JPH0636212A - 磁気コアおよび浮上型磁気ヘッド - Google Patents
磁気コアおよび浮上型磁気ヘッドInfo
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- JPH0636212A JPH0636212A JP19036292A JP19036292A JPH0636212A JP H0636212 A JPH0636212 A JP H0636212A JP 19036292 A JP19036292 A JP 19036292A JP 19036292 A JP19036292 A JP 19036292A JP H0636212 A JPH0636212 A JP H0636212A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高周波、高密度記録の小型磁気ディスク装置
に対応可能なヘッド特性の良好な単層膜の磁気ヘッドを
提供する。 【構成】 非磁性基板間１３,１３'にＦｅ系軟磁性薄膜
の単層膜１１を有し、その単層膜１１の厚み方向に磁気
ギャップ１４が形成された磁気コアであって、単層膜１
１の膜厚をＦｔ、磁気コアのトラック幅をＴｗとしたと
きに、８μｍ≦Ｆｔ≦２５μｍ、４μｍ≦Ｔｗ≦１０μ
ｍ、Ｆｔ×Ａ＝Ｔｗ、Ａ＝０．４〜０．８の範囲にあ
り、非磁性基板と単層膜との間には、５ｎｍから２０ｎ
ｍの範囲の膜厚のＳｉＯ2と、更に、５ｎｍから２０ｎ
ｍの範囲の膜厚のＣｒ膜からなる下地膜を有する磁気コ
アとそれを用いた浮上型磁気ヘッド。
に対応可能なヘッド特性の良好な単層膜の磁気ヘッドを
提供する。 【構成】 非磁性基板間１３,１３'にＦｅ系軟磁性薄膜
の単層膜１１を有し、その単層膜１１の厚み方向に磁気
ギャップ１４が形成された磁気コアであって、単層膜１
１の膜厚をＦｔ、磁気コアのトラック幅をＴｗとしたと
きに、８μｍ≦Ｆｔ≦２５μｍ、４μｍ≦Ｔｗ≦１０μ
ｍ、Ｆｔ×Ａ＝Ｔｗ、Ａ＝０．４〜０．８の範囲にあ
り、非磁性基板と単層膜との間には、５ｎｍから２０ｎ
ｍの範囲の膜厚のＳｉＯ2と、更に、５ｎｍから２０ｎ
ｍの範囲の膜厚のＣｒ膜からなる下地膜を有する磁気コ
アとそれを用いた浮上型磁気ヘッド。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特には３.５インチや
２.５インチ以下の小型、高密度の磁気ディスク装置に
用いられ、高周波信号を効率よく記録再生するのに好適
な磁気ヘッドに関する。
２.５インチ以下の小型、高密度の磁気ディスク装置に
用いられ、高周波信号を効率よく記録再生するのに好適
な磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置に用いられる浮上型の
磁気ヘッドには、モノリシック式磁気ヘッド、薄膜磁気
ヘッド、コンポジット式磁気ヘッド等がある。モノリシ
ック式磁気ヘッドはインダクタンスが高いために、高周
波、高密度化した小型磁気ディスク装置には適切でな
い。薄膜磁気ヘッドは生産性、製造コスト、信頼性の点
で問題があり大量生産の必要な小型磁気ディスクには適
当でない。そのために、小型磁気ディスク装置の分野で
は、磁気ヘッド特性やコスト等の点で有利なメタル・イ
ン・ギャップ（ＭＩＧ）型の磁気コアをスライダ−に組
み込んだコンポジット式の浮上型磁気ヘッドが主流とな
っている。図６はメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型
の磁気コアを示す図である。この磁気コア６１は一対の
磁性コア６２，６３の対向面に、磁性コアよりも飽和磁
束密度の高いセンダスト等の高飽和磁束密度合金薄膜６
４，６４’を有する第１の磁性コア６２と第２の磁性コ
ア６３とを有するものである。そして、両磁性コアが磁
気ギャップを介して接合一体化されている。通常第１お
よび第２の磁性コアとしては、Ｍｎ−Ｚｎ単結晶フェラ
イトが用いられている。図７はコンポジット式の浮上型
磁気ヘッド７１を示す図である。ＭＩＧ型の磁気コア７
５をスライダ−７２のスリット７３にガラス７４で固着
した浮上型磁気ヘッド７１は、高飽和磁束密度を有する
合金薄膜から強力な磁束を磁気記録媒体に印加できるた
め、高い保磁力を有する媒体に有効な記録を行う事がで
きる。
磁気ヘッドには、モノリシック式磁気ヘッド、薄膜磁気
ヘッド、コンポジット式磁気ヘッド等がある。モノリシ
ック式磁気ヘッドはインダクタンスが高いために、高周
波、高密度化した小型磁気ディスク装置には適切でな
い。薄膜磁気ヘッドは生産性、製造コスト、信頼性の点
で問題があり大量生産の必要な小型磁気ディスクには適
当でない。そのために、小型磁気ディスク装置の分野で
は、磁気ヘッド特性やコスト等の点で有利なメタル・イ
ン・ギャップ（ＭＩＧ）型の磁気コアをスライダ−に組
み込んだコンポジット式の浮上型磁気ヘッドが主流とな
っている。図６はメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型
の磁気コアを示す図である。この磁気コア６１は一対の
磁性コア６２，６３の対向面に、磁性コアよりも飽和磁
束密度の高いセンダスト等の高飽和磁束密度合金薄膜６
４，６４’を有する第１の磁性コア６２と第２の磁性コ
ア６３とを有するものである。そして、両磁性コアが磁
気ギャップを介して接合一体化されている。通常第１お
よび第２の磁性コアとしては、Ｍｎ−Ｚｎ単結晶フェラ
イトが用いられている。図７はコンポジット式の浮上型
磁気ヘッド７１を示す図である。ＭＩＧ型の磁気コア７
５をスライダ−７２のスリット７３にガラス７４で固着
した浮上型磁気ヘッド７１は、高飽和磁束密度を有する
合金薄膜から強力な磁束を磁気記録媒体に印加できるた
め、高い保磁力を有する媒体に有効な記録を行う事がで
きる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５は小型磁気ディス
クの面記録密度の推移を示す図である。小型磁気ディス
ク装置の高密度記録への要求は著しく、’９１年では１
００Ｍｂ／ｉｎ2程度であったものが、’９５年には２
５０Ｍｂ／ｉｎ2程度の水準が必要になると考えられ、
使用周波数帯域も高周波側では最高２０ＭＨｚ程度とな
る。面記録密度の向上と使用周波数帯域の高周波化に伴
い、トラック記録密度、線記録密度も高くなり、そのた
めに磁気ギャップ長さとトラック幅を小さくする必要が
ある。ＭＩＧ型磁気コアは図６に示すように、フロント
側の磁気ギャップ近傍にトラック密度に対応したトラッ
ク幅Ｔｗに絞る切欠き加工する必要がある。しかし、Ｍ
ＩＧ型磁気コアを構成する第１および第２のフェライト
コアは、トラック幅方向にある程度の厚さがないと強度
的に充分でない。特に図７に示したコンポジット式の浮
上型磁気ヘッドの製造工程においては、スライダ−７２
のスリット７３に磁気コア７５を所定の位置に固定する
工程がある。磁気コアの強度が充分でないと、この磁気
コアを固定する工程に於いて、フェライトのトラック部
や補強ガラスにクラックが発生し易くなる。また、磁気
コアをスライダ−のスリットに固定する製造工程を必要
とするために、好ましい強度を得るためにフェライトコ
アの厚さＣｗも余り薄くできない。そのために、狭トラ
ック化した磁気コアのトラック幅Ｔｗは、フェライトコ
ア厚さＣｗの１／１０以下となってしまう。この様なト
ラック幅Ｔｗがフェライトコア厚さＣｗに比較して極端
に薄い構造の磁気コアでは、研削部の段差が大きく、そ
の段差部分で漏れ磁束が多くなってしまう。また、フェ
ライトコアの厚さＣｗは余り薄くできないので、インダ
クタンスとキャパシタンスも大きくなり、自己共振周波
数が低く使用可能な周波数帯域の狭いものしか得られ
ず、２０ＭＨｚの高周波帯域には対応出来ない。また、
フェライトをコア材として用いているためその透磁率は
スネ−クの周波数限界線に従い高周波帯域では高透磁率
は得られない。そのため、高周波記録になるほど磁気ヘ
ッドの記録再生特性は低下する。更に、フェライトその
ものに起因する再生波形の揺らぎ等のノイズ成分も高周
波記録になるほど大きな問題となってくる。また、ＭＩ
Ｇ型磁気コアでは、高飽和磁束密度合金薄膜とフェライ
トコアとの界面に反応層ができるため、疑似ギャップが
生じ易く磁気ヘッドの記録再生特性が劣化し、特に再生
時には、擬似ギャップの発生やコンタ−効果によるノイ
ズの障害が著しくなる。
クの面記録密度の推移を示す図である。小型磁気ディス
ク装置の高密度記録への要求は著しく、’９１年では１
００Ｍｂ／ｉｎ2程度であったものが、’９５年には２
５０Ｍｂ／ｉｎ2程度の水準が必要になると考えられ、
使用周波数帯域も高周波側では最高２０ＭＨｚ程度とな
る。面記録密度の向上と使用周波数帯域の高周波化に伴
い、トラック記録密度、線記録密度も高くなり、そのた
めに磁気ギャップ長さとトラック幅を小さくする必要が
ある。ＭＩＧ型磁気コアは図６に示すように、フロント
側の磁気ギャップ近傍にトラック密度に対応したトラッ
ク幅Ｔｗに絞る切欠き加工する必要がある。しかし、Ｍ
ＩＧ型磁気コアを構成する第１および第２のフェライト
コアは、トラック幅方向にある程度の厚さがないと強度
的に充分でない。特に図７に示したコンポジット式の浮
上型磁気ヘッドの製造工程においては、スライダ−７２
のスリット７３に磁気コア７５を所定の位置に固定する
工程がある。磁気コアの強度が充分でないと、この磁気
コアを固定する工程に於いて、フェライトのトラック部
や補強ガラスにクラックが発生し易くなる。また、磁気
コアをスライダ−のスリットに固定する製造工程を必要
とするために、好ましい強度を得るためにフェライトコ
アの厚さＣｗも余り薄くできない。そのために、狭トラ
ック化した磁気コアのトラック幅Ｔｗは、フェライトコ
ア厚さＣｗの１／１０以下となってしまう。この様なト
ラック幅Ｔｗがフェライトコア厚さＣｗに比較して極端
に薄い構造の磁気コアでは、研削部の段差が大きく、そ
の段差部分で漏れ磁束が多くなってしまう。また、フェ
ライトコアの厚さＣｗは余り薄くできないので、インダ
クタンスとキャパシタンスも大きくなり、自己共振周波
数が低く使用可能な周波数帯域の狭いものしか得られ
ず、２０ＭＨｚの高周波帯域には対応出来ない。また、
フェライトをコア材として用いているためその透磁率は
スネ−クの周波数限界線に従い高周波帯域では高透磁率
は得られない。そのため、高周波記録になるほど磁気ヘ
ッドの記録再生特性は低下する。更に、フェライトその
ものに起因する再生波形の揺らぎ等のノイズ成分も高周
波記録になるほど大きな問題となってくる。また、ＭＩ
Ｇ型磁気コアでは、高飽和磁束密度合金薄膜とフェライ
トコアとの界面に反応層ができるため、疑似ギャップが
生じ易く磁気ヘッドの記録再生特性が劣化し、特に再生
時には、擬似ギャップの発生やコンタ−効果によるノイ
ズの障害が著しくなる。
【０００４】また、ＶＴＲ用の磁気ヘッドでは、高周
波、高密度記録に適するものとして、非磁性基板間に軟
磁性合金薄膜と非磁性薄膜との積層膜を成膜し、その積
層膜の厚み方向に磁気ギャップを形成した積層型の磁気
ヘッドが一部実用化されている。磁気ディスク装置用の
積層型ヘッドとしては、ＶＴＲ用と同じ構成の積層型の
磁気コアを非磁性材で構成したスライダ−に組み込んだ
上型磁気ヘッドが、特開平３−２７５５５５号公報や、
特開平３−７６３６６号公報に開示されている。また、
スライダ−となる非磁性基板の側面に積層膜を成膜し、
非磁性基板で挾持したモノリシック型の浮上型磁気ヘッ
ドが、特開平３−１３０９１３号公報、特開平３−１３
０９１２号公報等に開示されている。しかし、これらの
積層型磁気ヘッドは、オ−バ−ライト特性や再生出力特
性に問題があり、現状では実用には供されていない。本
発明の目的は、インダクタンスが小さく、高周波記録に
好適で、疑似ギャップの発生が少なく、記録再生特性が
良好で高出力が得られる磁気コアとそれを用いたコンポ
ジット式の浮上型磁気ヘッドを提供する事にある。
波、高密度記録に適するものとして、非磁性基板間に軟
磁性合金薄膜と非磁性薄膜との積層膜を成膜し、その積
層膜の厚み方向に磁気ギャップを形成した積層型の磁気
ヘッドが一部実用化されている。磁気ディスク装置用の
積層型ヘッドとしては、ＶＴＲ用と同じ構成の積層型の
磁気コアを非磁性材で構成したスライダ−に組み込んだ
上型磁気ヘッドが、特開平３−２７５５５５号公報や、
特開平３−７６３６６号公報に開示されている。また、
スライダ−となる非磁性基板の側面に積層膜を成膜し、
非磁性基板で挾持したモノリシック型の浮上型磁気ヘッ
ドが、特開平３−１３０９１３号公報、特開平３−１３
０９１２号公報等に開示されている。しかし、これらの
積層型磁気ヘッドは、オ−バ−ライト特性や再生出力特
性に問題があり、現状では実用には供されていない。本
発明の目的は、インダクタンスが小さく、高周波記録に
好適で、疑似ギャップの発生が少なく、記録再生特性が
良好で高出力が得られる磁気コアとそれを用いたコンポ
ジット式の浮上型磁気ヘッドを提供する事にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気コアは非磁
性基板間にＦｅ系軟磁性薄膜の単層膜を有し、その単層
膜の厚み方向に磁気ギャップを形成した磁気コアであっ
て、単層膜の膜厚をＦt、磁気コアのトラック幅をＴwと
したときに、 ８μｍ≦Ｆt≦２５μｍ ４μｍ≦Ｔｗ≦１０μｍ Ｆt×Ａ＝Ｔw Ａ＝０．４〜０．８ の磁気コアである。非磁性基板とＦｅ系軟磁性薄膜の単
層膜との間には、５ｎｍから２０ｎｍの範囲の膜厚のＳ
ｉＯ2と、更に５ｎｍから２０ｎｍの範囲の膜厚のＣｒ
膜との下地膜を形成するのが好ましい。Ｆｅ系軟磁性薄
膜は耐熱性、軟磁性からみてＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金が
適し、耐食性向上のために、Ｔｉ，Ｒｕ，Ｃｒの１種を
含有させても良い。非磁性基板は、ＭｎＯ−ＮｉＯ系セ
ラミックスを用いるのが良く、ＮｉＯの含有量は７０〜
９０ｗｔ％がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金との熱膨張係数の
差を小さくできるので適切である。また、本発明はこの
ような構成の磁気コアを非磁性材で構成したスライダ−
に組み込んだ浮上型磁気ヘッドも提供するものである。
スライダ−にはＭｎＯ−ＮｉＯ系セラミックスを用い、
そのセラミックスのＮｉＯの含有量を５０〜９０ｗｔ％
とするとＣＳＳ( contact stop start )特性の良好な浮
上型磁気ヘッドが得られる。
性基板間にＦｅ系軟磁性薄膜の単層膜を有し、その単層
膜の厚み方向に磁気ギャップを形成した磁気コアであっ
て、単層膜の膜厚をＦt、磁気コアのトラック幅をＴwと
したときに、 ８μｍ≦Ｆt≦２５μｍ ４μｍ≦Ｔｗ≦１０μｍ Ｆt×Ａ＝Ｔw Ａ＝０．４〜０．８ の磁気コアである。非磁性基板とＦｅ系軟磁性薄膜の単
層膜との間には、５ｎｍから２０ｎｍの範囲の膜厚のＳ
ｉＯ2と、更に５ｎｍから２０ｎｍの範囲の膜厚のＣｒ
膜との下地膜を形成するのが好ましい。Ｆｅ系軟磁性薄
膜は耐熱性、軟磁性からみてＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金が
適し、耐食性向上のために、Ｔｉ，Ｒｕ，Ｃｒの１種を
含有させても良い。非磁性基板は、ＭｎＯ−ＮｉＯ系セ
ラミックスを用いるのが良く、ＮｉＯの含有量は７０〜
９０ｗｔ％がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金との熱膨張係数の
差を小さくできるので適切である。また、本発明はこの
ような構成の磁気コアを非磁性材で構成したスライダ−
に組み込んだ浮上型磁気ヘッドも提供するものである。
スライダ−にはＭｎＯ−ＮｉＯ系セラミックスを用い、
そのセラミックスのＮｉＯの含有量を５０〜９０ｗｔ％
とするとＣＳＳ( contact stop start )特性の良好な浮
上型磁気ヘッドが得られる。
【０００６】
【作用】本発明では、非磁性基板間に形成した単層膜と
その突合せ面の磁気ギャップで磁路を構成する。この為
疑似ギャップが発生する事もなく、疑似ギャップによる
副パルスやコンタ−効果の影響もなくなる。そして、磁
気コア材としてＦｅ系軟磁性薄膜を用いるため、２０Ｍ
Ｈｚの高周波帯域でも透磁率の低下が小さく、高周波帯
域においても高い記録再生特性が得られる。更に、Ｆｅ
系軟磁性薄膜をコア材として用いるため、磁路を形成す
る単層膜の膜厚は磁気コアの強度に制限される事はな
く、磁気コア厚を小さくできる為に、低インダクタンス
化および低キャパシタンス化が可能となる。そのため
に、フェライトをコア材とした場合よりも再生時のノイ
ズ成分は少なくなり、また、自己共振周波数が高くな
り、使用可能な周波数帯域の広い磁気コアを得る事がで
きる。
その突合せ面の磁気ギャップで磁路を構成する。この為
疑似ギャップが発生する事もなく、疑似ギャップによる
副パルスやコンタ−効果の影響もなくなる。そして、磁
気コア材としてＦｅ系軟磁性薄膜を用いるため、２０Ｍ
Ｈｚの高周波帯域でも透磁率の低下が小さく、高周波帯
域においても高い記録再生特性が得られる。更に、Ｆｅ
系軟磁性薄膜をコア材として用いるため、磁路を形成す
る単層膜の膜厚は磁気コアの強度に制限される事はな
く、磁気コア厚を小さくできる為に、低インダクタンス
化および低キャパシタンス化が可能となる。そのため
に、フェライトをコア材とした場合よりも再生時のノイ
ズ成分は少なくなり、また、自己共振周波数が高くな
り、使用可能な周波数帯域の広い磁気コアを得る事がで
きる。
【０００７】
【実施例】図１は本発明の一例を示すトラック幅を両絞
りにした磁気コアを示す図である。この磁気コアは、非
磁性基板１３上にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系軟磁性薄膜の単層
膜１１成膜し、その上にガラス等を介して非磁性基板１
３を接着した構成要素とする磁気コア半体と、同様にし
て非磁性基板に単層膜を成膜しその上に非磁性基板接着
した磁気コア半体とを磁気ギャップとなるＳｉＯ2等の
薄膜１４と補強ガラス１５で接合一体化してなるもので
ある。磁気コアのトラック幅Ｔｗは、磁気コアの実効的
な磁気コアとなるＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜の単層膜
１１のフロントギャップ近傍部を研削して得られる磁気
ギャップの幅である。本発明の磁気コアは、その製造工
程においてコア半体同士を突き合わせ接合し、接合後に
トラック絞り加工を行うので、このトラックの位置合わ
せにおける合わせズレが無視でき、ヘッド特性が良好で
ある。面記録密度２５０Ｍｂ／ｉｎ2クラスの磁気ディ
スク装置では、トラック厚さＴｗが１０μｍを越えると
そのトラック記録密度には対応できなくなる。Ｔｗを４
μｍ未満にしてもヘッド特性に差がなく製作上工数の点
で問題生じてしまう。単層膜の膜厚Ｆｔは記録再生特性
とオ−バ−ライト特性に左右される。Ｆｔが大きくなる
とインダクタンスも大きくなり、高周波帯域においては
記録再生特性が低く対応できなくなる。
りにした磁気コアを示す図である。この磁気コアは、非
磁性基板１３上にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系軟磁性薄膜の単層
膜１１成膜し、その上にガラス等を介して非磁性基板１
３を接着した構成要素とする磁気コア半体と、同様にし
て非磁性基板に単層膜を成膜しその上に非磁性基板接着
した磁気コア半体とを磁気ギャップとなるＳｉＯ2等の
薄膜１４と補強ガラス１５で接合一体化してなるもので
ある。磁気コアのトラック幅Ｔｗは、磁気コアの実効的
な磁気コアとなるＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜の単層膜
１１のフロントギャップ近傍部を研削して得られる磁気
ギャップの幅である。本発明の磁気コアは、その製造工
程においてコア半体同士を突き合わせ接合し、接合後に
トラック絞り加工を行うので、このトラックの位置合わ
せにおける合わせズレが無視でき、ヘッド特性が良好で
ある。面記録密度２５０Ｍｂ／ｉｎ2クラスの磁気ディ
スク装置では、トラック厚さＴｗが１０μｍを越えると
そのトラック記録密度には対応できなくなる。Ｔｗを４
μｍ未満にしてもヘッド特性に差がなく製作上工数の点
で問題生じてしまう。単層膜の膜厚Ｆｔは記録再生特性
とオ−バ−ライト特性に左右される。Ｆｔが大きくなる
とインダクタンスも大きくなり、高周波帯域においては
記録再生特性が低く対応できなくなる。
【０００８】例えば、Ｆｅ系軟磁性薄膜として飽和磁束
密度１．１Ｔのセンダスト膜を用い、Ｔｗが５μｍ，ギ
ャップ長が０．２５μｍ，記録媒体の保磁力が１６００
Ｏｅ条件の場合、Ｆｔが８μｍより小さくなるとハ−ド
ディスクドライブの磁気ヘッドに対する仕様を満たすオ
−バ−ライト値が得られない。また、Ｆｔが２５μｍを
越えると、インダクタンスが２μＨを越え高周波帯域で
のインピ−ダンスノイズが大きくなり、ＭＩＧ型磁気コ
アを用いた磁気ヘッドに対する優位性が無くなる。従っ
て、良好な特性を示すＴｗの範囲は４〜１０μｍ、Ｆｔ
の範囲は８〜２５μｍである。この範囲でのＦｔとＴｗ
の関係は、０．４×Ｆｔ≦Ｔｗ≦０．８×Ｆｔで表され
るが、Ｆｔが８μｍの場合Ｔｗが０．８×Ｆｔとする
と、トラック厚さＴｗは６．４μｍとなり、トラックず
れのないを良好な磁気ギャップを得る限界である。Ｆｔ
が８μｍの場合、Ｔｗ＝が０．４Ｆｔを考えるとＴｗが
３．２μｍとなり、本発明には不要なトラック厚さとな
る。しかし、Ｆｔ２５μｍを考慮すると１０μｍのトラ
ック厚さが得られるので０．４を下限とした。一例とし
て図８に本発明の磁気ヘッドのオ−バライト特性の書き
込み電流依存性を示す。図８に示したオ−バ−ライト特
性を測定した磁気コアは、Ｔｗ＝８μｍ、Ｆｔ＝１５μ
ｍであり、本発明の範囲内であればＭＩＧ型の磁気コア
を用いたものより高いオ−バ−ライト特性が得られるこ
とが判る。上記金属磁性膜の透磁率は、磁気ヘッドの再
生効率をＭＩＧ型磁気コアと同等以上にするためには３
０００以上の値が必要となる。そのためには、図３に示
すように、Ｆｅ系軟磁性薄膜を非磁性基板に形成する前
に下地膜としてＳｉＯ2膜３６を５〜２０ｎｍ形成し、
更にＣｒ膜３７を５〜２０ｎｍ形成する事により軟磁性
薄膜の透磁率の値が下地膜がないものに比較してより高
い値が得られる。図２は図１と同様にして磁気コア素材
を作製し、トラック部を片絞りに研削加工した本発明の
他の実施例を示す図である。図４は図１，２の磁気コア
を用いた本発明のコンポジット式の浮上型磁気ヘッド４
１を示す図である。この浮上型磁気ヘッド４１は、単層
膜を有する磁気コア４５がスライダ−４２のエアベアリ
ング４６に形成されたスリット４３にガラス４４で固着
されている。
密度１．１Ｔのセンダスト膜を用い、Ｔｗが５μｍ，ギ
ャップ長が０．２５μｍ，記録媒体の保磁力が１６００
Ｏｅ条件の場合、Ｆｔが８μｍより小さくなるとハ−ド
ディスクドライブの磁気ヘッドに対する仕様を満たすオ
−バ−ライト値が得られない。また、Ｆｔが２５μｍを
越えると、インダクタンスが２μＨを越え高周波帯域で
のインピ−ダンスノイズが大きくなり、ＭＩＧ型磁気コ
アを用いた磁気ヘッドに対する優位性が無くなる。従っ
て、良好な特性を示すＴｗの範囲は４〜１０μｍ、Ｆｔ
の範囲は８〜２５μｍである。この範囲でのＦｔとＴｗ
の関係は、０．４×Ｆｔ≦Ｔｗ≦０．８×Ｆｔで表され
るが、Ｆｔが８μｍの場合Ｔｗが０．８×Ｆｔとする
と、トラック厚さＴｗは６．４μｍとなり、トラックず
れのないを良好な磁気ギャップを得る限界である。Ｆｔ
が８μｍの場合、Ｔｗ＝が０．４Ｆｔを考えるとＴｗが
３．２μｍとなり、本発明には不要なトラック厚さとな
る。しかし、Ｆｔ２５μｍを考慮すると１０μｍのトラ
ック厚さが得られるので０．４を下限とした。一例とし
て図８に本発明の磁気ヘッドのオ−バライト特性の書き
込み電流依存性を示す。図８に示したオ−バ−ライト特
性を測定した磁気コアは、Ｔｗ＝８μｍ、Ｆｔ＝１５μ
ｍであり、本発明の範囲内であればＭＩＧ型の磁気コア
を用いたものより高いオ−バ−ライト特性が得られるこ
とが判る。上記金属磁性膜の透磁率は、磁気ヘッドの再
生効率をＭＩＧ型磁気コアと同等以上にするためには３
０００以上の値が必要となる。そのためには、図３に示
すように、Ｆｅ系軟磁性薄膜を非磁性基板に形成する前
に下地膜としてＳｉＯ2膜３６を５〜２０ｎｍ形成し、
更にＣｒ膜３７を５〜２０ｎｍ形成する事により軟磁性
薄膜の透磁率の値が下地膜がないものに比較してより高
い値が得られる。図２は図１と同様にして磁気コア素材
を作製し、トラック部を片絞りに研削加工した本発明の
他の実施例を示す図である。図４は図１，２の磁気コア
を用いた本発明のコンポジット式の浮上型磁気ヘッド４
１を示す図である。この浮上型磁気ヘッド４１は、単層
膜を有する磁気コア４５がスライダ−４２のエアベアリ
ング４６に形成されたスリット４３にガラス４４で固着
されている。
【０００９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る磁気ヘッドにおいては、磁気コア材としてＦｅ系
軟磁性薄膜の単層膜を用い、非磁性基板で挟み込んだ構
成としているため、疑似ギャップの発生はなく、低ノイ
ズで高い記録再生特性を持つ磁気ヘッドが得られる。ま
た、ＦｔをＴｗに対応させて磁気ヘッドのインダクタン
ス、オ−バ−ライト特性および製造工程上の限度から最
適化を図る事により、低インダクタンスで低キャパシタ
ンスの自己共振周波数が高い高周波対応の磁気ヘッドが
得られ、しかも生産性も優れている。
に係る磁気ヘッドにおいては、磁気コア材としてＦｅ系
軟磁性薄膜の単層膜を用い、非磁性基板で挟み込んだ構
成としているため、疑似ギャップの発生はなく、低ノイ
ズで高い記録再生特性を持つ磁気ヘッドが得られる。ま
た、ＦｔをＴｗに対応させて磁気ヘッドのインダクタン
ス、オ−バ−ライト特性および製造工程上の限度から最
適化を図る事により、低インダクタンスで低キャパシタ
ンスの自己共振周波数が高い高周波対応の磁気ヘッドが
得られ、しかも生産性も優れている。
【図１】本発明の両絞りの単層膜の磁気コアを示す斜視
図である。
図である。
【図２】本発明の片絞りの単層膜の磁気コア示す斜視図
である。
である。
【図３】本発明の単層膜の下地膜の成膜部を示す斜視図
である。
である。
【図４】本発明のコンポジット式の浮上型磁気ヘッド示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図５】小型磁気ディスク装置の記録密度の増大傾向を
示す図である。
示す図である。
【図６】従来のＭＩＧ型磁気コアを示す斜視図である。
【図７】従来のコンポジット式の浮上型磁気ヘッド示す
斜視図である。
斜視図である。
【図８】本発明コアとＭＩＧ型コアを用いた磁気ヘッド
のオ−バ−ライト特性を示す図である。
のオ−バ−ライト特性を示す図である。
１１ 単層膜 １２ 非磁性基板 １３ 非磁性基板 １４ 磁気ギャップ １５ 補強ガラス ３６ ＳｉＯ2膜 ３７ Ｃｒ膜 ４１ 浮上型磁気ヘッド ４５ 磁気コア Ｔｗ トラック幅 Ｃｗ 磁気コア厚さ Ｆｔ 単層膜厚
Claims (6)
- 【請求項１】 非磁性基板間にＦｅ系軟磁性薄膜の単層
膜を有し、その単層膜の厚み方向に磁気ギャップが形成
された磁気コアであって、 前記単層膜の膜厚をＦｔ、磁気コアのトラック幅をＴｗ
としたときに、 ８μｍ≦Ｆｔ≦２５μｍ ４μｍ≦Ｔｗ≦１０μｍ Ｆｔ×Ａ＝Ｔｗ Ａ＝０．４〜０．８ であることを特徴とする磁気コア。 - 【請求項２】 非磁性基板と単層膜との間には、５ｎｍ
から２０ｎｍの範囲の膜厚のＳｉＯ2膜と、更に５ｎｍ
から２０ｎｍの範囲の膜厚のＣｒ膜からなる下地膜を有
する請求項１記載の磁気コア。 - 【請求項３】 Ｆｅ系軟磁性薄膜はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系
合金からなり、少なくともＴｉ，Ｒｕ，Ｃｒの内の１種
を含有する請求項１、または、２記載の磁気コア。 - 【請求項４】 前記非磁性基板は、ＭｎＯ−ＮｉＯ系セ
ラミックスからなり、そのセラミックスはＮｉＯの含有
量が７０〜９０ｗｔ％である請求項１ないし３のいずれ
かに記載の磁気コア。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の磁
気コアが非磁性材で構成されたスライダ−に組み込まれ
た浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項６】 前記スライダ−はＭｎＯ−ＮｉＯ系セラ
ミックスからなり、そのセラミッックスはＮｉＯの含有
量が５０〜９０ｗｔ％である請求項５記載の浮上型磁気
ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19036292A JPH0636212A (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 磁気コアおよび浮上型磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19036292A JPH0636212A (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 磁気コアおよび浮上型磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636212A true JPH0636212A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16256926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19036292A Pending JPH0636212A (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 磁気コアおよび浮上型磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636212A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000007599A (ko) * | 1998-07-04 | 2000-02-07 | 구자홍 | 자기 헤드장치 |
-
1992
- 1992-07-17 JP JP19036292A patent/JPH0636212A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000007599A (ko) * | 1998-07-04 | 2000-02-07 | 구자홍 | 자기 헤드장치 |
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