JPH0644007U - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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JPH0644007U
JPH0644007U JP8422392U JP8422392U JPH0644007U JP H0644007 U JPH0644007 U JP H0644007U JP 8422392 U JP8422392 U JP 8422392U JP 8422392 U JP8422392 U JP 8422392U JP H0644007 U JPH0644007 U JP H0644007U
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JP
Japan
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powder
powder container
container
stirring blade
metal
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Pending
Application number
JP8422392U
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English (en)
Inventor
喜之 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0644007U publication Critical patent/JPH0644007U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 粉体に万遍無くイオン注入を行うことがで
き、かつイオン注入に伴う粉体の正電荷を万遍無く中和
して粉体の飛散を確実に防止することができるイオン注
入装置を提供する。 【構成】 イオンビーム2を照射してイオン注入を行う
粉体8を入れる粉体容器6内に、複数の金属球28を収
納している。また粉体容器6内に、粉体8を金属球28
と共に攪拌する金属製の攪拌羽根30を設けている。更
にこの攪拌羽根30を粉体容器6とは逆方向に回転させ
る攪拌羽根回転装置36を設けている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案は、真空雰囲気中で粉体にイオン注入を行うイオン注入装置に関し、 より具体的には、粉体に万遍無くイオン注入を行うと共に、粉体の帯電による飛 散を防止する手段に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種のイオン注入装置の従来例を図2に示す。このイオン注入装置は、基本 的には、金属製の粉体容器6内に入れられた粉体8に真空雰囲気中でイオンビー ム2を照射して当該粉体8にイオン注入を行うものであるが、その際、粉体8に できるだけ万遍無くイオン注入を行うために、粉体容器回転装置10で粉体容器 6を例えば矢印A方向に回転させるようにしている。
【0003】 粉体容器6の上流側には、この例では、イオンビーム2が粉体容器6等に当た った際に放出される二次電子がアースへ逃げるのを防止してビーム電流計測器2 6によるイオンビーム2のビーム電流計測を正確に行うためのファラデーボック ス4が設けられている。
【0004】 また、イオン注入に伴って粉体8が、特にそれが絶縁物から成る場合、正に帯 電(チャージアップ)して互いの電荷で反発して飛散するのを防止するために、 次のような電子供給手段を設けている。即ち、ファラデーボックス4の側壁部に フィラメント14を有する電子銃12を設け、これから引き出した一次電子21 をファラデーボックス4の側壁に当ててそこから二次電子22を放出させ、これ を粉体容器6内の粉体8に浴びせて粉体8のイオンビーム照射に伴う正電荷を中 和させるようにしている。16はフィラメント14を加熱するフィラメント電源 、18は一次電子21を引き出す引出し電源である。
【0005】 また、粉体容器6とファラデーボックス4間には、粉体容器6にファラデーボ ックス4に対し正電圧を印加する直流電源24を接続して、二次電子22を粉体 容器6内へ引き込むようにしている。25はブラシのようなものである。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところが、上記イオン注入装置においては、粉体容器6を単に回転させるだけ であるので、粉体容器6内での粉体8の攪拌が不十分であり、そのため表層部の 粉体8に主としてイオン注入が行われるため、粉体8に万遍無くイオン注入を行 うことができないという問題がある。
【0007】 また、粉体容器6内の粉体8に単に二次電子22を浴びせるだけでは、どうし ても二次電子22の浴びせ方に偏りが生じるため、粉体8を万遍無く中性化する のが難しく、そのため、中性化されずに残った正電荷による反発によって粉体8 が飛散するという問題がある。
【0008】 そこでこの考案は、粉体に万遍無くイオン注入を行うことができ、かつイオン 注入に伴う粉体の正電荷を万遍無く中和して粉体の飛散を確実に防止することが できるイオン注入装置を提供することを主たる目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この考案のイオン注入装置は、前述したような粉体 容器内に複数の金属球を収納し、かつ同粉体容器内に、粉体を金属球と共に攪拌 する金属製の攪拌羽根であって粉体容器と同電位のものを設け、更にこの攪拌羽 根を粉体容器とは逆方向に回転させる攪拌羽根回転装置を設けたことを特徴とす る。
【0010】
【作用】
上記構成によれば、粉体容器内に攪拌羽根を設け、しかもこれを粉体容器とは 逆方向に回転させるようにしているので、イオン注入中に、粉体容器内の粉体を 万遍無く攪拌することができる。その結果、粉体に万遍無くイオン注入を行うこ とができる。
【0011】 しかも、粉体容器内に複数の金属球を収納していて、この金属球は攪拌羽根に よる攪拌に伴って金属球同士、攪拌羽根あるいは粉体容器に接触するので、この 金属球を介してイオンビーム照射に伴う粉体の正電荷を粉体容器へ逃がすことが でき、それによって粉体に帯電する正電荷自体を減少させることができる。また 、上記のように接触することによって金属球は粉体容器とほぼ同電位になり、し かも攪拌によって金属球は粉体容器内に万遍無く存在するようになるので、この 金属球に向けて電子供給手段からの電子が万遍無く引き込まれるようになり、こ の電子による粉体の正電荷の中和が万遍無く行われるようになる。これらの作用 が相俟って、イオン注入に伴う粉体の正電荷を万遍無く中和することができ、従 って粉体の飛散を確実に防止することができる。
【0012】
【実施例】
図1は、この考案の一実施例に係るイオン注入装置を示す断面図である。図2 の従来例と同一または相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従 来例との相違点を主に説明する。
【0013】 この実施例においては、前述したような粉体容器6内に複数の金属球28を収 納している。また、粉体容器6内に、粉体8をこの金属球28と共に攪拌する金 属製の攪拌羽根30を設けている。更に、この攪拌羽根30を粉体容器6とは逆 方向に回転させる攪拌羽根回転装置36を設けている。図1中の矢印AおよびB はそれぞれ粉体容器6および攪拌羽根30の回転方向の例を示す。
【0014】 金属球28の大きさや数は、粉体容器6の大きさやその中に入れる粉体8の量 等によって異なる。金属球28の数が多いほど、粉体8の帯電を防止する効果は 大きくなるが、処理できる粉体8の量が減ってしまう。従って両者の兼ね合いに なるが、一例を示せば、粉体容器6の内径および高さがそれぞれ約10cmでそ の中に粉体8を1/3ないし1/2程度入れる場合は、直径が約5mmの金属球 28を10〜15個入れれば良い。
【0015】 攪拌羽根30は、粉体容器6と電気的に接続された状態にして、粉体容器6と 同電位になるようにしている。
【0016】 攪拌羽根回転装置36は、この実施例では、粉体容器6を貫通して攪拌羽根3 0に接続された回転軸32およびそれを回転させるモータ34から成る。
【0017】 またこの実施例では、粉体容器6を矢印Aのように回転させる粉体容器回転装 置48を、粉体容器6に接続されておりかつ前記回転軸32が中を貫通している 回転軸38、それに接続されたプーリ40、駆動用のモータ46、その回転軸に 接続されたプーリ42、および両プーリ40、42間に懸け渡されたベルト44 によって構成している。
【0018】 更にこの実施例では、攪拌羽根30による粉体8および金属球28の攪拌をよ り効果的に行えるようにするために、全体を斜めに傾けている。
【0019】 このイオン注入装置においては、粉体容器6および攪拌羽根30を矢印Aおよ びBのようにそれぞれ回転させながら、粉体容器6内の粉体8にイオンビーム2 を照射すると同時に二次電子22を浴びせる。
【0020】 その際、従来のように単に粉体容器6を回転させるのと違って、この実施例で は粉体容器6内に攪拌羽根30を設け、しかもこれを粉体容器6とは逆方向に回 転させるようにしているので、イオン注入中に、粉体容器6内の粉体8を万遍無 く攪拌することができる。その結果、粉体8に万遍無くイオン注入を行うことが できる。
【0021】 しかも、粉体8の帯電防止について言えば、次のような二つの作用が同時に行 われる。
【0022】 粉体容器6内に複数の金属球28を収納していて、この金属球28は攪拌 羽根30による攪拌に伴って金属球28同士、攪拌羽根30あるいは粉体容器6 に接触するので、この金属球28を介してイオンビーム照射に伴う粉体8の正電 荷を粉体容器6へ逃がすことができ、それによって粉体8に帯電する正電荷自体 を減少させることができる。
【0023】 上記のように接触することによって金属球28は粉体容器6とほぼ同電位 になり、しかも攪拌によって金属球28は粉体8内に万遍無く存在するようにな るので、この金属球28に向けて、ファラデーボックス4から放出された二次電 子22が万遍無く引き込まれるようになり、この二次電子22による粉体8の正 電荷の中和が万遍無く行われるようになる。
【0024】 その結果、上記およびのような作用が相俟って、イオン注入に伴う粉体8 の正電荷を万遍無く中和することができ、従って粉体8の飛散を確実に防止する ことができる。
【0025】 その結果、例えば、粉体8に対して長時間イオン注入を行うことによる高ドー ズ注入が可能になる。
【0026】 なお、上記例のように電子銃12から引き出した一次電子21をファラデーボ ックス4の側壁に当ててそこから二次電子22を放出させるようにしているのは 、粉体8にできるだけ低エネルギーの電子を供給することによって電子による粉 体8の負帯電を防止するためであるが、勿論、上記以外の電子供給手段によって 、低エネルギーの電子を粉体8に浴びせるようにしても良い。
【0027】
【考案の効果】
以上のようにこの考案によれば、粉体容器内に攪拌羽根を設け、しかもこれを 粉体容器とは逆方向に回転させるようにしているので、イオン注入中に、粉体容 器内の粉体を万遍無く攪拌することができる。その結果、粉体に万遍無くイオン 注入を行うことができる。
【0028】 しかも、粉体容器内に複数の金属球を収納していて、この金属球は攪拌羽根に よる攪拌に伴って金属球同士、攪拌羽根あるいは粉体容器に接触するので、この 金属球を介してイオンビーム照射に伴う粉体の正電荷を粉体容器へ逃がすことが でき、それによって粉体に帯電する正電荷自体を減少させることができる。また 、上記のように接触することによって金属球は粉体容器とほぼ同電位になり、し かも攪拌によって金属球は粉体容器内に万遍無く存在するようになるので、この 金属球に向けて電子供給手段からの電子が万遍無く引き込まれるようになり、こ の電子による粉体の正電荷の中和が万遍無く行われるようになる。これらの作用 が相俟って、イオン注入に伴う粉体の正電荷を万遍無く中和することができ、従 って粉体の飛散を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案の一実施例に係るイオン注入装置を示
す断面図である。
【図2】従来のイオン注入装置の一例を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
2 イオンビーム 4 ファラデーボックス 6 粉体容器 8 粉体 12 電子銃 21 一次電子 22 二次電子 24 直流電源 28 金属球 30 攪拌羽根 36 攪拌羽根回転装置 48 粉体容器回転装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/265

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉体を入れる金属製の粉体容器と、この
    粉体容器を回転させる粉体容器回転装置と、粉体容器内
    の粉体に電子を浴びせる電子供給手段と、粉体容器に電
    子供給手段に対して正電圧を印加する直流電源とを備
    え、粉体容器内に入れられた粉体に真空雰囲気中でイオ
    ンビームを照射してイオン注入を行うイオン注入装置に
    おいて、前記粉体容器内に複数の金属球を収納し、かつ
    同粉体容器内に、粉体を金属球と共に攪拌する金属製の
    攪拌羽根であって粉体容器と同電位のものを設け、更に
    この攪拌羽根を粉体容器とは逆方向に回転させる攪拌羽
    根回転装置を設けたことを特徴とするイオン注入装置。
JP8422392U 1992-11-12 1992-11-12 イオン注入装置 Pending JPH0644007U (ja)

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JP8422392U JPH0644007U (ja) 1992-11-12 1992-11-12 イオン注入装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101272844B1 (ko) * 2011-01-31 2013-06-11 한국기초과학지원연구원 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅장치 및 코팅방법
JP2016089271A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 煙台首鋼磁性材料株式有限公司 ネオジム鉄ボロン系磁石の表面真空コーティング方法及び真空コーティング装置
JP2021526965A (ja) * 2018-06-12 2021-10-11 エージーシー グラス ユーロップAgc Glass Europe 触媒ナノ粒子、触媒表面及び/又は触媒を調製する方法

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