JPH0640400B2 - デイスク洗浄装置 - Google Patents
デイスク洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0640400B2 JPH0640400B2 JP61135839A JP13583986A JPH0640400B2 JP H0640400 B2 JPH0640400 B2 JP H0640400B2 JP 61135839 A JP61135839 A JP 61135839A JP 13583986 A JP13583986 A JP 13583986A JP H0640400 B2 JPH0640400 B2 JP H0640400B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- disk
- unit
- rotary shaft
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 72
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁気ディスクや光ディスクなどの洗浄に適し
たディスク洗浄装置に関するものである。
たディスク洗浄装置に関するものである。
[従来の技術] 近年、コンピュータやオーディオ機器などの発達と共に
磁気ディスクや光ディスクの需要が急速に増大し、それ
に伴って高品質の磁気ディスクや光ディスクを安定供給
することが要求されるようになった。
磁気ディスクや光ディスクの需要が急速に増大し、それ
に伴って高品質の磁気ディスクや光ディスクを安定供給
することが要求されるようになった。
例えば光ディスクは、射出成形により製造されたあと、
付着した油分や切粉などの汚れを除去するために洗浄さ
れるが、記憶容量が大きいため、僅かな汚れがあっても
それが性能に著しく悪影響を及ぼし、製品として不適切
なものとなってしまう。従って、その洗浄に当っては、
洗浄精度を高めてより高い清浄度に保つことが必要であ
り、そのためには、まず、ディスクの両面を均質に洗浄
して洗浄むらをなくすことが必要である、また、洗浄後
の乾燥不良によるしみの付着等をなくすため、洗浄液の
除去及び乾燥を迅速且つ確実に行うことも必要である。
さらに、手作業によるディスクの汚染をなくし、且つ作
業能率を向上させるため、ディスクの供給から洗浄、乾
燥、搬出までの工程を一貫して自動的に行うことも必要
になる。
付着した油分や切粉などの汚れを除去するために洗浄さ
れるが、記憶容量が大きいため、僅かな汚れがあっても
それが性能に著しく悪影響を及ぼし、製品として不適切
なものとなってしまう。従って、その洗浄に当っては、
洗浄精度を高めてより高い清浄度に保つことが必要であ
り、そのためには、まず、ディスクの両面を均質に洗浄
して洗浄むらをなくすことが必要である、また、洗浄後
の乾燥不良によるしみの付着等をなくすため、洗浄液の
除去及び乾燥を迅速且つ確実に行うことも必要である。
さらに、手作業によるディスクの汚染をなくし、且つ作
業能率を向上させるため、ディスクの供給から洗浄、乾
燥、搬出までの工程を一貫して自動的に行うことも必要
になる。
このような問題は、磁気ディスクにおいても同様であ
る。
る。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の課題は、上述した従来の問題点に鑑み、ディス
クを高い精度でしかも能率良く自動洗浄することのでき
る洗浄装置を提供することにある。
クを高い精度でしかも能率良く自動洗浄することのでき
る洗浄装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 上記課題を解決するため、本発明の洗浄装置は、ディス
クを1枚ずつ供給する供給部、上記供給部に隣接して配
設され、ディスクを中心穴内に係合する内周チャック手
段により竪向きに支持して回転させる支持回転軸と、該
支持回転軸に支持されたディスクを両側から挟持して洗
浄する回転自在且つ揺動自在の一対のブラシと、該ブラ
シによる洗浄部位へ洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル
とを備えた洗浄部、上記洗浄部に隣接して配設され、デ
ィスクを中心穴内に係合する内周チャック手段により竪
向きに支持して回転させる支持回転軸と、該支持回転軸
に支持されたディスクの両面に水切りのための気体を噴
射させる噴射ノズルとを備えた乾燥部、上記乾燥部に隣
接して配設され、乾燥したディスクを搬送手段から受取
って搬出する搬出部、上記各部間に移動自在に配設さ
れ、ディスクを外周に当接する外周チャック手段により
竪向きに支持して搬送する搬送手段、を有することを特
徴とするものである。
クを1枚ずつ供給する供給部、上記供給部に隣接して配
設され、ディスクを中心穴内に係合する内周チャック手
段により竪向きに支持して回転させる支持回転軸と、該
支持回転軸に支持されたディスクを両側から挟持して洗
浄する回転自在且つ揺動自在の一対のブラシと、該ブラ
シによる洗浄部位へ洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル
とを備えた洗浄部、上記洗浄部に隣接して配設され、デ
ィスクを中心穴内に係合する内周チャック手段により竪
向きに支持して回転させる支持回転軸と、該支持回転軸
に支持されたディスクの両面に水切りのための気体を噴
射させる噴射ノズルとを備えた乾燥部、上記乾燥部に隣
接して配設され、乾燥したディスクを搬送手段から受取
って搬出する搬出部、上記各部間に移動自在に配設さ
れ、ディスクを外周に当接する外周チャック手段により
竪向きに支持して搬送する搬送手段、を有することを特
徴とするものである。
[作用] 供給部において容器から1枚ずつ取出されて搬送手段に
供給されたディスクは、該搬送手段により洗浄部及び乾
燥部の各工程に順次搬送され、所定の洗浄及び乾燥が行
われたあと、搬出部において容器に収納される。
供給されたディスクは、該搬送手段により洗浄部及び乾
燥部の各工程に順次搬送され、所定の洗浄及び乾燥が行
われたあと、搬出部において容器に収納される。
上記洗浄部においては、支持回転軸にディスクが受渡さ
れると、一対のブラシにより該ディスクが両側から挟持
され、該ディスクの回転と両ブラシの回転及び揺動とに
よって洗浄が行われ、その洗浄部位にはノズルから洗浄
液が供給される。このとき、ディスクを竪向きに支持し
てその両面にブラシを押付けるようにしているため、こ
れらの両面を均質に洗浄することができる。
れると、一対のブラシにより該ディスクが両側から挟持
され、該ディスクの回転と両ブラシの回転及び揺動とに
よって洗浄が行われ、その洗浄部位にはノズルから洗浄
液が供給される。このとき、ディスクを竪向きに支持し
てその両面にブラシを押付けるようにしているため、こ
れらの両面を均質に洗浄することができる。
また、乾燥部においては、支持回転軸に支持されたディ
スクが高速回転されると共に、その両面に噴射ノズルか
ら気体が噴射されることによって該ディスクの乾燥が行
われる。
スクが高速回転されると共に、その両面に噴射ノズルか
ら気体が噴射されることによって該ディスクの乾燥が行
われる。
而して、上記ディスクの乾燥に当っては、該ディスクを
竪向きに支持して回転させるようにしているため、その
両面の水切りが非常に良好且つ均一に行われ、しかも、
噴射ノズルからの気体の噴射によって残った水分が除去
されるため、乾燥が非常に迅速且つ確実に行われること
になる。
竪向きに支持して回転させるようにしているため、その
両面の水切りが非常に良好且つ均一に行われ、しかも、
噴射ノズルからの気体の噴射によって残った水分が除去
されるため、乾燥が非常に迅速且つ確実に行われること
になる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第1図〜第3図において、1は洗浄装置の機体であっ
て、該機体1の内部に未洗浄ディスク8の供給部2と、供
給されたディスクを洗浄する第1及び第2の洗浄部3,
4、洗浄後のディスクを乾燥させる乾燥部5、及び乾燥後
のディスクを取出し収納する搬出部6が横一列に区画形
成され、こられの各部2〜6の前方に、供給部2からのデ
ィスクを第1の洗浄部3以下の各部に順送りするための
搬送部7が設けられている。
て、該機体1の内部に未洗浄ディスク8の供給部2と、供
給されたディスクを洗浄する第1及び第2の洗浄部3,
4、洗浄後のディスクを乾燥させる乾燥部5、及び乾燥後
のディスクを取出し収納する搬出部6が横一列に区画形
成され、こられの各部2〜6の前方に、供給部2からのデ
ィスクを第1の洗浄部3以下の各部に順送りするための
搬送部7が設けられている。
上記供給部2は、多数のディスク8が竪向きに収容された
容器10をディスク8の中心軸線方向へ一定ピッチずつ移
送するコンベヤ11と、シリンダ13に昇降自在に取付けら
れ、ディスク8の中心穴8a(第4図参照)内に挿入係合
可能な供給アーム12とを備えており、この供給アーム12
で容器10内のディスク8を1枚ずつ持上げるように構成
されている。
容器10をディスク8の中心軸線方向へ一定ピッチずつ移
送するコンベヤ11と、シリンダ13に昇降自在に取付けら
れ、ディスク8の中心穴8a(第4図参照)内に挿入係合
可能な供給アーム12とを備えており、この供給アーム12
で容器10内のディスク8を1枚ずつ持上げるように構成
されている。
また、上記供給部2に隣接して設けられた第1及び第2
の洗浄部3,4は、それぞれ洗浄液として洗剤及び純水を
使用してディスク8の洗浄を行うようにしたもので、互
いに同一の構成を有している。即ち、他と区画された洗
浄室15をそれぞれ備え、この洗浄室15内に、ディスク8
を竪向きに支持して回転させる支持回転軸16と、ディス
ク8を洗浄するブラシ機構17と、洗浄部位に洗剤または
純水などの洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル18とを配
設したものである。
の洗浄部3,4は、それぞれ洗浄液として洗剤及び純水を
使用してディスク8の洗浄を行うようにしたもので、互
いに同一の構成を有している。即ち、他と区画された洗
浄室15をそれぞれ備え、この洗浄室15内に、ディスク8
を竪向きに支持して回転させる支持回転軸16と、ディス
ク8を洗浄するブラシ機構17と、洗浄部位に洗剤または
純水などの洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル18とを配
設したものである。
上記支持回転軸16は、洗浄室15の後壁15aに軸受部材20
により水平に支承され、該支持回転軸16の後端部は、洗
浄室15の背後に区画形成された駆動室21内に突出せしめ
られ、ベルト23によってモータ22に連結されてい
る。また、該支持回転軸16の先端には、第4図及び第5
図から明らかなように、複数の爪24aを該回転軸16の径
方向に拡縮自在としたチャック部24が形成され、該チャ
ック部24をディスク8の中心穴8a内に挿入して拡開させ
ることにより、該ディスク8の支持が行われるようにな
っている。
により水平に支承され、該支持回転軸16の後端部は、洗
浄室15の背後に区画形成された駆動室21内に突出せしめ
られ、ベルト23によってモータ22に連結されてい
る。また、該支持回転軸16の先端には、第4図及び第5
図から明らかなように、複数の爪24aを該回転軸16の径
方向に拡縮自在としたチャック部24が形成され、該チャ
ック部24をディスク8の中心穴8a内に挿入して拡開させ
ることにより、該ディスク8の支持が行われるようにな
っている。
一方、上記ブラシ機構17は、第4図及び第5図からも明
らかなように、洗浄室15の底壁に取付けられたシリンダ
25により昇降自在の支持台27を備え、ガイド杆26,26に
よって昇降を案内される該支持台27上に、枢軸28を中心
にして回動自在に揺動台29を取付けると共に、この揺動
台29を揺動リンク31を介して支持台27上の駆動用モータ
30に連結し、該揺動台29上に立設した軸受部材32,32間
には、一対のブラシアーム33,33を移動自在に支持する
2本のガイド杆34,34と、それらの間に位置するブラシ
回転用駆動軸42とを平行に横架し、これらのブラシアー
ム33,33をシリンダ35,35によりガイド杆34,34に沿って
互いに接離方向へ移動させ得るように構成し、さらに、
各ブラシアーム33,33には、円板形のブラシ36,36を備え
たブラシ軸37,37をそれぞれ回転自在に取付けると共
に、該ブラシ軸37,37を駆動する中間駆動軸38,38を取付
け、これらのブラシ軸37,37と中間駆動軸38,38とをベル
ト39,39により、また中間駆動軸38,38と上記駆動軸42と
を歯車40a,40bによりそれぞれ連結し、さらに、該駆動
軸42を上記揺動台29に固定されたモータ41にベルト43に
より連結している。
らかなように、洗浄室15の底壁に取付けられたシリンダ
25により昇降自在の支持台27を備え、ガイド杆26,26に
よって昇降を案内される該支持台27上に、枢軸28を中心
にして回動自在に揺動台29を取付けると共に、この揺動
台29を揺動リンク31を介して支持台27上の駆動用モータ
30に連結し、該揺動台29上に立設した軸受部材32,32間
には、一対のブラシアーム33,33を移動自在に支持する
2本のガイド杆34,34と、それらの間に位置するブラシ
回転用駆動軸42とを平行に横架し、これらのブラシアー
ム33,33をシリンダ35,35によりガイド杆34,34に沿って
互いに接離方向へ移動させ得るように構成し、さらに、
各ブラシアーム33,33には、円板形のブラシ36,36を備え
たブラシ軸37,37をそれぞれ回転自在に取付けると共
に、該ブラシ軸37,37を駆動する中間駆動軸38,38を取付
け、これらのブラシ軸37,37と中間駆動軸38,38とをベル
ト39,39により、また中間駆動軸38,38と上記駆動軸42と
を歯車40a,40bによりそれぞれ連結し、さらに、該駆動
軸42を上記揺動台29に固定されたモータ41にベルト43に
より連結している。
従って、上記シリンダ35,35によりブラシアーム33,33を
移動させてブラシ36,36の対向間隔を調整した後、モー
タ30及び41を駆動することにより、ブラシ36,36が回転
及び揺動しながらディスクを洗浄することになる。
移動させてブラシ36,36の対向間隔を調整した後、モー
タ30及び41を駆動することにより、ブラシ36,36が回転
及び揺動しながらディスクを洗浄することになる。
上記ブラシ36,36は、基板36a,36aの対向面にスポンジ状
部材や繊維状部材からなる多数の払拭片36bを取付ける
ことにより構成されている。
部材や繊維状部材からなる多数の払拭片36bを取付ける
ことにより構成されている。
また、上記ノズル18,18は、洗剤を使用する第1の洗浄
部3においては、第4図に示すように、支持回転軸16に
支持されたディスク8に対してそのディスク面内の斜め
上方に配設され、その一方の洗剤が、他方から純水が供
給されるようになっており、純水のみを使用する第2の
洗浄部4においては、第5図に示すように、ディスク8に
対してその軸線方向の斜め上方に配設され、その両方か
ら純水が高圧供給されるようになっている。
部3においては、第4図に示すように、支持回転軸16に
支持されたディスク8に対してそのディスク面内の斜め
上方に配設され、その一方の洗剤が、他方から純水が供
給されるようになっており、純水のみを使用する第2の
洗浄部4においては、第5図に示すように、ディスク8に
対してその軸線方向の斜め上方に配設され、その両方か
ら純水が高圧供給されるようになっている。
上記第2の洗浄部4に隣接して配設された乾燥部5は、他
と区画された乾燥室46を有し、該乾燥室46内にディスク
8に付着した水分を振り切るために該ディスク8を縦向き
に支持して回転させる支持回転軸47と、回転するディス
ク8の両面に水切り用の気体(例えば窒素ガス)を噴射
させる噴射ノズル48,48とを設けたものである。
と区画された乾燥室46を有し、該乾燥室46内にディスク
8に付着した水分を振り切るために該ディスク8を縦向き
に支持して回転させる支持回転軸47と、回転するディス
ク8の両面に水切り用の気体(例えば窒素ガス)を噴射
させる噴射ノズル48,48とを設けたものである。
上記支持回転軸47は、上記洗浄部3,4における支持回転
軸16と同一構造を有するものであるから、それに関連す
る構成の対応部分に、洗浄部3,4における符号に30を加
えた符号を付してその説明は省略する。
軸16と同一構造を有するものであるから、それに関連す
る構成の対応部分に、洗浄部3,4における符号に30を加
えた符号を付してその説明は省略する。
一方、上記噴射ノズル48,48は、それぞれディスク8の半
径方向へ移動可能に配設され、これによってディスク8
の全面に気体を噴射させ得るようになっている。
径方向へ移動可能に配設され、これによってディスク8
の全面に気体を噴射させ得るようになっている。
なお、図中55は、乾燥室46内の塵埃を除去して該乾燥室
46を高度の清浄状態に保持するためのクリーンユニット
である。
46を高度の清浄状態に保持するためのクリーンユニット
である。
上記乾燥部5に隣接して配設された搬出部6は、乾燥され
たディスク8を搬送部7から受取り、それを容器56内に順
次収納するもので、供給部2の場合と同様に、上記容器5
6を一定ピッチずつ移動するコンベヤ57と、シリンダ59
に昇降自在に取付けられ、ディスク8の中心穴8a内に挿
入係合可能な収納アーム58とを備えている。
たディスク8を搬送部7から受取り、それを容器56内に順
次収納するもので、供給部2の場合と同様に、上記容器5
6を一定ピッチずつ移動するコンベヤ57と、シリンダ59
に昇降自在に取付けられ、ディスク8の中心穴8a内に挿
入係合可能な収納アーム58とを備えている。
而して、上記供給部2、第1及び第2の洗浄部3,4、乾燥
部5、及び搬出部6は、それぞれ一定間隔で、即ち、供給
アーム12と支持回転軸16,16,47及び収納アーム58との間
の距離が等しくなるように配設されている。
部5、及び搬出部6は、それぞれ一定間隔で、即ち、供給
アーム12と支持回転軸16,16,47及び収納アーム58との間
の距離が等しくなるように配設されている。
上記供給部2から供給されたディスク8を洗浄部3,4、乾
燥部5、及び搬出部6に順次搬送する搬送部7は、上記各
部2〜6の前方にそれぞれを横切るように配設されたレー
ル61,61上に、これら各部2〜6の数より1つだけ少ない
数の搬送手段62を等間隔で移動自在に配設し、これらの
搬送手段62をシリンダ63によって往復駆動するように構
成したもので、上記各搬送手段62は次のように構成され
ている。即ち、摺動片68を介して上記レール61,61に移
動自在に取付けられた基台65上に支持板67を固定し、該
支持板67に取付けられたシリンダ68のロッドに搬送ヘッ
ド69を取付け、該搬送ヘッド69には、その背面に上記支
持板67によって移動を案内されるガイド杆70を取付ける
と共に、搬送ヘッド69の前面に、ディスク8の外周を竪
向きに挟持する溝付ローラ形の複数の挟持片71を、それ
らの挟持間隔を広狭に調節可能に取付けたものである。
燥部5、及び搬出部6に順次搬送する搬送部7は、上記各
部2〜6の前方にそれぞれを横切るように配設されたレー
ル61,61上に、これら各部2〜6の数より1つだけ少ない
数の搬送手段62を等間隔で移動自在に配設し、これらの
搬送手段62をシリンダ63によって往復駆動するように構
成したもので、上記各搬送手段62は次のように構成され
ている。即ち、摺動片68を介して上記レール61,61に移
動自在に取付けられた基台65上に支持板67を固定し、該
支持板67に取付けられたシリンダ68のロッドに搬送ヘッ
ド69を取付け、該搬送ヘッド69には、その背面に上記支
持板67によって移動を案内されるガイド杆70を取付ける
と共に、搬送ヘッド69の前面に、ディスク8の外周を竪
向きに挟持する溝付ローラ形の複数の挟持片71を、それ
らの挟持間隔を広狭に調節可能に取付けたものである。
次に、上記構成を有する洗浄装置の作用について説明す
る。
る。
供給部2において、未洗浄ワーク8を竪向きに収容された
容器10がコンベヤ11により1ピッチだけ供給アーム12側
へ移動せしめられると、該供給アーム12が端部に位置す
るディスク8の中心孔内に挿入し、その状態で該供給ア
ーム12がシリンダ13により上昇して上記ディスク8が1
枚だけ持上げられる。このとき、各搬送手段62は第2図
の位置に待機している。
容器10がコンベヤ11により1ピッチだけ供給アーム12側
へ移動せしめられると、該供給アーム12が端部に位置す
るディスク8の中心孔内に挿入し、その状態で該供給ア
ーム12がシリンダ13により上昇して上記ディスク8が1
枚だけ持上げられる。このとき、各搬送手段62は第2図
の位置に待機している。
次に、搬送手段62における搬送ヘッド69がシリンダ68の
作動により前進し、挟持片71により上記ディスク8の外
周を竪向きのまま挟持すると、供給アーム12はディスク
8への係止が解除される位置まで僅かに下降し、それに
伴って搬送ヘッド69は元の位置まで後退する。この動作
は各搬送手段62において一斉に行われる。従って、第1
及び第2の洗浄部3,4においては、支持回転軸16に支持
されて所定の洗浄が行われたディスク8が、また乾燥部5
においては、支持回転軸47に支持されて乾燥の行われた
ディスク8が、それぞれ対応する搬送手段62に受渡され
ることになる。
作動により前進し、挟持片71により上記ディスク8の外
周を竪向きのまま挟持すると、供給アーム12はディスク
8への係止が解除される位置まで僅かに下降し、それに
伴って搬送ヘッド69は元の位置まで後退する。この動作
は各搬送手段62において一斉に行われる。従って、第1
及び第2の洗浄部3,4においては、支持回転軸16に支持
されて所定の洗浄が行われたディスク8が、また乾燥部5
においては、支持回転軸47に支持されて乾燥の行われた
ディスク8が、それぞれ対応する搬送手段62に受渡され
ることになる。
続いて、上記各搬送手段62がそれらの1間隔分だけシリ
ンダ63により一斉に前進せしめられ、保持したディスク
8をそれぞれ次工程に受渡す。このときの両洗浄部3,4及
び乾燥部5へのディスク8の受渡しは、シリンダ68により
搬送ヘッド69が前進し、ディスク8の中心孔8a内に支持
回転軸16,47先端のチャック部24,54が挿入せしめられた
位置において該チャック部24,54が拡開し、該ディスク8
を支持するのと同時に、搬送手段62の挟持片71がディス
ク8を開放することにより行われ、また、搬出部6へのデ
ィスク8の受渡しは、搬送ヘッド69が前進し、ディスク8
の中心孔8aに収納アーム58が挿入した位置で該ディスク
8を開放することにより行われる。そして、収納アーム5
8がディスク8を受取ると、該収納アーム58はシリンダ59
により下降し、容器56の所定の位置に該ディスク8を収
納する。その後該容器58が一定ピッチ移動することによ
り収納アーム58がディスク8から外れると、該収納アー
ム58は再び上昇して受渡し位置に待機する。
ンダ63により一斉に前進せしめられ、保持したディスク
8をそれぞれ次工程に受渡す。このときの両洗浄部3,4及
び乾燥部5へのディスク8の受渡しは、シリンダ68により
搬送ヘッド69が前進し、ディスク8の中心孔8a内に支持
回転軸16,47先端のチャック部24,54が挿入せしめられた
位置において該チャック部24,54が拡開し、該ディスク8
を支持するのと同時に、搬送手段62の挟持片71がディス
ク8を開放することにより行われ、また、搬出部6へのデ
ィスク8の受渡しは、搬送ヘッド69が前進し、ディスク8
の中心孔8aに収納アーム58が挿入した位置で該ディスク
8を開放することにより行われる。そして、収納アーム5
8がディスク8を受取ると、該収納アーム58はシリンダ59
により下降し、容器56の所定の位置に該ディスク8を収
納する。その後該容器58が一定ピッチ移動することによ
り収納アーム58がディスク8から外れると、該収納アー
ム58は再び上昇して受渡し位置に待機する。
ディスク8が受渡された第1及び第2の洗浄部3,4におい
ては、下方に待機していたブラシ機構17がシリンダ25の
作動により上昇し、回転するディスク8を、回転しなが
ら揺動する一対のブラシ36,36が両側から挟持して洗浄
する。このとき、ノズル18から洗浄部位に洗剤または純
水が供給される。而してこの洗浄時には、ディスク8を
竪向きに支持してその両面にブラシ36,36を押付けるよ
うにしているため、これらの両面を均質に洗浄すること
ができる。
ては、下方に待機していたブラシ機構17がシリンダ25の
作動により上昇し、回転するディスク8を、回転しなが
ら揺動する一対のブラシ36,36が両側から挟持して洗浄
する。このとき、ノズル18から洗浄部位に洗剤または純
水が供給される。而してこの洗浄時には、ディスク8を
竪向きに支持してその両面にブラシ36,36を押付けるよ
うにしているため、これらの両面を均質に洗浄すること
ができる。
また、乾燥部5においては、支持回転軸47に支持された
ディスク8が高速回転されることによってその水切りが
行われ、同時に、ディスク8の半径方向へ移動する噴射
ノズル48から窒素などの気体がディスク8の両面に噴射
されて付着した水分が吹飛ばされ、これによって該ディ
スク8の乾燥がより完全なものになる。
ディスク8が高速回転されることによってその水切りが
行われ、同時に、ディスク8の半径方向へ移動する噴射
ノズル48から窒素などの気体がディスク8の両面に噴射
されて付着した水分が吹飛ばされ、これによって該ディ
スク8の乾燥がより完全なものになる。
上記ディスク8の乾燥に当っては、該ディスク8を竪向き
に支持して回転させるようにしているため、その両面の
水切りが非常に良好且つ均一に行われ、しかも、噴射ノ
ズル48からの気体の噴射によって残った水分が除去され
るため、乾燥が非常に迅速且つ確実に行われることにな
る。特に、光ディスクの場合には、その成形時に第4図
に示すように溝8bが形成されることがあり、この溝8b内
に滞留した水分は回転だけで完全に取除くことが困難で
あるが、このような溝8b内の水分であっても、噴射ノズ
ル48からの気体によって完全に除去することができる。
に支持して回転させるようにしているため、その両面の
水切りが非常に良好且つ均一に行われ、しかも、噴射ノ
ズル48からの気体の噴射によって残った水分が除去され
るため、乾燥が非常に迅速且つ確実に行われることにな
る。特に、光ディスクの場合には、その成形時に第4図
に示すように溝8bが形成されることがあり、この溝8b内
に滞留した水分は回転だけで完全に取除くことが困難で
あるが、このような溝8b内の水分であっても、噴射ノズ
ル48からの気体によって完全に除去することができる。
なお、上記洗浄部3,4の数は、必要に応じて増減するこ
とができる。
とができる。
また、上記一連の動作は、マイクロコンピュータによっ
て自動的に制御されるものである。
て自動的に制御されるものである。
[発明の効果] 上記構成を有する本発明によれば、次に列挙するような
効果を期待することができる。
効果を期待することができる。
(1)ディスクを竪向きに支持して洗浄及び乾燥を行うよ
うにしているため、該ディスクの両面の均質な洗浄及び
乾燥が可能となり、洗浄むらや乾燥むらをなくすことが
できる。
うにしているため、該ディスクの両面の均質な洗浄及び
乾燥が可能となり、洗浄むらや乾燥むらをなくすことが
できる。
(2)ディスクを高速回転させると共に、その両面に気体
を噴射させることによって乾燥させるようにしているた
め、洗浄液の除去及び乾燥を迅速且つ確実に行うことが
でき、洗浄後の乾燥不良によるしみの発生を確実に防止
することができる。
を噴射させることによって乾燥させるようにしているた
め、洗浄液の除去及び乾燥を迅速且つ確実に行うことが
でき、洗浄後の乾燥不良によるしみの発生を確実に防止
することができる。
(3)ディスクの供給から洗浄、乾燥、搬出までの工程を
一貫して自動的に行うようにしたので、手作業によるデ
ィスクの汚染をなくし、且つ作業能率を向上させること
ができる。
一貫して自動的に行うようにしたので、手作業によるデ
ィスクの汚染をなくし、且つ作業能率を向上させること
ができる。
(4)洗浄部及び乾燥部においてはディスクを中心穴内で
内周チャックし、搬送手段においては外周でチャックす
るようにしたので、これら搬送手段と洗浄部及び乾燥部
との間のディスクの受渡しを、チャック手段同士の位置
競合を来すことなく簡単且つ円滑に行うことができるば
かりでなく、洗浄部においては、内周でチャックするこ
とによりチャック手段がブラシ洗浄の邪魔にならないた
め、洗浄機構を組み込む際の制約が少なく、機構の簡略
化と確実な洗浄とを容易に実現することができ、同様に
乾燥部においても、ディスクを内周でチャックしてその
軸線の回りに回転させることにより、外周の複数か所を
ローラで支持して回転させる場合に比べ、簡単且つコン
パクトな機構によりディスクをより高速で回転させるこ
とができ、しかも、チャック手段が放射方向に飛散する
水に対して障害とならないため、外周をローラでチャッ
クする場合のように水がローラに当って跳ね返ったり、
ローラに付着してディスクを再度濡らすことによりしみ
を作る、というような不都合を回避することができる。
内周チャックし、搬送手段においては外周でチャックす
るようにしたので、これら搬送手段と洗浄部及び乾燥部
との間のディスクの受渡しを、チャック手段同士の位置
競合を来すことなく簡単且つ円滑に行うことができるば
かりでなく、洗浄部においては、内周でチャックするこ
とによりチャック手段がブラシ洗浄の邪魔にならないた
め、洗浄機構を組み込む際の制約が少なく、機構の簡略
化と確実な洗浄とを容易に実現することができ、同様に
乾燥部においても、ディスクを内周でチャックしてその
軸線の回りに回転させることにより、外周の複数か所を
ローラで支持して回転させる場合に比べ、簡単且つコン
パクトな機構によりディスクをより高速で回転させるこ
とができ、しかも、チャック手段が放射方向に飛散する
水に対して障害とならないため、外周をローラでチャッ
クする場合のように水がローラに当って跳ね返ったり、
ローラに付着してディスクを再度濡らすことによりしみ
を作る、というような不都合を回避することができる。
第1図は本発明の一実施例を示す部分破断正面図、第2
図はその同平面図、第3図は同側面図、第4図はブラシ
機構の拡大正面図、第5図はその部分側面図である。 2……供給部、3,4……洗浄部、 5……乾燥部、6……搬出部、 8……ディスク、10,56……容器、 16,47……支持回転軸、 18……洗浄液供給ノズル、 36……ブラシ、48……噴射ノズル、 62……搬送手段。
図はその同平面図、第3図は同側面図、第4図はブラシ
機構の拡大正面図、第5図はその部分側面図である。 2……供給部、3,4……洗浄部、 5……乾燥部、6……搬出部、 8……ディスク、10,56……容器、 16,47……支持回転軸、 18……洗浄液供給ノズル、 36……ブラシ、48……噴射ノズル、 62……搬送手段。
Claims (1)
- 【請求項1】ディスクを1枚ずつ供給する供給部、 上記供給部に隣接して配設され、ディスクを中心穴内に
係合する内周チャック手段により竪向きに支持して回転
させる支持回転軸と、該支持回転軸に支持されたディス
クを両側から挟持して洗浄する回転自在且つ揺動自在の
一対のブラシと、該ブラシによる洗浄部位へ洗浄液を供
給する洗浄液供給ノズルとを備えた洗浄部、 上記洗浄部に隣接して配設され、ディスクを中心穴内に
係合する内周チャック手段により竪向きに支持して回転
させる支持回転軸と、該支持回転軸に支持されたディス
クの両面に水切りのための気体を噴射させる噴射ノズル
とを備えた乾燥部、 上記乾燥部に隣接して配設され、乾燥したディスクを搬
送手段から受取って搬出する搬出部、 上記各部間に移動自在に配設され、ディスクを外周に当
接する外周チャック手段により竪向きに支持して搬送す
る搬送手段、 を有することを特徴とするディスク洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61135839A JPH0640400B2 (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | デイスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61135839A JPH0640400B2 (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | デイスク洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62291773A JPS62291773A (ja) | 1987-12-18 |
| JPH0640400B2 true JPH0640400B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=15160964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61135839A Expired - Lifetime JPH0640400B2 (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | デイスク洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0640400B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10314684A (ja) * | 1997-05-21 | 1998-12-02 | Speedfam Co Ltd | ディスク形ワークの洗浄方法及び装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0422411Y2 (ja) * | 1984-10-26 | 1992-05-22 |
-
1986
- 1986-06-11 JP JP61135839A patent/JPH0640400B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62291773A (ja) | 1987-12-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5351360A (en) | Cleaning device for a wafer mount plate | |
| JP3459632B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| KR0134962B1 (ko) | 디스크 세척장치 | |
| US6052855A (en) | Liquid flow workpiece cassette washing apparatus | |
| CN115569949B (zh) | 镜片工件的自动擦拭方法及自动擦拭系统 | |
| JPH0786218A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPH0347574B2 (ja) | ||
| US6079073A (en) | Washing installation including plural washers | |
| JP3490393B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JP3448844B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| CN209036280U (zh) | 化学机械抛光系统及晶圆的后处理单元 | |
| JP3448602B2 (ja) | ディスク用カセットの洗浄装置 | |
| JPH0640400B2 (ja) | デイスク洗浄装置 | |
| JP2005072429A (ja) | 両面洗浄処理方法及び装置 | |
| JPH07335599A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| EP0914905A2 (en) | Wafer polishing apparatus and method | |
| JPS6380888A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP2746669B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JP2000111254A (ja) | ディスク用カセットの乾燥装置 | |
| JP3644706B2 (ja) | ポリッシング装置 | |
| JP3432796B2 (ja) | 基板スピン装置 | |
| JPH08213352A (ja) | ウェーハ洗浄装置 | |
| JPH06151398A (ja) | ウエハ洗浄装置 | |
| JP2564661Y2 (ja) | 貼付板洗浄装置 | |
| JPS6386177A (ja) | 洗浄装置 |