JPH0643814U - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

薄膜磁気ヘッド

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JPH0643814U
JPH0643814U JP7537992U JP7537992U JPH0643814U JP H0643814 U JPH0643814 U JP H0643814U JP 7537992 U JP7537992 U JP 7537992U JP 7537992 U JP7537992 U JP 7537992U JP H0643814 U JPH0643814 U JP H0643814U
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JP
Japan
Prior art keywords
pole
thin film
film
magnetic
head
Prior art date
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Pending
Application number
JP7537992U
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English (en)
Inventor
正司 佐藤
博 三瓶
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsumi Electric Co Ltd
Original Assignee
Mitsumi Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsumi Electric Co Ltd filed Critical Mitsumi Electric Co Ltd
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Publication of JPH0643814U publication Critical patent/JPH0643814U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本考案はハードディスク装置に搭載される薄
膜磁気ヘッドに関し、製造容易であり、かつ上下ポール
幅を同一に形成することを目的とする。 【構成】 スライダ部22の後方端面にヘッド部23が
形成されることにより薄膜磁気ヘッド21が構成され
る。この場合、スライダ部22よりヘッド部23にかけ
て、下ポール31と上ポール33とを同一幅とする空気
溝24,25が形成される。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、ハードディスク装置に搭載される薄膜磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、コンピュータ、ワードプロセッサ等の記憶装置としてハードディスク ドライブ装置が知られている。このハードディスクドライブ装置を簡単に説明す ると、磁気ヘッドがアームの先端のスプリングアームに取り付けられアクチュエ ータが、ボイスコイルモータ(VCM)により回動駆動され、スピンドルモータ で回転される磁気ディスクの所定トラック上に位置されるものである。
【0003】 この場合、回転する磁気ディスクの周方向に対して空気の流れが発生し、該磁 気ディスクと磁気ヘッドに形成された空気ベアリング面との間に空気の流れが生 じることにより、該磁気ヘッドが浮動し、この浮動状態で磁気記録再生処理を行 うものである。
【0004】 この磁気ヘッドには、バルク型と薄膜型とがある。
【0005】 図3に、従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための図を示す。図3(A)に示す 薄膜磁気ヘッド11は、セラミック等の非磁性材に長手方向の両端に浮動のため の空気ベアリング面12a,12bが形成されたスライダ12における、該空気 ベアリング面12a,12bの後方にヘッド部13a,13bが形成されたもの である。なお、空気ベアリング面12a,12bの前方には、空気ベアリング面 12a,12bにエアを導くための傾斜面12c,12dが形成される。
【0006】 ヘッド部13a,13bは、それぞれ後述する薄膜による上ポール及び下ポー ル、パターンコイル14a,14bにより構成され、該パターンコイル14a, 14bに導通するボンディングパッド15a1 ,15a2 ,16a1 ,16a2 がそれぞれ形成される。
【0007】 この場合、図3(B)に示すように、幅Aの下ポール17上に非磁性材(図示 せず)を介在させて幅Bの上ポール18が形成され、該非磁性材でギャッ(長さ G)19が形成される。
【0008】 ここで、従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程を簡単に説明する。初めに、Al3 −TiC等のセラミックスからなるウェーハ上に、周知のフォトリソグラフィー 技術により所定の形状にパターニングした後、例えばスパッタリング法によりパ ーマロイ等のFe−Ni系合金製の下ポール(下部磁性膜)17を薄膜形成する 。
【0009】 次に、コイルパターン14a,14bを渦巻き状に薄膜形成すると共に、ポー ル17とコイルパターン14a,14bとの間に例えばスパッタリング法によっ てSiO2 等の絶縁物からなる層間絶縁膜を形成する。形成した層間絶縁膜を下 ポール17とコイルパターン14a,14bとの絶縁を保つようパターニングし 、例えばイオンミーリング法によって下ポール19近傍の層間絶縁膜を除去する 。
【0010】 そして、ウェーハ及びポール19上にSiO2 からなるギャップ層19を形成 した後、Fe−Ni系合金製の上コア磁性層を薄膜形成し、ギャップ層19を介 して下ポール17の上部に、下ポール17と同一形状にパターニングして上ポー ル18を形成するものである。
【0011】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、上下ポール17,18及びギャップ層19で形成されるトラック幅 は、上述の一連の薄膜成形工程で形成され、そのトラック幅精度は比較的容易に 得ることができる。ところが、上ポール18を下ポール17と同一の幅に形成し ようとすると、パターニング位置ずれによりトラック幅方向の寸法精度が劣化し て狭くなり、効率的な記録再生を行うことができない。
【0012】 そのため、図3(B)に示すように、上ポール18を下ポール17(幅A)よ り幅方向に少なく(幅B)形成することが行われている。しかし、図3(C)に 示すように上ポール18の外側にも磁界20が生じるフリンジング効果が発生し 、実行トラック幅Cは上ポール18の幅Bより大きくなり、結果的にトラッキン グ精度の低下、エラーレート低下の原因になるという問題がある。
【0013】 そこで、本考案は上記課題に鑑みなされたもので、製造容易であり、かつ上下 ポール幅を同一に形成する薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、コイルパターンにより励磁される下部磁性膜と上部磁性膜とによ りギャップ層を形成させたヘッド部がスライダ部に形成され、記録媒体上で所定 のトラック幅により記録再生を行う薄膜磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部の 所定位置より前記下部磁性膜及び上部磁性膜に、該下部磁性膜及び上部磁性膜を 同一幅にさせる溝が形成されることにより解決される。
【0015】
【作用】
上述のように、スライダ部及び下部磁性膜、上部磁性膜に溝を形成して、該下 部磁性膜及び上部磁性膜を同一幅に形成する。
【0016】 すなわち、スライダ部に形成する下部磁性膜及び上部磁性膜は当初トラック幅 より広く形成して、溝形成で幅規制することにより、パターン合せや露光エッチ ング工程での精度を高くする必要がなく容易に製造を行うことが可能となる。
【0017】 また、下部磁性膜と上部磁性膜が同一幅であることから記録再生におけるフリ ンジング効果を低減することが可能となる。
【0018】
【実施例】
図1に、本考案の一実施例の構成図を示す。図1(A)は全体の斜視図、図1 (B)はヘッド部付近の概略図を示している。
【0019】 図1(A),(B)において、薄膜磁気ヘッド21は、大別してスライダ部2 2及びヘッド部23により構成される。
【0020】 スライダ部22は、セラミックス等からなり、断面「V」字形状の空気溝24 ,25が形成されて、長手方向両端に浮上のための空気ベアリング面26,27 が配設され、中央にセンタレール28が配設される。そして、空気ベアリング面 26,27の前方端には、空気流を空気ベアリング面26,27に導くための傾 斜面29,30が形成される。
【0021】 一方、ヘッド部23は、図1(B)に示すように、スライダ部22のセンター レール28の位置における後方端面に下部磁性膜である下ポール31が形成され 、絶縁膜のギャップ層32を介在させて上部磁性膜である上ポール33が形成さ れる。この下ポール31、ギャップ層32、上ポール33は溝24,25及びセ ンターレール28の断面形状と同様に形成される。すなわち、下ポール31と上 ポール33とは同一幅であり、その幅が実行トラック幅となる。
【0022】 また、図1(A)に戻って説明するに、ヘッド部23は、下ポール31、上ポ ール33を励磁するパターンコイル34が成膜により形成され、該パターンコイ ル34の端部には接続端子としてボンディングパッド35,36が形成される。 このような薄膜磁気ヘッド21の製造工程は、スライダ部23(ウェハ)上に 下ポール31及び上ポール33を形成するまでは、前述の従来の製造工程と同様 である。但し、本考案においては、下ポール31及び上ポール33は、幅方向で 最終的なトラック幅Cより大きく形成される。従って、形成時では下ポール31 及び上ポール33のパターン合せを容易とすることができ、露光エッチング工程 における精度においても高精度とする必要がない。特に。ポール厚が厚くなる程 、精度を必要とするが、本考案では高精度を必要としない。
【0023】 そして、下ポール31と上ポール33の形成後、所望のトラック幅がセンタレ ール28の幅となるように、スライダ部22からヘッド部23(下ポール31及 び上ポール33)にかけて空気溝24,25を形成するものである。すなわち、 この空気溝24,25の形成時に、下ポール31及び上ポール33をも加工して 、下ポール31と上ポール33の幅を同一し、正規のトラック幅まで絞り込むも のである。
【0024】 空気溝24,25の加工形成は、例えば、スライディングマシンやダイシング マシン等の回転磁石を用いた機械的加工又はケミカルドライ等のエッチングによ る加工、又はレーザ加工やレーザアシストエッチング加工等種々の加工により形 成される。
【0025】 このように、下ポール31と上ポール33の幅を容易に同一幅とすることがで き、記録再生におけるフリンジング効果を低減することができる。
【0026】 次に、図2に、本考案の他の実施例の構成図を示す。図2の薄膜磁気ヘッド4 1は、図1における薄膜磁気ヘッド21を同一基板上で連設させたものである。 この場合、さらに空気溝42が形成されて浮動安定を図っている。
【0027】 なお、上記実施例では、空気溝24,25を断面「V」形状とした場合を示し たが、矩形、円弧、台形等の何れの形状としても同様の効果を得ることができる 。また、空気溝24,25はスライダ部22の長手方向全長に亘って形成する場 合を示したが、これに限る必要はなく、少くともヘッド部23付近で形成されて いれば足りるものである。
【0028】
【考案の効果】
以上のように、本考案によれば、下部磁性膜と上部磁性膜とを同一幅とする溝 を形成することにより、製造容易とすることができると共に、記録再生時におけ るフリンジング効果を低減することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例の構成図である。
【図2】本考案の他の実施例の構成図である。
【図3】従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための図であ
る。
【符号の説明】
21 薄膜磁気ヘッド 22 スライダ部 23 ヘッド部 24,25 空気溝 26,27 空気ベアリング面 28 センタレール 29,30 傾斜面 31 下ポール 32 ギャップ層 33 上ポール 34 パターンコイル 35,36 ボンディングパッド

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コイルパターンにより励磁される下部磁
    性膜と上部磁性膜とによりギャップ層を形成させたヘッ
    ド部がスライダ部に形成され、記録媒体上で所定のトラ
    ック幅により記録再生を行う薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記スライダ部の所定位置より前記下部磁性膜及び上部
    磁性膜に、該下部磁性膜及び上部磁性膜を同一幅にさせ
    る溝が形成される構成とする薄膜磁気ヘッド。
JP7537992U 1992-10-29 1992-10-29 薄膜磁気ヘッド Pending JPH0643814U (ja)

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JP7537992U JPH0643814U (ja) 1992-10-29 1992-10-29 薄膜磁気ヘッド

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JP7537992U JPH0643814U (ja) 1992-10-29 1992-10-29 薄膜磁気ヘッド

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JPH0643814U true JPH0643814U (ja) 1994-06-10

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ID=13574510

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JP7537992U Pending JPH0643814U (ja) 1992-10-29 1992-10-29 薄膜磁気ヘッド

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS529416A (en) * 1975-07-14 1977-01-25 Hitachi Ltd Production method of thin film magnetic head
JPH04274008A (ja) * 1991-02-28 1992-09-30 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッド

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS529416A (en) * 1975-07-14 1977-01-25 Hitachi Ltd Production method of thin film magnetic head
JPH04274008A (ja) * 1991-02-28 1992-09-30 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッド

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