JPH0635408B2 - ハロゲノレゾルシン類の製造法 - Google Patents
ハロゲノレゾルシン類の製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C35/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
- C07C35/02—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring monocyclic
- C07C35/08—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring monocyclic containing a six-membered rings
- C07C35/14—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring monocyclic containing a six-membered rings with more than one hydroxy group bound to the ring
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明はハロゲノレゾルシン類の製造法に関する。
[概要] 更に詳しくは本発明は、式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
R1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法に関す
る。
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
R1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法に関す
る。
本発明の製造法は、2位にハロゲンを含まない対応する
レゾルシン類をスルホン化し、得られたスルホン酸をハ
ロゲン化し、これにより得られたハロゲン化スルホン酸
を酸加水分解によりプロトン脱スルホン化(Protode-su
lfonate)し、所望の場合には、存在することもある官
能基を修飾しうることから成る。
レゾルシン類をスルホン化し、得られたスルホン酸をハ
ロゲン化し、これにより得られたハロゲン化スルホン酸
を酸加水分解によりプロトン脱スルホン化(Protode-su
lfonate)し、所望の場合には、存在することもある官
能基を修飾しうることから成る。
[発明の背景] ハロゲノレゾルシン類[I]は、近年産業上重要となった
化合物である。たとえば米国特許第4,296,039号で、2
−クロロレゾルシンおよび2−ブロモレゾルシンは、8
位がハロゲン化された、医薬目的で用いることができる
クマリン類を製造するために使用しうることが開示され
ている。しかし、2−ハロゲノレゾルシン類製造のため
の公知方法は満足な結果を与えない。すなわち、レゾル
シン類の直接的ハロゲン化は分離困難なハロゲン誘導体
混合物を生ずる。また、レゾルシン類をジヒドロレゾル
シンへ変換し、続いてハロゲン化およびハロゲノレゾル
シン類の形成をもたらすハロゲン化水素酸の脱離を行な
うことは、産業規模で実施するのが困難であることが証
明されている。
化合物である。たとえば米国特許第4,296,039号で、2
−クロロレゾルシンおよび2−ブロモレゾルシンは、8
位がハロゲン化された、医薬目的で用いることができる
クマリン類を製造するために使用しうることが開示され
ている。しかし、2−ハロゲノレゾルシン類製造のため
の公知方法は満足な結果を与えない。すなわち、レゾル
シン類の直接的ハロゲン化は分離困難なハロゲン誘導体
混合物を生ずる。また、レゾルシン類をジヒドロレゾル
シンへ変換し、続いてハロゲン化およびハロゲノレゾル
シン類の形成をもたらすハロゲン化水素酸の脱離を行な
うことは、産業規模で実施するのが困難であることが証
明されている。
本発明は、2位にハロゲンを含まないレゾルシン類をス
ルホン化し、得られたスルホン酸をハロゲン化し、次い
でこのハロゲン化スルホン酸を酸加水分解によってプロ
トン脱スルホン化し、および存在することもある官能基
を必要に応じて修飾しうることから成る方法を提供する
ことにより達成される。
ルホン化し、得られたスルホン酸をハロゲン化し、次い
でこのハロゲン化スルホン酸を酸加水分解によってプロ
トン脱スルホン化し、および存在することもある官能基
を必要に応じて修飾しうることから成る方法を提供する
ことにより達成される。
[発明の詳細な記載] 次に本発明の内容について詳述する。
本発明はハロゲン化フエノール類の製造法を提供する。
特に本発明の製造法は、式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
R1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の新規製造方法を提
供することができる。また本発明は2−ハロゲノレゾル
シン類[I]のエステル類、エーテル類および塩類および
塩類の製造法を提供することができる。
特に本発明の製造法は、式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
R1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の新規製造方法を提
供することができる。また本発明は2−ハロゲノレゾル
シン類[I]のエステル類、エーテル類および塩類および
塩類の製造法を提供することができる。
式[I]において、ハロゲン原子Xは、塩素、臭素、ヨウ
素またはフッ素であることができるが、好ましくは塩
素、臭素またはヨウ素である。
素またはフッ素であることができるが、好ましくは塩
素、臭素またはヨウ素である。
官能性に基づいて修飾されたヒドロキシル基のうち、特
に低級脂肪族アルコール類、たとえば炭素原子数1−7
のもの(たとえばメチル、エチル、n−プロピルおよび
イソプロピルアルコール、ブチルアルコールおよびアミ
ルアルコール)または芳香族アルコール類(たとえばベ
ンジルアルコールまたはフェネチルアルコール)でエー
テル化された基が特に重要である。他の官能性に基づい
て修飾されたヒドロキシル基はエステル化されたヒドロ
キシル基、特に次のような酸でエステル化されたヒドロ
キシル基である:炭素数1〜15を有する有機酸、たと
えば炭素数7を越えない低級脂肪酸(ギ酸、酢酸プロピ
オン酸、酪酸類)またはコハク酸およびマロン酸のよう
な二塩基酸、芳香族酸(たとえば安息香酸、その誘導体
のような酸)あるいはスルホン酸、たとえば炭素数1〜
4のアルキルスルホン酸または単環アリールスルホン酸
(p−トルエンスルホン酸のような酸)など。
に低級脂肪族アルコール類、たとえば炭素原子数1−7
のもの(たとえばメチル、エチル、n−プロピルおよび
イソプロピルアルコール、ブチルアルコールおよびアミ
ルアルコール)または芳香族アルコール類(たとえばベ
ンジルアルコールまたはフェネチルアルコール)でエー
テル化された基が特に重要である。他の官能性に基づい
て修飾されたヒドロキシル基はエステル化されたヒドロ
キシル基、特に次のような酸でエステル化されたヒドロ
キシル基である:炭素数1〜15を有する有機酸、たと
えば炭素数7を越えない低級脂肪酸(ギ酸、酢酸プロピ
オン酸、酪酸類)またはコハク酸およびマロン酸のよう
な二塩基酸、芳香族酸(たとえば安息香酸、その誘導体
のような酸)あるいはスルホン酸、たとえば炭素数1〜
4のアルキルスルホン酸または単環アリールスルホン酸
(p−トルエンスルホン酸のような酸)など。
官能性に基づいて修飾されたカルボキシル基は、たとえ
ばエステル化されたカルボキシル基、好ましくは炭素数
1〜7を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジルア
ルコールもしくはフェネチルアルコールのような芳香脂
肪族(araliphatic)アルコールでエステル化されたカ
ルボキシル基である。官能性に基づいて修飾されたカル
ボキシル基に関し、ニトリル基−CNまたはアミド基
(たとえばアミド基−CONH2もしくは第二アミンか
ら誘導されるアミド基)が重要である。
ばエステル化されたカルボキシル基、好ましくは炭素数
1〜7を有する低級脂肪族アルコールまたはベンジルア
ルコールもしくはフェネチルアルコールのような芳香脂
肪族(araliphatic)アルコールでエステル化されたカ
ルボキシル基である。官能性に基づいて修飾されたカル
ボキシル基に関し、ニトリル基−CNまたはアミド基
(たとえばアミド基−CONH2もしくは第二アミンか
ら誘導されるアミド基)が重要である。
アミノ基は、第一アミノ基(−NH2)または第二アミ
ノ基(−NH−R2)または第三アミノ基(−N(R3)
R4)であることができる(ここにR2、R3およびR4は
RおよびR1について可能な基として後述するような非
置換炭化水素基)であることができる。また第一アミノ
基または第二アミノ基は、官能性に基づいて修飾された
アミノ基、特にたとえば官能性に基づいて修飾されたヒ
ドロキシル基に関して前述したアシル基でアシル化され
たアミノ基であることができる。
ノ基(−NH−R2)または第三アミノ基(−N(R3)
R4)であることができる(ここにR2、R3およびR4は
RおよびR1について可能な基として後述するような非
置換炭化水素基)であることができる。また第一アミノ
基または第二アミノ基は、官能性に基づいて修飾された
アミノ基、特にたとえば官能性に基づいて修飾されたヒ
ドロキシル基に関して前述したアシル基でアシル化され
たアミノ基であることができる。
式[I]のRおよび/またはR1および前記R2、R3とR4
で表わされる炭化水素基は、脂肪族、芳香族または脂環
式炭化水素基であることができ、これらの基のそれぞれ
は他の系の炭化水素残基で置換されていてもよい。これ
らの基は、C1〜12アルキル(好ましくはC1〜7アルキ
ル)またはシクロアルキル(特にC3〜7シクロアルキ
ル)であってよく、またこれらの基は1個ないしそれ以
上の基、たとえば1〜3個のアルキル基、好ましくは炭
素数4を越えない基(特にメチル基)で置換されていて
もよい。
で表わされる炭化水素基は、脂肪族、芳香族または脂環
式炭化水素基であることができ、これらの基のそれぞれ
は他の系の炭化水素残基で置換されていてもよい。これ
らの基は、C1〜12アルキル(好ましくはC1〜7アルキ
ル)またはシクロアルキル(特にC3〜7シクロアルキ
ル)であってよく、またこれらの基は1個ないしそれ以
上の基、たとえば1〜3個のアルキル基、好ましくは炭
素数4を越えない基(特にメチル基)で置換されていて
もよい。
RおよびR1がこれらを合わせて炭化水素基を表わす場
合、これはたとえば炭素数1〜7のアルキレン基である
のが好ましい。上記炭化水素基はそれぞれ有機官能基1
個ないしそれ以上(好ましくは1〜3個)、たとえば前
記有機官能基1個で置換されていてもよい。フエニル基
のような芳香族炭化水素基はハロゲン原子1個ないしそ
れ以上、特にハロゲン1〜3個で置換されることができ
るのが好ましい。
合、これはたとえば炭素数1〜7のアルキレン基である
のが好ましい。上記炭化水素基はそれぞれ有機官能基1
個ないしそれ以上(好ましくは1〜3個)、たとえば前
記有機官能基1個で置換されていてもよい。フエニル基
のような芳香族炭化水素基はハロゲン原子1個ないしそ
れ以上、特にハロゲン1〜3個で置換されることができ
るのが好ましい。
またRおよび/またはR1は塩素、臭素、ヨウ素または
フッ素のようなハロゲン原子であってよい。
フッ素のようなハロゲン原子であってよい。
本発明の製造法により得ることができる化合物[I]のエ
ステル類およびエーテル類は、好ましくは炭化水素また
は前記有機酸から誘導されるものである。
ステル類およびエーテル類は、好ましくは炭化水素また
は前記有機酸から誘導されるものである。
本発明者により完成された製造法は、その最初の工程に
おいて、レゾルシン[II](そのRおよびR1は式[I]の場
合と同意義を有する)をスルホン化することから成る。
スルホン化によりレゾルシンスルホン酸[IV](Rが水素
以外の基である場合)およびレゾルシンスルホン酸[II
I](Rが水素である場合)が導かれる。双方の場合、元
のレゾルシン化合物[II]中、Rおよび/またはR1がス
ルホン化工程で加水分解され得る基(たとえばアシルオ
キシもしくはアシルアミノ基のような基)を表わす場合
には、該Rおよび/またはR1を修飾することができ
る。次いで第二の製造工程においてレゾルシンスルホン
酸[III]または[IV]をハロゲン化してそれぞれハロゲノ
レゾルシンスルホン酸[V]または[VI]を得る。最後に第
三の製造工程において、ハロゲノレゾルシンスルホン酸
[V]または[VI]をプロトン脱スルホン化して2−ハロゲ
ノレゾルシン[I]を得る。プロトン脱スルホン化工程に
おちえ、酸性pHで加水分解されうる基Rおよび/または
R1を遊離官能基に変換することができる。本発明の製
造法における上記種々の工程および操作は、各工程後中
間生成物を分離する分離工程法で行なうか、または操作
を中断せず、すなわち中間生成物を単離することなく行
なうことができる。前記のようにスルホン化またはプロ
トン脱スルホン化工程で加水分解することができる基R
および/またはR1は、たとえばアシルオキシもしくは
アシルアミノ基である。
おいて、レゾルシン[II](そのRおよびR1は式[I]の場
合と同意義を有する)をスルホン化することから成る。
スルホン化によりレゾルシンスルホン酸[IV](Rが水素
以外の基である場合)およびレゾルシンスルホン酸[II
I](Rが水素である場合)が導かれる。双方の場合、元
のレゾルシン化合物[II]中、Rおよび/またはR1がス
ルホン化工程で加水分解され得る基(たとえばアシルオ
キシもしくはアシルアミノ基のような基)を表わす場合
には、該Rおよび/またはR1を修飾することができ
る。次いで第二の製造工程においてレゾルシンスルホン
酸[III]または[IV]をハロゲン化してそれぞれハロゲノ
レゾルシンスルホン酸[V]または[VI]を得る。最後に第
三の製造工程において、ハロゲノレゾルシンスルホン酸
[V]または[VI]をプロトン脱スルホン化して2−ハロゲ
ノレゾルシン[I]を得る。プロトン脱スルホン化工程に
おちえ、酸性pHで加水分解されうる基Rおよび/または
R1を遊離官能基に変換することができる。本発明の製
造法における上記種々の工程および操作は、各工程後中
間生成物を分離する分離工程法で行なうか、または操作
を中断せず、すなわち中間生成物を単離することなく行
なうことができる。前記のようにスルホン化またはプロ
トン脱スルホン化工程で加水分解することができる基R
および/またはR1は、たとえばアシルオキシもしくは
アシルアミノ基である。
本発明の製造法は次の反応工程で示すことができる: 上記から明らかなように、本発明の2−ハロゲノレゾル
シン類[I]の製造法は(a)式: [式中、RおよびR1は式[I]の場合と同意義。]で示さ
れるレゾルシンまたはその誘導体をスルホン化し、(b)
得られたスルホン化生成物をハロゲン化し、(c)得られ
たハロゲン化生成物をプロトン脱スルホン化し、必要に
応じて遊離官能基を官能的に修飾し、および/または修
飾された対応する官能基から該官能基を遊離させ、およ
び/または遊離官能基もしくは修飾された官能基の間で
相互に変換し、および/または得られた生成物を可能で
あればその塩に変換することから成る方法である。
シン類[I]の製造法は(a)式: [式中、RおよびR1は式[I]の場合と同意義。]で示さ
れるレゾルシンまたはその誘導体をスルホン化し、(b)
得られたスルホン化生成物をハロゲン化し、(c)得られ
たハロゲン化生成物をプロトン脱スルホン化し、必要に
応じて遊離官能基を官能的に修飾し、および/または修
飾された対応する官能基から該官能基を遊離させ、およ
び/または遊離官能基もしくは修飾された官能基の間で
相互に変換し、および/または得られた生成物を可能で
あればその塩に変換することから成る方法である。
第一の処理工程であるスルホン化は、自体公知のスルホ
ン化処理により行なうことができる。たとえばレゾルシ
ノール出発化合物[II]を、濃度約90〜98%の硫酸ま
たはタイター約10〜20%の遊離三酸化硫黄を発煙硫
酸で処理することができる。この反応は好ましくは約+
5〜+100℃の適当な温度で進行させるべきである。
出発化合物がレゾルシンまたは水素以外の基である置換
基R11個のみを有する誘導体である場合、レゾルシン
スルホン酸[III]が得られる。他方、置換基Rのみまた
は置換基RとR1の双方が水素以外の基である出発化合
物[II]を用いる場合、前記式[IV]に対応するスルホン化
生成物を得ることができるが、ここでRおよび/または
R1を前記のように修飾でき、たとえば修飾されたアシ
ルオキシもしくはアシルアミノであるRおよび/または
R1基はこれを加水分解してヒドロキシル基もしくはア
ミノ基にすることができることに留意する必要がある。
ン化処理により行なうことができる。たとえばレゾルシ
ノール出発化合物[II]を、濃度約90〜98%の硫酸ま
たはタイター約10〜20%の遊離三酸化硫黄を発煙硫
酸で処理することができる。この反応は好ましくは約+
5〜+100℃の適当な温度で進行させるべきである。
出発化合物がレゾルシンまたは水素以外の基である置換
基R11個のみを有する誘導体である場合、レゾルシン
スルホン酸[III]が得られる。他方、置換基Rのみまた
は置換基RとR1の双方が水素以外の基である出発化合
物[II]を用いる場合、前記式[IV]に対応するスルホン化
生成物を得ることができるが、ここでRおよび/または
R1を前記のように修飾でき、たとえば修飾されたアシ
ルオキシもしくはアシルアミノであるRおよび/または
R1基はこれを加水分解してヒドロキシル基もしくはア
ミノ基にすることができることに留意する必要がある。
必要に応じてレゾルシンスルホン酸[III]および[IV]
を、自体常套の方法で単離することができる。たとえば
該レゾルシンスルホン酸をアルカリ金属またはアルカリ
土金属(たとえばナトリウム、カリウムまたはカルシウ
ム)との塩のような塩型として単離することができる。
を、自体常套の方法で単離することができる。たとえば
該レゾルシンスルホン酸をアルカリ金属またはアルカリ
土金属(たとえばナトリウム、カリウムまたはカルシウ
ム)との塩のような塩型として単離することができる。
この塩は、自体公知の方法たとえばスルホン化混合物を
水酸化物(たとえば水酸化アルカリ)の水溶液で処理す
ることにより製造することができる。
水酸化物(たとえば水酸化アルカリ)の水溶液で処理す
ることにより製造することができる。
レゾルシンスルホン酸の塩を、自体公知方法により単離
することができる(その酸の種類およびその濃度に従っ
て方法を変更する)。レゾルシンスルホン酸またはその
誘導体のナトリウム塩のような多くの塩類は、これをた
とえば濾過または濃縮により単離することができる。レ
ゾルシンスルホン酸[III]および[IV]すなわち置換基R
およびR1の少なくとも1個が水素以外の化合物[III]お
よび[IV]の大部分ならびにその塩類(たとえばそのナト
リウム塩のようなアルカリ塩類)は新規化合物である。
することができる(その酸の種類およびその濃度に従っ
て方法を変更する)。レゾルシンスルホン酸またはその
誘導体のナトリウム塩のような多くの塩類は、これをた
とえば濾過または濃縮により単離することができる。レ
ゾルシンスルホン酸[III]および[IV]すなわち置換基R
およびR1の少なくとも1個が水素以外の化合物[III]お
よび[IV]の大部分ならびにその塩類(たとえばそのナト
リウム塩のようなアルカリ塩類)は新規化合物である。
本発明の第二の処理工程であるハロゲン化反応は、自体
公知の方法により実施でき、前記第一の処理工程で得ら
れたスルホン化反応混合物を用い、可能な限り水で希釈
後および/またはレゾルシンスルホン酸類をその塩(特
に前記アルカリ塩)に変換後に進行させることができ
る。またもし下記ハロゲン化方法が許容されるのであれ
ば、無水またはほとんど無水の条件下、遊離酸もしくは
その塩(たとえばアルカリ塩)のいずれかを用い、使用
する試剤に対して不活性でなければならない有機液体中
で操作することができる。
公知の方法により実施でき、前記第一の処理工程で得ら
れたスルホン化反応混合物を用い、可能な限り水で希釈
後および/またはレゾルシンスルホン酸類をその塩(特
に前記アルカリ塩)に変換後に進行させることができ
る。またもし下記ハロゲン化方法が許容されるのであれ
ば、無水またはほとんど無水の条件下、遊離酸もしくは
その塩(たとえばアルカリ塩)のいずれかを用い、使用
する試剤に対して不活性でなければならない有機液体中
で操作することができる。
ハロゲン化反応については、塩素、臭素、ヨウ素または
フッ素によるハロゲン化反応に関する文献に記載され
た、フエノール性芳香族構造に対するすべてのハロゲン
化剤を使用することができる。この方法において、化合
物[III]および/または[IV]に塩素または臭素原子を導
入するのが好ましいことが判明したならば、塩素または
臭素をそのまま用い、酸性、塩基性もしくは中性条件で
操作することができる。また別法として、(1)容易にハ
ロゲンを形成し、またクロロ化およびブロモ化に関する
文献に記載され推奨されている誘導体(たとえば塩化ス
ルフリルまたは臭化スルフリル、クロロまたはブロモア
ミド類もしくはイミド類、過臭素エーテル類(ether pe
rbromines)たとえば過臭素ジオキサン(dioxane perbr
omine)のような誘導体)を使用するか、または(2)酸性
の水性条件中、金属(たとえばアルカリ性金属)臭素ま
たは塩素化物の混合物もしくは同様の金属の臭素酸塩ま
たは塩素酸塩の混合物により起るような酸化還元反応の
いずれかを用いることにより、反応媒体系内で(in sit
u)塩素または臭素自体を形成されることができる。
フッ素によるハロゲン化反応に関する文献に記載され
た、フエノール性芳香族構造に対するすべてのハロゲン
化剤を使用することができる。この方法において、化合
物[III]および/または[IV]に塩素または臭素原子を導
入するのが好ましいことが判明したならば、塩素または
臭素をそのまま用い、酸性、塩基性もしくは中性条件で
操作することができる。また別法として、(1)容易にハ
ロゲンを形成し、またクロロ化およびブロモ化に関する
文献に記載され推奨されている誘導体(たとえば塩化ス
ルフリルまたは臭化スルフリル、クロロまたはブロモア
ミド類もしくはイミド類、過臭素エーテル類(ether pe
rbromines)たとえば過臭素ジオキサン(dioxane perbr
omine)のような誘導体)を使用するか、または(2)酸性
の水性条件中、金属(たとえばアルカリ性金属)臭素ま
たは塩素化物の混合物もしくは同様の金属の臭素酸塩ま
たは塩素酸塩の混合物により起るような酸化還元反応の
いずれかを用いることにより、反応媒体系内で(in sit
u)塩素または臭素自体を形成されることができる。
ヨウ素導入のため、反応系内でヨウ素を遊離する化合
物、たとえば水性の酸性条件中ヨウ化物とヨウ素酸塩の
混合物を用いるのが好ましい。
物、たとえば水性の酸性条件中ヨウ化物とヨウ素酸塩の
混合物を用いるのが好ましい。
化合物[III]または[IV]のフルオロ化は、たとえば適当
な、好ましくは無水の条件下、二フッ化キセノンまたは
ペルクロリルフルオリド(C1FO3)で処理すること
により行なうことができる。
な、好ましくは無水の条件下、二フッ化キセノンまたは
ペルクロリルフルオリド(C1FO3)で処理すること
により行なうことができる。
クロロ化およびブロモ化反応を水性条件で操作する場
合、反応系内で塩素および臭素に対応するハロゲンを生
成させるときのみ、すなわち同一反応媒体中および特に
対応するハロゲン化水素酸適当量の存在下において、ハ
ロゲン化反応は予期しえない程良好な結果をもたらすこ
とが確かめられた。これに反してハロゲンそのままを反
応媒体に加えて使用するとき、ハロゲン化は二次的生産
物を副生して反応が進み、これが収率の低下を招来し、
ハロゲノレゾルシンスルホン酸および最終のハロゲノレ
ゾルシン類の精製をも困難にする。
合、反応系内で塩素および臭素に対応するハロゲンを生
成させるときのみ、すなわち同一反応媒体中および特に
対応するハロゲン化水素酸適当量の存在下において、ハ
ロゲン化反応は予期しえない程良好な結果をもたらすこ
とが確かめられた。これに反してハロゲンそのままを反
応媒体に加えて使用するとき、ハロゲン化は二次的生産
物を副生して反応が進み、これが収率の低下を招来し、
ハロゲノレゾルシンスルホン酸および最終のハロゲノレ
ゾルシン類の精製をも困難にする。
それ故、レゾルシンスルホン酸[III]および[IV]または
その塩類のクロロ化もしくはブロモ化を最適収率で達成
するためには、反応媒体中で容易にハロゲンを遊離する
か、反応媒体中でハロゲンが発生するか、または酸化還
元反応によりハロゲンが発生する前記のような試剤から
出発して、その反応系内で発生する塩素もしくは臭素を
用い、水性溶液中で操作する必要がある。特に希塩酸と
アルカリ塩素酸塩水溶液の混合物は塩素発生を有利に
し、希臭化水素酸とアルカリ臭素酸塩水溶液の混合物は
臭素発生を有利にする。塩素酸塩または臭素酸塩の代わ
りに二酸化マンガンのような他の酸化剤を使用すること
ができる。
その塩類のクロロ化もしくはブロモ化を最適収率で達成
するためには、反応媒体中で容易にハロゲンを遊離する
か、反応媒体中でハロゲンが発生するか、または酸化還
元反応によりハロゲンが発生する前記のような試剤から
出発して、その反応系内で発生する塩素もしくは臭素を
用い、水性溶液中で操作する必要がある。特に希塩酸と
アルカリ塩素酸塩水溶液の混合物は塩素発生を有利に
し、希臭化水素酸とアルカリ臭素酸塩水溶液の混合物は
臭素発生を有利にする。塩素酸塩または臭素酸塩の代わ
りに二酸化マンガンのような他の酸化剤を使用すること
ができる。
水溶液中でのクロロ化またはブロモ化反応は、相当量の
酸、特にそのハロゲンに対応するハロゲン化水素酸の存
在下に行なうのが好ましい。特にハロゲン化水素酸約8
〜25%を含む水溶液中で処理すべきであって、約−5
〜+10℃の適当な温度で反応させるのが好ましい。ま
たレゾルシンスルホン酸またはその塩のクロロ化もしく
はブロモ化反応、特に遊離ハロゲンを用いる反応は、こ
の処理条件で用いる試剤と反応しない適当な希釈剤を使
用する非水性条件で行なうことができる。この方法にお
いて、たとえばニトロベンゼン、ジメチルホルムアミ
ド、四塩化炭素、塩化メチレン、濃硫酸など、またはそ
れらの混合物、例えば硫酸とベンゼン、ならびに硫酸、
ニトロベンゼンおよび塩化メチレンの混合物を使用する
ことができる。また少量の水(約8%を越えない量)を
反応媒体中に存在させることができる。良好な収率を得
るため、30℃を越えない温度で処理する必要がある。
ハロゲン化剤として塩素または臭素、および硫酸−ニト
ロベンゼンから成る希釈混合物を用いることにより、最
も良好な収率を得る温度は約+5〜+25℃である。
酸、特にそのハロゲンに対応するハロゲン化水素酸の存
在下に行なうのが好ましい。特にハロゲン化水素酸約8
〜25%を含む水溶液中で処理すべきであって、約−5
〜+10℃の適当な温度で反応させるのが好ましい。ま
たレゾルシンスルホン酸またはその塩のクロロ化もしく
はブロモ化反応、特に遊離ハロゲンを用いる反応は、こ
の処理条件で用いる試剤と反応しない適当な希釈剤を使
用する非水性条件で行なうことができる。この方法にお
いて、たとえばニトロベンゼン、ジメチルホルムアミ
ド、四塩化炭素、塩化メチレン、濃硫酸など、またはそ
れらの混合物、例えば硫酸とベンゼン、ならびに硫酸、
ニトロベンゼンおよび塩化メチレンの混合物を使用する
ことができる。また少量の水(約8%を越えない量)を
反応媒体中に存在させることができる。良好な収率を得
るため、30℃を越えない温度で処理する必要がある。
ハロゲン化剤として塩素または臭素、および硫酸−ニト
ロベンゼンから成る希釈混合物を用いることにより、最
も良好な収率を得る温度は約+5〜+25℃である。
スルホン化反応で生成したレゾルシンスルホン酸を単離
することなく、得られた混合物を直接クロロ化またはブ
ロモ化することができる。この操作において、ニトロベ
ンゼンのような希釈剤適当量と塩素または臭素を加える
ことで充分である。
することなく、得られた混合物を直接クロロ化またはブ
ロモ化することができる。この操作において、ニトロベ
ンゼンのような希釈剤適当量と塩素または臭素を加える
ことで充分である。
ハロゲン化されたレゾルシンスルホン酸[V]および[VI]
はそれ自体新規化合物である。ハロゲン化反応により得
られた混合物を水で希釈して得られた酸水溶液に、対応
する水酸化物を加えることにより、上記化合物をその金
属塩、特に対応するカリウム塩またはナトリウム塩のよ
うなアルカリ金属塩もしくはカルシウムのようなアルカ
リ土金属塩に変換することができる。さらに、必要に応
じてこの塩をたとえば結晶化処理により単離することが
できる(これは反応混合物の濃縮により達成される)。
はそれ自体新規化合物である。ハロゲン化反応により得
られた混合物を水で希釈して得られた酸水溶液に、対応
する水酸化物を加えることにより、上記化合物をその金
属塩、特に対応するカリウム塩またはナトリウム塩のよ
うなアルカリ金属塩もしくはカルシウムのようなアルカ
リ土金属塩に変換することができる。さらに、必要に応
じてこの塩をたとえば結晶化処理により単離することが
できる(これは反応混合物の濃縮により達成される)。
本発明の第三の処理工程であるプロトン脱スルホン化
(protodesulfonation)は、ハロゲノレゾルシンスルホ
ン酸[V]および[VI]を2−ハロゲノレゾルシン[I]に変換
させる反応であって、好ましくは室温ないし150℃の
範囲で変えることができる温度でこれら酸生成物に対す
る酸水溶液の作用により達成される。この目的のため、
鉱酸たとえば20〜40%硫酸水溶液または36%塩酸
水溶液、あるいは希有機酸、たとえばトリフルオロ酢酸
もしくはモノクロル酢酸のようなハロゲン化(低級)脂
肪酸または低級脂肪族スルホン酸あるいは単環性芳香族
酸(たとえばp−トルエンスルホン酸)のような有機酸
を、たとえば20〜90%濃度の水溶液中、または酢酸
(90%)水溶液のような適当な溶媒中で使用する。こ
の加水分解の処理時間は温度および使用する酸に依存
し、1〜24時間の間で変えることができる。プロトン
脱スルホン化反応は、ハロゲノレゾルシンスルホン酸を
単離することなく、ハロゲン化反応により得られた混合
物を、上記酸濃度で処理することにより直接進行させる
ことができる。
(protodesulfonation)は、ハロゲノレゾルシンスルホ
ン酸[V]および[VI]を2−ハロゲノレゾルシン[I]に変換
させる反応であって、好ましくは室温ないし150℃の
範囲で変えることができる温度でこれら酸生成物に対す
る酸水溶液の作用により達成される。この目的のため、
鉱酸たとえば20〜40%硫酸水溶液または36%塩酸
水溶液、あるいは希有機酸、たとえばトリフルオロ酢酸
もしくはモノクロル酢酸のようなハロゲン化(低級)脂
肪酸または低級脂肪族スルホン酸あるいは単環性芳香族
酸(たとえばp−トルエンスルホン酸)のような有機酸
を、たとえば20〜90%濃度の水溶液中、または酢酸
(90%)水溶液のような適当な溶媒中で使用する。こ
の加水分解の処理時間は温度および使用する酸に依存
し、1〜24時間の間で変えることができる。プロトン
脱スルホン化反応は、ハロゲノレゾルシンスルホン酸を
単離することなく、ハロゲン化反応により得られた混合
物を、上記酸濃度で処理することにより直接進行させる
ことができる。
本発明の製造法におけるプロトン脱スルホン化を行なう
特に有利な方法は、ハロゲン化(特にクロロ化またはブ
ロモ化)反応混合物を水で希釈し、自体公知の方法で存
在することもある有機溶媒を除き、次いで前記のように
得られた生成物を加水分解することから成る。
特に有利な方法は、ハロゲン化(特にクロロ化またはブ
ロモ化)反応混合物を水で希釈し、自体公知の方法で存
在することもある有機溶媒を除き、次いで前記のように
得られた生成物を加水分解することから成る。
ハロゲノレゾルシンスルホン酸のプロトン脱スルホン化
により生成した2−ハロゲノレゾルシン類[I]は通常水
溶液中に見い出され、これを自体公知の方法で分離する
ことができる。特に分離操作は、たとえばクロロ化脂肪
族炭化水素(特に対称ジクロロエタンおよび塩化メチレ
ン)、エーテル類(特にエチルエーテルおよびメチルt
−ブチルエーテル)、水にわずかに可溶性であるアルコ
ール類(たとえばアミルアルコール類)、脂肪族有機酸
エステル類(たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル)の
ような有機溶媒で抽出することにより行なうことができ
る。生成した2−ハロゲノレゾルシン類[I]は、これを
たとえば減圧蒸留および/またはその塩たとえばアルカ
リ金属塩(カリウム塩もしくはナトリウム塩)への変換
(塩を自体公知の方法で単離することができる)により
精製することができる。
により生成した2−ハロゲノレゾルシン類[I]は通常水
溶液中に見い出され、これを自体公知の方法で分離する
ことができる。特に分離操作は、たとえばクロロ化脂肪
族炭化水素(特に対称ジクロロエタンおよび塩化メチレ
ン)、エーテル類(特にエチルエーテルおよびメチルt
−ブチルエーテル)、水にわずかに可溶性であるアルコ
ール類(たとえばアミルアルコール類)、脂肪族有機酸
エステル類(たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル)の
ような有機溶媒で抽出することにより行なうことができ
る。生成した2−ハロゲノレゾルシン類[I]は、これを
たとえば減圧蒸留および/またはその塩たとえばアルカ
リ金属塩(カリウム塩もしくはナトリウム塩)への変換
(塩を自体公知の方法で単離することができる)により
精製することができる。
2−クロロレゾルシン生成物はレゾルシンと同様、水に
著しく可溶である(水中、25℃における2−クロロレ
ゾルシンの溶解性は350mg/mlである)。しかし発明
者らはレゾルシンと異なって2−クロロレゾルシンは驚
くべきことに酸水溶液中で非常に可溶性ではないことを
認めた。特に室温で濃度20〜60%の硫酸溶液(より
高い濃度で部分的スルホン化が起こる)中、および濃硫
酸塩酸溶液および中性塩類または可能な酸のアルカリ金
属もしくはアルカリ土金属塩類、水素酸(たとえば塩素
酸)、リン酸および硝酸のマグネシウムもしくはアンモ
ニウム塩、あるいは炭素数7を越えない脂肪酸(たとえ
ば酢酸またはクロロ酢酸)のような有機酸の各種塩類の
溶液中で、上記化合物は可溶性でないことを認めた。た
とえば2−クロロレゾルシン[I]の25℃の硫酸水溶
液、20℃の硫酸水溶液中の溶解度は77mg/ml、30
℃の硫酸水溶液中の溶解度は35mg/mlである。
著しく可溶である(水中、25℃における2−クロロレ
ゾルシンの溶解性は350mg/mlである)。しかし発明
者らはレゾルシンと異なって2−クロロレゾルシンは驚
くべきことに酸水溶液中で非常に可溶性ではないことを
認めた。特に室温で濃度20〜60%の硫酸溶液(より
高い濃度で部分的スルホン化が起こる)中、および濃硫
酸塩酸溶液および中性塩類または可能な酸のアルカリ金
属もしくはアルカリ土金属塩類、水素酸(たとえば塩素
酸)、リン酸および硝酸のマグネシウムもしくはアンモ
ニウム塩、あるいは炭素数7を越えない脂肪酸(たとえ
ば酢酸またはクロロ酢酸)のような有機酸の各種塩類の
溶液中で、上記化合物は可溶性でないことを認めた。た
とえば2−クロロレゾルシン[I]の25℃の硫酸水溶
液、20℃の硫酸水溶液中の溶解度は77mg/ml、30
℃の硫酸水溶液中の溶解度は35mg/mlである。
この理由により2−クロロレゾルシンの水溶液を、まず
第一に前記のような酸または塩類で処理して抽出もしく
は沈澱させることにより、該生成物を好都合に分離する
ことができる。この2−クロロレゾルシン類分離は前記
各種処理から独立した技術であって、この技術もまた本
発明の目的の一つである。
第一に前記のような酸または塩類で処理して抽出もしく
は沈澱させることにより、該生成物を好都合に分離する
ことができる。この2−クロロレゾルシン類分離は前記
各種処理から独立した技術であって、この技術もまた本
発明の目的の一つである。
本発明の処理法により製せられたハロゲノレゾルシン類
が官能基を含有する場合、このハロゲノレゾルシンを自
体公知の方法で官能基修飾することによりその誘導体に
変換するか、または本発明の処理により得られる種類の
誘導体中の修飾された官能基を遊離基にすることができ
る。さらに、この遊離官能基または修飾された官能基
を、それぞれ他方の基に変換することができる。前記炭
化水素基中に存在する官能基および/または化合物[I]
に存在するヒドロキシル基2個をそのまま存置したまま
で芳香族官能基Rおよび/またはR1を修飾するために
は、この型の選択的変換を許容する適当な方法を選ぶ必
要がある。
が官能基を含有する場合、このハロゲノレゾルシンを自
体公知の方法で官能基修飾することによりその誘導体に
変換するか、または本発明の処理により得られる種類の
誘導体中の修飾された官能基を遊離基にすることができ
る。さらに、この遊離官能基または修飾された官能基
を、それぞれ他方の基に変換することができる。前記炭
化水素基中に存在する官能基および/または化合物[I]
に存在するヒドロキシル基2個をそのまま存置したまま
で芳香族官能基Rおよび/またはR1を修飾するために
は、この型の選択的変換を許容する適当な方法を選ぶ必
要がある。
脂肪族または芳香族カルボキシル基をエステル化するた
め、この酸をその塩(たとえばアルカリ塩)に変換し、
これをハロゲン化炭化水素と反応させる。対応するアミ
ド類は上記エステル体をアンモニアまたはアミンで処理
することにより得られる。第一または第二アミノ官能基
は、これをハロゲン化アルキルまたは他のアルキルエス
テル(たとえば中性硫酸エステル)またはアルキル酸に
よる処理、もしくは適当なアルデヒド類(たとえばホル
ムアルデヒド)およびギ酸による還元的アルキル化によ
り、アルキル化することができる。また第四級アンモニ
ウム塩を製造することができる。
め、この酸をその塩(たとえばアルカリ塩)に変換し、
これをハロゲン化炭化水素と反応させる。対応するアミ
ド類は上記エステル体をアンモニアまたはアミンで処理
することにより得られる。第一または第二アミノ官能基
は、これをハロゲン化アルキルまたは他のアルキルエス
テル(たとえば中性硫酸エステル)またはアルキル酸に
よる処理、もしくは適当なアルデヒド類(たとえばホル
ムアルデヒド)およびギ酸による還元的アルキル化によ
り、アルキル化することができる。また第四級アンモニ
ウム塩を製造することができる。
他方、本発明の製造法に従って得られた生成物[I]の官
能基として、常套の方法で修飾された官能基を実際に含
有する場合、公知方法でこの修飾された官能基を遊離さ
せることができる。たとえばエーテル性官能基の酸加水
分解、あるいは可能ならばエステル化されたヒドロキシ
ル基の還元的開裂または酸もしくはアルカリ加水分解に
より、ヒドロキシル官能基を得ることができる。エステ
ル基をアルカリまたは酸加水分解することにより、カル
ボキシル官能基を得ることができる。
能基として、常套の方法で修飾された官能基を実際に含
有する場合、公知方法でこの修飾された官能基を遊離さ
せることができる。たとえばエーテル性官能基の酸加水
分解、あるいは可能ならばエステル化されたヒドロキシ
ル基の還元的開裂または酸もしくはアルカリ加水分解に
より、ヒドロキシル官能基を得ることができる。エステ
ル基をアルカリまたは酸加水分解することにより、カル
ボキシル官能基を得ることができる。
官能基の他の官能基への可能は変換は、自体公知の方法
により行なうことができる。たとえばよく知られた芳香
族化合物の化学反応によるジアゾニウム塩を経由するこ
とにより芳香族第一アミノ基をヒドロキシル基またはハ
ロゲンに変換するか、あるいは脂肪族第一アミノ基を亜
硝酸でヒドロキシル基に変換することができる。
により行なうことができる。たとえばよく知られた芳香
族化合物の化学反応によるジアゾニウム塩を経由するこ
とにより芳香族第一アミノ基をヒドロキシル基またはハ
ロゲンに変換するか、あるいは脂肪族第一アミノ基を亜
硝酸でヒドロキシル基に変換することができる。
また本発明は前記製造法の変法を包含し、その変法に従
って本発明の製造法の任意の段階の工程を中断するか、
中間体化合物から出発して残余の工程を進めるか、ある
いは出発物質を反応液中に形成させることができる。
って本発明の製造法の任意の段階の工程を中断するか、
中間体化合物から出発して残余の工程を進めるか、ある
いは出発物質を反応液中に形成させることができる。
次に実施例をあげて本発明の製造法を具体的に詳述す
る。実施例の記載は本発明の技術的範囲を限定するもの
ではない。
る。実施例の記載は本発明の技術的範囲を限定するもの
ではない。
実施例1 レゾルシン−4,6−ジスルホン酸の製造(スルホン
化): 96%(m/m)硫酸156mlを入れた500ml容器(フ
ラスコ)にレゾルシン52.5gを加える。レゾルシンが完
全に溶解する前に更に96%硫酸156mlとレゾルシン
52.5gを加える。反応物の温度が上昇する傾向がある
が、最高90°を越えない。温度が安定するか低下する
傾向にあるとき、反応物を110°に加熱し、この温度
を2時間保持する。次いで主要部を室温に冷やす。
化): 96%(m/m)硫酸156mlを入れた500ml容器(フ
ラスコ)にレゾルシン52.5gを加える。レゾルシンが完
全に溶解する前に更に96%硫酸156mlとレゾルシン
52.5gを加える。反応物の温度が上昇する傾向がある
が、最高90°を越えない。温度が安定するか低下する
傾向にあるとき、反応物を110°に加熱し、この温度
を2時間保持する。次いで主要部を室温に冷やす。
薄層クロマトグラフィー分析により、反応混合物中、主
成分はレゾルシン−4,6−ジスルホン酸とごく少量のレ
ゾルシンモノスルホン酸とレゾルシントリスルホン酸で
あり、レゾルシンは存在しないことを決定することがで
きる。イソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸
(2:2:1:1)により調製さた溶離剤混合物でセル
ロース薄層クロマトグラフィー分析を行なう(Rf=0.
25)。
成分はレゾルシン−4,6−ジスルホン酸とごく少量のレ
ゾルシンモノスルホン酸とレゾルシントリスルホン酸で
あり、レゾルシンは存在しないことを決定することがで
きる。イソアミルアルコール、ピリジン、水、酢酸
(2:2:1:1)により調製さた溶離剤混合物でセル
ロース薄層クロマトグラフィー分析を行なう(Rf=0.
25)。
反応混合物に濃塩酸を加えて該混合物からレゾルシン−
4,6−ジスルホン酸を沈澱させることによりこの生成物
を分離する。
4,6−ジスルホン酸を沈澱させることによりこの生成物
を分離する。
実施例2 2−クロロレゾルシン−4,6−ジスルホン酸の製造(塩
素酸塩と塩酸によるクロロ化): 氷472gと37%(m/m)濃塩酸480mlを入れた2
反応容器(フラスコ)に、実施例1で得られた反応混
合物を注ぐ。混合物の温度を−15℃に冷却し、塩素酸
カリウム60gをゆっくり添加する(この操作は非常に
ゆっくり12時間持続して進めるべきである。)。反応
混合物を室温に達するのを許容し、塩素酸カリウム添加
終了時点から10時間後、水酸化カリウム127.5gと水
127gで調製された溶液を加える。12時間後、室温
の懸濁液を濾過する。
素酸塩と塩酸によるクロロ化): 氷472gと37%(m/m)濃塩酸480mlを入れた2
反応容器(フラスコ)に、実施例1で得られた反応混
合物を注ぐ。混合物の温度を−15℃に冷却し、塩素酸
カリウム60gをゆっくり添加する(この操作は非常に
ゆっくり12時間持続して進めるべきである。)。反応
混合物を室温に達するのを許容し、塩素酸カリウム添加
終了時点から10時間後、水酸化カリウム127.5gと水
127gで調製された溶液を加える。12時間後、室温
の懸濁液を濾過する。
フィルター上に残留する固体は2−クロロレゾルシン−
4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gである。イソア
ミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:2:1:
1)を溶離剤とするセルロース薄層クロマトグラフィー
に付す((Rf=0.46)。
4,6−ジスルホン酸カリウム塩229gである。イソア
ミルアルコール、ピリジン、水、酢酸(2:2:1:
1)を溶離剤とするセルロース薄層クロマトグラフィー
に付す((Rf=0.46)。
実施例3 2−クロロレゾルシンの製造(希塩酸によるプロトン脱
スルホン化): 前記実施例2で得られた2−クロロレゾルシン−4,6−
ジスルホン酸カリウム塩229gを水1975mlと96
%(m/m)硫酸427gで処理する。この懸濁液を24
時間還流する。
スルホン化): 前記実施例2で得られた2−クロロレゾルシン−4,6−
ジスルホン酸カリウム塩229gを水1975mlと96
%(m/m)硫酸427gで処理する。この懸濁液を24
時間還流する。
薄層クロマトグラフィーにより、反応混合物中に主とし
て2−クロロレゾルシン86gが存在するが少量のレゾ
ルシンの存在を確認することができる。シリカ層上、塩
化メチレン/酢酸(90:10)により調製された溶離
剤混合物によるクロマトグラフィー分析に付す(RF=
0.77)。
て2−クロロレゾルシン86gが存在するが少量のレゾ
ルシンの存在を確認することができる。シリカ層上、塩
化メチレン/酢酸(90:10)により調製された溶離
剤混合物によるクロマトグラフィー分析に付す(RF=
0.77)。
実施例4 2−クロロレゾルシンの抽出と精製: 前記実施例3で得られた反応混合物を96%硫酸350
gで処理し、この方法で約30%(m/m)濃度を有する
硫酸溶液を得る。この溶液を室温にし、次いで酢酸ブチ
ルで抽出する。
gで処理し、この方法で約30%(m/m)濃度を有する
硫酸溶液を得る。この溶液を室温にし、次いで酢酸ブチ
ルで抽出する。
酢酸ブチル溶液を蒸発させ、残渣として2−クロロレゾ
ルシン85.5gを得る。ジクロロエタンからの結晶の融点
97℃。
ルシン85.5gを得る。ジクロロエタンからの結晶の融点
97℃。
実施例5 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、塩素によるクロロ化、プロトン脱スルホン
化): 前記実施例1で得られた反応混合物を15℃にし、15
℃に保持しながら塩素120gを加える。この混合物を
氷450gと水400ml含有2容器(フラスコ)に注
ぎ、得られた水層に水150mlと水酸化ナトリウム76
gから調製された溶液を加え、次いでこれを24時間還
流する。
ホン化、塩素によるクロロ化、プロトン脱スルホン
化): 前記実施例1で得られた反応混合物を15℃にし、15
℃に保持しながら塩素120gを加える。この混合物を
氷450gと水400ml含有2容器(フラスコ)に注
ぎ、得られた水層に水150mlと水酸化ナトリウム76
gから調製された溶液を加え、次いでこれを24時間還
流する。
この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、エーテ
ルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して
2−クロロレゾルシン88g(融点97℃)を得る。
ルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して
2−クロロレゾルシン88g(融点97℃)を得る。
実施例6 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、ニトロベンゼンの存在下塩素によるクロロ化、
プロトン脱スルホン化): 前記実施例1で得られた反応混合物にニトロベンゼン2
00mlを加え、定常的に攪拌しながら温度を60℃にす
る。15分後、15℃に冷却し、15℃に保持しながら
塩素120gを加える。次いで反応混合物を、氷450
gと水400ml含有分液漏斗に注ぎ、有機層を分離し、
水層を2容器(フラスコ)に移す。
ホン化、ニトロベンゼンの存在下塩素によるクロロ化、
プロトン脱スルホン化): 前記実施例1で得られた反応混合物にニトロベンゼン2
00mlを加え、定常的に攪拌しながら温度を60℃にす
る。15分後、15℃に冷却し、15℃に保持しながら
塩素120gを加える。次いで反応混合物を、氷450
gと水400ml含有分液漏斗に注ぎ、有機層を分離し、
水層を2容器(フラスコ)に移す。
この水層に、水150mlと水酸化ナトリウム76gから
調製した溶液を加え、次いでこの混合物を24時間還流
する。
調製した溶液を加え、次いでこの混合物を24時間還流
する。
溶液を室温にしてエチルエーテルで抽出後、エーテルを
蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して2−
クロロレゾルシン93g(融点97℃)を得る。
蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶化して2−
クロロレゾルシン93g(融点97℃)を得る。
実施例7 中間体を分離しない2−クロロレゾルシンの製造(スル
ホン化、ニトロベンゼンと塩化メチレンの存在下塩素に
よるクロロ化、プロトン脱スルホン化): 前記実施例1で得られた反応混合物にニトロベンゼン2
00mlを加え、定常的に攪拌しながら温度を60℃にす
る。15分後、15℃に冷却して塩化メチレン50mlを
加え、次いで15℃に保持しながら塩素100gを加え
る。
ホン化、ニトロベンゼンと塩化メチレンの存在下塩素に
よるクロロ化、プロトン脱スルホン化): 前記実施例1で得られた反応混合物にニトロベンゼン2
00mlを加え、定常的に攪拌しながら温度を60℃にす
る。15分後、15℃に冷却して塩化メチレン50mlを
加え、次いで15℃に保持しながら塩素100gを加え
る。
反応混合物を氷450gと水400ml含有分液漏斗に注
ぎ、有機層を分離して水層を2容器(フラスコ)に移
す。水層に水150mlと水酸化ナトリウム76gから調
製された溶液を加え、次いでこの混合物を24時間還流
する。この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、
エーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶
化して2−クロロレゾルシン103g(融点97℃)を
得る。
ぎ、有機層を分離して水層を2容器(フラスコ)に移
す。水層に水150mlと水酸化ナトリウム76gから調
製された溶液を加え、次いでこの混合物を24時間還流
する。この溶液を室温にし、エチルエーテルで抽出後、
エーテルを蒸発させ、残留物をジクロロエタンから結晶
化して2−クロロレゾルシン103g(融点97℃)を
得る。
実施例8 中間体を分離せずに行う2−ブロモレゾルシンの製造
(スルホン化、臭素によるブロム化、プロトン脱スルホ
ン化): 実施例1で得た反応混合物を10℃にし、温度を常に1
0℃に保ちつつ臭素260gを加える。ついで混合物
を、氷450gと水600mlを含む2リットル容のボー
ルに注入し、生成する水相に水150mlと水酸化ナトリ
ウム76gの溶液を加え、24時間加熱還流する。
(スルホン化、臭素によるブロム化、プロトン脱スルホ
ン化): 実施例1で得た反応混合物を10℃にし、温度を常に1
0℃に保ちつつ臭素260gを加える。ついで混合物
を、氷450gと水600mlを含む2リットル容のボー
ルに注入し、生成する水相に水150mlと水酸化ナトリ
ウム76gの溶液を加え、24時間加熱還流する。
溶液を室温にもどし、エチルエーテルで抽出し、抽出液
からエーテルを留去し、残留物をベンゼンから結晶化し
て、2−ブロモレゾルシン(融点101℃)54gを得
る。
からエーテルを留去し、残留物をベンゼンから結晶化し
て、2−ブロモレゾルシン(融点101℃)54gを得
る。
本発明を以上のように詳述したが、これらの製造法を多
くの方法に変えることができることは明らかである。か
かる変法は本発明の意図と範囲から逸脱するものと見な
されるべきではなく、この分野の技術者にとって自明で
あるようにすべてこの変法は前記特許請求の範囲内に包
含されるものとする。
くの方法に変えることができることは明らかである。か
かる変法は本発明の意図と範囲から逸脱するものと見な
されるべきではなく、この分野の技術者にとって自明で
あるようにすべてこの変法は前記特許請求の範囲内に包
含されるものとする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 215/76 7457−4H 309/28 7419−4H 309/42 7419−4H
Claims (11)
- 【請求項1】式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
R1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法であっ
て、 式VまたはVI: で示される化合物を水性酸で室温〜約150℃の温度で
プロトン脱スルホン化することを特徴とする方法。 - 【請求項2】式: [式中、Xはハロゲン原子、RおよびR1は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子、またはRおよび
R1は、独立してまたは一緒になって、置換または非置
換の炭化水素基、または置換または非置換のヒドロキシ
ル、カルボキシル、アミノ、シアノもしくはアミド基、
および上記ヒドロキシル、カルボキシルならびにアミノ
基のエステルもしくはエーテルである]を有する2−ハ
ロゲノレゾルシンまたはそれらの塩の製造方法であっ
て、 (a)レゾルシンまたは式: [式中、RおよびR1は上記と同じ意味である] を有するレゾルシンの誘導体をスルホン化し、式IIIま
たはIV: を有するスルホン化生成物を得、 (b)上記スルホン化生成物をハロゲン化し、式VまたはV
I: を有するハロゲン化生成物を得、 (c)上記ハロゲン化生成物を水性酸で室温〜約150℃
の温度でプロトン脱スルホン化することを特徴とする方
法。 - 【請求項3】上記(a)、(b)および(c)の工程を同一の反
応容器中で行うものである特許請求の範囲第2項記載の
方法。 - 【請求項4】上記スルホン化生成物が、レゾルシンまた
は式(II)のレゾルシンの誘導体を、濃度90%〜98%
のスルホン酸または発煙硫酸を用いる処理によりスルホ
ン化することにより得られるものである、特許請求の範
囲第2または3項記載の方法。 - 【請求項5】スルホン化工程により製せられたスルホン
化生成物を、クロロ化、ブロモ化またはヨード化する特
許請求の範囲第2または3項記載の方法。 - 【請求項6】スルホン化生成物をレゾルシンスルホン酸
またはその塩として単離し、無水条件もしくは本質的に
無水の条件でハロゲン化する特許請求の範囲第2または
3項記載の方法。 - 【請求項7】水性条件下、反応系中で発生した塩素、臭
素またはヨウ素を用い、対応するハロゲン化水素酸の適
当量の存在下にクロロ化、ブロモ化またはヨード化を行
なう特許請求の範囲第5項記載の方法。 - 【請求項8】30℃以下でニトロベンゼンと塩化メチレ
ンを添加後、スルホン化生成物に対してクロロ化または
ブロモ化を行なう特許請求の範囲第6項記載の方法。 - 【請求項9】上記式(I)の2−ハロゲノレゾルシン
が、RおよびR1基の一方または両方を脱離させ、Rお
よびR1のいずれか、または両方を、置換または非置換
のヒドロキシル、カルボキシル、アミノ、シアノもしく
はアミド基、および上記ヒドロキシル、カルボキシルな
らびにアミノ基のエステルもしくはエーテル、またはそ
れらの塩、またはハロゲン原子からなる群から選ばれる
置換基R2で置換されることにより、さらに変換され
る、特許請求の範囲第1または2項記載の方法。 - 【請求項10】RおよびR1のいずれか一方または双方
がヒドロキシル基であり、ヒドロキシル基が炭素数1〜
7を有する低級脂肪族アルコール、ベンジルアルコール
もしくはフエニルエチルアルコールでエーテル化された
基であるかまたはヒドロキシル基が炭素数1〜15の有
機酸でエステル化された基である特許請求の範囲第9項
記載の方法。 - 【請求項11】アミノ基が炭素数1〜7を有する脂肪族
炭化水素から誘導された第二または第三アミノ基である
特許請求の範囲第9項記載の方法。
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|---|---|---|---|
| IT49556-A/83 | 1983-12-21 | ||
| IT8349556A IT1212907B (it) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | Preparazione di fenoli alogenati |
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60156627A JPS60156627A (ja) | 1985-08-16 |
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Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59270575A Expired - Lifetime JPH0635408B2 (ja) | 1983-12-21 | 1984-12-20 | ハロゲノレゾルシン類の製造法 |
| JP4308634A Ceased JPH0788349B2 (ja) | 1983-12-21 | 1992-11-18 | ハロゲノレゾルシン誘導体 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| JP (2) | JPH0635408B2 (ja) |
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| MX (1) | MX162546A (ja) |
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| NZ (1) | NZ210605A (ja) |
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| YU (1) | YU44992B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| NL179175B (nl) * | 1952-06-17 | Rca Corp | In frequentie bestuurbare oscillator. | |
| US3337549A (en) * | 1962-11-08 | 1967-08-22 | Keuffel & Esser Co | 1-[tertiary amino-carbanilido]-3, 5-dihydroxy-4-bromo benzenes |
| DE1447733B2 (de) * | 1963-12-23 | 1977-04-21 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | 2-(3,5-dihydroxyphenyl)-benzimidazolderivate |
| FR1545111A (fr) * | 1966-11-22 | 1968-11-08 | Gen Aniline & Film Corp | Procédé perfectionné de préparation d'acide 3-benzoly-4-hydroxy-6-méthoxybenzènesulfonique et produit obtenu par ce procédé |
| DE1643400C3 (de) * | 1966-11-22 | 1980-09-25 | Basf Wyandotte Corp., Wyandotte, Mich. (V.St.A.) | Verwendung von 3-Benzoyl-4-hydroxy-6-methoxybenzolsulfonsäure als ultraviolett-Hchtabsorbierendes Mittel |
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| US3713256A (en) * | 1971-10-28 | 1973-01-30 | Besenbruch Hofmann | Adjustable grinding tool for brake cylinders and the like |
| JPS5644413B2 (ja) * | 1973-05-12 | 1981-10-19 | ||
| CH605827A5 (en) * | 1973-11-08 | 1978-10-13 | Hoffmann La Roche | 2,4-diamino-5-(3,5-dialkoxy-4-halo-benzyl)-pyrimidines |
| JPS6119628B2 (ja) * | 1973-11-08 | 1986-05-17 | Efu Hofuman Ra Roshu Unto Co Ag | |
| DE2616479C2 (de) * | 1976-04-14 | 1986-12-04 | Brickl, Rolf, Dr., 7951 Warthausen | Substituierte Fluoracylresorcine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende Arzneimittel und Kosmetika |
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