JPH0645561B2 - スチレン類含有物の精製法 - Google Patents

スチレン類含有物の精製法

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JPH0645561B2
JPH0645561B2 JP3162485A JP3162485A JPH0645561B2 JP H0645561 B2 JPH0645561 B2 JP H0645561B2 JP 3162485 A JP3162485 A JP 3162485A JP 3162485 A JP3162485 A JP 3162485A JP H0645561 B2 JPH0645561 B2 JP H0645561B2
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二郎 木下
忠嗣 山本
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旭化成工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、スチレン、粗スチレンまたはメチルスチレン
等のスチレン類含有物に含まれるフエニルアセチレンや
アルキルフエニルアセチレン等のフエニルアセチレン類
を、選択的水素添加して除去し、同スチレン類(以下、
スチレン類を単に「スチレン」という)含有物を精製す
る方法に関する。
(従来の技術) エチルベンゼンの脱水素反応によつて得られるスチレン
または粗スチレン等のようなスチレン含有物には、少量
のフエニルアセチレンが含有されていることが多い。該
スチレン含有物に含まれているフエニルアセチレンは、
これを選択的水素添加によつて除去することができる。
しかし、この方法においては、フエニルアセチレンの含
有濃度が低いため、触媒の選択性が悪いと、スチレンの
ビニル基の水素化反応などをひき起し、目的のスチレン
の収率を低下させる。
他方、フエニルアセチレンの選択的水素添加に関する方
法は、例えば、特開昭59−216838号にpd、Pt、
Ir、RhおよびRuよりなる群から選ばれた1種または2種
以上の金属と、pb、Bi、P、Sb、As、TeおよびSよりな
る群から選ばれた1種または2種以上の元素とを含む触
媒を用いて、フエニルアセチレンを選択的に水素添加す
る方法が記載されているが、フエニルアセチレンを経済
的有利に選択的水素化させるには充分とは云えない。
(発明が解決しようとする問題点) 前記のように、スチレン含有物に含まれているフエニル
アセチレンを選択的水素添加によつて除去する方法にお
いては、フエニルアセチレンの含有濃度が低いため、触
媒の選択性が悪いと、スチレンのビニル基の水素化反応
などをひき起し、目的のスチレンの収率を低下させるこ
とになり、フエニルアセチレンを経済的有利に選択的水
素化させる方法の出現が望まれていた。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、かかる精製法について鋭意研究した結
果、フエニルアセチレンのみを選択的に水素化でき、し
かも、その触媒活性が高い触媒を見い出し、本発明を成
するに至つた。すなわち、本発明は、担体に担持させた
1価および/または0価の銅を含む触媒を用いることを
特徴とする選択的水素添加によるスチレン類含有物の精
製法である。
本発明に供することができる触媒は、銅、銅の無機酸
塩、有機酸塩または酸化物の少なくとも1種を担体に担
持させ、適当な還元剤を用いて1価および/または0価
の銅に還元したものである。
担体としては、各種金属酸化物、活性炭等を用いること
ができるが、特にアルミナ、シリカ、活性炭などが好ま
しい。組成として担体に対する銅の比は1〜48重量
%、好ましくは5〜30重量%の範囲を選ぶことができ
る。触媒の調製法としては特に制限はなく、通常用いら
れる担持方法を適宜利用すればよい。1例を示すと、次
のような方法で調製することができる。アルミナ担体に
塩化銅、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅などの酸または水に可
溶な塩類の溶液を所定量含浸させた後、この銅塩を空気
中または酸素を含有する不活性ガス中で高温加熱する。
次いで、この銅酸化物を水素、ヒドラジン、ホルムアル
デヒド、ギ酸ソーダなどの適当な還元剤を用いて、乾式
または湿式法で1価または金属状銅に還元する。
本発明の方法を実施する際の反応条件としては、必ずし
も厳密な制限はないが、一般に、次のような条件下で行
われる。
水素添加反応温度は200℃以下、好ましくは5〜10
0℃である。反応温度が高くなりすぎると、スチレンの
水素化反応を生起させるので好ましくない。反応圧力は
常圧〜加圧下、好ましくは1〜10kg/cm2の範囲であ
る。
液空間速度(LHSV)は1〜500Hr-1、好ましくは1〜
200Hr-1である。液空間速度が高すぎると、フエニル
アセチレンの転化率が低下し、同速度が低すぎると、ス
チレンの水素添加反応を起し、スチレン収量が低下す
る。
水素の供給量は、通常、フエニルアセチレンに対し1倍
量〜100倍量が用いられる。水素量があまり多すぎる
と、スチレンの水素化によるスチレン収量の減少をまね
くので好ましくない。
(発明の効果) 本発明の精製法は、下記のとおり優れた効果を奏するこ
とができる。
(1)フエニルアセチレンの水素添加反応の選択性が著し
く高く、スチレンの水素添加反応およびベンゼン核の水
素添加反応等の副反応を実質上起さないので、高価なス
チレン等のロスが少ない。
(2)炭素結合の分裂反応、ガム質生成反応、炭素質生成
反応等を実質上起さないので、貴重な資源のロスが少な
く、かつ触媒寿命が長い。
(3)本触媒系は、貴金属類を用いた水添触媒より安価な
触媒を提供するものであり、かつ活性が高いため経済性
に優れている。
(実施例) 以下、本発明の実施例を示すが、本発明は、これに限定
されるものではない。
(触媒の調製方法) 触媒A 硝酸銅3水塩290gを水318gに溶解し、これにγ
−アルミナ318gを加え、水浴上で蒸発濃縮した。得
られた銅塩担持物を空気中600℃で3時間焼成したの
ち、水素気流下200℃で2時間還元処理を行い、銅担
持型アルミナ触媒Aを得た。
実施例 直径20mm、長さ50cmのステンレス製管に調製した触
媒A100gを充填し、これにスチレン99重量%、エ
チルベンゼン1重量%およびフエニルアセチレン100
重量ppmを含有するスチレンおよび水素ガスを、温度2
0℃、圧力1kg/cm-1、H2/フエニルアセチレンモル
比=7/1、LHSV11Hr-1の条件で連続的に通過させ
た。その結果は図面に示すとおりであり、非常に高い選
択性を示した。
比較例 γ−Al2O3にPdを0.3重量%担持したPd−Al2O3に、さら
にPdを0.1重量%担持させた触媒を用い、そのほかは実
施例におけると同様の条件を使用して、同一のスチレン
を水素添加処理した。その結果は図面に示すとおりであ
つた。
【図面の簡単な説明】
図面は実施例および比較例の結果を示す図表である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スチレン類含有物に含まれるフエニルアセ
    チレン類を選択的に水素添加して除去、精製する方法に
    おいて、その水素添加触媒として1価および/または0
    価の銅を含む触媒を用いることを特徴とするスチレン類
    含有物の精製法。
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JPH085814B2 (ja) * 1987-05-11 1996-01-24 三菱化学株式会社 スチレン類の精製方法
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US4822936A (en) * 1987-08-25 1989-04-18 The Dow Chemical Company Selective hydrogenation of phenylacetylene in the presence of styrene
CN101475438B (zh) * 2008-12-18 2012-05-23 中国石油化工股份有限公司 苯乙烯存在下苯乙炔选择加氢的方法
CN101475439B (zh) * 2008-12-18 2012-05-09 中国石油化工股份有限公司 苯乙烯存在下采用复合床进行苯乙炔选择加氢的方法

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