JPH0643370A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JPH0643370A JPH0643370A JP4198859A JP19885992A JPH0643370A JP H0643370 A JPH0643370 A JP H0643370A JP 4198859 A JP4198859 A JP 4198859A JP 19885992 A JP19885992 A JP 19885992A JP H0643370 A JPH0643370 A JP H0643370A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- light beam
- scanning
- corresponding direction
- sub
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
- G02B26/126—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane including curved mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】結像ミラー径を用いる光走査装置において、結
像系の製造・組付け誤差に基づく副走査対応方向の光ス
ポット径誤差を有効に軽減させる。 【構成】光源装置1,2からの光束をシリンダーレンズ
系3により副走査対応方向にのみ収束させて主走査対応
方向に長い線像として結像させ、光偏向器4により偏向
光束として等角速度的に偏向させ、結像ミラー系6によ
り被走査面7’上に光スポットとして集光させ、光スポ
ットにより等速光走査を行う光走査装置であって、光学
系の製造誤差・組付け誤差に起因する副走査対応方向に
おける結像位置の誤差を、シリンダーレンズ系3の配設
位置を光軸方向への変位調整することにより補正する。
像系の製造・組付け誤差に基づく副走査対応方向の光ス
ポット径誤差を有効に軽減させる。 【構成】光源装置1,2からの光束をシリンダーレンズ
系3により副走査対応方向にのみ収束させて主走査対応
方向に長い線像として結像させ、光偏向器4により偏向
光束として等角速度的に偏向させ、結像ミラー系6によ
り被走査面7’上に光スポットとして集光させ、光スポ
ットにより等速光走査を行う光走査装置であって、光学
系の製造誤差・組付け誤差に起因する副走査対応方向に
おける結像位置の誤差を、シリンダーレンズ系3の配設
位置を光軸方向への変位調整することにより補正する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】等角速度的に偏向する光束を被走査面上
に光スポットとして集光し、被走査面を走査する光走査
装置は、従来から光プリンター等に関連して種々のもの
が知られている。偏向光束を被走査面上に光スポットと
して集光するとともに光スポットによる光走査を等速化
する光学系としては「fθレンズ」が一般的であるが、
近来、fθレンズレンズに代えて「リニアリティ補正機
能を持つ結像ミラー系」を利用することが提案されてい
る(例えば、特開平1−200221号公報)。
に光スポットとして集光し、被走査面を走査する光走査
装置は、従来から光プリンター等に関連して種々のもの
が知られている。偏向光束を被走査面上に光スポットと
して集光するとともに光スポットによる光走査を等速化
する光学系としては「fθレンズ」が一般的であるが、
近来、fθレンズレンズに代えて「リニアリティ補正機
能を持つ結像ミラー系」を利用することが提案されてい
る(例えば、特開平1−200221号公報)。
【0003】近来、光走査装置には、書き込み画像の像
質を高めるため高密度記録が求められているが、これを
実現するためには被走査面を走査する光スポット径が像
高とともに大きく変動しないことが是非とも必要であ
る。光スポット径は、偏向光束を被走査面上に光スポッ
トとして集光させる結像系の、主走査対応方向(光源か
ら被走査面に到る光路を直線状に展開した仮想的な光路
上で主走査方向に平行に対応する方向)および副走査対
応方向(上記仮想的な光路上で副走査方向に平行に対応
する方向)の結像点の軌跡、即ち上記両対応方向におけ
る像面湾曲に影響される。
質を高めるため高密度記録が求められているが、これを
実現するためには被走査面を走査する光スポット径が像
高とともに大きく変動しないことが是非とも必要であ
る。光スポット径は、偏向光束を被走査面上に光スポッ
トとして集光させる結像系の、主走査対応方向(光源か
ら被走査面に到る光路を直線状に展開した仮想的な光路
上で主走査方向に平行に対応する方向)および副走査対
応方向(上記仮想的な光路上で副走査方向に平行に対応
する方向)の結像点の軌跡、即ち上記両対応方向におけ
る像面湾曲に影響される。
【0004】光スポット径の変動を抑えるには、上記両
対応方向において結像系の像面湾曲を0とすれば良いが
実際上不可能であり、現実には主・副走査対応方向に像
面湾曲が生じてしまう。これら両対応方向のうち、主走
査対応方向の像面湾曲に伴う光スポット径変動は、1ド
ットを書き込む時間を電気的に制御することにより実用
上問題とならない程度まで補正することができ、従っ
て、主走査対応方向の像面湾曲に就いては比較的許容度
が高い。
対応方向において結像系の像面湾曲を0とすれば良いが
実際上不可能であり、現実には主・副走査対応方向に像
面湾曲が生じてしまう。これら両対応方向のうち、主走
査対応方向の像面湾曲に伴う光スポット径変動は、1ド
ットを書き込む時間を電気的に制御することにより実用
上問題とならない程度まで補正することができ、従っ
て、主走査対応方向の像面湾曲に就いては比較的許容度
が高い。
【0005】しかるに副走査対応方向の光スポット径変
動は、このような電気的な補正ができず、副走査対応方
向の像面湾曲が大きいと副走査対応方向の光スポット径
は像高により大きく変動してしまう。このため一般に、
上記結像系は副走査対応方向の像面湾曲が可及的に小さ
くなるように設計される。しかし、結像系を実際に製造
する際にはある程度の製造誤差は避けられず、また結像
系を光走査装置本体に組付ける場合の組付け誤差も不可
避的に発生する。このような、製造上・組付け上の誤差
があると、偏向光束の主・副走査対応方向の結像位置が
設計上の位置からずれ、被走査面上に形成される光スポ
ットの主・副走査対応方向の径も設計上の径と異なるも
のとなる。
動は、このような電気的な補正ができず、副走査対応方
向の像面湾曲が大きいと副走査対応方向の光スポット径
は像高により大きく変動してしまう。このため一般に、
上記結像系は副走査対応方向の像面湾曲が可及的に小さ
くなるように設計される。しかし、結像系を実際に製造
する際にはある程度の製造誤差は避けられず、また結像
系を光走査装置本体に組付ける場合の組付け誤差も不可
避的に発生する。このような、製造上・組付け上の誤差
があると、偏向光束の主・副走査対応方向の結像位置が
設計上の位置からずれ、被走査面上に形成される光スポ
ットの主・副走査対応方向の径も設計上の径と異なるも
のとなる。
【0006】このような結像系の製造や組付け上の誤差
に基づく「光スポット径誤差」も主走査対応方向のもの
に就いては、前述した、1ドット書き込み時間を電気的
に制御することにより補正が可能であるが、副走査対応
方向のものに就いては電気的な補正が困難である。
に基づく「光スポット径誤差」も主走査対応方向のもの
に就いては、前述した、1ドット書き込み時間を電気的
に制御することにより補正が可能であるが、副走査対応
方向のものに就いては電気的な補正が困難である。
【0007】また、光束を等角速度的に偏向させる光偏
向器に所謂「面倒れ」があると、光スポットが走査する
主走査ラインの位置が副走査方向に変動して、所謂ジタ
ーを発生してしまう。上記の光スポット径変動の問題や
ジター発生の問題は、結像系として上記結像ミラー系を
用いる場合にも問題となる。
向器に所謂「面倒れ」があると、光スポットが走査する
主走査ラインの位置が副走査方向に変動して、所謂ジタ
ーを発生してしまう。上記の光スポット径変動の問題や
ジター発生の問題は、結像系として上記結像ミラー系を
用いる場合にも問題となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑みてなされたものであって、結像ミラー系を用い
る光走査装置において、結像系の製造・組付け誤差に基
づく副走査対応方向の光スポット径誤差を有効に軽減さ
せ得る新規な光走査装置の提供を目的とする。この発明
の他の目的は、結像ミラーを用いる光走査装置において
上記光スポット径誤差を有効に軽減するとともに、光偏
向器の面倒れに伴うジターの発生を有効に防止できる新
規な光走査装置を提供することである。
情に鑑みてなされたものであって、結像ミラー系を用い
る光走査装置において、結像系の製造・組付け誤差に基
づく副走査対応方向の光スポット径誤差を有効に軽減さ
せ得る新規な光走査装置の提供を目的とする。この発明
の他の目的は、結像ミラーを用いる光走査装置において
上記光スポット径誤差を有効に軽減するとともに、光偏
向器の面倒れに伴うジターの発生を有効に防止できる新
規な光走査装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明の光走査装置
は、光源装置と、シリンダーレンズ系と、光偏向器と、
結像ミラー系と、調整機構とを有する(請求項1)。
「光源装置」は、光走査用の光束を放射する。光源装置
は、半導体レーザーや発光ダイオード等の光源、あるい
はこれら光源とカップリングレンズとにより構成でき
る。「シリンダーレンズ系」は、光源装置からの光束を
副走査対応方向にのみ収束させ、主走査対応方向に長い
線像として結像させる。シリンダーレンズ系は1枚以上
のシリンダーレンズにより構成される。「光偏向器」
は、シリンダーレンズ系からの光束を偏向反射面により
反射し、偏向光束として等角速度的に偏向させる。「結
像ミラー系」は、偏向光束を被走査面上に光スポットと
して集光させ、且つ光スポットによる光走査を等速化す
る。「調整機構」は、シリンダーレンズ系の光軸方向の
位置を変位調整する機構である。
は、光源装置と、シリンダーレンズ系と、光偏向器と、
結像ミラー系と、調整機構とを有する(請求項1)。
「光源装置」は、光走査用の光束を放射する。光源装置
は、半導体レーザーや発光ダイオード等の光源、あるい
はこれら光源とカップリングレンズとにより構成でき
る。「シリンダーレンズ系」は、光源装置からの光束を
副走査対応方向にのみ収束させ、主走査対応方向に長い
線像として結像させる。シリンダーレンズ系は1枚以上
のシリンダーレンズにより構成される。「光偏向器」
は、シリンダーレンズ系からの光束を偏向反射面により
反射し、偏向光束として等角速度的に偏向させる。「結
像ミラー系」は、偏向光束を被走査面上に光スポットと
して集光させ、且つ光スポットによる光走査を等速化す
る。「調整機構」は、シリンダーレンズ系の光軸方向の
位置を変位調整する機構である。
【0010】請求項1記載の光走査装置においては、シ
リンダーレンズ系による「主走査対応方向に長い線像の
結像位置」は、原理的にはシリンダーレンズ系から結像
ミラー系に到る光路上領域の任意の位置でよい。
リンダーレンズ系による「主走査対応方向に長い線像の
結像位置」は、原理的にはシリンダーレンズ系から結像
ミラー系に到る光路上領域の任意の位置でよい。
【0011】光偏向器としては、回転多面鏡やピラミダ
ルミラー、回転単面鏡等を用いることができるが、請求
項1の光走査装置は偏向反射面の面倒れを補正する機能
を持たない場合もあるので、このような場合には、面倒
れが実際上殆ど問題とならないピラミダルミラーや回転
単面鏡を光偏向器として用いるのが良い。
ルミラー、回転単面鏡等を用いることができるが、請求
項1の光走査装置は偏向反射面の面倒れを補正する機能
を持たない場合もあるので、このような場合には、面倒
れが実際上殆ど問題とならないピラミダルミラーや回転
単面鏡を光偏向器として用いるのが良い。
【0012】請求項2記載の光走査装置は、請求項1記
載の上記構成において「主走査対応方向に長い線像が光
偏向器の偏向反射面近傍に結像するようにシリンダーレ
ンズ系の位置が設定され、結像ミラー系が、副走査対応
方向に関して、偏向反射面位置と被走査面位置とを幾何
光学的に略共役な関係とするように構成されている」こ
とを特徴とする。
載の上記構成において「主走査対応方向に長い線像が光
偏向器の偏向反射面近傍に結像するようにシリンダーレ
ンズ系の位置が設定され、結像ミラー系が、副走査対応
方向に関して、偏向反射面位置と被走査面位置とを幾何
光学的に略共役な関係とするように構成されている」こ
とを特徴とする。
【0013】この請求項2記載の光走査装置は面倒れ補
正機能を持つので、光偏向器として回転多面鏡等、面倒
れを有するものを自由に用いることができる。なお、請
求項2記載の光走査装置において、シリンダーレンズ系
の位置が「主走査対応方向に長い線像が光偏向器の偏向
反射面近傍に結像するように設定される」とは、シリン
ダーレンズを設置する基準位置が、上記のように設定さ
れることを意味し、このように設定された基準位置の近
傍において、シリンダーレンズを光軸方向へ変位させて
位置調整を行うことができるのである。
正機能を持つので、光偏向器として回転多面鏡等、面倒
れを有するものを自由に用いることができる。なお、請
求項2記載の光走査装置において、シリンダーレンズ系
の位置が「主走査対応方向に長い線像が光偏向器の偏向
反射面近傍に結像するように設定される」とは、シリン
ダーレンズを設置する基準位置が、上記のように設定さ
れることを意味し、このように設定された基準位置の近
傍において、シリンダーレンズを光軸方向へ変位させて
位置調整を行うことができるのである。
【0014】結像ミラー系は種々の構成が可能であり、
例えば、凹球面鏡と長尺の凹シリンダーミラーの組合せ
によって構成することもできるが、「非球面の反射面形
状を有するアナモフィックな単一の凹面鏡」として構成
しても良い(請求項3)。
例えば、凹球面鏡と長尺の凹シリンダーミラーの組合せ
によって構成することもできるが、「非球面の反射面形
状を有するアナモフィックな単一の凹面鏡」として構成
しても良い(請求項3)。
【0015】さらに、上記請求項1または2または3記
載の光走査装置において、光偏向器の偏向反射面に入射
する光束は、「主走査対応方向において収束性」であっ
ても良いし(請求項4)、「主走査対応方向において発
散性」でもよく(請求項5)、あるいは、「光源装置か
ら射出する光束を平行光束とする」ことにより、偏向反
射面へ入射する光束が主走査対応方向に関して平行であ
るようにしても良い(請求項6)。
載の光走査装置において、光偏向器の偏向反射面に入射
する光束は、「主走査対応方向において収束性」であっ
ても良いし(請求項4)、「主走査対応方向において発
散性」でもよく(請求項5)、あるいは、「光源装置か
ら射出する光束を平行光束とする」ことにより、偏向反
射面へ入射する光束が主走査対応方向に関して平行であ
るようにしても良い(請求項6)。
【0016】
【作用】この発明の光走査装置では、光源装置からの光
束はシリンダーレンズ系により主走査対応方向に長い線
像として結像され、偏向光束は結像ミラー系により被走
査面上に光スポットとして集光される。従って副走査対
応方向に就いて見ると、光スポットは、上記「線像」を
物点とする、結像ミラー系による像である。
束はシリンダーレンズ系により主走査対応方向に長い線
像として結像され、偏向光束は結像ミラー系により被走
査面上に光スポットとして集光される。従って副走査対
応方向に就いて見ると、光スポットは、上記「線像」を
物点とする、結像ミラー系による像である。
【0017】結像ミラー系による副走査対応方向の結像
の横倍率をβとすると、上記線像の結像位置が光路上で
「Δ」だけ変位すると、結像ミラー系による副走査対応
方向の結像位置は「β2・Δ」だけ変位する。従って、シ
リンダーレンズ系の配備位置を光軸方向へ変位させて結
像ミラーによる副走査対応方向の結像位置を被走査面に
直交する方向へずらすことが可能である。またシリンダ
ーレンズ系を光軸方向へ変位させても、結像ミラー系に
よる主走査対応方向の結像状態は変化しない。
の横倍率をβとすると、上記線像の結像位置が光路上で
「Δ」だけ変位すると、結像ミラー系による副走査対応
方向の結像位置は「β2・Δ」だけ変位する。従って、シ
リンダーレンズ系の配備位置を光軸方向へ変位させて結
像ミラーによる副走査対応方向の結像位置を被走査面に
直交する方向へずらすことが可能である。またシリンダ
ーレンズ系を光軸方向へ変位させても、結像ミラー系に
よる主走査対応方向の結像状態は変化しない。
【0018】請求項2記載の光走査装置では、線像の結
像位置が偏向反射面近傍となることにより、光スポット
の副走査対応方向の位置が、偏向反射面の面倒れに実質
的に影響されない。
像位置が偏向反射面近傍となることにより、光スポット
の副走査対応方向の位置が、偏向反射面の面倒れに実質
的に影響されない。
【0019】
【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。
【0020】図1(A)において、光源1としての半導
体レーザーからの発散性の光束はカップリングレンズ2
を透過する。カップリングレンズ2は、透過光束を集光
光束としてもよいし、発散性の光束としてもよく、ある
いは実質的な平行光束としてもよいが、ここでは具体性
のため、カップリングレンズ2を透過した光束は実質的
な平行光束となっているものとする。光源1とカップリ
ングレンズ2とは「光源装置」を構成している。
体レーザーからの発散性の光束はカップリングレンズ2
を透過する。カップリングレンズ2は、透過光束を集光
光束としてもよいし、発散性の光束としてもよく、ある
いは実質的な平行光束としてもよいが、ここでは具体性
のため、カップリングレンズ2を透過した光束は実質的
な平行光束となっているものとする。光源1とカップリ
ングレンズ2とは「光源装置」を構成している。
【0021】光源装置から射出した光束は続いて線像結
像素子としてのシリンダーレンズ3を透過して副走査対
応方向にのみ収束し、回転単面鏡である光偏向器4の偏
向反射面近傍に主走査対応方向に長い線像として結像す
る。偏向反射面により反射された光束は結像ミラー系6
に反射され、さらに長尺ミラー5により反射され、被走
査面の主走査ラインLに母線を合致させて配備された光
導電性の感光体7上に光スポットとして集光し、光偏向
器4により等角速度的に偏向されるに従い感光体7を等
速的に光走査する。なお、長尺ミラー5は光路を折り曲
げるためのもので屈折力を持たず、従って結像ミラー系
を構成しない。
像素子としてのシリンダーレンズ3を透過して副走査対
応方向にのみ収束し、回転単面鏡である光偏向器4の偏
向反射面近傍に主走査対応方向に長い線像として結像す
る。偏向反射面により反射された光束は結像ミラー系6
に反射され、さらに長尺ミラー5により反射され、被走
査面の主走査ラインLに母線を合致させて配備された光
導電性の感光体7上に光スポットとして集光し、光偏向
器4により等角速度的に偏向されるに従い感光体7を等
速的に光走査する。なお、長尺ミラー5は光路を折り曲
げるためのもので屈折力を持たず、従って結像ミラー系
を構成しない。
【0022】結像ミラー系6の結像作用を主・副走査対
応方向のそれぞれに就いて見ると、以下のようになる。
即ち、主走査対応方向においては、カップリングレンズ
2を透過した平行光束が結像ミラー系6により感光体7
上に光スポットとして集光する。副走査対応方向に就い
ては前述のように、シリンダーレンズ3により結像され
た主走査対応方向に長い線像を物点とする、結像ミラー
系6による像が感光体7上の光スポットである。この実
施例では、線像は偏向反射面近傍に結像するので、副走
査対応方向に就いては、結像ミラー系6が偏向反射面位
置と被走査面位置とを幾何光学的に略共役な関係として
いる。
応方向のそれぞれに就いて見ると、以下のようになる。
即ち、主走査対応方向においては、カップリングレンズ
2を透過した平行光束が結像ミラー系6により感光体7
上に光スポットとして集光する。副走査対応方向に就い
ては前述のように、シリンダーレンズ3により結像され
た主走査対応方向に長い線像を物点とする、結像ミラー
系6による像が感光体7上の光スポットである。この実
施例では、線像は偏向反射面近傍に結像するので、副走
査対応方向に就いては、結像ミラー系6が偏向反射面位
置と被走査面位置とを幾何光学的に略共役な関係として
いる。
【0023】この状態を図1(B)に示す。符号4’は
光偏向器4の偏向反射面、符号7’は被走査面を示す。
図1(C)は、結像ミラー系6の製造誤差や組付け誤差
により、結像ミラー系6による副走査対応方向の結像位
置が被走査面7’に直交する方向へΔ’だけずれた状態
を示している。この場合、結像ミラー系6の副走査対応
方向の結像の横倍率をβとして、関係「Δ’=β2・Δ」
を満足する距離:Δだけ、シリンダーレンズ系3を偏向
反射面4’側へ繰り出せば、図1(D)に示すように、
線像の結像位置も「Δ」だけ繰り出され、結像ミラー系
6による副走査対応方向の結像位置を設計通りに被走査
面7’に合致させることができる。
光偏向器4の偏向反射面、符号7’は被走査面を示す。
図1(C)は、結像ミラー系6の製造誤差や組付け誤差
により、結像ミラー系6による副走査対応方向の結像位
置が被走査面7’に直交する方向へΔ’だけずれた状態
を示している。この場合、結像ミラー系6の副走査対応
方向の結像の横倍率をβとして、関係「Δ’=β2・Δ」
を満足する距離:Δだけ、シリンダーレンズ系3を偏向
反射面4’側へ繰り出せば、図1(D)に示すように、
線像の結像位置も「Δ」だけ繰り出され、結像ミラー系
6による副走査対応方向の結像位置を設計通りに被走査
面7’に合致させることができる。
【0024】結像ミラー系を用いる光走査装置では、結
像ミラー系により偏向光束が入射側に反射されるので、
反射光束の光路を入射光束の光路から分離する必要があ
る。光路分離の方法は種々のものが可能であるが、図2
に代表的な3例を挙げる。図2(A)(B)は、結像ミ
ラー系6に入射する光束が副走査対応方向(図の上下方
向)に傾くようにした光路分離方式であり、(A)は結
像ミラー系6による反射光束が直接に感光体7に入射す
るようにしたもの、(B)は反射光束をの光路を長尺ミ
ラー5により折り曲げて感光体7に導くようにしたもの
で、図1の光走査装置で採用されている。また(C)
は、長尺のハーフミラー8を用いて光路分離を行う方式
を示している。
像ミラー系により偏向光束が入射側に反射されるので、
反射光束の光路を入射光束の光路から分離する必要があ
る。光路分離の方法は種々のものが可能であるが、図2
に代表的な3例を挙げる。図2(A)(B)は、結像ミ
ラー系6に入射する光束が副走査対応方向(図の上下方
向)に傾くようにした光路分離方式であり、(A)は結
像ミラー系6による反射光束が直接に感光体7に入射す
るようにしたもの、(B)は反射光束をの光路を長尺ミ
ラー5により折り曲げて感光体7に導くようにしたもの
で、図1の光走査装置で採用されている。また(C)
は、長尺のハーフミラー8を用いて光路分離を行う方式
を示している。
【0025】図2の(A)や(B)の光路分離方式で
は、偏向光束の結像ミラー系6への入射位置の軌跡が、
主走査対応方向(図2の図面に直交する方向)に平行に
ならず曲線状となる。このため、このような光路分離方
式では被走査面上における主走査ラインが曲線になる
が、このような主走査ラインの曲線化は、結像ミラー系
6の光軸を副走査対応方向において若干傾けたり、ある
いは副走査対応方向へ若干平行移動させて位置設定した
り、これら平行移動と傾けとを組み合わせることにより
実用上問題とならない程度に小さくすることができる。
は、偏向光束の結像ミラー系6への入射位置の軌跡が、
主走査対応方向(図2の図面に直交する方向)に平行に
ならず曲線状となる。このため、このような光路分離方
式では被走査面上における主走査ラインが曲線になる
が、このような主走査ラインの曲線化は、結像ミラー系
6の光軸を副走査対応方向において若干傾けたり、ある
いは副走査対応方向へ若干平行移動させて位置設定した
り、これら平行移動と傾けとを組み合わせることにより
実用上問題とならない程度に小さくすることができる。
【0026】図3は、結像ミラー系6の反射面形状を説
明するための図である。結像ミラー系6の反射面は以下
のように特定される。即ち、結像ミラー系6の反射面の
光軸と反射面との交点の位置において反射面の曲率を考
え、最大曲率に対応する曲率半径をRs、最小曲率に対
応する曲率半径をRmとする。これら最大曲率および最
小曲率は、反射面の互いに直交する対称面に関連する。
即ち上記2つの対称面は、反射面光軸を含んで互いに直
交するが、一方の対称面(仮に、最大曲率対称面と呼
ぶ)と反射面との交線の曲率半径は、光軸と反射面との
交点において上記Rsであり、他方の対称面(最小曲率
対称面と呼ぶ)と反射面との交線の曲率半径は、光軸と
反射面との交点において上記Rmである。
明するための図である。結像ミラー系6の反射面は以下
のように特定される。即ち、結像ミラー系6の反射面の
光軸と反射面との交点の位置において反射面の曲率を考
え、最大曲率に対応する曲率半径をRs、最小曲率に対
応する曲率半径をRmとする。これら最大曲率および最
小曲率は、反射面の互いに直交する対称面に関連する。
即ち上記2つの対称面は、反射面光軸を含んで互いに直
交するが、一方の対称面(仮に、最大曲率対称面と呼
ぶ)と反射面との交線の曲率半径は、光軸と反射面との
交点において上記Rsであり、他方の対称面(最小曲率
対称面と呼ぶ)と反射面との交線の曲率半径は、光軸と
反射面との交点において上記Rmである。
【0027】上記最小曲率対称面と反射面との交線(図
3において破線で示す)は、光軸方向の座標をX、上記
交点を原点とし最小曲率対称面内で光軸と直交する方向
の座標をYとするときに、円錐定数をKとして、一般
式: X=Y2/[Rm+√{Rm2−(1+K)Y2}] (1) で表される曲線である。図3において軸Ax1は、光軸
上で上記交点から曲率半径Rmだけ離れた位置におい
て、最小曲率対称面に直交させた軸である。また軸Ax
2は、最小曲率対称面内において、上記交点から曲率半
径Rsだけ離れた位置で光軸に直交させた軸である。
3において破線で示す)は、光軸方向の座標をX、上記
交点を原点とし最小曲率対称面内で光軸と直交する方向
の座標をYとするときに、円錐定数をKとして、一般
式: X=Y2/[Rm+√{Rm2−(1+K)Y2}] (1) で表される曲線である。図3において軸Ax1は、光軸
上で上記交点から曲率半径Rmだけ離れた位置におい
て、最小曲率対称面に直交させた軸である。また軸Ax
2は、最小曲率対称面内において、上記交点から曲率半
径Rsだけ離れた位置で光軸に直交させた軸である。
【0028】結像ミラー系6の反射面の形状は、(1)
式で表される曲線(図3の破線)を軸Ax2の回りに回
転して得られるアナモフィックな非球面形状(樽型トー
リック面)であり、結像ミラー系6は、軸Ax2の方向
を主走査対応方向に平行にして用いられる。
式で表される曲線(図3の破線)を軸Ax2の回りに回
転して得られるアナモフィックな非球面形状(樽型トー
リック面)であり、結像ミラー系6は、軸Ax2の方向
を主走査対応方向に平行にして用いられる。
【0029】図4はシリンダーレンズ系3を光軸方向に
変位調整する変位調整機構の1例を示している。シリン
ダーレンズ系3は固定手段13により移動ステージ14
上に固定されている。移動ステージ14は支持体12の
溝15に嵌まり合い、光軸16の方向へ変位可能であ
り、装置の不動部材に固定的に設けられた螺子受け11
に螺装された調整螺子9により光軸16の方向へ変位調
整されるようになっている。従って、調整螺子9のノブ
10を回転調整することにより、シリンダーレンズ系3
を光軸方向へ変位調整することができる。
変位調整する変位調整機構の1例を示している。シリン
ダーレンズ系3は固定手段13により移動ステージ14
上に固定されている。移動ステージ14は支持体12の
溝15に嵌まり合い、光軸16の方向へ変位可能であ
り、装置の不動部材に固定的に設けられた螺子受け11
に螺装された調整螺子9により光軸16の方向へ変位調
整されるようになっている。従って、調整螺子9のノブ
10を回転調整することにより、シリンダーレンズ系3
を光軸方向へ変位調整することができる。
【0030】以下、上記実施例に関する具体的な光学配
置を4例説明する。図5(光源1から被走査面7’に到
る光路を示す模式図)に示すように、各具体例におい
て、シリンダーレンズ系3の主走査対応方向の曲率半径
を光源側レンズ面に就きR1S、偏向反射面側レンズ面に
就きR2S、副走査対応方向の曲率半径を光源側レンズ面
に就きR1M、偏向反射面側レンズ面に就きR2M、結像ミ
ラー系6の反射面の主走査対応方向に関する光軸上曲率
半径をRm、円錐定数をK、副走査対応方向の曲率半径
をRsとし、偏向反射面4’から結像ミラー系6の反射
面までの距離をd0、上記反射面から被走査面7’に到
る距離をd1とする。またシリンダーレンズ系3の肉厚
をd2、屈折率をnとし、シリンダーレンズ系3と偏向
反射面4’との面間隔をd3とする。
置を4例説明する。図5(光源1から被走査面7’に到
る光路を示す模式図)に示すように、各具体例におい
て、シリンダーレンズ系3の主走査対応方向の曲率半径
を光源側レンズ面に就きR1S、偏向反射面側レンズ面に
就きR2S、副走査対応方向の曲率半径を光源側レンズ面
に就きR1M、偏向反射面側レンズ面に就きR2M、結像ミ
ラー系6の反射面の主走査対応方向に関する光軸上曲率
半径をRm、円錐定数をK、副走査対応方向の曲率半径
をRsとし、偏向反射面4’から結像ミラー系6の反射
面までの距離をd0、上記反射面から被走査面7’に到
る距離をd1とする。またシリンダーレンズ系3の肉厚
をd2、屈折率をnとし、シリンダーレンズ系3と偏向
反射面4’との面間隔をd3とする。
【0031】また、S0は結像ミラー系6による主走査
対応方向の結像における物点の位置(反射面からの距
離)を表し、この物点が反射面の手前側(光路上で光源
側)にある場合を負とする。全具体例を通じて光偏向器
4による偏向角は±50度であり、主走査対応方向に関
する結像ミラー系6の焦点距離を100として規格化し
てある。
対応方向の結像における物点の位置(反射面からの距
離)を表し、この物点が反射面の手前側(光路上で光源
側)にある場合を負とする。全具体例を通じて光偏向器
4による偏向角は±50度であり、主走査対応方向に関
する結像ミラー系6の焦点距離を100として規格化し
てある。
【0032】最初に挙げる具体例1では、カップリング
レンズ3を射出した光束が収束性であり、光束は主走査
対応方向に関しては収束性のまま偏向反射面に入射す
る。このとき上記物点は上記収束光束の「自然集光点」
即ち、収束光束が他の光学系の影響を受けずに光路上で
自然に集光する位置であり、具体例1では結像ミラー系
6の後方に位置するため上記S0は「正」となる。
レンズ3を射出した光束が収束性であり、光束は主走査
対応方向に関しては収束性のまま偏向反射面に入射す
る。このとき上記物点は上記収束光束の「自然集光点」
即ち、収束光束が他の光学系の影響を受けずに光路上で
自然に集光する位置であり、具体例1では結像ミラー系
6の後方に位置するため上記S0は「正」となる。
【0033】具体例1 R1M=∞ R1S=19.468 d2=3.632 n=1.51118 R2M=∞ R2S=∞ d3=32.228 S0=285.769 d0=60.385 Rm=−200 Rs=−66.830 d1=74.077 K=−0.4 図6に像面湾曲(破線は主走査対応方向、実線は副走査
対応方向)と走査特性の図を示す。走査特性は、偏向
角:θに対する理想像高をHi(θ)、実際の像高をHr
(θ)とするとき、[{Hr(θ)/Hi(θ)}-1]×100(%)で定
義され、fθレンズに関して定義されるfθ特性に相当
する。
対応方向)と走査特性の図を示す。走査特性は、偏向
角:θに対する理想像高をHi(θ)、実際の像高をHr
(θ)とするとき、[{Hr(θ)/Hi(θ)}-1]×100(%)で定
義され、fθレンズに関して定義されるfθ特性に相当
する。
【0034】図7は、具体例1における結像ミラー系6
の製造誤差で、Rsの値、−65.377になってしま
った場合の像面湾曲を示している。この製造誤差により
副走査対応方向の結像位置は光軸方向に移動して結像性
能が低下するが、シリンダーレンズ3を光軸方向へ変位
させて線像の結像位置を調整することにより、図8に示
すように、略設計通りの結像性能を実現できる。このと
き、d3の値は、29.686で、シリンダーレンズ系
3は偏向反射面方向へ2.592だけ変位している。
の製造誤差で、Rsの値、−65.377になってしま
った場合の像面湾曲を示している。この製造誤差により
副走査対応方向の結像位置は光軸方向に移動して結像性
能が低下するが、シリンダーレンズ3を光軸方向へ変位
させて線像の結像位置を調整することにより、図8に示
すように、略設計通りの結像性能を実現できる。このと
き、d3の値は、29.686で、シリンダーレンズ系
3は偏向反射面方向へ2.592だけ変位している。
【0035】具体例2 R1M=∞ R1S=20.655 d2=3.854 n=1.51118 R2M=∞ R2S=∞ d3=35.324 S0=498.960 d0=65.973 Rm=−200 Rs=−75.530 d1=83.305 K=−1.0 この具体例でもS0の値から明らかなように、偏向光束
は主走査対応方向に関して収束性である。この例の像面
湾曲と走査特性を図9に示す。
は主走査対応方向に関して収束性である。この例の像面
湾曲と走査特性を図9に示す。
【0036】具体例3 R1M=∞ R1S=21.278 d2=3.970 n=1.51118 R2M=∞ R2S=∞ d3=38.984 S0=∞ d0=63.517 Rm=−200 Rs=−77.888 d1=100.126 K=−0.5 この具体例ではS0の値から明らかなように、偏向光束
は主走査対応方向に関して平行である。この例の像面湾
曲と走査特性を図10に示す。
は主走査対応方向に関して平行である。この例の像面湾
曲と走査特性を図10に示す。
【0037】具体例4 R1M=∞ R1S=21.922 d2=4.090 n=1.51118 R2M=∞ R2S=∞ d3=41.197 S0=−1959.100 d0=61.350 Rm=−200 Rs=−78.282 d1=105.379 K=−0.9 この具体例ではS0が負となっていることから明らかな
ように、偏向光束は主走査対応方向に関して発散性であ
り、結像ミラー系6の結像における主走査対応方向に関
する「物点」は、カップリングレンズ2から射出する発散
光束の仮想的な「発散の起点」である。この例の像面湾
曲と走査特性を図10に示す。
ように、偏向光束は主走査対応方向に関して発散性であ
り、結像ミラー系6の結像における主走査対応方向に関
する「物点」は、カップリングレンズ2から射出する発散
光束の仮想的な「発散の起点」である。この例の像面湾
曲と走査特性を図10に示す。
【0038】これら具体例2〜4の場合にも、製造誤差
や組付け誤差により副走査対応方向の結像位置がずれた
場合には、シリンダーレンズ系3の光軸方向への変位に
より略、図9〜11に示す設計通りの像面湾曲(結像特
性)を実現できる。
や組付け誤差により副走査対応方向の結像位置がずれた
場合には、シリンダーレンズ系3の光軸方向への変位に
より略、図9〜11に示す設計通りの像面湾曲(結像特
性)を実現できる。
【0039】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
光走査装置を提供できる。請求項1記載の光走査装置は
上記の如き構成であるので、光学系の製造誤差や組付け
誤差に起因する副走査対応方向の光スポット径の誤差を
補正できる。請求項2の装置では上記誤差の補正ととも
に面倒れを補正してジッターの発生を防止できる。請求
項3記載の装置では非球面の使用により収差補正を良好
に行うことができる。請求項4記載の装置では偏向反射
面と結像ミラー系の間隔を短く設定でき、装置のコンパ
クト化が可能であり、請求項5記載の装置では逆に偏向
反射面と結像ミラー系の間隔が大きくなるので光学系の
レイアウトや配設が容易になる。さらに請求項6記載の
装置では、光源装置とシリンダーレンズ系との間隔を自
由に設定でき、装置のレイアウトが容易になる。
光走査装置を提供できる。請求項1記載の光走査装置は
上記の如き構成であるので、光学系の製造誤差や組付け
誤差に起因する副走査対応方向の光スポット径の誤差を
補正できる。請求項2の装置では上記誤差の補正ととも
に面倒れを補正してジッターの発生を防止できる。請求
項3記載の装置では非球面の使用により収差補正を良好
に行うことができる。請求項4記載の装置では偏向反射
面と結像ミラー系の間隔を短く設定でき、装置のコンパ
クト化が可能であり、請求項5記載の装置では逆に偏向
反射面と結像ミラー系の間隔が大きくなるので光学系の
レイアウトや配設が容易になる。さらに請求項6記載の
装置では、光源装置とシリンダーレンズ系との間隔を自
由に設定でき、装置のレイアウトが容易になる。
【図1】この発明の1実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図2】光偏向器から被走査面にいたる光学配置を3例
示す図である。
示す図である。
【図3】図1の実施例における結像ミラー系6の反射面
の非球面形状を説明するための図である。
の非球面形状を説明するための図である。
【図4】シリンダーレンズ系を変位調整する調整機構の
1例を示す斜視図である。
1例を示す斜視図である。
【図5】上記実施例に関する1具体例を説明するための
図である。
図である。
【図6】具体例1に関する像面湾曲と走査特性を示す図
である。
である。
【図7】具体例1において製造誤差が生じたときの像面
湾曲の図である。
湾曲の図である。
【図8】図8の像面湾曲をシリンダーレンズ系の変位で
補正した図である。
補正した図である。
【図9】具体例2に関する像面湾曲と走査特性を示す図
である。
である。
【図10】具体例3に関する像面湾曲と走査特性を示す
図である。
図である。
【図11】具体例4に関する像面湾曲と走査特性を示す
図である。
図である。
1 光源 2 カップリングレンズ 3
シリンダーレンズ系 4 光偏向器 5 長尺ミラー 6
結像ミラー系 7感光体
シリンダーレンズ系 4 光偏向器 5 長尺ミラー 6
結像ミラー系 7感光体
Claims (6)
- 【請求項1】光走査用の光束を放射する光源装置と、 光源装置からの光束を副走査対応方向にのみ収束させ、
主走査対応方向に長い線像として結像させるシリンダー
レンズ系と、 このシリンダーレンズ系からの光束を偏向反射面により
反射し、偏向光束として等角速度的に偏向させる光偏向
器と、 偏向光束を被走査面上に光スポットとして集光させ、且
つ上記光スポットによる光走査を等速化する結像ミラー
系と、 上記シリンダーレンズ系の光軸方向の位置を変位調整す
る調整機構とを有することを特徴とする光走査装置。 - 【請求項2】請求項1記載の光走査装置において、 主走査対応方向に長い線像が光偏向器の偏向反射面近傍
に結像するようにシリンダーレンズ系の位置が設定さ
れ、 結像ミラー系は、副走査対応方向に関して、偏向反射面
位置と被走査面位置とを幾何光学的に略共役な関係とす
るように構成されていることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項3】請求項1または2記載の光走査装置におい
て、 結像ミラー系が、アナモフィックな単一の凹面鏡であ
り、反射面形状が非球面であることを特徴とする光走査
装置。 - 【請求項4】請求項1または2または3記載の光走査装
置において、 光偏向器の偏向反射面に入射する光束が、主走査対応方
向において収束性であることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項5】請求項1または2または3記載の光走査装
置において、 光偏向器の偏向反射面に入射する光束が、主走査対応方
向において発散性であることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項6】請求項1または2または3記載の光走査装
置において、 光源装置から射出する光束が平行光束であることを特徴
とする光偏向装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4198859A JPH0643370A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光走査装置 |
| US08/418,157 US5475522A (en) | 1992-07-24 | 1995-04-06 | Optical scanner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4198859A JPH0643370A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643370A true JPH0643370A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16398110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4198859A Pending JPH0643370A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光走査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5475522A (ja) |
| JP (1) | JPH0643370A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014134627A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Sharp Corp | 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置 |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5812298A (en) * | 1994-11-24 | 1998-09-22 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Aspherical reflector and light beam scanning optical system using the same |
| JP3323354B2 (ja) * | 1995-03-23 | 2002-09-09 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| US5835253A (en) * | 1995-10-06 | 1998-11-10 | Xerox Corporation | Raster output scanning system with a super-elliptic laser beam source |
| JP3856881B2 (ja) * | 1996-05-17 | 2006-12-13 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| US6057537A (en) * | 1997-09-29 | 2000-05-02 | Eastman Kodak Company | Optical scanner feedback system having a reflected cylinder lens |
| US6417509B1 (en) | 1999-03-23 | 2002-07-09 | Ricoh Technology Research, Inc. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
| JP3850589B2 (ja) | 1999-07-09 | 2006-11-29 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
| US6509995B1 (en) | 1999-09-01 | 2003-01-21 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device, line-image forming optical system therein, imaging adjustment method in the device and image forming apparatus |
| JP3508919B2 (ja) | 1999-10-05 | 2004-03-22 | 株式会社リコー | 走査光学系・光走査装置および画像形成装置 |
| US6785028B1 (en) | 1999-11-24 | 2004-08-31 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device having a temperature compensation unit |
| JP3504899B2 (ja) * | 1999-11-29 | 2004-03-08 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| US6932271B2 (en) * | 2000-01-27 | 2005-08-23 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scan module, optical scanner, optical scan method, image generator and image reader |
| US6490072B2 (en) | 2001-01-12 | 2002-12-03 | Lexmark International, Inc. | Mirror angle adjustment and mounting system for a laser scanner device |
| JP3483141B2 (ja) | 2001-01-19 | 2004-01-06 | 株式会社リコー | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 |
| JP2004012568A (ja) * | 2002-06-04 | 2004-01-15 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光走査装置 |
| US7450274B2 (en) * | 2003-05-07 | 2008-11-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus, image forming apparatus, and beam positioning method |
| US7106483B2 (en) * | 2003-06-12 | 2006-09-12 | Ricoh Company, Limited | Optical scanner and image forming apparatus |
| US7271823B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-09-18 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming apparatus |
| JP4675247B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2011-04-20 | 株式会社リコー | 走査光学系、光走査装置及び画像形成装置 |
| US7876486B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-01-25 | Ricoh Company, Limited | Optical scanning apparatus, optical writing apparatus, and image forming apparatus |
| JP2009053401A (ja) | 2007-08-27 | 2009-03-12 | Ricoh Co Ltd | 長尺光学素子の保持機構、光走査装置および画像形成装置 |
| JP5050264B2 (ja) * | 2007-09-14 | 2012-10-17 | 株式会社リコー | ズームレンズおよび撮像装置 |
| US7719773B2 (en) * | 2007-11-12 | 2010-05-18 | Ricoh Company, Ltd. | Zoom lens unit and imaging apparatus |
| JP5352990B2 (ja) * | 2007-11-22 | 2013-11-27 | 株式会社リコー | ズームレンズおよびカメラ装置および携帯情報端末装置 |
| US7864443B2 (en) * | 2007-12-07 | 2011-01-04 | Ricoh Company, Ltd. | Zoom lens, imaging apparatus, and personal data assistant |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0727125B2 (ja) * | 1986-05-23 | 1995-03-29 | 株式会社日立製作所 | 光走査装置 |
| DE3854680T2 (de) * | 1987-04-24 | 1996-04-18 | Dainippon Screen Mfg | Optisches System für ein Lichtpunktabtastgerät. |
| US5162938A (en) * | 1987-08-26 | 1992-11-10 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Light scanning system |
| JPH0215231A (ja) * | 1988-07-04 | 1990-01-18 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 走査光学系 |
| US5054866A (en) * | 1988-12-29 | 1991-10-08 | Ricoh Company, Ltd. | Scanning optical apparatus |
| JPH0364726A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Minolta Camera Co Ltd | 光ビーム走査光学系 |
| JPH0453213U (ja) * | 1990-09-11 | 1992-05-07 | ||
| US5331343A (en) * | 1990-11-13 | 1994-07-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Optical apparatus with improved lens mounting device |
| JP3157550B2 (ja) * | 1991-02-28 | 2001-04-16 | 株式会社リコー | 等速光走査用結像反射鏡および光走査装置 |
| US5257125A (en) * | 1991-11-27 | 1993-10-26 | Xerox Corporation | Afocal optical system for focus error correction in laser scanning systems |
-
1992
- 1992-07-24 JP JP4198859A patent/JPH0643370A/ja active Pending
-
1995
- 1995-04-06 US US08/418,157 patent/US5475522A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014134627A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Sharp Corp | 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5475522A (en) | 1995-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0643370A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3337510B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH06118325A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3343418B2 (ja) | 光走査装置 | |
| CN101784939A (zh) | 多光束扫描装置 | |
| JPH1138348A (ja) | 走査結像光学系および光走査装置 | |
| JPH0519202A (ja) | 光ビ−ム走査光学装置 | |
| JP3104618B2 (ja) | 光学走査装置及び光学レンズ | |
| JP2002062499A (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2000081584A (ja) | 走査光学装置 | |
| JP3514058B2 (ja) | レーザー走査装置 | |
| JP4219429B2 (ja) | マルチビーム走査結像光学系における結像ミラーの製造方法 | |
| JP2013190794A (ja) | マルチビーム走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ | |
| JP3930409B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH1184304A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH112769A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3558837B2 (ja) | 走査結像光学系および光走査装置 | |
| JPH1152277A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2635604B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP3364525B2 (ja) | 走査結像レンズおよび光走査装置 | |
| JP3558847B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP3386164B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP4445059B2 (ja) | 走査結像レンズおよび光走査装置 | |
| JP3441008B2 (ja) | 走査結像レンズおよび光走査装置 | |
| JPH10253915A (ja) | 光走査装置 |