JPH0636385A - 光磁気記録方法 - Google Patents
光磁気記録方法Info
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- JPH0636385A JPH0636385A JP4214612A JP21461292A JPH0636385A JP H0636385 A JPH0636385 A JP H0636385A JP 4214612 A JP4214612 A JP 4214612A JP 21461292 A JP21461292 A JP 21461292A JP H0636385 A JPH0636385 A JP H0636385A
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- magneto
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 単層の垂直磁化膜を記録層とする光磁気記録
媒体に光変調方式で２種以上のレーザーパルスを照射し
て記録媒体の記録層の温度勾配又は冷却速度の差を作り
出してオーバーライトを行うにあたり、温度勾配又は冷
却速度の差をつけやすくし、記録条件のマージンの拡
大、オーバーライトの確実性の向上、再生信号の改善、
エラーレートの低下を図ることのできる光磁気記録方法
を提供する。 【構成】２種類のレーザーパルスの一方の立ち下がりが
１ステップで、他方の立ち下がりが複数ステップのレー
ザーパルスを用いてオーバーライトを行う。これによ
り、温度勾配又は冷却速度の差が大きくなり、所期の目
的が達成できるようになる。
媒体に光変調方式で２種以上のレーザーパルスを照射し
て記録媒体の記録層の温度勾配又は冷却速度の差を作り
出してオーバーライトを行うにあたり、温度勾配又は冷
却速度の差をつけやすくし、記録条件のマージンの拡
大、オーバーライトの確実性の向上、再生信号の改善、
エラーレートの低下を図ることのできる光磁気記録方法
を提供する。 【構成】２種類のレーザーパルスの一方の立ち下がりが
１ステップで、他方の立ち下がりが複数ステップのレー
ザーパルスを用いてオーバーライトを行う。これによ
り、温度勾配又は冷却速度の差が大きくなり、所期の目
的が達成できるようになる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、単層の垂直磁化膜を記
録層とする光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルス
を照射してオーバーライトを行う光磁気記録方法に関す
る。
録層とする光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルス
を照射してオーバーライトを行う光磁気記録方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
書き換え可能な光記録媒体として、磁気光学効果を利用
した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、一部では
実用化されるに至っている。この光磁気記録媒体は大容
量高密度記録、非接触記録再生、アクセスの容易さ等の
利点に加え、書き換えが可能という点で文書情報ファイ
ル、ビデオ・静止画ファイル、コンピュータ用メモリ等
への利用が有望視されている。光磁気記録媒体を磁気デ
ィスクと同等もしくはそれ以上の性能を持った記録媒体
とするためには、いくつかの技術的課題があり、その中
の主要なものの１つに、オーバーライト技術がある。
書き換え可能な光記録媒体として、磁気光学効果を利用
した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、一部では
実用化されるに至っている。この光磁気記録媒体は大容
量高密度記録、非接触記録再生、アクセスの容易さ等の
利点に加え、書き換えが可能という点で文書情報ファイ
ル、ビデオ・静止画ファイル、コンピュータ用メモリ等
への利用が有望視されている。光磁気記録媒体を磁気デ
ィスクと同等もしくはそれ以上の性能を持った記録媒体
とするためには、いくつかの技術的課題があり、その中
の主要なものの１つに、オーバーライト技術がある。
【０００３】現在市販されている光磁気記録媒体は情報
を書き換えるのに元の情報をあらかじめ消去し、その後
に新しい情報を書き込むという工程を踏む必要があり、
この消去操作が時間的なロスとなっている。この欠点を
解消するのが、オーバーライト技術である。これまで提
案されているオーバーライト技術は、記録の方法により
磁界変調方式と光変調方式（マルチビーム方式、２層膜
方式、等）に大別される。
を書き換えるのに元の情報をあらかじめ消去し、その後
に新しい情報を書き込むという工程を踏む必要があり、
この消去操作が時間的なロスとなっている。この欠点を
解消するのが、オーバーライト技術である。これまで提
案されているオーバーライト技術は、記録の方法により
磁界変調方式と光変調方式（マルチビーム方式、２層膜
方式、等）に大別される。
【０００４】磁界変調方式は光の強度を一定に保ち記録
情報に応じて印加磁界の極性を反転させて記録を行う方
式である。この方式では、磁界の反転を高速で行うため
に、浮上タイプの磁気ヘッドを用いる等の対応が検討さ
れているが、媒体交換が困難となる問題があり、それと
ともに光磁気記録媒体の片側の面のみしか使用できず、
記憶容量が半減するなどの不具合がある。
情報に応じて印加磁界の極性を反転させて記録を行う方
式である。この方式では、磁界の反転を高速で行うため
に、浮上タイプの磁気ヘッドを用いる等の対応が検討さ
れているが、媒体交換が困難となる問題があり、それと
ともに光磁気記録媒体の片側の面のみしか使用できず、
記憶容量が半減するなどの不具合がある。
【０００５】一方、光変調方式は印加磁界を一定に保ち
記録情報に応じて照射レーザーをオン・オフあるいは強
度変調させて記録を行う方式である。光変調方式のうち
マルチビーム方式は、２〜３個のレーザーを用い、磁界
の方向を光磁気記録媒体が１回転する毎に反転させて記
録／消去を行う擬似オーバーライト方式であるが、装置
構成が複雑化し、コストアップを招くなどの欠点を有し
ている。また、２層膜方式は光磁気記録媒体の記録層を
２層膜とし、オーバーライトを達成するもので、例えば
特開昭６２−１７５９４８号公報等に開示されている。
同公報に記載されている方式は、例えばＴｂＦｅからな
る記録層とＴｂＦｅＣｏからなる補助層とを備えた光磁
気記録媒体を用い、初期化を行った後、外部磁界の印加
と、パワーの異なるレーザーの照射によりオーバーライ
トを実現しようとするものである。すなわち、この方式
では、記録に先立ち予め４ＫＯｅ程度の初期化用磁界に
より補助層の磁化を一方向に揃え、高出力レーザーを照
射して媒体温度ＴをＴ＞Ｔｃ2（Ｔｃ2は補助層のキュリ
ー温度）なる温度まで昇温させ、記録用磁界（初期化用
磁界と反対方向）を印加して補助層の磁化を反転させ、
媒体が冷却される際にその磁化を記録層に転写させるこ
とにより記録を行い、また、低出力レーザーを照射して
媒体温度をＴｃ1＜Ｔ＜Ｔｃ2（Ｔｃ1は記録層のキュリ
ー温度）なる温度まで昇温させ、補助層の磁化方向を記
録層に転写させることにより消去を行う。しかしなが
ら、この方式は高速性の点で有利であるが、書き込み時
のレーザーパワーが高く、またオーバーライトに先立っ
て行う初期化の過程で非常に大きな磁界を付与しなけれ
ばならないという問題があった。
記録情報に応じて照射レーザーをオン・オフあるいは強
度変調させて記録を行う方式である。光変調方式のうち
マルチビーム方式は、２〜３個のレーザーを用い、磁界
の方向を光磁気記録媒体が１回転する毎に反転させて記
録／消去を行う擬似オーバーライト方式であるが、装置
構成が複雑化し、コストアップを招くなどの欠点を有し
ている。また、２層膜方式は光磁気記録媒体の記録層を
２層膜とし、オーバーライトを達成するもので、例えば
特開昭６２−１７５９４８号公報等に開示されている。
同公報に記載されている方式は、例えばＴｂＦｅからな
る記録層とＴｂＦｅＣｏからなる補助層とを備えた光磁
気記録媒体を用い、初期化を行った後、外部磁界の印加
と、パワーの異なるレーザーの照射によりオーバーライ
トを実現しようとするものである。すなわち、この方式
では、記録に先立ち予め４ＫＯｅ程度の初期化用磁界に
より補助層の磁化を一方向に揃え、高出力レーザーを照
射して媒体温度ＴをＴ＞Ｔｃ2（Ｔｃ2は補助層のキュリ
ー温度）なる温度まで昇温させ、記録用磁界（初期化用
磁界と反対方向）を印加して補助層の磁化を反転させ、
媒体が冷却される際にその磁化を記録層に転写させるこ
とにより記録を行い、また、低出力レーザーを照射して
媒体温度をＴｃ1＜Ｔ＜Ｔｃ2（Ｔｃ1は記録層のキュリ
ー温度）なる温度まで昇温させ、補助層の磁化方向を記
録層に転写させることにより消去を行う。しかしなが
ら、この方式は高速性の点で有利であるが、書き込み時
のレーザーパワーが高く、またオーバーライトに先立っ
て行う初期化の過程で非常に大きな磁界を付与しなけれ
ばならないという問題があった。
【０００６】上記に示したように光磁気記録のオーバー
ライト方式としていくつかの方式の提案がなされている
が、いずれも長所ばかりでなく短所も合わせ持ってお
り、実用化のためにはいくつのブレークスルーを重ねな
ければならないと言われている。
ライト方式としていくつかの方式の提案がなされている
が、いずれも長所ばかりでなく短所も合わせ持ってお
り、実用化のためにはいくつのブレークスルーを重ねな
ければならないと言われている。
【０００７】一方、単層の垂直磁化膜を記録層とする光
磁気記録媒体を用いて光変調オーバーライトを行う方法
の提案もなされている[Han-Ping; Appl. Phys. Lett.,
49,p8 (1986) 等] 。このように記録層（磁性膜）が交
換結合多層膜でない単層膜の光磁気記録媒体を用いてオ
ーバーライトを行う場合、反転磁区が形成されるか否か
は、光パルス照射後の温度勾配及び冷却速度、特には温
度勾配によって決定される。しかし、この方法には以下
のような問題があった。即ち、この方法では、これま
で、温度勾配と冷却速度の差をつけるにはレーザーパル
スのパルス幅又はパワーを変化させて行っていたが、パ
ルス幅とパワーを変化させただけでは上記の差はつけに
くく、記録条件のマージンが非常に小さいものであっ
た。そのため、オーバーライトの確実性が低い、再生信
号が小さい、エラーレートが高い、等の問題があり、実
用化には至っていないというのが実情である。
磁気記録媒体を用いて光変調オーバーライトを行う方法
の提案もなされている[Han-Ping; Appl. Phys. Lett.,
49,p8 (1986) 等] 。このように記録層（磁性膜）が交
換結合多層膜でない単層膜の光磁気記録媒体を用いてオ
ーバーライトを行う場合、反転磁区が形成されるか否か
は、光パルス照射後の温度勾配及び冷却速度、特には温
度勾配によって決定される。しかし、この方法には以下
のような問題があった。即ち、この方法では、これま
で、温度勾配と冷却速度の差をつけるにはレーザーパル
スのパルス幅又はパワーを変化させて行っていたが、パ
ルス幅とパワーを変化させただけでは上記の差はつけに
くく、記録条件のマージンが非常に小さいものであっ
た。そのため、オーバーライトの確実性が低い、再生信
号が小さい、エラーレートが高い、等の問題があり、実
用化には至っていないというのが実情である。
【０００８】本発明は、上記のような単層の垂直磁化膜
を記録層とする光磁気記録媒体に光変調方式で、２種以
上のレーザーパルスを照射して記録媒体の記録層の温度
勾配又は冷却速度の差を作り出してオーバーライトを行
うにあたり、温度勾配又は冷却速度の差をつけやすく
し、記録条件のマージンの拡大、オーバーライトの確実
性の向上、再生信号の改善（Ｓ／Ｎの改善）、エラーレ
ートの低下を図ることのできる光磁気記録方法を提供す
ることを目的とする。
を記録層とする光磁気記録媒体に光変調方式で、２種以
上のレーザーパルスを照射して記録媒体の記録層の温度
勾配又は冷却速度の差を作り出してオーバーライトを行
うにあたり、温度勾配又は冷却速度の差をつけやすく
し、記録条件のマージンの拡大、オーバーライトの確実
性の向上、再生信号の改善（Ｓ／Ｎの改善）、エラーレ
ートの低下を図ることのできる光磁気記録方法を提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、単層の垂直磁化膜を記録層とする
光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射して
オーバーライトを行う光磁気記録方法において、立ち下
がり部分に変化をつけたレーザーパルスを用いることを
特徴とする光磁気記録方法が提供される。また、本発明
によれば、上記において、１ステップで立ち下がるレー
ザーパルスと複数ステップで立ち下がるレーザーパルス
を用いることを特徴とする光磁気記録方法が提供され
る。また、本発明によれば、上記において、１ステップ
で立ち下がるパルス幅の短いレーザーパルスと複数ステ
ップで立ち下がるパルス幅の長いレーザーパルスを用い
ることを特徴とする光磁気記録方法が提供される。ま
た、本発明によれば、上記において、パルスの立ち下が
りにおけるパワーの低下する速度を変化させたレーザー
パルスを用いることを特徴とする光磁気記録方法が提供
される。また、本発明によれば、上記において、パルス
の立ち下がりにおけるパワーの低下する速度を速くした
パルス幅の短いレーザーパルスと、パルスの立ち下がり
におけるパワーの低下する速度を遅くしたパルス幅の長
いレーザーパルスを用いることを特徴とする光磁気記録
方法が提供される。また、本発明によれば、単層の垂直
磁化膜を記録層とする光磁気記録媒体に所定パワーのレ
ーザー照射を常に行いながら、さらに２種以上のレーザ
ーパルスを照射してオーバーライトを行う光磁気記録方
法において、１種類のレーザーパルス照射直後のみ前記
所定パワーよりも小さい値でレーザー照射を行うことを
特徴とする光磁気記録方法が提供される。また、本発明
によれば、上記において、他の種類のレーザーパルスと
して、複数ステップで立ち下がるレーザーパルスを用い
ることを特徴とする光磁気記録方法が提供される。さら
に、本発明によれば、単層の垂直磁化膜を記録層とする
光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射して
オーバーライトを行う光磁気記録方法において、そのう
ちの１種類のレーザーパルスとして、メインパルスの直
後に該メインパルスよりパルス幅が短い又はパワーの小
さいサブパルスを付加したもの用いることを特徴とする
光磁気記録方法が提供される。
め、本発明によれば、単層の垂直磁化膜を記録層とする
光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射して
オーバーライトを行う光磁気記録方法において、立ち下
がり部分に変化をつけたレーザーパルスを用いることを
特徴とする光磁気記録方法が提供される。また、本発明
によれば、上記において、１ステップで立ち下がるレー
ザーパルスと複数ステップで立ち下がるレーザーパルス
を用いることを特徴とする光磁気記録方法が提供され
る。また、本発明によれば、上記において、１ステップ
で立ち下がるパルス幅の短いレーザーパルスと複数ステ
ップで立ち下がるパルス幅の長いレーザーパルスを用い
ることを特徴とする光磁気記録方法が提供される。ま
た、本発明によれば、上記において、パルスの立ち下が
りにおけるパワーの低下する速度を変化させたレーザー
パルスを用いることを特徴とする光磁気記録方法が提供
される。また、本発明によれば、上記において、パルス
の立ち下がりにおけるパワーの低下する速度を速くした
パルス幅の短いレーザーパルスと、パルスの立ち下がり
におけるパワーの低下する速度を遅くしたパルス幅の長
いレーザーパルスを用いることを特徴とする光磁気記録
方法が提供される。また、本発明によれば、単層の垂直
磁化膜を記録層とする光磁気記録媒体に所定パワーのレ
ーザー照射を常に行いながら、さらに２種以上のレーザ
ーパルスを照射してオーバーライトを行う光磁気記録方
法において、１種類のレーザーパルス照射直後のみ前記
所定パワーよりも小さい値でレーザー照射を行うことを
特徴とする光磁気記録方法が提供される。また、本発明
によれば、上記において、他の種類のレーザーパルスと
して、複数ステップで立ち下がるレーザーパルスを用い
ることを特徴とする光磁気記録方法が提供される。さら
に、本発明によれば、単層の垂直磁化膜を記録層とする
光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射して
オーバーライトを行う光磁気記録方法において、そのう
ちの１種類のレーザーパルスとして、メインパルスの直
後に該メインパルスよりパルス幅が短い又はパワーの小
さいサブパルスを付加したもの用いることを特徴とする
光磁気記録方法が提供される。
【００１０】
【作用】本発明では、単層の垂直磁化膜を記録層とする
光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射して
オーバーライトを行う光磁気記録方法において、立ち下
がり部分に直接又は実質的に変化をつけたレーザーパル
スを用いたことにより、温度勾配あるいは冷却速度の差
が大きくとれるようになる。従って、記録条件のマージ
ンの拡大、オーバーライトの確実性の向上、再生信号の
改善（Ｓ／Ｎの向上）、エラーレートの低下が可能とな
る。
光磁気記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射して
オーバーライトを行う光磁気記録方法において、立ち下
がり部分に直接又は実質的に変化をつけたレーザーパル
スを用いたことにより、温度勾配あるいは冷却速度の差
が大きくとれるようになる。従って、記録条件のマージ
ンの拡大、オーバーライトの確実性の向上、再生信号の
改善（Ｓ／Ｎの向上）、エラーレートの低下が可能とな
る。
【００１１】
【実施例】以下本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。本発明は、単層の垂直磁化膜を記録層とする光磁気
記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射してオーバ
ーライトを行う光磁気記録方法を対象とするもので、そ
の特徴は、パルスの立ち下がり部分に直接又は実質的に
変化をつけたレーザーパルスを用いたことにある。
る。本発明は、単層の垂直磁化膜を記録層とする光磁気
記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射してオーバ
ーライトを行う光磁気記録方法を対象とするもので、そ
の特徴は、パルスの立ち下がり部分に直接又は実質的に
変化をつけたレーザーパルスを用いたことにある。
【００１２】本発明の対象となる光磁気記録方法は、交
換結合多層膜でない単層の垂直磁化膜を記録層とする光
磁気記録媒体を使用し、パルス幅及び／又はパワーの異
なる２種以上のレーザーパルスを照射してオーバーライ
トを行うものであり、例えば本発明者らが特願平３−１
７３１９１号明細書において提案した方法があるが、こ
れに限定されない。
換結合多層膜でない単層の垂直磁化膜を記録層とする光
磁気記録媒体を使用し、パルス幅及び／又はパワーの異
なる２種以上のレーザーパルスを照射してオーバーライ
トを行うものであり、例えば本発明者らが特願平３−１
７３１９１号明細書において提案した方法があるが、こ
れに限定されない。
【００１３】上記明細書にて提案した方法は、磁区形成
時にはパワーＰｗ1 、パルス幅τ1のレーザーパルスを
光磁気記録媒体に対し所望の長さの磁区となるまで数回
に渡り連続的に照射し、磁区消去時にはパワーＰｗ0 、
パルス幅τ0 のレーザーパルスを消去磁区が所望の長さ
となるまで数回に渡り連続的に照射し、しかも前記レー
ザー照射をＰｗ1 、Ｐｗ0 及びτ1 、τ0 がτ1 ≧τ0
及びＰｗ1 ・τ1 ＞Ｐｗ0 ・τ0 なる関係を満足するよ
うに行うものである。この方法は以下のようなオーバー
ライト実験を行って得られた知見に基づき提案したもの
である。即ち、先ず、光磁気記録媒体に、静止状態にお
いてパワーＰｗ1 、パルス幅τ1 のレーザーパルスを一
定磁界Ｈexのもとで照射し、磁区の形成される条件（ａ
条件と呼ぶ）を得た。次にこのａ条件を用いて、光磁気
記録媒体をレーザーに対して微動させながら連続的にレ
ーザーパルスを発振させながら照射してストライプ状の
磁区を得て、このストライプ状の磁区の上に再度レーザ
ーパルスを照射し、磁区の切断される条件（ａ’条件と
呼ぶ）を得た。そしてこれらの条件を下に照射時間、パ
ワーを種々変更してオーバーライト実験を行った。その
結果、図１４に示すように、ａ条件に相当する領域では
磁区が形成され、ａ’条件に相当する部分では磁区は形
成されないか、あるいは以前磁区が存在していた場合は
完全に消去された。このような磁区形成、消去は以前書
かれていた磁区情報には一切依存せず、ａ、ａ’の２つ
の条件のみに決定された。
時にはパワーＰｗ1 、パルス幅τ1のレーザーパルスを
光磁気記録媒体に対し所望の長さの磁区となるまで数回
に渡り連続的に照射し、磁区消去時にはパワーＰｗ0 、
パルス幅τ0 のレーザーパルスを消去磁区が所望の長さ
となるまで数回に渡り連続的に照射し、しかも前記レー
ザー照射をＰｗ1 、Ｐｗ0 及びτ1 、τ0 がτ1 ≧τ0
及びＰｗ1 ・τ1 ＞Ｐｗ0 ・τ0 なる関係を満足するよ
うに行うものである。この方法は以下のようなオーバー
ライト実験を行って得られた知見に基づき提案したもの
である。即ち、先ず、光磁気記録媒体に、静止状態にお
いてパワーＰｗ1 、パルス幅τ1 のレーザーパルスを一
定磁界Ｈexのもとで照射し、磁区の形成される条件（ａ
条件と呼ぶ）を得た。次にこのａ条件を用いて、光磁気
記録媒体をレーザーに対して微動させながら連続的にレ
ーザーパルスを発振させながら照射してストライプ状の
磁区を得て、このストライプ状の磁区の上に再度レーザ
ーパルスを照射し、磁区の切断される条件（ａ’条件と
呼ぶ）を得た。そしてこれらの条件を下に照射時間、パ
ワーを種々変更してオーバーライト実験を行った。その
結果、図１４に示すように、ａ条件に相当する領域では
磁区が形成され、ａ’条件に相当する部分では磁区は形
成されないか、あるいは以前磁区が存在していた場合は
完全に消去された。このような磁区形成、消去は以前書
かれていた磁区情報には一切依存せず、ａ、ａ’の２つ
の条件のみに決定された。
【００１４】本発明は上記のような光変調方式のオーバ
ーライト方法を対象とするもので、以下図面を参照して
具体例を述べる。図１はこれまでの２種類のレーザーパ
ルスを利用してオーバーライトを行う場合のパルス波形
を示す図であり、図２〜図５の方法ではＡとＢで差をつ
ける。
ーライト方法を対象とするもので、以下図面を参照して
具体例を述べる。図１はこれまでの２種類のレーザーパ
ルスを利用してオーバーライトを行う場合のパルス波形
を示す図であり、図２〜図５の方法ではＡとＢで差をつ
ける。
【００１５】図２は、２種類のレーザーパルスの一方が
１ステップで立ち下がり、他方が複数ステップで立ち下
がるレーザーパルスを用いてオーバーライトを行う場合
のパルス波形を示す図である。ここで複数ステップとす
るときにステップ数はいくつでもよいが、２〜５個が適
当である。図３は、パルス幅の違う２種類のレーザーパ
ルスを用い、パルス幅の短いレーザーパルスの立ち下が
りは１ステップとし、パルス幅の長いレーザーパルスの
立ち下がりは複数ステップとした場合である。
１ステップで立ち下がり、他方が複数ステップで立ち下
がるレーザーパルスを用いてオーバーライトを行う場合
のパルス波形を示す図である。ここで複数ステップとす
るときにステップ数はいくつでもよいが、２〜５個が適
当である。図３は、パルス幅の違う２種類のレーザーパ
ルスを用い、パルス幅の短いレーザーパルスの立ち下が
りは１ステップとし、パルス幅の長いレーザーパルスの
立ち下がりは複数ステップとした場合である。
【００１６】図４は、２種類のレーザーパルスの立ち下
がりのパワー減少速度（ｄＰ／ｄｔ）を変化させた場合
である。パワー減少速度が速い方は立ち下がり時間がパ
ルス幅に対してなるべく短いのが望ましく、遅い方は立
ち下がり時間がパルス幅の２０％以上であるのが適当で
ある。図５は、パルス幅の違う２種類のレーザーパルス
を用い、パルス幅の短い方のパワー減少速度を速くし、
パルス幅の長い方のパワー減少速度を遅くした場合であ
る。
がりのパワー減少速度（ｄＰ／ｄｔ）を変化させた場合
である。パワー減少速度が速い方は立ち下がり時間がパ
ルス幅に対してなるべく短いのが望ましく、遅い方は立
ち下がり時間がパルス幅の２０％以上であるのが適当で
ある。図５は、パルス幅の違う２種類のレーザーパルス
を用い、パルス幅の短い方のパワー減少速度を速くし、
パルス幅の長い方のパワー減少速度を遅くした場合であ
る。
【００１７】図２〜５に示すように、パルスの立ち下が
り部分に直接変化をつけることにより、記録媒体の温度
勾配あるいは冷却速度の差を大きくすることができる。
り部分に直接変化をつけることにより、記録媒体の温度
勾配あるいは冷却速度の差を大きくすることができる。
【００１８】通常の光磁気記録では、記録パワーよりも
充分小さなパワーのＤＣ光を常に記録媒体に照射してい
るのが普通である。図６は記録磁区が変化しない程度の
ＤＣ光を常に照射し、これに２種のレーザーパルスを付
加し、そのうちの１種類のレーザーパルスを照射した後
はレーザー照射のパワーを前記ＤＣ光のパワーよりも小
さくしたものである。ＤＣ光のパワーは読み出し時のパ
ワー以上で記録磁区が変化しない程度の値が望ましい。
レーザーパルス照射後にＤＣ光のパワーよりも小さくす
るときのパワーは“０”の方が効果が大きいが、必ずし
もそうである必要はない。ＤＣ光よりもパワーが小さく
なる時間はその前のパルス幅に対して２０〜２００％程
度がよい。図７は、図６と同様の照射の仕方であるが、
パルス幅の違う２種類のレーザーパルスを用い、パルス
幅の短いレーザーパルスの照射後にパワーがＤＣ光より
小さくなるようにした場合である。図８は、図２と図６
のケースを組み合わせた場合であり、条件は図２の場合
及び図６の場合と同様である。図９は、図８の場合にお
いてパルス幅の違う２つのレーザーパルスを用い、パル
ス幅の短いレーザーパルスの照射後にパワーがＤＣ光よ
り小さくなるようにし、パルス幅の長いレーザーパルス
の立ち下がりを複数ステップにしたものである。
充分小さなパワーのＤＣ光を常に記録媒体に照射してい
るのが普通である。図６は記録磁区が変化しない程度の
ＤＣ光を常に照射し、これに２種のレーザーパルスを付
加し、そのうちの１種類のレーザーパルスを照射した後
はレーザー照射のパワーを前記ＤＣ光のパワーよりも小
さくしたものである。ＤＣ光のパワーは読み出し時のパ
ワー以上で記録磁区が変化しない程度の値が望ましい。
レーザーパルス照射後にＤＣ光のパワーよりも小さくす
るときのパワーは“０”の方が効果が大きいが、必ずし
もそうである必要はない。ＤＣ光よりもパワーが小さく
なる時間はその前のパルス幅に対して２０〜２００％程
度がよい。図７は、図６と同様の照射の仕方であるが、
パルス幅の違う２種類のレーザーパルスを用い、パルス
幅の短いレーザーパルスの照射後にパワーがＤＣ光より
小さくなるようにした場合である。図８は、図２と図６
のケースを組み合わせた場合であり、条件は図２の場合
及び図６の場合と同様である。図９は、図８の場合にお
いてパルス幅の違う２つのレーザーパルスを用い、パル
ス幅の短いレーザーパルスの照射後にパワーがＤＣ光よ
り小さくなるようにし、パルス幅の長いレーザーパルス
の立ち下がりを複数ステップにしたものである。
【００１９】図６〜図９に示すケースは、１種類のレー
ザーパルスの照射後にＤＣ光よりパワーを一定期間小さ
くしたものであるが、この場合も実質的にパルスの立ち
下がり部分に変化をつけたことになり、上記と同様、記
録媒体の温度勾配あるいは冷却速度の差を大きくするこ
とができる。
ザーパルスの照射後にＤＣ光よりパワーを一定期間小さ
くしたものであるが、この場合も実質的にパルスの立ち
下がり部分に変化をつけたことになり、上記と同様、記
録媒体の温度勾配あるいは冷却速度の差を大きくするこ
とができる。
【００２０】図１０、図１１は、１種類のレーザーパル
ス（メインパルス）の直後にそのメインパルスよりパル
ス幅が短い又はパワーが小さいサブパルスを付加して照
射する場合である。直後に照射するサブパルスのパルス
幅はメインパルスの２０〜１００％程度が適当であり、
パワーも２０〜１００％程度が適当である。メインパル
スとサブパルスの間の間隔は前のレーザーパルスのパル
ス幅以下がよい。図１２は、図１１においてパルス幅の
違う２種類のレーザーパルスを用い、パルス幅の長いレ
ーザーパルスを照射した直後にパルス幅の短い又はパワ
ーの小さいサブパルスを照射するものである。
ス（メインパルス）の直後にそのメインパルスよりパル
ス幅が短い又はパワーが小さいサブパルスを付加して照
射する場合である。直後に照射するサブパルスのパルス
幅はメインパルスの２０〜１００％程度が適当であり、
パワーも２０〜１００％程度が適当である。メインパル
スとサブパルスの間の間隔は前のレーザーパルスのパル
ス幅以下がよい。図１２は、図１１においてパルス幅の
違う２種類のレーザーパルスを用い、パルス幅の長いレ
ーザーパルスを照射した直後にパルス幅の短い又はパワ
ーの小さいサブパルスを照射するものである。
【００２１】図１０〜図１２に示すケースは、１種類の
レーザーパルスの直後にサブパルスを付加して照射する
ものであるが、この場合も実質的にパルスの立ち下がり
部分に変化をつけたことになり、上記と同様記録媒体の
温度勾配あるいは冷却速度の差を大きくすることができ
る。
レーザーパルスの直後にサブパルスを付加して照射する
ものであるが、この場合も実質的にパルスの立ち下がり
部分に変化をつけたことになり、上記と同様記録媒体の
温度勾配あるいは冷却速度の差を大きくすることができ
る。
【００２２】図１３は、パルスの立ち下がりのみでな
く、立上がりにも変化をつけたものであるが、このよう
にするとより一層の効果が期待できる。
く、立上がりにも変化をつけたものであるが、このよう
にするとより一層の効果が期待できる。
【００２３】
【発明の効果】請求項１の方法によれば、温度勾配又は
冷却速度の差を大きくする効果があり、記録条件のマー
ジンの拡大、オーバーライトの確実性の向上、再生信号
の改善（Ｓ／Ｎの向上）、エラーレートの低下が行え
る。請求項２の方法によれば、１種類のレーザーパルス
が複数ステップで立ち下がることにより、パルス照射直
後の温度勾配がゆるやかになり、その後の冷却速度は遅
くなる。請求項３の方法によれば、長いパルス幅のレー
ザーパルス照射は請求項２の方法と同様な効果があり、
これと複数ステップの立ち下がりを組み合わせることに
より、効果が大きくなる。請求項４の方法によれば、パ
ワー減少速度が遅い場合には請求項２の方法と同様な効
果があり、パワー減少速度が速い場合には逆の効果があ
る。請求項５の方法によれば、長いパルス幅のレーザー
パルス照射は請求項２の方法と同様な効果があり、短い
パルス幅のレーザーパルス照射は逆な効果があるので、
それぞれ同じ効果のものを組み合わせることにより、効
果は増大される。請求項６の発明によれば、レーザーパ
ルス照射直後のパワーを定常のＤＣパワーよりも小さく
することにより、温度勾配を急峻にし、その後の冷却速
度を速くする効果がある。請求項７の発明によれば、請
求項２の方法と請求項６の方法の複合効果が期待され
る。請求項８の発明によれば、請求項２の方法と同様な
効果がある。
冷却速度の差を大きくする効果があり、記録条件のマー
ジンの拡大、オーバーライトの確実性の向上、再生信号
の改善（Ｓ／Ｎの向上）、エラーレートの低下が行え
る。請求項２の方法によれば、１種類のレーザーパルス
が複数ステップで立ち下がることにより、パルス照射直
後の温度勾配がゆるやかになり、その後の冷却速度は遅
くなる。請求項３の方法によれば、長いパルス幅のレー
ザーパルス照射は請求項２の方法と同様な効果があり、
これと複数ステップの立ち下がりを組み合わせることに
より、効果が大きくなる。請求項４の方法によれば、パ
ワー減少速度が遅い場合には請求項２の方法と同様な効
果があり、パワー減少速度が速い場合には逆の効果があ
る。請求項５の方法によれば、長いパルス幅のレーザー
パルス照射は請求項２の方法と同様な効果があり、短い
パルス幅のレーザーパルス照射は逆な効果があるので、
それぞれ同じ効果のものを組み合わせることにより、効
果は増大される。請求項６の発明によれば、レーザーパ
ルス照射直後のパワーを定常のＤＣパワーよりも小さく
することにより、温度勾配を急峻にし、その後の冷却速
度を速くする効果がある。請求項７の発明によれば、請
求項２の方法と請求項６の方法の複合効果が期待され
る。請求項８の発明によれば、請求項２の方法と同様な
効果がある。
【図１】図１は２種類のレーザーパルスを利用してオー
バーライトを行う場合のパルス波形を示す図である。
バーライトを行う場合のパルス波形を示す図である。
【図２】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
一例を示す図である。
一例を示す図である。
【図３】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
別の例を示す図である。
別の例を示す図である。
【図４】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
さらに別の例を示す図である。
さらに別の例を示す図である。
【図５】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
さらに別の例を示す図である。
さらに別の例を示す図である。
【図６】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
さらに別の例を示す図である。
さらに別の例を示す図である。
【図７】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
さらに別の例を示す図である。
さらに別の例を示す図である。
【図８】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
さらに別の例を示す図である。
さらに別の例を示す図である。
【図９】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形の
さらに別の例を示す図である。
さらに別の例を示す図である。
【図１０】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形
のさらに別の例を示す図である。
のさらに別の例を示す図である。
【図１１】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形
のさらに別の例を示す図である。
のさらに別の例を示す図である。
【図１２】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形
のさらに別の例を示す図である。
のさらに別の例を示す図である。
【図１３】本発明の方法に用いるレーザーパルスの波形
のさらに別の例を示す図である。
のさらに別の例を示す図である。
【図１４】先に提案した方法の記録条件及び消去条件の
範囲の説明図である。
範囲の説明図である。
フロントページの続き (72)発明者 野々山 治 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 高橋 正悦 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 出口 浩司 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 田中 元治 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内
Claims (8)
- 【請求項１】 単層の垂直磁化膜を記録層とする光磁気
記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射してオーバ
ーライトを行う光磁気記録方法において、立ち下がり部
分に変化をつけたレーザーパルスを用いることを特徴と
する光磁気記録方法。 - 【請求項２】 １ステップで立ち下がるレーザーパルス
と複数ステップで立ち下がるレーザーパルスを用いるこ
とを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項３】 １ステップで立ち下がるパルス幅の短い
レーザーパルスと複数ステップで立ち下がるパルス幅の
長いレーザーパルスを用いることを特徴とする請求項２
に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項４】 パルスの立ち下がりにおけるパワーの低
下する速度を変化させたレーザーパルスを用いることを
特徴とする請求項１に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項５】 パルスの立ち下がりにおけるパワーの低
下する速度を速くしたパルス幅の短いレーザーパルス
と、パルスの立ち下がりにおけるパワーの低下する速度
を遅くしたパルス幅の長いレーザーパルスを用いること
を特徴とする請求項４に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項６】 単層の垂直磁化膜を記録層とする光磁気
記録媒体に所定パワーのレーザー照射を常に行いなが
ら、さらに２種以上のレーザーパルスを照射してオーバ
ーライトを行う光磁気記録方法において、１種類のレー
ザーパルス照射直後のみ前記所定パワーよりも小さい値
でレーザー照射を行うことを特徴とする光磁気記録方
法。 - 【請求項７】 他の種類のレーザーパルスとして、複数
ステップで立ち下がるレーザーパルスを用いることを特
徴とする請求項６に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項８】 単層の垂直磁化膜を記録層とする光磁気
記録媒体に２種以上のレーザーパルスを照射してオーバ
ーライトを行う光磁気記録方法において、そのうちの１
種類のレーザーパルスとして、メインパルスの直後に該
メインパルスよりパルス幅が短い又はパワーの小さいサ
ブパルスを付加したもの用いることを特徴とする光磁気
記録方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4214612A JPH0636385A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光磁気記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4214612A JPH0636385A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光磁気記録方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636385A true JPH0636385A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16658610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4214612A Pending JPH0636385A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光磁気記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636385A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8836296B2 (en) | 2010-09-28 | 2014-09-16 | Mitsubishi Electric Corporation | Power conversion apparatus |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP4214612A patent/JPH0636385A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8836296B2 (en) | 2010-09-28 | 2014-09-16 | Mitsubishi Electric Corporation | Power conversion apparatus |
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