
する水酸化物を加えることにより、上記化合物をその金
属塩、特に対応するカリウム塩またはナトリウム塩のよ
うなアルカリ金属塩もしくはカルシウムのようなアルカ
リ土金属塩に変換することができる。さらに、必要に応
じてこの塩をたとえば結晶化処理により単離することが
できる(これは反応混合物の濃縮により達成される)。
本発明の第三の処理工程であるプロトン脱スルホン化
(protodesulfonation)は、ハロゲノレゾルシンスルホ
ン酸[V]および[VI]を2−ハロゲノレゾルシン[I]に変換
させる反応であって、好ましくは室温ないし150℃の
範囲で変えることができる温度でこれら酸生成物に対す
る酸水溶液の作用により達成される。この目的のため、
鉱酸たとえば20〜40%硫酸水溶液または36%塩酸
水溶液、あるいは希有機酸、たとえばトリフルオロ酢酸
もしくはモノクロル酢酸のようなハロゲン化(低級)脂
肪酸または低級脂肪族スルホン酸あるいは単環性芳香族
酸(たとえばp−トルエンスルホン酸)のような有機酸
を、たとえば20〜90%濃度の水溶液中、または酢酸
(90%)水溶液のような適当な溶媒中で使用する。こ
の加水分解の処理時間は温度および使用する酸に依存
し、1〜24時間の間で変えることができる。プロトン
脱スルホン化反応は、ハロゲノレゾルシンスルホン酸を
単離することなく、ハロゲン化反応により得られた混合
物を、上記酸濃度で処理することにより直接進行させる
ことができる。
本発明の製造法におけるプロトン脱スルホン化を行なう
特に有利な方法は、ハロゲン化(特にクロロ化またはブ
ロモ化)反応混合物を水で希釈し、自体公知の方法で存
在することもある有機溶媒を除き、次いで前記のように
得られた生成物を加水分解することから成る。
ハロゲノレゾルシンスルホン酸のプロトン脱スルホン化
により生成した2−ハロゲノレゾルシン類[I]は通常水
溶液中に見い出され、これを自体公知の方法で分離する
ことができる。特に分離操作は、たとえばクロロ化脂肪
族炭化水素(特に対称ジクロロエタンおよび塩化メチレ
ン)、エーテル類(特にエチルエーテルおよびメチルt
−ブチルエーテル)、水にわずかに可溶性であるアルコ
ール類(たとえばアミルアルコール類)、脂肪族有機酸
エステル類(たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル)の
ような有機溶媒で抽出することにより行なうことができ
る。生成した2−ハロゲノレゾルシン類[I]は、これを
たとえば減圧蒸留および/またはその塩たとえばアルカ
リ金属塩(カリウム塩もしくはナトリウム塩)への変換
(塩を自体公知の方法で単離することができる)により
精製することができる。
2−クロロレゾルシン生成物はレゾルシンと同様、水に
著しく可溶である(水中、25℃における2−クロロレ
ゾルシンの溶解性は350mg/mlである)。しかし発明
者らはレゾルシンと異なって2−クロロレゾルシンは驚
くべきことに酸水溶液中で非常に可溶性ではないことを
認めた。特に室温で濃度20〜60%の硫酸溶液(より
高い濃度で部分的スルホン化が起こる)中、および濃硫
酸塩酸溶液および中性塩類または可能な酸のアルカリ金
属もしくはアルカリ土金属塩類、水素酸(たとえば塩素
酸)、リン酸および硝酸のマグネシウムもしくはアンモ
ニウム塩、あるいは炭素数7を越えない脂肪酸(たとえ
ば酢酸またはクロロ酢酸)のような有機酸の各種塩類の
溶液中で、上記化合物は可溶性でないことを認めた。た
とえば2−クロロレゾルシン[I]の25℃の硫酸水溶
液、20℃の硫酸水溶液中の溶解度は77mg/ml、30
℃の硫酸水溶液中の溶解度は35mg/mlである。
この理由により2−クロロレゾルシンの水溶液を、まず
第一に前記のような酸または塩類で処理して抽出もしく
は沈澱させることにより、該生成物を好都合に分離する
ことができる。この2−クロロレゾルシン類分離は前記
各種処理から独立した技術であって、この技術もまた本
発明の目的の一つである。
本発明の処理法により製せられたハロゲノレゾルシン類
が官能基を含有する場合、このハロゲノレゾルシンを自
体公知の方法で官能基修飾することによりその誘導体に
変換するか、または本発明の処理により得られる種類の
誘導体中の修飾された官能基を遊離基にすることができ
る。さらに、この遊離官能基または修飾された官能基
を、それぞれ他方の基に変換することができる。前記炭
化水素基中に存在する官能基および/または化合物[I]
に存在するヒドロキシル基2個をそのまま存置したまま
で芳香族官能基Rおよび/またはR1を修飾するために
は、この型の選択的変換を許容する適当な方法を選ぶ必
要がある。
脂肪族または芳香族カルボキシル基をエステル化するた
め、この酸をその塩(たとえばアルカリ塩)に変換し、
これをハロゲン化炭化水素と反応させる。対応するアミ
ド類は上記エステル体をアンモニアまたはアミンで処理
することにより得られる。第一または第二アミノ官能基
は、これをハロゲン化アルキルまたは他のアルキルエス
テル(たとえば中性硫酸エステル)またはアルキル酸に
よる処理、もしくは適当なアルデヒド類(たとえばホル
ムアルデヒド)およびギ酸による還元的アルキル化によ
り、アルキル化することができる。また第四級アンモニ
ウム塩を製造することができる。
他方、本発明の製造法に従って得られた生成物[I]の官
能基として、常套の方法で修飾された官能基を実際に含
有する場合、公知方法でこの修飾された官能基を遊離さ
せることができる。たとえばエーテル性官能基の酸加水
分解、あるいは可能ならばエステル化されたヒドロキシ
ル基の還元的開裂または酸もしくはアルカリ加水分解に
より、ヒドロキシル官能基を得ることができる。エステ
ル基をアルカリまたは酸加水分解することにより、カル
ボキシル官能基を得ることができる。
官能基の他の官能基への可能は変換は、自体公知の方法
により行なうことができる。たとえばよく知られた芳香
族化合物の化学反応によるジアゾニウム塩を経由するこ
とにより芳香族第一アミノ基をヒドロキシル基またはハ
ロゲンに変換するか、あるいは脂肪族第一アミノ基を亜
硝酸でヒドロキシル基に変換することができる。
また本発明は前記製造法の変法を包含し、その変法に従
って本発明の製造法の任意の段階の工程を中断するか、
中間体化合物から出発して残余の工程を進めるか、ある
いは出発物質を反応液中に形成させることができる。
次に実施例をあげて本発明の製造法を具体的に詳述す
る。実施例の記載は本発明の技術的範囲を限定するもの
ではない。
実施例1 レゾルシン−4,6−ジスルホン酸の製造(スルホン
化): 96%(m/m)硫酸156mlを入れた500ml容器(フ
ラスコ)にレゾルシン52.5gを加える。レゾルシンが完
全に溶解する前に更に96%硫酸156mlとレゾルシン
52.5gを加える。反応物の温度が上昇する傾向がある
が、最高90°を越えない。温度が安定するか低下する
傾向にあるとき、反応物を110°に加熱し、この温度
を2時間保持する。次いで主要部を室温に冷やす。
薄層クロマトグラフィー分析により、反応混合物中、主
成分はレゾルシン−4,6−ジスルホン酸とごく少量のレ
ゾルシンモノスルホン酸とレゾルシントリスルホン酸で
あり、レゾルシンは存在しないことを決定することがで
きる。イソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸
(2:2:1:1)により調製さた溶離剤混合物でセル
ロース薄層クロマトグラフィー分析を行なう(Rf=0.
25)。
反応混合物に濃塩酸を加えて該混合物からレゾルシン−
4,6−ジスルホン酸を沈澱させることによりこの生成物
を分離する。
実施例2 2−クロロレゾルシン−4,6−ジスルホン酸の製造(塩
素酸塩と塩酸によるクロロ化): 氷472gと37%(m/m)濃塩酸480mlを入れた2
反応容器(フラスコ)に、実施例1で得られた反応混
合物を注ぐ。混合物の温度を−15℃に冷却し、塩素酸
カリウム60gをゆっくり添加する(この操作は非常に
ゆっくり12時間持続して進めるべきである。)。反応
混合物を室温に達するのを許容し、塩素酸カリウム添加
終了時点から10時間後、水酸化カリウム127.5gと水
127gで調製された溶液を加える。12時間後、室温
の懸濁液を濾過する。
フィルター上に残留する固体は2−クロロレゾルシン−
4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gである。イソア
ミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:2:1:
1)を溶離剤とするセルロース薄層クロマトグラフィー
に付す((Rf=0.46)。
実施例3 2−クロロレゾルシンの製造(希塩酸によるプロトン脱
スルホン化): 前記実施例2で得られた2−クロロレゾルシン−4,6−
ジスルホン酸カリウム塩229gを水1975mlと96
%(m/m)硫酸427gで処理する。この懸濁液を24
時間還流する。
薄層クロマトグラフィーにより、反応混合物中に主とし
て2−クロロレゾルシン86gが存在するが少量のレゾ
ルシンの存在を確認することができる。シリカ層上、塩
化メチレン/酢酸(90:10)により調製された溶離
剤混合物によるクロマトグラフィー分析に付す(RF=
0.77)。
実施例4 2−クロロレゾルシンの抽出と精製: 前記実施例3で得られた反応混合物を96%硫酸350
gで処理し、この方法で約30%(m/m)濃度を有する
硫酸溶液を得る。この溶液を室温にし、次いで酢酸ブチ
ルで抽出する。
酢酸ブチル溶液を蒸発させ、残渣として2−クロロレゾ
ルシン85.5gを得る。ジクロロエタンからの結晶の融点
97℃。
実施例5 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、塩素によるクロロ化、プロトン脱スルホン
化): 前記実施例1で得られた反応混合物を15℃にし、15
℃に保持しながら塩素120gを加える。この混合物を
氷450gと水400ml含有2容器(フラスコ)に注
ぎ、得られた水層に水150mlと水酸化ナトリウム76
gから調製された溶液を加え、次いでこれを24時間還
流する。
この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、エーテ
ルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して
2−クロロレゾルシン88g(融点97℃)を得る。
実施例6 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、ニトロベンゼンの存在下塩素によるクロロ化、
プロトン脱スルホン化): 前記実施例1で得られた反応混合物にニトロベンゼン2
00mlを加え、定常的に攪拌しながら温度を60℃にす
る。15分後、15℃に冷却し、15℃に保持しながら
塩素120gを加える。次いで反応混合物を、氷450
gと水400ml含有分液漏斗に注ぎ、有機層を分離し、
水層を2容器(フラスコ)に移す。
この水層に、水150mlと水酸化ナトリウム76gから
調製した溶液を加え、次いでこの混合物を24時間還流
する。
溶液を室温にしてエチルエーテルで抽出後、エーテルを
蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して2−
クロロレゾルシン93g(融点97℃)を得る。
実施例7 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、ニトロベンゼンと塩化メチレンの存在下塩素に
よるクロロ化、プロトン脱スルホン化): 前記実施例1で得られた反応混合物にニトロベンゼン2
00mlを加え、定常的に攪拌しながら温度を60℃にす
る。15分後、15℃に冷却して塩化メチレン50mlを
加え、次いで15℃に保持しながら塩素100gを加え
る。
反応混合物を氷450gと水400ml含有分液漏斗に注
ぎ、有機層を分離して水層を2容器(フラスコ)に移
す。水層に水150mlと水酸化ナトリウム76gから調
製された溶液を加え、次いでこの混合物を24時間還流
する。この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、
エーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶
化して2−クロロレゾルシン103g(融点97℃)を
得る。
実施例8 中間体を分離せずに行う2−ブロモレゾルシンの製造
(スルホン化、臭素によるブロム化、プロトン脱スルホ
ン化): 実施例1で得た反応混合物を10℃にし、温度を常に1
0℃に保ちつつ臭素260gを加える。ついで混合物
を、氷450gと水600mlを含む2リットル容のボー
ルに注入し、生成する水相に水150mlと水酸化ナトリ
ウム76gの溶液を加え、24時間加熱還流する。
溶液を室温にもどし、エチルエーテルで抽出し、抽出液
からエーテルを留去し、残留物をベンゼンから結晶化し
て、2−ブロモレゾルシン(融点101℃)54gを得
る。
本発明を以上のように詳述したが、これらの製造法を多
くの方法に変えることができることは明らかである。か
かる変法は本発明の意図と範囲から逸脱するものと見な
されるべきではなく、この分野の技術者にとって自明で
あるようにすべてこの変法は前記特許請求の範囲内に包
含されるものとする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 215/76 7457−4H 309/28 7419−4H 309/42 7419−4H

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
    異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
    1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
    換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
    ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
    および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
    基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
    ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法であっ
    て、 式VまたはVI: で示される化合物を水性酸で室温〜約150℃の温度で
    プロトン脱スルホン化することを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
    異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
    1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
    換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
    ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
    および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
    基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
    ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法であっ
    て、 (a)レゾルシンまたは式: [式中、RおよびR1は上記と同じ意味である] を有するレゾルシンの誘導体をスルホン化し、式IIIま
    たはIV: を有するスルホン化生成物を得、 (b)上記スルホン化生成物をハロゲン化し、式VまたはV
    I: を有するハロゲン化生成物を得、 (c)上記ハロゲン化生成物を水性酸で室温〜約150℃
    の温度でプロトン脱スルホン化することを特徴とする方
    法。
  3. 【請求項3】上記(a)、(b)および(c)の工程を同一の反
    応容器中で行うものである特許請求の範囲第2項記載の
    方法。
  4. 【請求項4】上記スルホン化生成物が、レゾルシンまた
    は式(II)のレゾルシンの誘導体を、濃度90%〜98%
    のスルホン酸または発煙硫酸を用いる処理によりスルホ
    ン化することにより得られるものである、特許請求の範
    囲第2または3項記載の方法。
  5. 【請求項5】スルホン化工程により製せられたスルホン
    化生成物を、クロロ化、ブロモ化またはヨード化する特
    許請求の範囲第2または3項記載の方法。
  6. 【請求項6】スルホン化生成物をレゾルシンスルホン酸
    またはその塩として単離し、無水条件もしくは本質的に
    無水の条件でハロゲン化する特許請求の範囲第2または
    3項記載の方法。
  7. 【請求項7】水性条件下、反応系中で発生した塩素、臭
    素またはヨウ素を用い、対応するハロゲン化水素酸の適
    当量の存在下にクロロ化、ブロモ化またはヨード化を行
    なう特許請求の範囲第5項記載の方法。
  8. 【請求項8】30℃以下でニトロベンゼンと塩化メチレ
    ンを添加後、スルホン化生成物に対してクロロ化または
    ブロモ化を行なう特許請求の範囲第6項記載の方法。
  9. 【請求項9】上記式(I)の2−ハロゲノレゾルシン
    が、RおよびR1基の一方または両方を脱離させ、Rお
    よびR1のいずれか、または両方を、置換または非置換
    のヒドロキシル、カルボキシル、アミノ、シアノもしく
    はアミド基、および上記ヒドロキシル、カルボキシルな
    らびにアミノ基のエステルもしくはエーテル、またはそ
    れらの塩、またはハロゲン原子からなる群から選ばれる
    置換基R2で置換されることにより、さらに変換され
    る、特許請求の範囲第1または2項記載の方法。
  10. 【請求項10】RおよびR1のいずれか一方または双方
    がヒドロキシル基であり、ヒドロキシル基が炭素数1〜
    7を有する低級脂肪族アルコール、ベンジルアルコール
    もしくはフエニルエチルアルコールでエーテル化された
    基であるかまたはヒドロキシル基が炭素数1〜15の有
    機酸でエステル化された基である特許請求の範囲第9項
    記載の方法。
  11. 【請求項11】アミノ基が炭素数1〜7を有する脂肪族
    炭化水素から誘導された第二または第三アミノ基である
    特許請求の範囲第9項記載の方法。
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