JPH0636372A - 光磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0636372A JPH0636372A JP21461192A JP21461192A JPH0636372A JP H0636372 A JPH0636372 A JP H0636372A JP 21461192 A JP21461192 A JP 21461192A JP 21461192 A JP21461192 A JP 21461192A JP H0636372 A JPH0636372 A JP H0636372A
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- Japan
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- magneto
- optical recording
- recording medium
- recording layer
- optical
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｔｂの量が少なくても（又はなくても）大き
な垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）を持ち、
安価で、高記録密度、高信頼性の光磁気記録媒体を提供
する。 【構成】 希土類金属−鉄族遷移金属アモルファス合金
からなる記録層を製膜後、(1) 高出力のレーザー又はキ
セノン、水銀、ハロゲン等のランプによる光を媒体全体
にパルス化して短時間照射する方法、(2) 媒体を回転さ
せながらアルゴン、ＣＯ2 等の高出力レーザを照射する
方法、(3) ユーザーが光磁気ディスクドライブ等を使っ
て実際の記録又は消去を行う時よりも高パワー又は低回
転速度で処理を行う方法、等の方法により、瞬間的に光
磁気記録時よりも高温にする処理を施す。
な垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）を持ち、
安価で、高記録密度、高信頼性の光磁気記録媒体を提供
する。 【構成】 希土類金属−鉄族遷移金属アモルファス合金
からなる記録層を製膜後、(1) 高出力のレーザー又はキ
セノン、水銀、ハロゲン等のランプによる光を媒体全体
にパルス化して短時間照射する方法、(2) 媒体を回転さ
せながらアルゴン、ＣＯ2 等の高出力レーザを照射する
方法、(3) ユーザーが光磁気ディスクドライブ等を使っ
て実際の記録又は消去を行う時よりも高パワー又は低回
転速度で処理を行う方法、等の方法により、瞬間的に光
磁気記録時よりも高温にする処理を施す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体及びその
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現在市
販されている光磁気ディスクの磁性膜はＴｂＦｅＣｏを
中心としたものであるが、Ｔｂは高価であるため低コス
ト化のためにはＴｂの量は少ないほど望ましい。ところ
が、光磁気ディスク用磁性膜は一般に垂直磁気異方性
（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）は大きい程良いとされてお
り、Ｔｂを少なくするとこの垂直磁気異方性（Ｋｕ）及
び保磁力（Ｈｃ）が減少し、実用に耐えるものが得られ
なくなってしまう。
販されている光磁気ディスクの磁性膜はＴｂＦｅＣｏを
中心としたものであるが、Ｔｂは高価であるため低コス
ト化のためにはＴｂの量は少ないほど望ましい。ところ
が、光磁気ディスク用磁性膜は一般に垂直磁気異方性
（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）は大きい程良いとされてお
り、Ｔｂを少なくするとこの垂直磁気異方性（Ｋｕ）及
び保磁力（Ｈｃ）が減少し、実用に耐えるものが得られ
なくなってしまう。
【０００３】一方、光磁気記録の高密度化のために短波
長レーザの使用が要求されているが、ＴｂＦｅＣｏ系磁
性膜は波長が短くなるに従い、磁気光学効果（θｋ）が
減少し、読み出し性能が低下する。これに対してＮｄを
含む希土類金属（ＲＥ）−鉄族遷移金属（ＴＭ）アモル
ファス合金（以下ＲＥ−ＴＭアモルファス合金と称する
こともある）は短波長域で磁気光学効果（θｋ）が大き
く注目されている（第１１回日本応用磁気学会学術講演
概要集３ａＤ−２，ｐ．２６２，１９８７．１１、同３
ａＤ−４，ｐ．２６４，１９８７．１１、同３ａＤ−
３，ｐ．２６３，１９８７．１１、同３ａＤ−６，ｐ．
２６６，１９８７．１１、第１２回日本応用磁気学会学
術講演概要集１ａＢ−２，ｐ．１１２，１９８８、同１
ａＢ−４，ｐ．１１４，１９８８等）。Ｎｄ−鉄族遷移
金属（ＴＭ）合金膜は面内磁化膜であるので光磁気ディ
スクの磁性膜としては使えないが、それに重希土類金
属、特にＴｂを加えていくと垂直磁気異方性（Ｋｕ）及
び保磁力（Ｈｃ）が増大し、光磁気ディスクの磁性膜と
して使用可能なレベルまで達するが、それに伴いＮｄの
比率を減らす必要あり、同時に磁気光学効果（θｋ）も
小さくなり、好ましくない。
長レーザの使用が要求されているが、ＴｂＦｅＣｏ系磁
性膜は波長が短くなるに従い、磁気光学効果（θｋ）が
減少し、読み出し性能が低下する。これに対してＮｄを
含む希土類金属（ＲＥ）−鉄族遷移金属（ＴＭ）アモル
ファス合金（以下ＲＥ−ＴＭアモルファス合金と称する
こともある）は短波長域で磁気光学効果（θｋ）が大き
く注目されている（第１１回日本応用磁気学会学術講演
概要集３ａＤ−２，ｐ．２６２，１９８７．１１、同３
ａＤ−４，ｐ．２６４，１９８７．１１、同３ａＤ−
３，ｐ．２６３，１９８７．１１、同３ａＤ−６，ｐ．
２６６，１９８７．１１、第１２回日本応用磁気学会学
術講演概要集１ａＢ−２，ｐ．１１２，１９８８、同１
ａＢ−４，ｐ．１１４，１９８８等）。Ｎｄ−鉄族遷移
金属（ＴＭ）合金膜は面内磁化膜であるので光磁気ディ
スクの磁性膜としては使えないが、それに重希土類金
属、特にＴｂを加えていくと垂直磁気異方性（Ｋｕ）及
び保磁力（Ｈｃ）が増大し、光磁気ディスクの磁性膜と
して使用可能なレベルまで達するが、それに伴いＮｄの
比率を減らす必要あり、同時に磁気光学効果（θｋ）も
小さくなり、好ましくない。
【０００４】また、Ｎｄ系ＲＥ−ＴＭ合金膜と、垂直磁
気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）の大きなＴｂＦｅ
Ｃｏ合金膜とが交換結合している多層膜タイプの記録膜
を用いることにより上記問題を解決する方法が提案され
ている（第１２回日本応用磁気学会学術講演概要集１ａ
Ｂ−３，ｐ．１１３，１９８８、第１３回日本応用磁気
学会学術講演概要集２４ａＣ−１，ｐ．３２５，１９８
８等）が、層構成が複雑になり、膜作製が難しくなる
上、磁性膜全体の膜厚が増加し、記録感度が悪くなる。
さらに、Ｎｄ系ＲＥ−ＴＭ合金膜は本来は垂直磁気異方
性が小さく、膜厚が厚くなると表面の磁化の垂直成分が
減少するため膜厚をあまり厚くできず、磁気光学効果
（θｋ）の増大にも限界がある、等の問題がある。
気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）の大きなＴｂＦｅ
Ｃｏ合金膜とが交換結合している多層膜タイプの記録膜
を用いることにより上記問題を解決する方法が提案され
ている（第１２回日本応用磁気学会学術講演概要集１ａ
Ｂ−３，ｐ．１１３，１９８８、第１３回日本応用磁気
学会学術講演概要集２４ａＣ−１，ｐ．３２５，１９８
８等）が、層構成が複雑になり、膜作製が難しくなる
上、磁性膜全体の膜厚が増加し、記録感度が悪くなる。
さらに、Ｎｄ系ＲＥ−ＴＭ合金膜は本来は垂直磁気異方
性が小さく、膜厚が厚くなると表面の磁化の垂直成分が
減少するため膜厚をあまり厚くできず、磁気光学効果
（θｋ）の増大にも限界がある、等の問題がある。
【０００５】本発明は以上のような従来技術の実情に鑑
みてなされたもので、Ｔｂの量が少なくても（又はなく
ても）大きな垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈ
ｃ）を持ち、安価で、高記録密度、高信頼性の光磁気記
録媒体及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、Ｎｄ系ＲＥ−ＴＭ合金膜においてＮｄ
を多く含んでいても大きな垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び
保磁力（Ｈｃ）を持ち、短波長レーザを使用した高密度
化への対応が可能な光磁気記録媒体及びその製造方法を
提供することを目的とする。
みてなされたもので、Ｔｂの量が少なくても（又はなく
ても）大きな垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈ
ｃ）を持ち、安価で、高記録密度、高信頼性の光磁気記
録媒体及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、Ｎｄ系ＲＥ−ＴＭ合金膜においてＮｄ
を多く含んでいても大きな垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び
保磁力（Ｈｃ）を持ち、短波長レーザを使用した高密度
化への対応が可能な光磁気記録媒体及びその製造方法を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、基板上にＲＥ−ＴＭ
アモルファス合金から構成される磁性層を製膜した後、
該磁性層を光磁気記録時よりも瞬間的に高温にする処理
を施すと、Ｔｂの量を少なくしても（又は使用しなくて
も）垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が充分
大きな値となり、しかもＮｄ系ＲＥ−ＴＭ合金から構成
される磁性層においても充分大きな垂直磁気異方性（Ｋ
ｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が得られるようになり、上記目
的が達成できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、基板上にＲＥ−ＴＭ
アモルファス合金から構成される磁性層を製膜した後、
該磁性層を光磁気記録時よりも瞬間的に高温にする処理
を施すと、Ｔｂの量を少なくしても（又は使用しなくて
も）垂直磁気異方性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が充分
大きな値となり、しかもＮｄ系ＲＥ−ＴＭ合金から構成
される磁性層においても充分大きな垂直磁気異方性（Ｋ
ｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が得られるようになり、上記目
的が達成できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００７】即ち、本発明によれば、希土類金属と鉄族
遷移金属とのアモルファス合金膜から構成される記録層
を備えた光磁気記録媒体において、前記記録層が製膜後
に瞬間的に光磁気記録時よりも高温にする処理がなされ
ているものであることを特徴とする光磁気記録媒体が提
供される。また、本発明によれば、上記において希土類
金属の一部又は全てがＮｄであることを特徴とする光磁
気記録媒体が提供される。また、本発明によれば、基板
上に希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルファス合金膜
から構成される記録層を製膜後、膜面全体に高出力の光
パルスを照射することにより、前記記録層を瞬間的に光
磁気記録時よりも高温にする処理を行うことを特徴とす
る光磁気記録媒体の製造方法が提供される。さらに、本
発明によれば、円形基板上に希土類金属と鉄族遷移金属
とのアモルファス合金膜から構成される記録層を製膜
後、基板を回転させながら、実際に光磁気記録に使用す
るレーザ光よりも高出力のレーザ光を前記記録層に照射
することにより、前記記録層を瞬間的に光磁気記録時よ
りも高温にする処理を行うことを特徴とする光磁気記録
媒体の製造方法が提供される。
遷移金属とのアモルファス合金膜から構成される記録層
を備えた光磁気記録媒体において、前記記録層が製膜後
に瞬間的に光磁気記録時よりも高温にする処理がなされ
ているものであることを特徴とする光磁気記録媒体が提
供される。また、本発明によれば、上記において希土類
金属の一部又は全てがＮｄであることを特徴とする光磁
気記録媒体が提供される。また、本発明によれば、基板
上に希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルファス合金膜
から構成される記録層を製膜後、膜面全体に高出力の光
パルスを照射することにより、前記記録層を瞬間的に光
磁気記録時よりも高温にする処理を行うことを特徴とす
る光磁気記録媒体の製造方法が提供される。さらに、本
発明によれば、円形基板上に希土類金属と鉄族遷移金属
とのアモルファス合金膜から構成される記録層を製膜
後、基板を回転させながら、実際に光磁気記録に使用す
るレーザ光よりも高出力のレーザ光を前記記録層に照射
することにより、前記記録層を瞬間的に光磁気記録時よ
りも高温にする処理を行うことを特徴とする光磁気記録
媒体の製造方法が提供される。
【０００７】以下本発明について詳述する。本発明の光
磁気記録媒体の一構成例を図１に示す。この光磁気記録
媒体は基板１上に、保護層２、磁性層３、保護層４、反
射層５及び保護コート層６を順次積層したものであり、
磁性層３は希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルファス
合金膜からなり、この磁性層３は製膜後に瞬間的に光磁
気記録時よりも高温にする処理を施したものである。
磁気記録媒体の一構成例を図１に示す。この光磁気記録
媒体は基板１上に、保護層２、磁性層３、保護層４、反
射層５及び保護コート層６を順次積層したものであり、
磁性層３は希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルファス
合金膜からなり、この磁性層３は製膜後に瞬間的に光磁
気記録時よりも高温にする処理を施したものである。
【０００８】一般に光磁気記録を行う場合には記録媒体
中の磁性層（記録層）の部分を磁性層のキュリー温度付
近まで上昇させて行う。その際、磁性層の磁化方向の反
転は起こるが、その他の化学的、構造的な変化は起こら
ない。本発明の光磁気記録媒体の記録層３は上記のよう
に製膜後に瞬間的に光磁気記録時よりも高温にする処理
を施すが、希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルファス
合金膜は一般にはキュリー温度より１００〜３００℃程
度高い温度に結晶化温度が存在するため、結晶化しない
ように短時間の内に加熱、冷却する必要がある。実際の
加熱温度及び昇温している時間は測定する事はできない
が、加熱温度はキュリー温度（信号を記録、消去する時
の温度）より５０℃以上高い温度が好ましく、加熱時間
は１０μｓｅｃ以下程度が好ましい。
中の磁性層（記録層）の部分を磁性層のキュリー温度付
近まで上昇させて行う。その際、磁性層の磁化方向の反
転は起こるが、その他の化学的、構造的な変化は起こら
ない。本発明の光磁気記録媒体の記録層３は上記のよう
に製膜後に瞬間的に光磁気記録時よりも高温にする処理
を施すが、希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルファス
合金膜は一般にはキュリー温度より１００〜３００℃程
度高い温度に結晶化温度が存在するため、結晶化しない
ように短時間の内に加熱、冷却する必要がある。実際の
加熱温度及び昇温している時間は測定する事はできない
が、加熱温度はキュリー温度（信号を記録、消去する時
の温度）より５０℃以上高い温度が好ましく、加熱時間
は１０μｓｅｃ以下程度が好ましい。
【０００９】記録層３は製膜後、結晶化しない範囲内で
短時間、充分昇温させる処理を施すことにより、垂直磁
気異方性（Ｋｕ）が増大したものとなる。これは何らか
の構造変化又は形態変化等によるものと推察されるが、
原因は不明である。従って、この処理の前後で補償組成
からのずれが等しいものを比較すると、処理後は保磁力
（Ｈｃ）も増大したものとなる。
短時間、充分昇温させる処理を施すことにより、垂直磁
気異方性（Ｋｕ）が増大したものとなる。これは何らか
の構造変化又は形態変化等によるものと推察されるが、
原因は不明である。従って、この処理の前後で補償組成
からのずれが等しいものを比較すると、処理後は保磁力
（Ｈｃ）も増大したものとなる。
【００１０】上記加熱処理を行う方法としては、(1) 高
出力のレーザー又はキセノン、水銀、ハロゲン等のラン
プによる光を媒体全体にパルス化して短時間照射する方
法、(2) 媒体を回転させながらアルゴン、ＣＯ2 等の高
出力レーザを照射する方法、(3) ユーザーが光磁気ディ
スクドライブ等を使って実際の記録又は消去を行う時よ
りも高パワー又は低回転速度で処理を行う方法、を挙げ
ることができるが、これに限定されない。
出力のレーザー又はキセノン、水銀、ハロゲン等のラン
プによる光を媒体全体にパルス化して短時間照射する方
法、(2) 媒体を回転させながらアルゴン、ＣＯ2 等の高
出力レーザを照射する方法、(3) ユーザーが光磁気ディ
スクドライブ等を使って実際の記録又は消去を行う時よ
りも高パワー又は低回転速度で処理を行う方法、を挙げ
ることができるが、これに限定されない。
【００１１】(1) の方法による場合は、磁性層が充分キ
ュリー温度以上になるような高出力の光源及び結晶化し
ないような短時間照射が必要条件となる。 (2) の方法による場合は、記録トラック毎に行うのが理
想であるが、高出力でかつ強度分布のない均質なビーム
を用いて数トラック〜数百トラックまとめて処理を行っ
てもよい。トラック毎に処理を行う場合には一般の光デ
ィスクドライブと同様のサーボ系が必要であるが、まと
めて処理を行う場合には精度の良い制御系は必要ない。 (3) の方法による場合は、信号の消去動作と同様のこと
をなるべく高速回転で、信号の記録、消去時よりも高パ
ワーで行うことが望ましいが、信号の消去時と同程度の
レーザパワーで回転速度を下げることでも可能である。
ュリー温度以上になるような高出力の光源及び結晶化し
ないような短時間照射が必要条件となる。 (2) の方法による場合は、記録トラック毎に行うのが理
想であるが、高出力でかつ強度分布のない均質なビーム
を用いて数トラック〜数百トラックまとめて処理を行っ
てもよい。トラック毎に処理を行う場合には一般の光デ
ィスクドライブと同様のサーボ系が必要であるが、まと
めて処理を行う場合には精度の良い制御系は必要ない。 (3) の方法による場合は、信号の消去動作と同様のこと
をなるべく高速回転で、信号の記録、消去時よりも高パ
ワーで行うことが望ましいが、信号の消去時と同程度の
レーザパワーで回転速度を下げることでも可能である。
【００１２】上記において記録層は単層膜でも多層膜で
も構わない。ＲＥとしてはＴｂ，Ｄｙ，Ｇｄ等、ＴＭと
してはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等を用いることができる。ま
た、層構成も上記の構成例に限定されるものではなく、
種々の変形、変更が可能である。
も構わない。ＲＥとしてはＴｂ，Ｄｙ，Ｇｄ等、ＴＭと
してはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等を用いることができる。ま
た、層構成も上記の構成例に限定されるものではなく、
種々の変形、変更が可能である。
【００１３】また、短波長ＬＤ用として、記録層にＮｄ
を含むＲＥ−ＴＭアモルファス膜を使用したものについ
ても同様に前記の処理を施したものを利用したところ、
Ｎｄを含んでいるにも関わらず、大きな垂直磁気異方性
（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が得られ、短波長レーザを
使用した高密度化への対応が充分可能であることが判明
した。
を含むＲＥ−ＴＭアモルファス膜を使用したものについ
ても同様に前記の処理を施したものを利用したところ、
Ｎｄを含んでいるにも関わらず、大きな垂直磁気異方性
（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が得られ、短波長レーザを
使用した高密度化への対応が充分可能であることが判明
した。
【００１４】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。 実施例１ 厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板１上にＳｉＮ膜
からなる保護層２（１００ｎｍ厚）、ＤｙＦｅＣｏ膜か
らなる磁性層３（３０ｎｍ厚）、ＳｉＮ膜からなる保護
層４（１００ｎｍ厚）、Ａｌ膜からなる反射層５（５０
ｎｍ厚）、保護コート層６（５μｍ厚）を形成した。磁
性層３の製膜後、通常の光記録と同様の方法で線速度１
１ｍ／ｓｅｃで１５ｍＷのＤＣレーザ光を膜面に全面照
射した。以上のようにして作製した媒体の保磁力（Ｈ
ｃ）を測定したところ、表１の値を得た。
からなる保護層２（１００ｎｍ厚）、ＤｙＦｅＣｏ膜か
らなる磁性層３（３０ｎｍ厚）、ＳｉＮ膜からなる保護
層４（１００ｎｍ厚）、Ａｌ膜からなる反射層５（５０
ｎｍ厚）、保護コート層６（５μｍ厚）を形成した。磁
性層３の製膜後、通常の光記録と同様の方法で線速度１
１ｍ／ｓｅｃで１５ｍＷのＤＣレーザ光を膜面に全面照
射した。以上のようにして作製した媒体の保磁力（Ｈ
ｃ）を測定したところ、表１の値を得た。
【００１５】実施例２ 実施例１において磁性層３としてＮｄＴｂＦｅＣｏ膜を
製膜したこと以外は同様にして記録媒体を得た。この媒
体の保磁力（Ｈｃ）を測定したところ、表１の値を得
た。
製膜したこと以外は同様にして記録媒体を得た。この媒
体の保磁力（Ｈｃ）を測定したところ、表１の値を得
た。
【００１６】比較例１ 実施例１においてレーザ光の全面照射を行わない媒体を
作製し、その保磁力（Ｈｃ）を測定したところ、表１の
値を得た。
作製し、その保磁力（Ｈｃ）を測定したところ、表１の
値を得た。
【００１７】比較例２ 実施例２においてレーザ光の全面照射を行わない媒体を
作製し、保磁力（Ｈｃ）を測定したところ、表１の値を
得た。
作製し、保磁力（Ｈｃ）を測定したところ、表１の値を
得た。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【発明の効果】本発明の光磁気記録媒体によれば、ＲＥ
−ＴＭアモルファス合金膜から構成される記録層とし
て、該記録層の製膜後に瞬間的に光磁気記録時よりも高
温にする処理を施したものを用いたので、垂直磁気異方
性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が増大するため、記録の
安定性が向上する。更にＴｂをＤｙ，Ｇｄ等に置き換え
ても同等の特性が得られ、高密度記録を維持しつつ、記
録媒体のコストダウンが可能になる。また、Ｎｄを含む
ＲＥ−ＴＭアモルファス膜において光磁気記録媒体とし
て使用可能な保磁力（Ｈｃ）を持たせることができ、短
波長ＬＤを使用した時も再生性能の良い記録媒体が提供
できる。さらに、本発明の製造方法によれば、上記のよ
うな利点を有する記録媒体が安価に得られるようにな
る。
−ＴＭアモルファス合金膜から構成される記録層とし
て、該記録層の製膜後に瞬間的に光磁気記録時よりも高
温にする処理を施したものを用いたので、垂直磁気異方
性（Ｋｕ）及び保磁力（Ｈｃ）が増大するため、記録の
安定性が向上する。更にＴｂをＤｙ，Ｇｄ等に置き換え
ても同等の特性が得られ、高密度記録を維持しつつ、記
録媒体のコストダウンが可能になる。また、Ｎｄを含む
ＲＥ−ＴＭアモルファス膜において光磁気記録媒体とし
て使用可能な保磁力（Ｈｃ）を持たせることができ、短
波長ＬＤを使用した時も再生性能の良い記録媒体が提供
できる。さらに、本発明の製造方法によれば、上記のよ
うな利点を有する記録媒体が安価に得られるようにな
る。
【図１】本発明の一構成例の光磁気記録媒体の断面図で
ある。
ある。
１ 基板 ２、４ 保護層 ３ 磁性層 ５ 反射層 ６ 保護コート層
Claims (4)
- 【請求項１】 希土類金属と鉄族遷移金属とのアモルフ
ァス合金膜から構成される記録層を備えた光磁気記録媒
体において、前記記録層が製膜後に瞬間的に光磁気記録
時よりも高温にする処理がなされていものであることを
特徴とする光磁気記録媒体。 - 【請求項２】 希土類金属の一部又は全てがＮｄである
ことを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体。 - 【請求項３】 基板上に希土類金属と鉄族遷移金属との
アモルファス合金膜から構成される記録層を製膜後、膜
面全体に高出力の光パルスを照射することにより、前記
記録層を瞬間的に光磁気記録時よりも高温にする処理を
行うことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 円形基板上に希土類金属と鉄族遷移金属
とのアモルファス合金膜から構成される記録層を製膜
後、基板を回転させながら、実際に光磁気記録に使用す
るレーザ光よりも高出力のレーザ光を前記記録層に照射
することにより、前記記録層を瞬間的に光磁気記録時よ
りも高温にする処理を行うことを特徴とする光磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21461192A JPH0636372A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21461192A JPH0636372A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636372A true JPH0636372A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16658592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21461192A Pending JPH0636372A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636372A (ja) |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP21461192A patent/JPH0636372A/ja active Pending
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