JPH0635471Y2 - Wafer holding jig - Google Patents

Wafer holding jig

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Publication number
JPH0635471Y2
JPH0635471Y2 JP3905990U JP3905990U JPH0635471Y2 JP H0635471 Y2 JPH0635471 Y2 JP H0635471Y2 JP 3905990 U JP3905990 U JP 3905990U JP 3905990 U JP3905990 U JP 3905990U JP H0635471 Y2 JPH0635471 Y2 JP H0635471Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
holding jig
wafer holding
support base
arms
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP3905990U
Other languages
Japanese (ja)
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JPH04749U (en
Inventor
隆広 森口
修二 谷ケ久保
Original Assignee
コマツ電子金属株式会社
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Publication date
Application filed by コマツ電子金属株式会社 filed Critical コマツ電子金属株式会社
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Publication of JPH04749U publication Critical patent/JPH04749U/ja
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は、半導体ウェーハの製造工程、とくに、鏡面ウ
ェーハの製造工程にあって、ウェーハ表面の傷、シミ、
汚れ等を目視により外観検査する際用いる、ウェーハ持
ち替え用治具に関する [従来の技術] 従来、鏡面ウェーハの外観検査に当たっては、ウェーハ
ケース中より取り出した鏡面ウェーハ表面に、集光ラン
プからの光を当て、その反射状態の僅かな差を目視によ
り確認し、傷、シミ、汚れ等の不良を検出している。こ
の検出操作は、光のウェーハに対する照射角度によって
は、異物等があっても乱反射を起こさないことがあるた
め、ウェーハを持ち替え、光の当たる角度を変化させ
て、再度確認するようにしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a semiconductor wafer manufacturing process, in particular, a mirror surface wafer manufacturing process, in which scratches, stains,
Wafer holding jig used for visual inspection of dirt etc. [Prior Art] Conventionally, in visual inspection of a mirror surface wafer, the light from a concentrating lamp is put on the surface of the mirror surface wafer taken out from the wafer case. A slight difference in the reflection state is visually checked to detect defects such as scratches, stains, and stains. In this detection operation, depending on the irradiation angle of light to the wafer, irregular reflection may not occur even if there is a foreign substance or the like. Therefore, the wafer is held again, the angle at which the light hits is changed, and the confirmation is performed again.

[考案が解決しようとする課題] ところで、ウェーハを持ち替えるためには、ケースより
取りだしたウェーハを、一度ケース内に納めてから、適
当に回し、再度取り出さなくてはならない。ケース内の
回転は、ウェーハのエッジ部に傷や汚れを発生させるこ
とがあるし、作業性も悪くする。また、ウェーハをつか
む真空ピンセツトとの接触回数が増加することから、ウ
ェーハ裏面にも傷を生じることがある。
[Problems to be solved by the invention] By the way, in order to change the wafer, the wafer taken out from the case must be put into the case once, turned appropriately, and taken out again. The rotation in the case may cause scratches or stains on the edge portion of the wafer and also deteriorate workability. Further, since the number of contacts with the vacuum pinset that holds the wafer increases, the back surface of the wafer may be damaged.

[課題を解決するための手段] 本考案によるウェーハ持ち替え用治具は、上記のような
問題点を解決するためになされたもので、支持台により
回転可能に垂直に支持された回転軸の頂部に、回転軸を
中心として、放射状に斜め上方に向けて少なくとも3本
の腕を設け、回転軸途中に、回転軸と同心的に円盤を固
定したことを特徴とする。また、腕は、凹状にわん曲し
た構造であることが望ましい。
[Means for Solving the Problems] The wafer holding jig according to the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the top of the rotary shaft rotatably supported vertically by the support base. In addition, at least three arms are provided radially obliquely upward with respect to the rotation axis, and a disk is concentrically fixed to the rotation axis in the middle of the rotation axis. Further, it is desirable that the arm has a concavely curved structure.

[作用] 本考案によるウェーハ持ち替え用治具は、上部に斜め上
方に伸びる数本の腕を放射状に備えており、取りだした
ウェーハを持ち替えるときは、この上に一旦乗せ、回転
軸途中に設けた円盤を適当に回転させて、先に検査を行
なった箇所と異なる部位が来るまで回転軸を回す。腕を
凹状にわん曲させたものは、ウェーハとの接触部分が減
るが、ウェーハは落下しにくくなる。
[Operation] The wafer holding jig according to the present invention is provided with several arms extending obliquely upward in the upper part in a radial shape, and when holding the taken-out wafer, it is placed on it once and provided in the middle of the rotating shaft. Rotate the disk appropriately and rotate the rotating shaft until a part different from the one previously inspected comes. When the arm is bent in a concave shape, the contact portion with the wafer is reduced, but the wafer is hard to drop.

[実施例1] 第1図は、本考案のウェーハ持ち替え用治具の一実施例
の斜視図である。ウェーハ持ち替え時の、ウェーハを載
せた状態を示す。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of a wafer holding jig of the present invention. The state where the wafer is loaded when the wafer is held is shown.

腕4は、4本で、凹状にわん曲している。このため、ウ
ェーハ7との接触が点接触となり、傷、汚れ防止がで
き、回転による落下も防げる。また、小径のウェーハか
ら大径のウェーハまで、同一治具で対応できる。さら
に、腕4は、ウェーハへの汚染を防ぐために、表面がコ
ーテイングされている。回転軸1途中に固定された円盤
5は、支持台1より直径が大きく、また、側面にはすべ
り止めが設けられているため、指で回転しやすい構成と
なっている。また、支持台1には、回転軸2が、ベアリ
ング(図示せず)を介して、回転可能に支持される。支
持台1は、治具全体の安定性を増すため、重くしてあ
る。なお、治具全体は、材質は、鉄及び円盤5は帯電防
止塩化ビニルで作られるが、光の反射を防止する意味
で、黒色のつや消し仕上げとなっている。
The four arms 4 are bent in a concave shape. Therefore, the contact with the wafer 7 becomes a point contact, scratches and stains can be prevented, and dropping due to rotation can be prevented. Also, from the small diameter wafer to the large diameter wafer, the same jig can be used. Further, the arm 4 has a surface coated to prevent contamination of the wafer. The disk 5 fixed in the middle of the rotary shaft 1 has a diameter larger than that of the support base 1 and is provided with a slip stopper on its side surface, so that the disk 5 can be easily rotated by a finger. Further, the rotation shaft 2 is rotatably supported on the support base 1 via a bearing (not shown). The support base 1 is made heavy in order to increase the stability of the entire jig. The material of the entire jig is iron and the disk 5 is made of antistatic vinyl chloride, but has a black matte finish in order to prevent reflection of light.

第1図に示した、本実施例のウェーハ持ち替え用治具を
用いて、10,000枚の鏡面ウェーハの外観検査を行なった
ところ、従来の場合、約86時間程度を要していたもの
が、約77時間に短縮され、作業効率としては、10%向上
した。また、従来作業では、ウェーハ持ち替えの際のケ
ース内での回転等のため、傷や汚れ不良をウェーハに与
えることが多かったが、本治具を用いることにより、こ
れが半減した。
Using the wafer holding jig of this embodiment shown in FIG. 1, an external appearance inspection of 10,000 mirror-finished wafers was performed. In the conventional case, it took about 86 hours. It was shortened to 77 hours and the work efficiency was improved by 10%. Further, in the conventional work, scratches and stain defects were often given to the wafer due to rotation in the case when holding the wafer, but this was halved by using this jig.

ちなみに、腕がわん曲しないものについても、同様の効
果があるが、誤って強い回転を与えると、ウェーハが落
下することもある。
By the way, the same effect can be obtained even when the arm is not bent, but if a strong rotation is given by mistake, the wafer may drop.

[考案の効果] 本考案のウェーハ持ち替え用治具によれば、支持台によ
り回転可能に垂直に支持された回転軸の頂部に、回転軸
を中心として、放射状に斜め上方に向けて少なくとも3
本の腕を設けてあるため、ウェーハを載せたり、降ろし
たりする作業が素早く行なえるし、回転後任意の位置で
ウェーハが取り出せる。ウェーハ直径に違いがあって
も、腕の長さに余裕をもたせれば、一つの治具で対応で
きる。さらに、腕と支持台間に位置する回転軸の一定高
さには、回転軸と同心的に円盤を固定してあるため、軸
の回転がスムーズに行なえる。
[Advantages of the Invention] According to the wafer holding jig of the present invention, at least 3 at a top of the rotation shaft rotatably supported vertically by the support base and radially obliquely upward about the rotation shaft.
Since the arm of the book is provided, the work of loading and unloading the wafer can be performed quickly, and the wafer can be taken out at any position after rotation. Even if there is a difference in wafer diameter, one jig can be used if there is a margin in the arm length. Further, since the disk is fixed concentrically with the rotary shaft at a fixed height of the rotary shaft located between the arm and the support base, the shaft can be smoothly rotated.

また、腕を凹状にわん曲させたものは、回転によるウェ
ーハの落下防止に効果がある。
In addition, the one in which the arm is bent in a concave shape is effective in preventing the wafer from falling due to rotation.

本考案のウェーハ持ち替え用治具をもちいれば、鏡面ウ
ェーハの外観検査作業を、従来より効率的に行なうこと
ができるし、検査作業で、ウェーハに損傷を与えること
も激減し、歩留り向上に寄与する。
By using the wafer holding jig of the present invention, the appearance inspection work of the mirror surface wafer can be performed more efficiently than before, and the damage to the wafer during the inspection work is drastically reduced, which contributes to the improvement of the yield. To do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本考案のウェーハ持ち替え用治具の一実施例
を示す、斜視図。 第2図は、本考案のウェーハ持ち替え用治具の一実施例
を示す、正面図。 1…支持台 2…回転軸 3…頂部 4…腕 5…円盤 6…ウェーハ持ち替え用治具 7…ウェーハ
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a wafer holding jig of the present invention. FIG. 2 is a front view showing an embodiment of the wafer holding jig of the present invention. 1 ... Support base 2 ... Rotating shaft 3 ... Top part 4 ... Arm 5 ... Disk 6 ... Wafer holding jig 7 ... Wafer

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】支持台により回転可能に垂直に支持された
回転軸の頂部に、回転軸を中心として、放射状に斜め上
方に向けて少なくとも3本の腕を設け、腕と支持台間に
位置する回転軸の一定高さには、回転軸と同心的に円盤
を固定したことを特徴とするウェーハ持ち替え用治具。
1. A rotary shaft vertically rotatably supported by a support base. At the top of the rotary shaft, at least three arms are provided radially obliquely upward with respect to the rotary shaft. The arms are located between the arms and the support base. A wafer holding jig characterized in that a disk is fixed concentrically with the rotating shaft at a fixed height of the rotating shaft.
【請求項2】腕は、凹状にわん曲した構造であることを
特徴とする請求項1記載のウェーハ持ち替え用治具。
2. The wafer holding jig according to claim 1, wherein the arm has a concavely curved structure.
JP3905990U 1990-04-13 1990-04-13 Wafer holding jig Expired - Lifetime JPH0635471Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3905990U JPH0635471Y2 (en) 1990-04-13 1990-04-13 Wafer holding jig

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3905990U JPH0635471Y2 (en) 1990-04-13 1990-04-13 Wafer holding jig

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04749U JPH04749U (en) 1992-01-07
JPH0635471Y2 true JPH0635471Y2 (en) 1994-09-14

Family

ID=31547622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3905990U Expired - Lifetime JPH0635471Y2 (en) 1990-04-13 1990-04-13 Wafer holding jig

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JP (1) JPH0635471Y2 (en)

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Publication number Publication date
JPH04749U (en) 1992-01-07

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