JPH06427A - 電気用基板の表面処理方法 - Google Patents

電気用基板の表面処理方法

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Publication number
JPH06427A
JPH06427A JP16627692A JP16627692A JPH06427A JP H06427 A JPH06427 A JP H06427A JP 16627692 A JP16627692 A JP 16627692A JP 16627692 A JP16627692 A JP 16627692A JP H06427 A JPH06427 A JP H06427A
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JP
Japan
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treatment
substrate
treatment solution
liquid
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP16627692A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihide Sawa
佳秀 澤
Akinori Hibino
明憲 日比野
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Publication of JPH06427A publication Critical patent/JPH06427A/ja
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 基板3を処理液2内に浸漬し、処理液面20
を降下させる。 【効果】 簡便に、かつ、均一な基板の表面処理が可能
となる。多層プリント配線板用の内層回路板等の表面処
理の均一性が向上し、特性のバラツキが抑えられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電気用基板の表面処
理方法に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、多層プリント配線板の内層回路板等の製造に有用
な、各種の電気絶縁基板等の表面処理を簡便、かつ均一
に行うことのできる改良された表面処理方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来より、各種の電気用絶縁材料等から
なる電気用基板に対しては、接着性等を改善するための
表面処理が行われてきている。その代表的なものがプリ
ント配線板用基板の表面処理であって、たとえば、多層
プリント配線板の製造においては、内層回路表面の黒化
処理、ブラウン処理等の表面処理が施されてきている。
【0003】そして、この表面処理に際しては、通常
は、たとえば図4に示したように、処理液槽(ア)に入
れた処理液(イ)中に基板(ウ)を浸漬(ディッピン
グ)し、所定時間浸漬した後に、この基板(ウ)を引上
げることによって、処理液(イ)中から取出している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように、基板(ウ)を処理液(イ)から引上げて表面処
理を行う場合には、引上げ時の装置による振動や引上げ
速度のバラツキ等により、基板(ウ)に対して均一な表
面処理を行うことが困難である。このため、ロット間は
もちろんロット内(面内−上下)での耐熱特性・接着強
度等の特性のバラツキが大きい原因となっていた。
【0005】また、上記の装置の振動等によるバラツキ
を解消しようとすると、その設備は大掛かりなものとな
り、設置スペースや設備費の点で問題があった。この発
明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、
従来の電気用基板の表面処理の欠点を解消し、簡便に、
かつ均一に基板表面の処理を可能とする改善された新し
い基板表面の処理方法を提供することを目的としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、基板を処理液内に浸漬し、処理
液面を降下させることを特徴とする電気用基板の表面処
理方法を提供する。この発明の方法は、従来のように基
板を処理液中から引上げることなく、逆に、処理液その
ものの液面を降下させることを特徴とし、その適用対象
は、たとえば前記の通りの多層プリント配線板の内層回
路板、その他各種の電気用基板の表面処理の広範囲なも
のに及ぶものである。黒化処理、粗面化処理、あるいは
平滑化処理、酸化・還元処理、表面修飾等の各種の液剤
使用の表面処理法として実施されるものである。
【0007】処理液面そのものを降下させる手段として
は様々可能である。たとえば図1に例示したように、処
理液槽(1)の処理液(2)内に基板(3)を浸漬し、
所要時間浸漬した後に、所要の速度で、処理液槽(1)
そのものを降下させ、これにともなって処理液(2)の
液面(20)を基板(3)に対して降下させる。あるい
は、図2に例示したように、処理液槽(1)の底部に排
出口(4)を設けておき、基板(3)を処理液(2)に
浸漬した後に、この排出口(4)より処理液(2)を排
出し、自動的にその液面(20)を降下させる。
【0008】この後者の場合、ポンプ等による処理液の
強制排出、または液面(20)と排出口(4)との落差
による自然排出等のいずれの方法によっても液面(2
0)の降下が可能である。また強制排出においては排出
能力を調節することにより最適な排出速度(液面降下速
度)に設定可能であり、自然排出においては排出孔の位
置、形状等を変えることによって最適な排出速度(液面
降下速度)に設定可能である。 さらに様々な手段が採
用できることは言うまでもない。
【0009】
【作用】この発明の方法においては、処理液(2)その
ものの液面(20)を降下させるので、処理液(2)か
ら基板(3)を引上げていた従来方法のように、引上げ
時の装置による振動や引上げ速度のバラツキ等による表
面処理の不均一性を排除することができる。液面(2
0)の均一降下が可能であって、ロット間はもちろんの
こと、ロット内(面内−上下)での処理による特性の均
一性が向上する。また、表面処理のための設備の増設も
抑えられる。
【0010】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明の方法について説明する。
【0011】
【実施例】実施例1 i)基板表面への処理として黒化処理を施した。その条
件は下記の通りとした。 使用基板 ガラス布基材エポキシ樹脂積層板 サイズ 280mm×250mm(縦×横) 厚さ 0.8mm 銅箔 両面35μm 黒化処理工程 研磨・洗浄 塩化銅 (25±5℃、25±5秒) 水洗 塩酸 (室温、60±5秒) 水洗 黒化処理 (96±2℃、60±5秒) 水洗 乾燥 (120±10℃、60±5分) また、各工程で使用した処理液は次の通りである。
【0012】工程 塩化銅 塩化第二銅(CuCl2 ・2H2 O) 2.4kg 水 42l 塩酸(35%) 18l 工程 塩酸 塩酸(35%) 70l 水 155l 工程 黒化処理 亜塩素酸ナトリウム NaClO2 6kg リン酸三ナトリウム Na3 PO4 ・12H2 O 1kg 水酸化ナトリウム NaOH 0.8kg 水を加えて100lとする 上記工程、、において基板浸漬処理後、処理液の
入った槽を1m/分の一定速度で降下させ、基板を処理
液から抜き出して次工程に移行させた。
【0013】ii)上記処理を施した基板の上下に厚さ
0.15mmのプリプレグを2枚ずつ重ね、さらにその
外側に厚み18μmの銅箔を重ね、170℃−40kg
/cm 2 −120分の条件で2次成形することによって
多層板を得た。そして、この多層板について内層接着強
度を測定した。 iii) 多層板の全面よりサンプリングを行い、面内のバ
ラツキ(n=30)及びロット間(n=10)の平均値
のバラツキを評価した。
【0014】その結果を示したものが表1である。従来
法による比較例に比べ、接着強度のバラツキが大きく改
善されていることがわかる。実施例2 実施例1の工程、、において処理液槽の下部に液
排出用の管を設け、この管よりポンプにて1m/分の一
定速度で槽内の液面が下がるように排出量を調節して処
理した。
【0015】実施例1と同様にバラツキを評価し、表1
の通りの優れた結果を得た。実施例3 実施例1の工程、、において図3のような処理槽
に約15秒で処理液(約20L)が抜けるような開口部
を設けたもので処理した。この時槽内の液面の下がる速
度は平均1m/分である。
【0016】実施例1と同様にバラツキを評価し、表1
の通りの優れた結果を得た。比較例 実施例1の工程、、において処理槽より基板を1
m/分の速度で引上げて表面処理した。実施例1と同様
にして、バラツキを評価したが、表1に示した通り、実
施例1〜3に比べてはるかに劣っていた。
【0017】
【表1】
【0018】
【発明の効果】この発明により、以上詳しく説明した通
り、簡便に、かつ、均一な基板の表面処理が可能とな
る。多層プリント配線板用の内層回路板等の表面処理の
均一性が向上し、特性のバラツキが抑えられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の方法の一例を示した斜視図である。
【図2】別の一例を示した斜視図である。
【図3】実施例としての処理液槽を示した斜視図であ
る。
【図4】従来方法を示した斜視図である。
【符号の説明】
1 処理液槽 2 処理液 3 基板 4 排出口 20 液面

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を処理液内に浸漬し、処理液面を降
    下させることを特徴とする電気用基板表面の処理方法。
  2. 【請求項2】 処理液槽を降下させる請求項1の処理方
    法。
  3. 【請求項3】 処理液槽内から処理液を排出して液面を
    降下させる請求項1の処理方法。
JP16627692A 1992-06-24 1992-06-24 電気用基板の表面処理方法 Pending JPH06427A (ja)

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JP16627692A JPH06427A (ja) 1992-06-24 1992-06-24 電気用基板の表面処理方法

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JPH06427A true JPH06427A (ja) 1994-01-11

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ID=15828383

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JP (1) JPH06427A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6013354A (en) * 1997-07-31 2000-01-11 Somar Corporation Ink-jet recording film
JP2012020241A (ja) * 2010-07-15 2012-02-02 Suzhou Top Creation Machines Co Ltd 薄板浸漬処理方法及び装置

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US6013354A (en) * 1997-07-31 2000-01-11 Somar Corporation Ink-jet recording film
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