JPH0635600B2 - 鋳型製造用洗浄剤 - Google Patents

鋳型製造用洗浄剤

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JPH0635600B2
JPH0635600B2 JP13131885A JP13131885A JPH0635600B2 JP H0635600 B2 JPH0635600 B2 JP H0635600B2 JP 13131885 A JP13131885 A JP 13131885A JP 13131885 A JP13131885 A JP 13131885A JP H0635600 B2 JPH0635600 B2 JP H0635600B2
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JP
Japan
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carbon atoms
cleaning agent
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content
aliphatic
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康之 川勝
啓次 宮内
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Kao Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は鋳型製造用洗浄剤に関する。
〔従来の技術及び問題点〕
従来、鋳型を製造する際には樹脂と砂を混合し、これを
反応させ固着させたものを用いている。この時反応物が
模型、金枠、混練砂ホッパー等へ付着してその除去が従
来から問題になっている。特に、鋳型用粘結剤としてフ
ラン樹脂等の有機バインダーを用いた場合、有機バイン
ダーの付着が多いという問題があった。又、鋳型のベン
ド部（空気抜き部）に洗浄しがたい付着が起こりやすい
という問題もある。
従来、このような付着物を除去する方法として、ハンマ
やブラシ、ショットプラスト等で物理的に除去する方
法、適当な溶媒を溶いて溶解除去する方法等が提案され
ている。
しかしながら、物理的方法では複雑な構造の鋳型の場
合、人間が手作業で行わざるを得ず、労力と時間を要
し、その上傷が付き易く、最良の方法とは言い難い。溶
媒法では除去に通常１週間以上を要し、しかもしばしば
除去が不完全で、処理後、更にブラッシング等を行う必
要があった。
又、特開昭59-153542 号公報には、ジメチルスルホキシ
ドと、フッ素系界面活性剤、炭化水素系アニオン界面活
性剤等の界面活性剤を含有する鋳型付着物除去剤が開示
されている。しかしながら、この除去剤も十分に付着物
を除去することができない。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、かかる従来の問題点を解決すべく鋭意研
究の結果、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記(A) 〜(B) の少なくとも一種と、
下記(a)〜(g)の少なくとも一種とからなることを特徴と
する鋳型製造用洗浄剤を提供するものである。
(A) N-アルキル置換又は非置換のホルムアミド (B) 炭素数４〜５のN-アルキル置換又は非置換環状アミ
ド (a)炭素数１〜４の脂肪族アルコール (b)炭素数１〜４のヒドロキシ置換又は非置換脂肪族カ
ルボン酸 (c)炭素数３〜８の脂肪族ケトン (d)炭素数６〜８のフェノール性化合物 (e)炭素数１〜４の脂肪族ニトリル (f) （但し、R1は炭素数１〜４のアルキル基でR2はH 、炭素
数１〜４のアルキル基又はアシル基、n1は１〜４） (g)下記イ）〜ロ）の少なくとも一種の界面活性剤 イ） R3OSO3M （但しR3は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
a,K，アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
基）。
ロ） （但しR6は炭素数６〜18の脂肪族炭化水素基で、n4は１
〜100 ）。
本発明の洗浄剤中の(A)〜(B)の少なくとも一種の含有量
は30重量％以上が好ましい。又、上記イ）〜ロ）の少な
くとも一種の界面活性剤の含有量は0.1 〜20重量％の範
囲が好ましく、0.2 〜15重量％の範囲が特に好ましい。
又、(A)〜(B)の少なくとも一種の含有量が10〜99.5重量
％で、(d)〜(f)の少なくとも一種の含有量が0.1 〜60重
量％であるものも好適に用いることができる。
本発明の洗浄剤は、特に常温自硬性又はガス硬化性有機
バインダーを粘結剤とし鋳型を製造する際の模型の洗浄
に使用すると好適である。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１〜２及び比較例１〜２ 硅砂にフラン樹脂と有機スルホン酸系硬化剤を添加して
鋳型を製造するフラン自硬性で、再生硅砂1000重量部、
フラン樹脂８重量部、トルエンスルホン酸系硬化剤４重
量部を用いて鋳型を製造した。繰り返し50回成型した鋳
型製造用模型、金枠に付着した汚染物除去のため、表１
に示す洗浄剤を塗布し、除去性、発錆、清掃除去後の成
型性を評価した。
結果を表１に示す。
実施例３〜４及び比較例３〜４ エロゾン状のトリエチルアミンを注入して硬化させるウ
レタン系コールドボックスでの中子製造に際し、硅砂10
00重量部にフェノリックポリオール樹脂溶液10重量部、
メチレンビスベンゼンジイソシアネート溶液10重量部を
添加して混練し、自動成型機にて500 回繰り返し成型し
た。自動成型機に設置された混練砂ホッパーに付着した
硅砂含有汚染物に洗浄剤を塗布して除去性、発錆、清掃
除去後の鋳型成型性を評価した。
結果を表２に示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下記(A) 〜(B) の少なくとも一種と、下記
    (a)〜(g)の少なくとも一種とからなることを特徴とする
    鋳型製造用洗浄剤。 (A) N-アルキル置換又は非置換のホルムアミド (B) 炭素数４〜５のN-アルキル置換又は非置換環状アミ
    ド (a)炭素数１〜４の脂肪族アルコール (b)炭素数１〜４のヒドロキシ置換又は非置換脂肪族カ
    ルボン酸 (c)炭素数３〜８の脂肪族ケトン (d)炭素数６〜８のフェノール性化合物 (e)炭素数１〜４の脂肪族ニトリル (f) （但し、R1は炭素数１〜４のアルキル基でR2はH 、炭素
    数１〜４のアルキル基又はアシル基、n1は１〜４） (g)下記イ）〜ロ）の少なくとも一種の界面活性剤 イ） R3OSO3M （但しR3は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K，アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基）。 ロ） （但しR6は炭素数６〜18の脂肪族炭化水素基で、n4は１
    〜100 ）。
  2. 【請求項２】(A)〜(B) の少なくとも一種の含有量が30
    重量％以上である特許請求の範囲第１項記載の洗浄剤。
  3. 【請求項３】イ）〜ロ）の少なくとも一種の界面活性剤
    の含有量が0.1 〜20重量％である特許請求の範囲第１項
    記載の洗浄剤。
  4. 【請求項４】イ）〜ロ）の少なくとも一種の界面活性剤
    の含有量が0.2 〜15重量％である特許請求の範囲第３項
    記載の洗浄剤。
  5. 【請求項５】(A)〜(B) の少なくとも一種の含有量が10
    〜99.5重量％で、(a)〜(f)の少なくとも一種の含有量が
    0.1 〜60重量％である特許請求の範囲第１項記載の洗浄
    剤。
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JP2873987B2 (ja) * 1992-01-16 1999-03-24 株式会社楽 水溶性樹脂溶解剤

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