JPH0638243U - 液状ワックス塗布装置 - Google Patents
液状ワックス塗布装置Info
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- JPH0638243U JPH0638243U JP5164292U JP5164292U JPH0638243U JP H0638243 U JPH0638243 U JP H0638243U JP 5164292 U JP5164292 U JP 5164292U JP 5164292 U JP5164292 U JP 5164292U JP H0638243 U JPH0638243 U JP H0638243U
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液状ワックスをウエ−ハに塗布する際に、ワ
ックスノズルが汚染されないようにする。 【構成】 ワックスノズル(11)をウエ−ハ(1)の上部
で側方に進退可能に設ける。このワックスノズル(11)が
後退位置にあるとき、ノズルの先端を液受槽(25)内に入
れ、浸漬液に浸漬する。
ックスノズルが汚染されないようにする。 【構成】 ワックスノズル(11)をウエ−ハ(1)の上部
で側方に進退可能に設ける。このワックスノズル(11)が
後退位置にあるとき、ノズルの先端を液受槽(25)内に入
れ、浸漬液に浸漬する。
Description
【0001】
本考案は、半導体ウエ−ハその他の各種のウエ−ハを貼付板に接着して加工す るため、ウエ−ハの表面に接着剤を塗布する装置に関する。
【0002】
半導体ウエ−ハ等のウエ−ハの表面は、きわめて平坦に形成しなければならな いので、通常は複数のウエ−ハを貼付板(マウント板)に接着して研磨加工を施 している。この際、接着剤としては一般にワックスが使用されるが、このワック ス層が不均一になっていたり、層内に気泡や微細な異物が混入していると、所望 の平坦度に仕上げることはむずかしい。
【0003】 そこで、従来より種々の方法でワックスを塗布する装置が提供されており、本 願出願人も先に液状ワックスを使用しウエ−ハにスピンコ−トする装置を提案し ている。この装置によれば、ウエ−ハはスピンチャックに保持され、ノズルから 滴下した液状ワックスをウエ−ハの回転に伴って表面に拡散し、薄く塗布するよ うに構成されている。
【0004】 上記ノズルから滴下する液状ワックスとしては、例えば有機溶媒やアルカリ水 溶液に溶解した適宜の接着剤等が使用されているが、ノズルからの滴下作業が中 断すると、ノズルの先端で有機溶媒が揮散してワックスが固化したり、ダストパ −ティクルが付着して汚染されるおそれがある。このようにしてノズルの先端が 汚染されると、次に液状ワックスを滴下するときに固化したワックスやダストパ −ティクル等がワックス層に混入し、均一な接着層の形成を妨げたり、ディンプ ルを発生する原因となる。
【0005】
本考案の目的は、上記のように液状ワックスをノズルから滴下してウエ−ハ表 面にワックス層を形成する装置において、液状ワックスの滴下を中断しても上記 ノズルの先端にワックスが固化して付着したり、ダストパ−ティクル等が付着し ないようにした液状ワックス塗布装置を提供することである。
【0006】
本考案によれば、液状ワックスを滴下するノズルをウエ−ハ上面に進退可能に 設け、後退位置にあるノズルの先端を浸漬するよう液受槽を形成した液状ワック ス塗布装置が提供され、上記目的が達成される。
【0007】
以下実施例と共に説明する。 図において、ウエ−ハ(1)は適宜の搬送手段(図示略)でスピンチャック( 2)の上方に運ばれ、該スピンチャック(2)が上昇することにより該スピンチ ャック(2)に吸着保持され、ワックスコ−ト部(3)に搬入される。
【0008】 ワックスコ−ト部(3)は、本体(4)の上部に設けた受溝(5)の上方にフ −ド(6)を形成してあり、該受溝(5)の開口(7)を通して余分な液状ワッ クス等を回収するよう適宜部分に吸引手段が設けられている(図示略)。なお、 この際、好ましくは上記フ−ド(6)の上部にダンパ−(8)を設けてフ−ド内 の減圧状態をウエ−ハの裏面に液状ワックスがまわり込まないような減圧状態に 適宜調整できるようにするとよい。また、上記フ−ド(6)の外周に冷却水等の 冷却媒体が循環するようジャケット(9)を設けておき、液状ワックス中の溶媒 が揮散しにくいようにすることもある。
【0009】 上記フ−ド(6)の一部に形成した開口(10)を通して上記ウエ−ハ(1)の上 面に進退可能にノズルが設けられている。該ノズルとしては、供給ポンプ等の供 給圧により供給源からの所定量の液状ワックスをウエ−ハに滴下するためのワッ クスノズル(11)と、該ワックスノズル(11)に隣接して窒素ガス,空気等の気体を ウエ−ハ周縁に噴出するガスノズル(12)を具備している。
【0010】 上記ワックスノズル(11)とガスノズル(12)は、少なくとも先端部がステンレス パイプ等の自立性を有するパイプ材料で構成され、それぞれ供給源に連結してい る。この際上記ワックスノズル(11)は図3に示すように、外周を断熱材(13)で被 覆したり、周囲にジャケット(図示略)を設けて冷却水等の冷却媒体を循環させ 供給源から供給された液状ワックスの温度が途中で昇温しないようにしてもよい 。なお、上記供給源とワックスノズルを結ぶチューブ等の流路に一部には、好ま しくはテフロンチューブ等で透明部を形成してある。そして、該透明部に対応し てレーザーセンサー等による気泡検出手段を設置し、該気泡検出手段が流路内を 流れる液状ワックス中の気泡を検出したら、ワックスノズルからの液状ワックス の滴下を中止したり、対応するウエーハの番号を記録部に記録し、その後の管理 に利用するようにしている。
【0011】 上記ノズル(11),(12)を進退させるには、適宜の機構に構成することができる が、図においては、ねじ機構により構成してある。すなわち、図においては、ボ −ルねじ軸等のねじ軸(14)をワックスコ−ト部(3)の側方に設け、該ねじ軸(1 4)にボ−ルナット等の雌ねじを有する移動体(15)をねじ着し、該ねじ軸(14)をプ −リ(16),(17)、ベルト(18)を介しモ−タ−(19)で回転し、上記移動体(15)をベ −ス(20)に沿って軸方向に移動可能に設け、該移動体(15)の上部に形成した保持 具(21)に上記ノズル(11),(12)の基部を取付けてある。その他、シリンダ機構、 チェ−ン機構等の適宜の機構により構成することができる。
【0012】 上記ベ−ス(20)は、下方に案内杆(22),(22)を有し、本体(4)に設けた軸受 (23),(23)に該案内杆(22)を挿通し、シリンダ(24)の操作により昇降するように してある。
【0013】 上記本体(4)には、上記ワックスノズル(11)が後退位置にあるとき、該ワッ クスノズル(11)の先端を浸漬するよう液受槽(25)を形成してある。該液受槽には 、液状ワックスの性状に応じてワックスを固化させないよう有機溶媒やアルカリ 水溶液、純水その他の適宜の浸漬液が収納されている。また、該浸漬液が揮散、 蒸発等して減少したときにも常に定量の浸漬液で液受槽(25)が満たされているよ う浸漬液の自動供給手段を設けてもよい。なお、液体に浸漬させないで洗浄用ベ −パ−中に浸漬するようにしたり、ノズル先端部が上記浸漬液を湿潤させた弾性 片に接触するようにしてもよい。上記ガスノズル(12)は該液受槽には進入しない ように離れて設けられている。
【0014】 上記液受槽(25)と上記ワックスコ−ト部(3)の間には、適宜のたれ受け(26) を設け、ノズルが移動中に液状ワックスや浸漬液等が周囲に逸散しないようにし てある。また、液受槽(25)の上方に、上記ワックスノズル(11)を取り囲むように 窒素ガスや空気等の気体を噴出するノズル(27)を設け、上記ノズル(11)を引き上 げた際該ノズル(11)の周面に付着した液を下方に吹き落とすようにしてある。
【0015】 而して、上記ワックスノズル(11)は、上記シリンダ(24)を動作することにより 上昇し、その先端が上記液受槽(25)から抜け出す。そして、上記モ−タ−(19)を 動作させると、上記移動体(15)を介して上記ノズル(11)及びガスノズル(12)は、 上記ワックスコ−ト部(3)へ向って前進する。上記ワックスノズル(11)がフ −ド(6)の内側に入ったところで、上記モ−タ−(19)の回転を停止し、若しく は減速して、空打ちし、ノズル先端を洗浄する。その後、上記ワックスノズル(1 1)がウエ−ハ(1)の中心部を離れた位置まで前進したら、その位置でノズルの 移動を停止し、ウエ−ハ(1)の表面に所定量の液状ワックスを滴下する。なお 、ガスノズル(12)は停止位置において、ウエ−ハ(1)の周縁に対向しており、 窒素ガス、空気等の気体を噴出することにより、ウエ−ハ周縁部に付着している ダストパ−ティクル等を除去することができる。
【0016】 上記のような停止位置において、次々とワックスコ−ト部(3)へ搬入されて くるウエ−ハ(1)へ液状ワックスを滴下し、表面に薄くコ−トする。ウエ−ハ (1)の搬入が停止したり、中断したときには、上記ノズル(11),(12)は、上記 モ−タ−(19)の作用により後退位置へ移動される。後退位置に達したら上記シリ ンダ(24)を動作することにより上記ワックスノズル(11)を降下させ、その先端を 上記液受槽(25)内に進入し、浸漬液に浸漬させる。再び上記ワックスコ−ト部( 3)にウエ−ハが搬入されてきたら上述の作業を繰り返す。
【0017】 上記実施例においては、ノズルを上下動させて液受槽(25)内に出し入れしてい るが、ノズルを水平動させ、後退位置において液受槽(25)を上下動させて該ノズ ルの先端を浸漬するようにしてもよい。
【0018】
本考案は以上のように構成され、ワックスノズルの先端でワックスが固化した り、ダストパ−ティクルが付着したりしないので、ウエ−ハ表面に液状ワックス を滴下してスピンコ−トする際に、異物がワックス層に混入することがなく、薄 く均一にワックス層を形成することができる。。
【図1】本考案の一実施例を示す一部を断面した正面
図。
図。
【図2】側面図。
1 ウエ−ハ 3 ワックスコ−ト部 4 本体
6 フ−ド 11 ワックスノズル 12 ガスノズル 14 ねじ軸
15 移動体 24 シリンダ 25 液受槽 26 た
れ受け
6 フ−ド 11 ワックスノズル 12 ガスノズル 14 ねじ軸
15 移動体 24 シリンダ 25 液受槽 26 た
れ受け
【手続補正書】
【提出日】平成5年10月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図3
【補正方法】追加
【補正内容】
【図3】 ワックスノズルの一部の切欠斜視図。
Claims (2)
- 【請求項1】 液状ワックスをウエ−ハ上面に滴下し該
ウエ−ハの回転により表面に該液状ワックスを薄く塗布
する装置において、上記液状ワックスを滴下するノズル
を上記ウエ−ハ上面に進退可能に設け、後退位置にある
上記ノズルの先端を浸漬するよう液受槽を設けた液状ワ
ックス塗布装置。 - 【請求項2】 上記液状ワックスを滴下するノズルに隣
接して気体を噴出するノズルを設けた請求項1に記載の
液状ワックス塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5164292U JPH0638243U (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 液状ワックス塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5164292U JPH0638243U (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 液状ワックス塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0638243U true JPH0638243U (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=12892506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5164292U Pending JPH0638243U (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 液状ワックス塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0638243U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223331A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Shinetsu Eng Kk | ウエ−ハに対するワツクス塗布方法 |
| JPS63299233A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Hoya Corp | 処理装置 |
| JPH03263832A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Dan Clean Prod:Kk | エアブロー装置 |
-
1992
- 1992-07-01 JP JP5164292U patent/JPH0638243U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223331A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Shinetsu Eng Kk | ウエ−ハに対するワツクス塗布方法 |
| JPS63299233A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Hoya Corp | 処理装置 |
| JPH03263832A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Dan Clean Prod:Kk | エアブロー装置 |
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