JPH0644607A - 光テープ用積層ポリエステルフィルム - Google Patents
光テープ用積層ポリエステルフィルムInfo
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学記録特性に優れた光テープを提供する。
【構成】 表面硬度H以上でかつ表面の中心線平均粗さ
(RaA )が0.005μm以下の活性エネルギー線硬
化層を有する積層ポリエステルフィルムであり、ポリエ
ステルフィルム露出面の中心線平均粗さ(RaB )が
0.005〜0.3μmであることを特徴とする光テー
プ用積層ポリエステルフィルム。
(RaA )が0.005μm以下の活性エネルギー線硬
化層を有する積層ポリエステルフィルムであり、ポリエ
ステルフィルム露出面の中心線平均粗さ(RaB )が
0.005〜0.3μmであることを特徴とする光テー
プ用積層ポリエステルフィルム。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光の照射により情報を
記録、再生する光テープの基材として使用される積層ポ
リエステルフィルムに関するものである。
記録、再生する光テープの基材として使用される積層ポ
リエステルフィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、情報記録の高密度化、ディジタル化が進むにつれて
種々の情報記録再生方式の開発が進められている。特に
光学式記録再生システムを利用した方式が有力とみられ
ている。例えば、基材となるプラスチックフィルム上に
Te−As−Seの金属膜を設けたものなどの光テープ
が報告されているが、その基材については一長一短があ
り実使用上良好なものが得られなかった。
年、情報記録の高密度化、ディジタル化が進むにつれて
種々の情報記録再生方式の開発が進められている。特に
光学式記録再生システムを利用した方式が有力とみられ
ている。例えば、基材となるプラスチックフィルム上に
Te−As−Seの金属膜を設けたものなどの光テープ
が報告されているが、その基材については一長一短があ
り実使用上良好なものが得られなかった。
【0003】例えば、従来の平坦な二軸延伸ポリエステ
ルフィルムを基材として用い光テープを製造した場合、
フィルムの滑りが悪く作業性に劣り、製造工程中にスリ
傷等の欠陥が生じやすく、光テープの光記録特性に悪影
響を及ぼすという問題があった。
ルフィルムを基材として用い光テープを製造した場合、
フィルムの滑りが悪く作業性に劣り、製造工程中にスリ
傷等の欠陥が生じやすく、光テープの光記録特性に悪影
響を及ぼすという問題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み、鋭意検討した結果、ある特定の積層ポリエステ
ルフィルムが光テープの基材として優れた特性を有する
ことを見いだし、本発明を完成するに至った。すなわち
本発明の要旨は、表面硬度H以上でかつ表面の中心線平
均粗さ(Ra A )が0.005μm以下の活性エネルギ
ー線硬化層を有する積層ポリエステルフィルムであり、
ポリエステルフィルム露出面の中心線平均粗さ(R
aB )が0.005〜0.3μmであることを特徴とす
る光テープ用積層ポリエステルフィルムに存する。
に鑑み、鋭意検討した結果、ある特定の積層ポリエステ
ルフィルムが光テープの基材として優れた特性を有する
ことを見いだし、本発明を完成するに至った。すなわち
本発明の要旨は、表面硬度H以上でかつ表面の中心線平
均粗さ(Ra A )が0.005μm以下の活性エネルギ
ー線硬化層を有する積層ポリエステルフィルムであり、
ポリエステルフィルム露出面の中心線平均粗さ(R
aB )が0.005〜0.3μmであることを特徴とす
る光テープ用積層ポリエステルフィルムに存する。
【0005】以下、本発明をさらに詳細に説明する。本
発明でいうポリエステルとは、その構成単位の80モル
%以上がエチレンテレフタレートであるポリエステルテ
レフタレート、その構成単位の80モル%以上がエチレ
ンナフタレートであるポリエチレンナフタレート、ある
いは、その構成単位の80モル%が1,4−シクロヘキ
サンジメチレンテレフタレートであるポリ−1,4−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレートを指す。
発明でいうポリエステルとは、その構成単位の80モル
%以上がエチレンテレフタレートであるポリエステルテ
レフタレート、その構成単位の80モル%以上がエチレ
ンナフタレートであるポリエチレンナフタレート、ある
いは、その構成単位の80モル%が1,4−シクロヘキ
サンジメチレンテレフタレートであるポリ−1,4−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレートを指す。
【0006】上記の優位構成成分以外の共重合成分とし
ては、例えば、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコールなどのジオール成
分、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、
5−ソジウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、アゼラ
イン酸、セバシン酸およびそのエステル形成性誘導体な
どのジカルボン酸成分、オキシ安息香酸およびそのエス
テル形成性誘導体などのオキシモノカルボン酸などを用
いることができる。
ては、例えば、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコールなどのジオール成
分、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、
5−ソジウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、アゼラ
イン酸、セバシン酸およびそのエステル形成性誘導体な
どのジカルボン酸成分、オキシ安息香酸およびそのエス
テル形成性誘導体などのオキシモノカルボン酸などを用
いることができる。
【0007】本発明でいうポリエステルフィルムとはか
かるポリエステルを公知の方法を用いて溶融押出後延伸
されて成るフィルムであり、その厚みとしては、5〜3
00μmのものが好ましく、10〜100μmのものが
さらに好ましい。本発明で用いるポリエステルフィルム
は、添加粒子、析出粒子、その他の触媒残渣を含有して
いてもよい。
かるポリエステルを公知の方法を用いて溶融押出後延伸
されて成るフィルムであり、その厚みとしては、5〜3
00μmのものが好ましく、10〜100μmのものが
さらに好ましい。本発明で用いるポリエステルフィルム
は、添加粒子、析出粒子、その他の触媒残渣を含有して
いてもよい。
【0008】また、上記の突起形成剤以外の添加剤とし
て、必要に応じて、帯電防止剤、安定剤、潤滑剤、架橋
剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、着色剤、光線遮
断剤、紫外線吸収剤などを含有していてもよい。また、
他の重合体、例えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリ
カーボネート等を10重量%以下ブレンドすることも可
能であるが、結晶性を極端に低下させたりしない範囲内
とする。
て、必要に応じて、帯電防止剤、安定剤、潤滑剤、架橋
剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、着色剤、光線遮
断剤、紫外線吸収剤などを含有していてもよい。また、
他の重合体、例えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリ
カーボネート等を10重量%以下ブレンドすることも可
能であるが、結晶性を極端に低下させたりしない範囲内
とする。
【0009】本発明で用いるポリエステルフィルムは、
単層であっても多層であってもよいが、ポリエステルフ
ィルムの縦方向のF5 値は、8kg/mm2 以上が好ま
しく、9kg/mm2 がさらに好ましく、10kg/m
m2 以上が特に好ましい。ポリエステルフィルムの縦方
向のF5 値が8kg/mm2 未満の場合、光テープを製
造する際の作業性が劣ったり、光テープとしての特性が
劣ったりすることがある。
単層であっても多層であってもよいが、ポリエステルフ
ィルムの縦方向のF5 値は、8kg/mm2 以上が好ま
しく、9kg/mm2 がさらに好ましく、10kg/m
m2 以上が特に好ましい。ポリエステルフィルムの縦方
向のF5 値が8kg/mm2 未満の場合、光テープを製
造する際の作業性が劣ったり、光テープとしての特性が
劣ったりすることがある。
【0010】また、ポリエステルフィルムの縦方向の1
00℃、30分後の熱収縮率は5%以下が好ましく、3
%以下がさらに好ましく、2%以下が特に好ましい。か
かる熱収縮率が5%を超える場合、耐熱性が不十分とな
る傾向があり、光テープとしての特性に悪影響を及ぼす
ことがある。本発明において、記録層が設けられるフィ
ルム表面は、平坦であることが望ましく、後述の活性エ
ネルギー線硬化層を積層することによって、該活性エネ
ルギー線硬化層面(A面)の中心線平均粗さ(RaA )
を0.005μm以下、好ましくは0.003μm以
下、さらに好ましくは0.002μm以下とする。Ra
A が0.005μmを超えると光テープとしての光学記
録特性が劣ってしまうので好ましくない。
00℃、30分後の熱収縮率は5%以下が好ましく、3
%以下がさらに好ましく、2%以下が特に好ましい。か
かる熱収縮率が5%を超える場合、耐熱性が不十分とな
る傾向があり、光テープとしての特性に悪影響を及ぼす
ことがある。本発明において、記録層が設けられるフィ
ルム表面は、平坦であることが望ましく、後述の活性エ
ネルギー線硬化層を積層することによって、該活性エネ
ルギー線硬化層面(A面)の中心線平均粗さ(RaA )
を0.005μm以下、好ましくは0.003μm以
下、さらに好ましくは0.002μm以下とする。Ra
A が0.005μmを超えると光テープとしての光学記
録特性が劣ってしまうので好ましくない。
【0011】本発明において、記録層が設けられる面と
反対側のポリエステルフィルム露出面(B面)の中心線
平均粗さ(RaB )は、0.005〜0.3μm、好ま
しくは0.007〜0.05μm、さらに好ましくは
0.008〜0.02μmの範囲である。かかるRaB
が、0.005μm未満では、フィルムの滑り性が劣
り、光テープを製造する際の作業性が劣ったり、光テー
プとしての特性が劣ったりする。一方、RaB が0.3
μmを超えると、B面の粗度が記録層面に転写される、
いわゆる裏移り現象が顕著となり、光テープとしての光
学記録特性が悪化するようになる。
反対側のポリエステルフィルム露出面(B面)の中心線
平均粗さ(RaB )は、0.005〜0.3μm、好ま
しくは0.007〜0.05μm、さらに好ましくは
0.008〜0.02μmの範囲である。かかるRaB
が、0.005μm未満では、フィルムの滑り性が劣
り、光テープを製造する際の作業性が劣ったり、光テー
プとしての特性が劣ったりする。一方、RaB が0.3
μmを超えると、B面の粗度が記録層面に転写される、
いわゆる裏移り現象が顕著となり、光テープとしての光
学記録特性が悪化するようになる。
【0012】B面を上記のRaB の範囲とするためには
通常、微粒子を含む薄膜層を積層する共押出法や、微粒
子およびバインダー樹脂を含む塗布液をポリエステルフ
ィルムの製膜時あるいは製膜後にB面に塗布、形成させ
る方法などが採用される。この目的で使用する微粒子
は、サイロイド、コロイダルシリカ、酸化チタン、炭酸
カルシウム、カオリン、酸化アルミニウムなどの無機粒
子、架橋ポリスチレン、架橋アクリル、架橋ベンゾグア
ナミン、架橋メラミン、エポキシ等の有機粒子、カーボ
ンブラックなどが挙げられる。これらの微粒子の平均粒
径は、0.01〜3μm、さらには0.05〜1μmの
範囲のものが良く、添加量は、B面を構成する粒子含有
量の重量分率で、通常0.1〜10%の範囲から選択で
きる。また、粒子の形状は球形、楕円球、扁平状のいず
れもよい。
通常、微粒子を含む薄膜層を積層する共押出法や、微粒
子およびバインダー樹脂を含む塗布液をポリエステルフ
ィルムの製膜時あるいは製膜後にB面に塗布、形成させ
る方法などが採用される。この目的で使用する微粒子
は、サイロイド、コロイダルシリカ、酸化チタン、炭酸
カルシウム、カオリン、酸化アルミニウムなどの無機粒
子、架橋ポリスチレン、架橋アクリル、架橋ベンゾグア
ナミン、架橋メラミン、エポキシ等の有機粒子、カーボ
ンブラックなどが挙げられる。これらの微粒子の平均粒
径は、0.01〜3μm、さらには0.05〜1μmの
範囲のものが良く、添加量は、B面を構成する粒子含有
量の重量分率で、通常0.1〜10%の範囲から選択で
きる。また、粒子の形状は球形、楕円球、扁平状のいず
れもよい。
【0013】さらに、これらの微粒子だけでB面に走行
性を付与する方法のほかに、塗布液中に、アニオン系界
面活性剤、カチオン系界面活性剤、フッ素系界面活性
剤、ワックスなどの滑剤を添加する方法、あるいは、突
起形成剤として、層中での相分離や延伸特性に特徴のあ
る化合物、例えばセルロース、ゼラチン、ポリアクリル
酸等の水溶性高分子を含有する塗布液を、フィルムの製
膜工程内で塗布後、延伸して突起を形成させる方法も挙
げることができる。
性を付与する方法のほかに、塗布液中に、アニオン系界
面活性剤、カチオン系界面活性剤、フッ素系界面活性
剤、ワックスなどの滑剤を添加する方法、あるいは、突
起形成剤として、層中での相分離や延伸特性に特徴のあ
る化合物、例えばセルロース、ゼラチン、ポリアクリル
酸等の水溶性高分子を含有する塗布液を、フィルムの製
膜工程内で塗布後、延伸して突起を形成させる方法も挙
げることができる。
【0014】本発明のフィルムを構成する活性エネルギ
ー線硬化層としては、不飽和ポリエステル樹脂系、アク
リル系、付加重合系、チオール・アクリルのハイブリッ
ド系、カチオン重合系およびカチオン重合とラジカル重
合のハイブリッド系の硬化成分などを用いることがで
き、硬化性、可とう性、耐熱性および耐久性などの点で
アクリル系の硬化成分を用いることが好ましい。
ー線硬化層としては、不飽和ポリエステル樹脂系、アク
リル系、付加重合系、チオール・アクリルのハイブリッ
ド系、カチオン重合系およびカチオン重合とラジカル重
合のハイブリッド系の硬化成分などを用いることがで
き、硬化性、可とう性、耐熱性および耐久性などの点で
アクリル系の硬化成分を用いることが好ましい。
【0015】活性エネルギー線硬化層を形成するアクリ
ル系の硬化成分は、活性エネルギー線重合成分としてア
クリルオリゴマーと反応性希釈剤とを含み、必要に応じ
て、光重合開始剤、光増感剤、改質剤などを含有してい
てもよい。アクリルオリゴマーとしては、アクリル系樹
脂骨格に反応性のアクリロイル基またはメタアクリロイ
ル基が結合したオリゴマーを始めとし、ポリエステル
(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メ
タ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート、
ポリブタジエン(メタ)アクリレート等のオリゴマーの
ほか、イソシアヌール酸、環状ホスファゼン等の剛直な
骨格に反応性のアクリロイル基またはメタアクリロイル
基が結合したオリゴマーも挙げることができる。
ル系の硬化成分は、活性エネルギー線重合成分としてア
クリルオリゴマーと反応性希釈剤とを含み、必要に応じ
て、光重合開始剤、光増感剤、改質剤などを含有してい
てもよい。アクリルオリゴマーとしては、アクリル系樹
脂骨格に反応性のアクリロイル基またはメタアクリロイ
ル基が結合したオリゴマーを始めとし、ポリエステル
(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メ
タ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート、
ポリブタジエン(メタ)アクリレート等のオリゴマーの
ほか、イソシアヌール酸、環状ホスファゼン等の剛直な
骨格に反応性のアクリロイル基またはメタアクリロイル
基が結合したオリゴマーも挙げることができる。
【0016】反応性希釈剤とは、アクリルオリゴマーと
反応する基を有し、塗布工程において溶剤の機能を担う
と共に塗膜成分となるものである。反応性希釈剤の具体
例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、(メ
タ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等
が挙げられる。
反応する基を有し、塗布工程において溶剤の機能を担う
と共に塗膜成分となるものである。反応性希釈剤の具体
例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、(メ
タ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等
が挙げられる。
【0017】光重合開始剤としては、例えば、2,2−
エトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、p−クロロベンゾフェノ
ン、p−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ア
セトフェノン、2−クロロチオキサントン、アントラキ
ノン、フェニルジスルフィド、2−メチル〔4−(メチ
ルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノ
ン等が挙げられる。これらは組み合わせて使用してもよ
い。
エトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、p−クロロベンゾフェノ
ン、p−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ア
セトフェノン、2−クロロチオキサントン、アントラキ
ノン、フェニルジスルフィド、2−メチル〔4−(メチ
ルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノ
ン等が挙げられる。これらは組み合わせて使用してもよ
い。
【0018】光増感剤としては、例えば、トリエチルア
ミン、トリエタノールアミン、2−ジメチルアミノエタ
ノール等の3級アミン類、トリフェニルホスフィン等の
アルキルホスフィン類、β−チオジグリコール等のチオ
エーテル類が挙げられる。これらは組み合わせて使用し
てもよい。改質剤としては、塗布性改良剤、消泡剤、増
粘剤、潤滑剤、有機系高分子、安定剤、界面活性剤など
が挙げられ、これらは活性エネルギー線による反応を阻
害しない範囲で活性エネルギー線硬化層の組成物として
適宜配合される。
ミン、トリエタノールアミン、2−ジメチルアミノエタ
ノール等の3級アミン類、トリフェニルホスフィン等の
アルキルホスフィン類、β−チオジグリコール等のチオ
エーテル類が挙げられる。これらは組み合わせて使用し
てもよい。改質剤としては、塗布性改良剤、消泡剤、増
粘剤、潤滑剤、有機系高分子、安定剤、界面活性剤など
が挙げられ、これらは活性エネルギー線による反応を阻
害しない範囲で活性エネルギー線硬化層の組成物として
適宜配合される。
【0019】本発明においては、当該組成物を適当な手
段によって塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬
化させればよい。かかる活性エネルギー線としては、紫
外線、可視光線、電子線、α線、β線、γ線を用いるこ
とができるが、紫外線、電子線が好ましい。活性エネル
ギー線の照射は、通常、硬化層側から行われるが、フィ
ルムとの密着性を高めるため、フィルム面側に活性エネ
ルギー線を反射しうる反射板を設けたり、フィルム面側
から活性エネルギー線を照射したりしても構わない。
段によって塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬
化させればよい。かかる活性エネルギー線としては、紫
外線、可視光線、電子線、α線、β線、γ線を用いるこ
とができるが、紫外線、電子線が好ましい。活性エネル
ギー線の照射は、通常、硬化層側から行われるが、フィ
ルムとの密着性を高めるため、フィルム面側に活性エネ
ルギー線を反射しうる反射板を設けたり、フィルム面側
から活性エネルギー線を照射したりしても構わない。
【0020】活性エネルギー線硬化層の厚さは、0.1
〜20μmの範囲がよく、好ましくは0.5〜10μm
の範囲、さらに好ましくは1〜7μmの範囲である。硬
化層の厚さが0.1μm未満では前記RaA の範囲とな
るように平坦化するのに不十分なことがある。20μm
より厚くなると硬化層の硬化収縮が大きくなりフィルム
が硬化層側にカールすることがある。
〜20μmの範囲がよく、好ましくは0.5〜10μm
の範囲、さらに好ましくは1〜7μmの範囲である。硬
化層の厚さが0.1μm未満では前記RaA の範囲とな
るように平坦化するのに不十分なことがある。20μm
より厚くなると硬化層の硬化収縮が大きくなりフィルム
が硬化層側にカールすることがある。
【0021】活性エネルギー線硬化層の表面硬度は、硬
化層の傷入り等を防ぐために、H以上であることが必要
であり、好ましくは2H以上とするのがよい。本発明に
おいて、活性エネルギー線硬化層のポリエステルフィル
ムへの密着性を改良するため、フィルムに化学処理や放
電処理を施してもよく、好ましくは、フィルムと活性エ
ネルギー線硬化層の間に易接着層を設けることがよい。
また、必要に応じて帯電防止層等の中間層を設けてもよ
い。かかる易接着層や他の中間層を設ける方法として
は、通常、共押出法や塗布法等が採用される。
化層の傷入り等を防ぐために、H以上であることが必要
であり、好ましくは2H以上とするのがよい。本発明に
おいて、活性エネルギー線硬化層のポリエステルフィル
ムへの密着性を改良するため、フィルムに化学処理や放
電処理を施してもよく、好ましくは、フィルムと活性エ
ネルギー線硬化層の間に易接着層を設けることがよい。
また、必要に応じて帯電防止層等の中間層を設けてもよ
い。かかる易接着層や他の中間層を設ける方法として
は、通常、共押出法や塗布法等が採用される。
【0022】かくして得られた光テープ用積層ポリエス
テルフィルムの活性エネルギー線硬化層上に記録層が設
けられ光テープが作成される。本発明において記録層
は、特に限定されないが、記録層に用いられる材料の例
としては、Te,Zn,In,Sn,Al,Ti,C
u,Au,Pt等の金属;Bi,As,Sb等の半金
属;Ge,Si等の半導体;およびこれらの組み合わせ
を挙げることができる。
テルフィルムの活性エネルギー線硬化層上に記録層が設
けられ光テープが作成される。本発明において記録層
は、特に限定されないが、記録層に用いられる材料の例
としては、Te,Zn,In,Sn,Al,Ti,C
u,Au,Pt等の金属;Bi,As,Sb等の半金
属;Ge,Si等の半導体;およびこれらの組み合わせ
を挙げることができる。
【0023】また、これらの金属、半金属または半導体
の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物お
よび窒化物等の化合物およびこれらの化合物と金属との
混合物も記録層に用いることができる。あるいは、色
素、色素ポリマー、色素と前述の金属および半金属の組
み合わせを利用することもできる。記録層は、前述材料
を蒸着、スパッタリング、イオンプレーディングなどの
方法によって形成され、記録層は単層でも多層でもよ
い。
の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物お
よび窒化物等の化合物およびこれらの化合物と金属との
混合物も記録層に用いることができる。あるいは、色
素、色素ポリマー、色素と前述の金属および半金属の組
み合わせを利用することもできる。記録層は、前述材料
を蒸着、スパッタリング、イオンプレーディングなどの
方法によって形成され、記録層は単層でも多層でもよ
い。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例中の評価方法は下記のとおりである。実施例および比
較例中、「部」とあるのは「重量部」を示す。
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例中の評価方法は下記のとおりである。実施例および比
較例中、「部」とあるのは「重量部」を示す。
【0025】(1)中心線平均粗さ(Ra) (株)小坂研究所社製表面粗さ測定機(SE−3F)を
用いて、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求
め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分(基準長
さ2.5mm)の中心線平均粗さの平均値で表した。な
お、触針の先端半径は2μm、荷重は30mmgとし、
カットオフ値は0.08mmとした。
用いて、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求
め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分(基準長
さ2.5mm)の中心線平均粗さの平均値で表した。な
お、触針の先端半径は2μm、荷重は30mmgとし、
カットオフ値は0.08mmとした。
【0026】(2)引張試験(F5 値) (株)インテスコ製引張試験機インテスコモデル200
1型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節され
た室内において長さ50mm、幅15mmの試料フィル
ムを50mm/minの速度で引張り、5%伸張時の強
度をF5 値とした。
1型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節され
た室内において長さ50mm、幅15mmの試料フィル
ムを50mm/minの速度で引張り、5%伸張時の強
度をF5 値とした。
【0027】(3)熱収縮率 田葉井製作所製熱風循環炉を用い、試料フィルムを10
0℃、30分間自由端熱処理を行い、処理前後のフィル
ムの縦方向の寸法変化を%で表した。
0℃、30分間自由端熱処理を行い、処理前後のフィル
ムの縦方向の寸法変化を%で表した。
【0028】(4)表面温度 JIS K5400(1990)に従い、各種硬度の鉛
筆を45°の角度で硬化層に当て、荷重1kgの下で引
掻きを与え、傷が発生した際の鉛筆の硬度を硬化層の硬
度とした。
筆を45°の角度で硬化層に当て、荷重1kgの下で引
掻きを与え、傷が発生した際の鉛筆の硬度を硬化層の硬
度とした。
【0029】実施例1 ビス−(β−ヒドロキシエチル)テレフタレートオリゴ
マー100部の存在下、テレフタル酸87部とエチレン
グリコール42部とを常圧下260℃で反応させてエス
テル化を行い、エステル化率97%のポリエステルオリ
ゴマーを得た。次いで平均粒径0.27μmの球状シリ
カのエチレングリコールスラリーをそれぞれポリエステ
ルに対し2重量%になるように添加した後、エチルアシ
ッドフォスフェート0.014部、三酸化アンチモン
0.022部および酢酸マグネシウム0.086部を添
加し重縮合反応を行い、極限粘度0.65のポリエステ
ルを得た。
マー100部の存在下、テレフタル酸87部とエチレン
グリコール42部とを常圧下260℃で反応させてエス
テル化を行い、エステル化率97%のポリエステルオリ
ゴマーを得た。次いで平均粒径0.27μmの球状シリ
カのエチレングリコールスラリーをそれぞれポリエステ
ルに対し2重量%になるように添加した後、エチルアシ
ッドフォスフェート0.014部、三酸化アンチモン
0.022部および酢酸マグネシウム0.086部を添
加し重縮合反応を行い、極限粘度0.65のポリエステ
ルを得た。
【0030】得られたポリエステルを乾燥後、290℃
の温度で押出機の口金より押し出し、静電密着法を併用
しながら冷却ドラム上にキャストし、厚さ920μmの
無定形ポリエステルシートを得た。上記シートを95℃
で縦方向に3.5倍延伸した後、ポリエステルシートの
両面に下記組成の塗布液を塗布し、110℃で横方向に
3.5倍延伸し、230℃で熱処理をした後、縦方向に
弛緩処理を施して、塗布層厚さ0.06μm、基体のポ
リエステルフィルムの厚さ75μmの二軸延伸ポリエス
テルフィルムを得た。
の温度で押出機の口金より押し出し、静電密着法を併用
しながら冷却ドラム上にキャストし、厚さ920μmの
無定形ポリエステルシートを得た。上記シートを95℃
で縦方向に3.5倍延伸した後、ポリエステルシートの
両面に下記組成の塗布液を塗布し、110℃で横方向に
3.5倍延伸し、230℃で熱処理をした後、縦方向に
弛緩処理を施して、塗布層厚さ0.06μm、基体のポ
リエステルフィルムの厚さ75μmの二軸延伸ポリエス
テルフィルムを得た。
【0031】〔塗布液組成〕ポリウレタン水分散体A
(大日本インキ化学工業(株)製ハイドランAP−4
0) 75部;ポリエステル水分散体B(大日本インキ
化学工業(株)製ファインテックスES−670) 2
0部;平均粒径0.07μmのシリカゾル 5部得られ
たフィルムの片面に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート35部、4官能ウレタンアクリレート35
部、ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート25
部および1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
5部よりなる組成物を硬化後の厚みが3μmになるよう
に塗布し、120W/cmのエネルギーの高圧水銀灯を
用いて照射距離150mmにて約15秒間照射し、活性
エネルギー線硬化層を設けた。
(大日本インキ化学工業(株)製ハイドランAP−4
0) 75部;ポリエステル水分散体B(大日本インキ
化学工業(株)製ファインテックスES−670) 2
0部;平均粒径0.07μmのシリカゾル 5部得られ
たフィルムの片面に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート35部、4官能ウレタンアクリレート35
部、ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート25
部および1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
5部よりなる組成物を硬化後の厚みが3μmになるよう
に塗布し、120W/cmのエネルギーの高圧水銀灯を
用いて照射距離150mmにて約15秒間照射し、活性
エネルギー線硬化層を設けた。
【0032】得られた積層ポリエステルフィルムの活性
エネルギー線硬化層面(A面)の中心線平均粗さ(Ra
A )は、0.002μmであり、反対面(B面)の中心
線平均粗さ(RaB )は0.01μmであった。また、
活性エネルギー線硬化層の表面硬度は3Hであった。得
られたフィルムの活性エネルギー線硬化層上に、スパッ
タリング法によりInを300Å厚およびGaSを24
0Å厚で総膜厚540Åの記録層を形成して光テープを
作成した。光テープを作成する際の作業性は良好であ
り、活性エネルギー線硬化層にキズ等の表面欠点の発生
もなくこの光テープは記録、再生時に優れた光学記録特
性を示した。
エネルギー線硬化層面(A面)の中心線平均粗さ(Ra
A )は、0.002μmであり、反対面(B面)の中心
線平均粗さ(RaB )は0.01μmであった。また、
活性エネルギー線硬化層の表面硬度は3Hであった。得
られたフィルムの活性エネルギー線硬化層上に、スパッ
タリング法によりInを300Å厚およびGaSを24
0Å厚で総膜厚540Åの記録層を形成して光テープを
作成した。光テープを作成する際の作業性は良好であ
り、活性エネルギー線硬化層にキズ等の表面欠点の発生
もなくこの光テープは記録、再生時に優れた光学記録特
性を示した。
【0033】実施例2 実施例1において活性エネルギー線硬化層を下記組成物
に変え硬化後の厚みを2μmにした以外は、実施例1と
同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られた
積層ポリエステルフィルムの活性エネルギー線硬化層面
(A面)の中心線平均粗さ(RaA )は、0.002μ
mであり、反対面(B面)の中心線平均粗さ(RaB )
は0.01μmであった。また、活性エネルギー線硬化
層の表面硬度は2Hであった。
に変え硬化後の厚みを2μmにした以外は、実施例1と
同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られた
積層ポリエステルフィルムの活性エネルギー線硬化層面
(A面)の中心線平均粗さ(RaA )は、0.002μ
mであり、反対面(B面)の中心線平均粗さ(RaB )
は0.01μmであった。また、活性エネルギー線硬化
層の表面硬度は2Hであった。
【0034】〔活性エネルギー線硬化層組成物〕ジペン
タエリスリトールトリアクリレート 40部;4官能ウ
レタンアクリート 55部;2−メチル−〔4−(メチ
ルチオ)フエニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノ
ン 5部
タエリスリトールトリアクリレート 40部;4官能ウ
レタンアクリート 55部;2−メチル−〔4−(メチ
ルチオ)フエニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノ
ン 5部
【0035】実施例3 実施例1において活性エネルギー線硬化層を下記組成物
に変え硬化後の厚みを3μmなるように塗布し、加速電
圧180kV、ビーム電流36mAの電子線を10Mr
adの照射線量で照射して活性エネルギー線硬化層を設
け、積層ポリエステルフィルムを得た。
に変え硬化後の厚みを3μmなるように塗布し、加速電
圧180kV、ビーム電流36mAの電子線を10Mr
adの照射線量で照射して活性エネルギー線硬化層を設
け、積層ポリエステルフィルムを得た。
【0036】〔活性エネルギー線硬化層組成物〕ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート 50部;4官能
ウレタンアクリート 50部
タエリスリトールヘキサアクリレート 50部;4官能
ウレタンアクリート 50部
【0037】比較例1 実施例1において活性エネルギー線硬化層を設けない以
外は実施例1と同様にして積層ポリエステルフィルムを
得た。このフィルムを用いた光テープは、光学記録特性
に劣っていた。
外は実施例1と同様にして積層ポリエステルフィルムを
得た。このフィルムを用いた光テープは、光学記録特性
に劣っていた。
【0038】比較例2 実施例1において活性エネルギー線硬化層を設ける代わ
りにポリエステル系樹脂を厚さ3μmで設けた以外は実
施例1と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。
このフィルムを用い光テープを作成したところ、ポリエ
ステル系樹脂層に多数のギスが入り、作成した光テープ
の光学記録特性は劣っていた。得られた結果をまとめて
下記表1に示す。
りにポリエステル系樹脂を厚さ3μmで設けた以外は実
施例1と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。
このフィルムを用い光テープを作成したところ、ポリエ
ステル系樹脂層に多数のギスが入り、作成した光テープ
の光学記録特性は劣っていた。得られた結果をまとめて
下記表1に示す。
【0039】
【表1】
【0040】
【発明の効果】本発明は、特定の表面を有する積層ポリ
エステルフィルムを基材として用いることにより、光学
記録特性に優れた光テープを提供できるので、その工業
的価値は高い。
エステルフィルムを基材として用いることにより、光学
記録特性に優れた光テープを提供できるので、その工業
的価値は高い。
Claims (1)
- 【請求項1】 表面硬度H以上でかつ表面の中心線平均
粗さ(RaA )が0.005μm以下の活性エネルギー
線硬化層を有する積層ポリエステルフィルムであり、ポ
リエステルフィルム露出面の中心線平均粗さ(RaB )
が0.005〜0.3μmであることを特徴とする光テ
ープ用積層ポリエステルフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4199647A JPH0644607A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 光テープ用積層ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4199647A JPH0644607A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 光テープ用積層ポリエステルフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0644607A true JPH0644607A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16411330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4199647A Pending JPH0644607A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 光テープ用積層ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644607A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102615891A (zh) * | 2012-03-30 | 2012-08-01 | 城步新鼎盛电子科技有限公司 | 一种贴合材料及其制备方法和应用 |
-
1992
- 1992-07-27 JP JP4199647A patent/JPH0644607A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102615891A (zh) * | 2012-03-30 | 2012-08-01 | 城步新鼎盛电子科技有限公司 | 一种贴合材料及其制备方法和应用 |
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