JPH0638108Y2 - 真空精錬容器のランス挿入口構造 - Google Patents
真空精錬容器のランス挿入口構造Info
- Publication number
- JPH0638108Y2 JPH0638108Y2 JP2723389U JP2723389U JPH0638108Y2 JP H0638108 Y2 JPH0638108 Y2 JP H0638108Y2 JP 2723389 U JP2723389 U JP 2723389U JP 2723389 U JP2723389 U JP 2723389U JP H0638108 Y2 JPH0638108 Y2 JP H0638108Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lance
- insertion port
- metal
- lance insertion
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000003780 insertion Methods 0.000 title claims description 50
- 230000037431 insertion Effects 0.000 title claims description 50
- 238000007670 refining Methods 0.000 title claims description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案はRH真空脱ガス装置、VOD炉などの真空精錬容器
のランス挿入口への地金付着を防止することができる真
空精錬容器のランス挿入口構造に関するものである。
のランス挿入口への地金付着を防止することができる真
空精錬容器のランス挿入口構造に関するものである。
〈従来の技術〉 RH脱ガス装置あるいはVOD装置などによる含クロム鋼、
例えばステンレス鋼の脱炭精錬においては、脱ガス容器
のランス挿入口から酸素ランスを挿入して溶鋼に酸素を
吹付け、真空によるCOガス分圧の低下によってCrの酸化
を抑制しながら脱炭が行われている。
例えばステンレス鋼の脱炭精錬においては、脱ガス容器
のランス挿入口から酸素ランスを挿入して溶鋼に酸素を
吹付け、真空によるCOガス分圧の低下によってCrの酸化
を抑制しながら脱炭が行われている。
このような酸素上吹設備を有する真空精錬容器10に設け
られたランス挿入口ではシール性が問題となるので第４
図に示すようにランス挿入口８の上部にシール装置４が
設けられており、ランス挿入口８とランス１との間隙が
密封されている。９はシール材を示し、11はシール材９
の保持金物を示す。
られたランス挿入口ではシール性が問題となるので第４
図に示すようにランス挿入口８の上部にシール装置４が
設けられており、ランス挿入口８とランス１との間隙が
密封されている。９はシール材を示し、11はシール材９
の保持金物を示す。
ランス挿入口８の上部にシール装置４を装着した精錬容
器10を用いて真空精錬すると減圧による溶鋼の脱炭反応
でCOガスが活発に発生し容器10の内壁面に細かい飛散溶
鋼（スプラッシュ）が付着堆積して地金６が形成され
る。このような地金は容器10の内壁面ばかりでなくラン
ス挿入口８内にも形成されるのはまぬかれない。なお、
２は精錬容器10の鉄皮を示し、３は内張り耐火物を示
す。このため従来、真空精錬に際し、ランス挿入口８へ
の地金付着を軽減するため、溶鋼のスプラッシュの具合
を観察しながら真空度を徐々に上げる等の対等を講じて
いるが早期に真空度が上げられず処理時間が長くなると
いう問題がありランス挿入口８への地金付着防止対策は
不十分であった。
器10を用いて真空精錬すると減圧による溶鋼の脱炭反応
でCOガスが活発に発生し容器10の内壁面に細かい飛散溶
鋼（スプラッシュ）が付着堆積して地金６が形成され
る。このような地金は容器10の内壁面ばかりでなくラン
ス挿入口８内にも形成されるのはまぬかれない。なお、
２は精錬容器10の鉄皮を示し、３は内張り耐火物を示
す。このため従来、真空精錬に際し、ランス挿入口８へ
の地金付着を軽減するため、溶鋼のスプラッシュの具合
を観察しながら真空度を徐々に上げる等の対等を講じて
いるが早期に真空度が上げられず処理時間が長くなると
いう問題がありランス挿入口８への地金付着防止対策は
不十分であった。
ランス挿入口８に地金６が付着したら地金６に酸素ガス
を吹付けて溶解除去してからランスを抜出したり挿入す
る必要があるが地金６の除去作業に時間がかかる。精錬
中にランス１に多量の地金６が付着してランスが抜けな
い時にはランス挿入口８を精錬容器10から取外しランス
挿入口８ごとにランス１を取出すなどの大掛りな高熱作
業が必要となり設備の稼働率が低下する。
を吹付けて溶解除去してからランスを抜出したり挿入す
る必要があるが地金６の除去作業に時間がかかる。精錬
中にランス１に多量の地金６が付着してランスが抜けな
い時にはランス挿入口８を精錬容器10から取外しランス
挿入口８ごとにランス１を取出すなどの大掛りな高熱作
業が必要となり設備の稼働率が低下する。
なおランスによる酸素吹付けを必要としない通常の低炭
素鋼などを真空精錬する場合には第５図に示すように真
空精錬容器10に設けたランス挿入口８の上部に盲蓋７を
装着して密閉して真空脱ガスを行うが、この場合にもラ
ンス挿入口８に地金６が付着するのは同様である。再
度、ステンレス鋼などの精錬を行う際には第４図に示す
ようにランス挿入口８にランス１を挿入するので形成さ
れた地金６を酸素により溶解除去することが必要とな
る。
素鋼などを真空精錬する場合には第５図に示すように真
空精錬容器10に設けたランス挿入口８の上部に盲蓋７を
装着して密閉して真空脱ガスを行うが、この場合にもラ
ンス挿入口８に地金６が付着するのは同様である。再
度、ステンレス鋼などの精錬を行う際には第４図に示す
ようにランス挿入口８にランス１を挿入するので形成さ
れた地金６を酸素により溶解除去することが必要とな
る。
真空容器への地金付着を防止するため特開昭61-296203
号公報には真空容器に加熱電極を配設し、真空脱ガス中
に真空容器内を加熱をするものが開示されているが加熱
電極の消耗が激しいと共に電気使用量も多く、コスト高
であるにも拘らずランス挿入口への完全な地金付着防止
は困難である。
号公報には真空容器に加熱電極を配設し、真空脱ガス中
に真空容器内を加熱をするものが開示されているが加熱
電極の消耗が激しいと共に電気使用量も多く、コスト高
であるにも拘らずランス挿入口への完全な地金付着防止
は困難である。
真空精錬容器を対象とするものではないが特開昭61-210
115号公報には、上部フードのランス出入口に水平およ
び垂直に可動なかき取り爪を備えた転炉ランス付着地金
のかき取り装置が開示されている。しかし当該装置はラ
ンスに付着した地金をかき取るものでありランス挿入口
に付着した地金の除去には役立たない。
115号公報には、上部フードのランス出入口に水平およ
び垂直に可動なかき取り爪を備えた転炉ランス付着地金
のかき取り装置が開示されている。しかし当該装置はラ
ンスに付着した地金をかき取るものでありランス挿入口
に付着した地金の除去には役立たない。
また特開昭55-69213号公報には転炉吹錬中に炉内に昇降
可能なガスランスを炉口より挿入し、ガスランスより燃
焼用ガスを吹込んで燃焼させ炉内付着地金を溶解除去す
る手段が開示されているが、この手段は真空精錬容器の
ランス挿入口へ地金付着防止には不向きである。
可能なガスランスを炉口より挿入し、ガスランスより燃
焼用ガスを吹込んで燃焼させ炉内付着地金を溶解除去す
る手段が開示されているが、この手段は真空精錬容器の
ランス挿入口へ地金付着防止には不向きである。
特開昭58-185704号公報には転炉炉口や真空脱ガス容器
等の容器内の軸心部に長尺ランスを昇降移動して地金に
燃焼ガスを噴射して除去する手段が開示されているが容
器内壁面に付着した地金を除去することはできるがラン
ス挿入口への地金付着防止は困難である。
等の容器内の軸心部に長尺ランスを昇降移動して地金に
燃焼ガスを噴射して除去する手段が開示されているが容
器内壁面に付着した地金を除去することはできるがラン
ス挿入口への地金付着防止は困難である。
〈考案が解決しようとする課題〉 本考案は前述従来技術の問題点を解消し、真空精錬容器
のランス挿入口に真空精錬中に地金が付着するのを簡単
な手段により確実に防止することができる真空精錬容器
のランス挿入口構造を提供することを目的とするもので
ある。
のランス挿入口に真空精錬中に地金が付着するのを簡単
な手段により確実に防止することができる真空精錬容器
のランス挿入口構造を提供することを目的とするもので
ある。
〈課題を解決するための手段〉 上記目的を達成するための本考案は、容器に設けられた
ランス挿入口の上部にランスとの間に形成される隙間を
密封するシール装置または盲蓋を装着する真空精錬容器
のランス挿入口構造において、前記ランス挿入口の内周
面に炉内方向に向けて開口する複数個の地金付着防止用
ガス吹出しノズルを配設したことを特徴とするものであ
る。
ランス挿入口の上部にランスとの間に形成される隙間を
密封するシール装置または盲蓋を装着する真空精錬容器
のランス挿入口構造において、前記ランス挿入口の内周
面に炉内方向に向けて開口する複数個の地金付着防止用
ガス吹出しノズルを配設したことを特徴とするものであ
る。
〈作用〉 本考案は前述の構成によりランス挿入口の内周面に炉内
方向に向けて開口する複数個のガス吹出しノズルから真
空精錬中に不活性ガスを吹出すことによって溶鋼のスプ
ラッシュがランス挿入口に侵入するのを確実に阻止する
のでランス挿入口への地金付着を防止することができ
る。
方向に向けて開口する複数個のガス吹出しノズルから真
空精錬中に不活性ガスを吹出すことによって溶鋼のスプ
ラッシュがランス挿入口に侵入するのを確実に阻止する
のでランス挿入口への地金付着を防止することができ
る。
本考案の真空精錬容器のランス挿入口構造は酸素を吹込
むランス用に限定されるものではなく炉内溶鋼の各種測
定を行うプローブランス等に適用可能であり、これら適
用可能なランスを包含するランス挿入口構造である。
むランス用に限定されるものではなく炉内溶鋼の各種測
定を行うプローブランス等に適用可能であり、これら適
用可能なランスを包含するランス挿入口構造である。
〈実施例〉 以下本考案の実施例を図面に基いて説明する。なお、図
中前記第４図および第５図のものと同じものは図面に同
一符号を付して説明を簡略化する。
中前記第４図および第５図のものと同じものは図面に同
一符号を付して説明を簡略化する。
第１図は精錬容器10に設けたランス挿入口８の上部にシ
ール装置４を装着した場合を示しており、ランス挿入口
８の内周面に炉内方向に向けて開口する複数個のガス吹
出しノズル５が配設されている。12はヘッダであり、ヘ
ッダ12にはガス供給管13が接続されている。
ール装置４を装着した場合を示しており、ランス挿入口
８の内周面に炉内方向に向けて開口する複数個のガス吹
出しノズル５が配設されている。12はヘッダであり、ヘ
ッダ12にはガス供給管13が接続されている。
ガスシール装置４のシール材11で密封されたランス１は
ランス挿入口８内を通って精錬容器10内に垂下されてお
り、精錬中に酸素ガスを吹付けるようになっている。精
錬中にはガス供給管13およびヘッダ12を介してガス吹出
しノズル５に供給されたN2ガスまたはArガス等の不活性
ガスは吹出しノズル５から吹出され、ランス１とランス
挿入口８との間に形成される隙間を通って炉内方向に噴
射されるので、精錬中に発生する飛散溶鋼すなわちスプ
ラッシュが生じても噴射される不活性ガスによってラン
ス挿入口８内への侵入が阻止され第４図に示すようなラ
ンス挿入口８内の地金６の形成が防止される。６は容器
10の天井に付着した地金を示す。
ランス挿入口８内を通って精錬容器10内に垂下されてお
り、精錬中に酸素ガスを吹付けるようになっている。精
錬中にはガス供給管13およびヘッダ12を介してガス吹出
しノズル５に供給されたN2ガスまたはArガス等の不活性
ガスは吹出しノズル５から吹出され、ランス１とランス
挿入口８との間に形成される隙間を通って炉内方向に噴
射されるので、精錬中に発生する飛散溶鋼すなわちスプ
ラッシュが生じても噴射される不活性ガスによってラン
ス挿入口８内への侵入が阻止され第４図に示すようなラ
ンス挿入口８内の地金６の形成が防止される。６は容器
10の天井に付着した地金を示す。
なお、第２図は精錬容器10に設けたランス挿入口８の上
部に盲蓋７を装着した場合を示しており、この場合にも
精錬中に発生するスプラッシュがランス挿入口８内に侵
入して地金を形成するのを阻止するためガス吹出しノズ
ル５から不活性ガスを吹出すのは同様である。
部に盲蓋７を装着した場合を示しており、この場合にも
精錬中に発生するスプラッシュがランス挿入口８内に侵
入して地金を形成するのを阻止するためガス吹出しノズ
ル５から不活性ガスを吹出すのは同様である。
ガス吹出しノズル５からの不活性ガス吹込量は主として
ランス挿入口８とランス１との隙間など挿入口８内の空
間面積および操業中の容器10内の圧力（真空度）に依存
している。すなわちランス挿入口８の空間単位面積当り
の不活性ガス流量ｑ Nm3／m2・minと容器内圧力Ptorr
との関係は、１×105≦ｑ×760/P≦５×105の範囲に維
持するのが好適であり、これによってランス挿入口８内
の不活性ガス流速が確保され地金付着を防止することが
可能となる。なお、この程度の不活性ガス吹込みは溶鋼
への影響は全くなく、また真空度の低下もわずかであり
精錬には支障を与えない。
ランス挿入口８とランス１との隙間など挿入口８内の空
間面積および操業中の容器10内の圧力（真空度）に依存
している。すなわちランス挿入口８の空間単位面積当り
の不活性ガス流量ｑ Nm3／m2・minと容器内圧力Ptorr
との関係は、１×105≦ｑ×760/P≦５×105の範囲に維
持するのが好適であり、これによってランス挿入口８内
の不活性ガス流速が確保され地金付着を防止することが
可能となる。なお、この程度の不活性ガス吹込みは溶鋼
への影響は全くなく、また真空度の低下もわずかであり
精錬には支障を与えない。
第３図は本考案例と従来例についてそれぞれ１回のラン
ス挿入作業に必要な酸素ガスによる地金溶解作業時間
（平均）を、従来例による場合を１として示したもので
ある。本考案例によれば従来例に比較して地金溶解作業
が1/10に低減することができた。
ス挿入作業に必要な酸素ガスによる地金溶解作業時間
（平均）を、従来例による場合を１として示したもので
ある。本考案例によれば従来例に比較して地金溶解作業
が1/10に低減することができた。
〈考案の効果〉 以上説明したように本考案によればランス挿入口への地
金付着が防止される。このためランス挿入、抜出し時の
酸素による地金の溶解除去作業（高熱作業）が省略さ
れ、ランスの挿入および抜出しが極めて容易になり、設
備の稼働率向上が達成される。
金付着が防止される。このためランス挿入、抜出し時の
酸素による地金の溶解除去作業（高熱作業）が省略さ
れ、ランスの挿入および抜出しが極めて容易になり、設
備の稼働率向上が達成される。
第１図は本考案のランスを使用する場合の実施例を示す
断面図、第２図はランスを使用しない場合の実施例を示
す断面図、第３図は本考案例と従来例の地金溶解作業時
間（平均）を示す棒グラフ、第４図は従来のランスを使
用する場合の実施例を示す断面図、第５図は従来のラン
スを使用しない場合の実施例を示す断面図である。 １……ランス、２……容器鉄皮、 ３……内張り耐火物、４……シール装置、 ５……ガス吹出しノズル、６……付着地金、 ７……盲蓋、８……ランス挿入口、 ９……シール材、10……精錬容器、 11……保持金物、12……ヘッダ、 13……ガス供給管。
断面図、第２図はランスを使用しない場合の実施例を示
す断面図、第３図は本考案例と従来例の地金溶解作業時
間（平均）を示す棒グラフ、第４図は従来のランスを使
用する場合の実施例を示す断面図、第５図は従来のラン
スを使用しない場合の実施例を示す断面図である。 １……ランス、２……容器鉄皮、 ３……内張り耐火物、４……シール装置、 ５……ガス吹出しノズル、６……付着地金、 ７……盲蓋、８……ランス挿入口、 ９……シール材、10……精錬容器、 11……保持金物、12……ヘッダ、 13……ガス供給管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 野口 勝弘 岡山県倉敷市水島川崎通１丁目（番地な し） 川崎製鉄株式会社水島製鉄所内
Claims (1)
- 【請求項１】容器に設けられたランス挿入口の上部にラ
ンスとの間に形成される隙間を密封するシール装置また
は盲蓋を装着する真空精錬容器のランス挿入口構造にお
いて、前記ランス挿入口の内周面に炉内方向に向けて開
口する複数個の地金付着防止用ガス吹出しノズルを配設
したことを特徴とする真空精錬容器のランス挿入口構
造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2723389U JPH0638108Y2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 真空精錬容器のランス挿入口構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2723389U JPH0638108Y2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 真空精錬容器のランス挿入口構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02118746U JPH02118746U (ja) | 1990-09-25 |
| JPH0638108Y2 true JPH0638108Y2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=31249549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2723389U Expired - Fee Related JPH0638108Y2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 真空精錬容器のランス挿入口構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0638108Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003041317A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Nippon Steel Corp | 真空精錬炉における合金・副材添加孔のシール装置及び方法 |
| KR101347605B1 (ko) * | 2012-08-22 | 2014-01-07 | 주식회사 우진 | 진공용기의 산소랜스 출입구의 지금 부착방지 장치 |
-
1989
- 1989-03-13 JP JP2723389U patent/JPH0638108Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003041317A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Nippon Steel Corp | 真空精錬炉における合金・副材添加孔のシール装置及び方法 |
| KR101347605B1 (ko) * | 2012-08-22 | 2014-01-07 | 주식회사 우진 | 진공용기의 산소랜스 출입구의 지금 부착방지 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02118746U (ja) | 1990-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20020014821A (ko) | 산화 크롬 함유 슬래그로부터의 크롬 금속 재생 방법 | |
| JPH0638108Y2 (ja) | 真空精錬容器のランス挿入口構造 | |
| JP2000119733A (ja) | 真空脱ガス装置用トップランス浸漬装置 | |
| JP3829009B2 (ja) | 溶銑用取鍋装置およびステンレス鋼溶銑の精錬方法 | |
| JP2974587B2 (ja) | 真空脱ガス槽の槽内待機型バーナランス | |
| JP3225747B2 (ja) | 溶鋼の真空脱ガス脱炭方法 | |
| JPH07314102A (ja) | 連続鋳造用タンディッシュ | |
| JP2001316717A (ja) | 真空精錬容器のランス挿入口地金取り方法とその装置 | |
| JP2995042B2 (ja) | 地金除去ランス | |
| JP3458424B2 (ja) | 溶鋼の真空脱炭方法 | |
| JPH0610031A (ja) | Ｖｏｄ装置のレードルカバー | |
| JPH0578730A (ja) | 溶融金属を攪拌精錬する設備の容器内地金除去方法 | |
| JPS61257413A (ja) | 転炉排ガス処理装置の転炉炉口とスカ−ト間のシ−ル装置 | |
| JPS61257411A (ja) | 転炉排ガス処理装置の転炉炉口とスカ−ト間のシ−ル装置 | |
| JPS5917891Y2 (ja) | 溶融金属真空処理容器 | |
| JP2508877Y2 (ja) | 精錬装置 | |
| JPH0277517A (ja) | Ｒｈ真空脱ガス槽の加熱方法及び装置 | |
| JP3038783B2 (ja) | 含クロム溶鋼用精錬装置 | |
| JPH08199223A (ja) | ガス吹込み羽口 | |
| JPS6311171Y2 (ja) | ||
| JPH093519A (ja) | 精錬用ランス | |
| JPH08246035A (ja) | ステンレス鋼の製造方法 | |
| JP3371559B2 (ja) | 溶鋼の加熱精錬方法 | |
| JPH1171612A (ja) | 溶鋼の脱炭精錬方法 | |
| JPH07268430A (ja) | 溶銑予備処理用浸漬単管ランス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |