JPH0645571B2 - 新規光学活性ヒドロキシエステル - Google Patents
新規光学活性ヒドロキシエステルInfo
- Publication number
- JPH0645571B2 JPH0645571B2 JP61164417A JP16441786A JPH0645571B2 JP H0645571 B2 JPH0645571 B2 JP H0645571B2 JP 61164417 A JP61164417 A JP 61164417A JP 16441786 A JP16441786 A JP 16441786A JP H0645571 B2 JPH0645571 B2 JP H0645571B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optically active
- hydroxy
- methyl
- mmol
- hydroxy ester
- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
- C07C69/12—Acetic acid esters
- C07C69/16—Acetic acid esters of dihydroxylic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規光学活性ヒドロキシエステルに関し、詳し
くは、Red imported fire ant(Solenopsis invicta)の
女王認識フエロモンの一成分であるインビクトライドを
合成するための重要な中間体である(2S,3S,4R)-(+)-及
び(2R,3R,4S)-(-)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチル
ヘプタン酸メチルに関する。
くは、Red imported fire ant(Solenopsis invicta)の
女王認識フエロモンの一成分であるインビクトライドを
合成するための重要な中間体である(2S,3S,4R)-(+)-及
び(2R,3R,4S)-(-)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチル
ヘプタン酸メチルに関する。
従来の技術 Red imported fire antは、特に、アメリカ合衆国にお
いて、農作物に甚大な損害を与えている害虫であるが、
近年、農薬の使用が次々に規制され、或いは禁止さえさ
れるに至つて、その新たな防除方法が強く要望されてい
る。
いて、農作物に甚大な損害を与えている害虫であるが、
近年、農薬の使用が次々に規制され、或いは禁止さえさ
れるに至つて、その新たな防除方法が強く要望されてい
る。
そこで、種々の生理活性物質を用いる防除方法が研究さ
れ、フエロモンを用いる方法が注目されている。なかで
も、女王認識フエロモンは、働きアリが女王を認識する
ためのフエロモンであるので、かかる女王認識フエロモ
ンを用いることによつて、効果的な防除が可能である。
れ、フエロモンを用いる方法が注目されている。なかで
も、女王認識フエロモンは、働きアリが女王を認識する
ためのフエロモンであるので、かかる女王認識フエロモ
ンを用いることによつて、効果的な防除が可能である。
女王認識フエロモンは、主として、次の３成分からな
る。
る。
なかでも、インビクトライドと呼ばれる化合物(b)は、
四つの不斉炭素を含むために、その立体選択的な合成は
極めて困難であつて、従来、僅かにZieglerら(Tetrahed
ron Letters,27,1229(1986)による報告があるにすぎな
い。しかし、この方法は、多数の工程を必要とするの
で、工業的な製造方法としては採用し難く、更に、得ら
れるインビクトライドの光学純度が低い。
四つの不斉炭素を含むために、その立体選択的な合成は
極めて困難であつて、従来、僅かにZieglerら(Tetrahed
ron Letters,27,1229(1986)による報告があるにすぎな
い。しかし、この方法は、多数の工程を必要とするの
で、工業的な製造方法としては採用し難く、更に、得ら
れるインビクトライドの光学純度が低い。
発明が解決しようとする問題点 そこで、本発明者らは、光学活性インビクトライドの簡
単で且つ工業的な製造方法を確立すべく鋭意研究した結
果、その立体選択的合成のための出発物質として本発明
による新規な光学活性ヒドロキシエステルを得ることに
成功すると共に、これを出発物質とすることによつて、
短工程によつて、光学純度の高い光学活性インビクトラ
イドを容易に製造し得ることを見出して、本発明に至つ
たものである。
単で且つ工業的な製造方法を確立すべく鋭意研究した結
果、その立体選択的合成のための出発物質として本発明
による新規な光学活性ヒドロキシエステルを得ることに
成功すると共に、これを出発物質とすることによつて、
短工程によつて、光学純度の高い光学活性インビクトラ
イドを容易に製造し得ることを見出して、本発明に至つ
たものである。
従つて、本発明は、新規な光学活性ヒドロキシエステ
ル、特に、光学純度の高い光学活性インビクトライドを
容易に製造し得るための出発物質として有用である光学
活性３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ルを提供することを目的とする。
ル、特に、光学純度の高い光学活性インビクトライドを
容易に製造し得るための出発物質として有用である光学
活性３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ルを提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 本発明による新規な光学活性ヒドロキシエステルは、構
造式 （但し、２，３及び４位の立体配置は、(2S,3S,4R)又は
(2R,3R,4S)である。） で表わされる。
造式 （但し、２，３及び４位の立体配置は、(2S,3S,4R)又は
(2R,3R,4S)である。） で表わされる。
即ち、本発明によつて、構造式(1a)で表わされる(2S,3
S,4R)-(+)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン
酸メチル及び構造式(1b)で表わされる(2R,3R,4S)-(-)-
３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチルが
新規光学活性ヒドロキシエステルとして提供される。
S,4R)-(+)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン
酸メチル及び構造式(1b)で表わされる(2R,3R,4S)-(-)-
３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチルが
新規光学活性ヒドロキシエステルとして提供される。
本発明によるかかる光学活性ヒドロキシエステルは、既
に知られている光学活性エポキシド(2)から、次のスキ
ームに従つて得ることができる(K.Moriら、Tetrahedron,
36,2209(1980))。
に知られている光学活性エポキシド(2)から、次のスキ
ームに従つて得ることができる(K.Moriら、Tetrahedron,
36,2209(1980))。
即ち、先ず、エポキシド(2)をシアンイオンにて開環
し、酸処理してヒドロキシ酸とし、これをメチルエステ
ル化して、ヒドロキシエステル(3)を得る。次いで、こ
のヒドロキシエステルに塩基の存在下にヨウ化メチルを
作用させてα−メチル化することによつて、本発明によ
る光学活性ヒドロキシエステル(1)を得る。
し、酸処理してヒドロキシ酸とし、これをメチルエステ
ル化して、ヒドロキシエステル(3)を得る。次いで、こ
のヒドロキシエステルに塩基の存在下にヨウ化メチルを
作用させてα−メチル化することによつて、本発明によ
る光学活性ヒドロキシエステル(1)を得る。
以下、本発明の光学活性アルコールの製造について詳細
に説明する。
に説明する。
光学活性エポキシド(2)は、例えば、上記文献に記載さ
れた方法に従つて、光学活性アミノ酸(4)から得ること
ができる。
れた方法に従つて、光学活性アミノ酸(4)から得ること
ができる。
同様に、(-)-(4)から(+)-(2)を得ることができる。
上記エポキシド(2)を開環するには、溶剤中にてエポキ
シド(2)に対してその１〜１０当量、好ましくは１．２
〜５当量のシアン化アルカリ、例えば、シアン化ナトリ
ウムやシアン化カリウム等を反応させる。ここに、上記
溶剤としては、上記エポキシド(2)及び用いるシアン化
アルカリを溶解させ、且つ、シアンイオンによるエポキ
シドの開環反応を阻害しない限りは、特に限定されるも
のではないが、好ましくはメタノール、エタノール等の
低級脂肪族アルコールや、これらの水溶液が用いられ
る。反応温度は、常温乃至は用いる溶剤の沸点までの範
囲であり、好ましくは、５０℃乃至用いる溶剤の沸点以
下の範囲の温度である。反応終了後、反応液を濃縮し、
酸処理すれば、ヒドロキシカルボン酸を得る。このヒド
ロキシカルボン酸を常法に従つてメチルエステル化する
ことによつて、前記ヒドロキシエステル(3)を得る。
シド(2)に対してその１〜１０当量、好ましくは１．２
〜５当量のシアン化アルカリ、例えば、シアン化ナトリ
ウムやシアン化カリウム等を反応させる。ここに、上記
溶剤としては、上記エポキシド(2)及び用いるシアン化
アルカリを溶解させ、且つ、シアンイオンによるエポキ
シドの開環反応を阻害しない限りは、特に限定されるも
のではないが、好ましくはメタノール、エタノール等の
低級脂肪族アルコールや、これらの水溶液が用いられ
る。反応温度は、常温乃至は用いる溶剤の沸点までの範
囲であり、好ましくは、５０℃乃至用いる溶剤の沸点以
下の範囲の温度である。反応終了後、反応液を濃縮し、
酸処理すれば、ヒドロキシカルボン酸を得る。このヒド
ロキシカルボン酸を常法に従つてメチルエステル化する
ことによつて、前記ヒドロキシエステル(3)を得る。
次に、このヒドロキシエステル(3)の２位炭素に立体選
択的にメチル基を導入するには、Frterの方法(G.Fr
ter,Helv.62,6829(1979)によることができる。例えば、
先ず、ヒドロキシエステル(3)に溶剤中にて好ましくは
０℃以下の低温にて２当量以上、好ましくは２〜４当量
のリチウムジイソプロピルアミドを反応させ、次いで、
ヨウ化メチルを反応させる。この反応において、溶剤と
しては、反応に有害な影響を及ぼさない限りは、特に限
定されるものではないが、通常、乾燥テトラヒドロフラ
ンが好適である。ヨウ化メチルの使用量は、ヒドロキシ
エステルに対して当量以上、好ましくは１〜３当量であ
り、好ましくは０℃以下の温度にて反応させる。このメ
チル化反応を常法によつて停止させた後、例えば、クロ
マトグラフイーや蒸留によつて、反応生成物であるヒド
ロキシエステル(1)を分離する。
択的にメチル基を導入するには、Frterの方法(G.Fr
ter,Helv.62,6829(1979)によることができる。例えば、
先ず、ヒドロキシエステル(3)に溶剤中にて好ましくは
０℃以下の低温にて２当量以上、好ましくは２〜４当量
のリチウムジイソプロピルアミドを反応させ、次いで、
ヨウ化メチルを反応させる。この反応において、溶剤と
しては、反応に有害な影響を及ぼさない限りは、特に限
定されるものではないが、通常、乾燥テトラヒドロフラ
ンが好適である。ヨウ化メチルの使用量は、ヒドロキシ
エステルに対して当量以上、好ましくは１〜３当量であ
り、好ましくは０℃以下の温度にて反応させる。このメ
チル化反応を常法によつて停止させた後、例えば、クロ
マトグラフイーや蒸留によつて、反応生成物であるヒド
ロキシエステル(1)を分離する。
本発明によるこの光学活性ヒドロキシエステルは、次の
スキームに従つて、インビクトライドに導くことができ
る。
スキームに従つて、インビクトライドに導くことができ
る。
即ち、光学活性ヒドロキシエステル(1)に酸触媒の存在
下にジヒドロピランを反応させて、水酸基を保護した化
合物(6)を得、次いで、そのエステル基を水酸化リチウ
ムアルミニウムにて還元して、化合物(7)を得る。この
化合物(7)をトシル化した後、ヨウ素化し、これをEvans
らの方法(Tetrahedron Letters,24,4233(1980))に従つ
て、プロリノールのプロピオン酸アミドを用いて、不斉
アルキル化し、酸処理することによつて、脱保護基、脱
プロリノール及びラクトン化が起つて、インビクトライ
ド(b)を得ることができる。
下にジヒドロピランを反応させて、水酸基を保護した化
合物(6)を得、次いで、そのエステル基を水酸化リチウ
ムアルミニウムにて還元して、化合物(7)を得る。この
化合物(7)をトシル化した後、ヨウ素化し、これをEvans
らの方法(Tetrahedron Letters,24,4233(1980))に従つ
て、プロリノールのプロピオン酸アミドを用いて、不斉
アルキル化し、酸処理することによつて、脱保護基、脱
プロリノール及びラクトン化が起つて、インビクトライ
ド(b)を得ることができる。
発明の効果 本発明による光学活性ヒドロキシエステルを出発物質と
して用いることによつて、短工程にて光学純度の高い光
学活性インビクトライドを容易に得ることができる。
して用いることによつて、短工程にて光学純度の高い光
学活性インビクトライドを容易に得ることができる。
実施例 以下に本発明の実施例を挙げる。
(+)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)
の合成 (-)-エポキシド(2)７２０mg（５．７１mmol）及びシア
ン化ナトリウム８４０mg（１７．１mmol）を４０％エタ
ノール水溶液１０mlに溶解して、６時間還流させた後、
エタノールを減圧留去した。エーテルにて水層を洗浄
し、この水層に２Ｎ塩酸を加えて、そのpHを３．５とし
た。これを塩化メチレンにて抽出し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した後、濾過、濃縮して、粗製３−ヒドロキシ−
４−メチルヘプタン酸０．９０ｇを得た。
の合成 (-)-エポキシド(2)７２０mg（５．７１mmol）及びシア
ン化ナトリウム８４０mg（１７．１mmol）を４０％エタ
ノール水溶液１０mlに溶解して、６時間還流させた後、
エタノールを減圧留去した。エーテルにて水層を洗浄
し、この水層に２Ｎ塩酸を加えて、そのpHを３．５とし
た。これを塩化メチレンにて抽出し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した後、濾過、濃縮して、粗製３−ヒドロキシ−
４−メチルヘプタン酸０．９０ｇを得た。
これをジアゾメタンにて処理した後、蒸留して、(+)-３
−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)５６０m
g（収率５６．３％）を得た。
−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)５６０m
g（収率５６．３％）を得た。
(-)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)
の合成 (+)-エポキシド(2)を用いた以外は、上記と同様にし
て、(-)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル
(3)を収率３６％にて得た。
の合成 (+)-エポキシド(2)を用いた以外は、上記と同様にし
て、(-)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル
(3)を収率３６％にて得た。
(+)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ル(1a)の合成 乾燥テトラヒドロフラン４０ml中にてジイソプロピルア
ミン１．３１ｇ（１２．９mmol）にｎ−ブチルリチウム
５．２２ml（１．６５Ｎヘキサン溶液、８．６１mmol）
を−１５℃の温度にて２０分間反応させて、リチウムジ
イソプロピルアミド溶液を調製した。
ル(1a)の合成 乾燥テトラヒドロフラン４０ml中にてジイソプロピルア
ミン１．３１ｇ（１２．９mmol）にｎ−ブチルリチウム
５．２２ml（１．６５Ｎヘキサン溶液、８．６１mmol）
を−１５℃の温度にて２０分間反応させて、リチウムジ
イソプロピルアミド溶液を調製した。
(+)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)
５００mg（２．８７mmol）を乾燥テトラヒドロフラン５
mlに溶解してなる溶液を上記リチウムジイソプロピルア
ミド溶液に−６５℃において窒素雰囲気下に１分間で滴
下し、−１５℃にて３５分間反応させた。この後、ヘキ
サメチルリン酸アミド２．２５ml（１２．９mmol）を加
え、再び−６５℃とした。
５００mg（２．８７mmol）を乾燥テトラヒドロフラン５
mlに溶解してなる溶液を上記リチウムジイソプロピルア
ミド溶液に−６５℃において窒素雰囲気下に１分間で滴
下し、−１５℃にて３５分間反応させた。この後、ヘキ
サメチルリン酸アミド２．２５ml（１２．９mmol）を加
え、再び−６５℃とした。
ヨウ化メチル１０２７mg（７．２３mmol）を乾燥テトラ
ヒドロフラン５mlに溶解してなる溶液を−６５℃におい
て２分間で滴下し、その後、−６５℃で４時間反応さ
せ、更に、−４０℃にて１日間反応させ、更に、−２０
℃にて３日間放置した。この後、飽和塩化アンモニウム
水溶液を加えて、反応を停止した。これをエーテルにて
抽出し、このエーテル層を食塩水で洗浄した後、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し。濾過、濃縮後、蒸留して、(+)-
３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチル(1
a)３５２mg（収率６５．１％）を得た。
ヒドロフラン５mlに溶解してなる溶液を−６５℃におい
て２分間で滴下し、その後、−６５℃で４時間反応さ
せ、更に、−４０℃にて１日間反応させ、更に、−２０
℃にて３日間放置した。この後、飽和塩化アンモニウム
水溶液を加えて、反応を停止した。これをエーテルにて
抽出し、このエーテル層を食塩水で洗浄した後、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し。濾過、濃縮後、蒸留して、(+)-
３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチル(1
a)３５２mg（収率６５．１％）を得た。
(2S,3S,4R)-(+)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチル−
３−ヘプタン酸メチル(1a)の赤外線吸収スペクトル、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル及び１３Ｃ核磁気共鳴スペ
クトルをそれぞれ第１図、第２図及び第３図に示す。
３−ヘプタン酸メチル(1a)の赤外線吸収スペクトル、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル及び１３Ｃ核磁気共鳴スペ
クトルをそれぞれ第１図、第２図及び第３図に示す。
沸点７５〜７８℃／１．５mmHg 元素分析（C10H20O3） 赤外線吸収スペクトル（neat） 3520(m),2960(s),2930(s),2880(m),1725(s),1460(s),14
35(m),1380(m),1260(m),1200(s),1170(s),1140(m),1105
(m),1030(m),980(m),955(m),915(w),855(w),740(w),1 H−核磁気共鳴スペクトル（400MHz,CDCl3） 0.872(3H,d,J＝6.8Hz),0.904(3H,t,J＝7Hz),1.161(3H,
d,J＝7.32Hz),1.18-1.43(5H,m),2.396(1H,brd,J＝6.4H
z),2.647(1H,dq,J＝7Hz,J＝7Hz),3.55-3.63(1H,m),3.71
4(3H,s).１３ Ｃ−核磁気共鳴スペクトル（100MHz,CDCl3） 12.774,14.243,14.468,20.296,34.762,36.213,43.091,5
1.772,76.067,176.980. 〔α〕Ｄ ２６＋13.5°(c＝0.555,CHCl3) (-)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ル(1b)の合成 (-)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)
を用いた以外は、上記と同様にして、(-)-３−ヒドロキ
シ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチル(1b)を収率５７
％にて得た。
35(m),1380(m),1260(m),1200(s),1170(s),1140(m),1105
(m),1030(m),980(m),955(m),915(w),855(w),740(w),1 H−核磁気共鳴スペクトル（400MHz,CDCl3） 0.872(3H,d,J＝6.8Hz),0.904(3H,t,J＝7Hz),1.161(3H,
d,J＝7.32Hz),1.18-1.43(5H,m),2.396(1H,brd,J＝6.4H
z),2.647(1H,dq,J＝7Hz,J＝7Hz),3.55-3.63(1H,m),3.71
4(3H,s).１３ Ｃ−核磁気共鳴スペクトル（100MHz,CDCl3） 12.774,14.243,14.468,20.296,34.762,36.213,43.091,5
1.772,76.067,176.980. 〔α〕Ｄ ２６＋13.5°(c＝0.555,CHCl3) (-)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ル(1b)の合成 (-)-３−ヒドロキシ−４−メチルヘプタン酸メチル(3)
を用いた以外は、上記と同様にして、(-)-３−ヒドロキ
シ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチル(1b)を収率５７
％にて得た。
(2R,3R,4S)-(-)-２，４−ジメチル−３−ヘプタン酸メ
チル(1b)の赤外線吸収スペクトル及びプロトン核磁気共
鳴スペクトルをそれぞれ第４図及び第５図に示す。
チル(1b)の赤外線吸収スペクトル及びプロトン核磁気共
鳴スペクトルをそれぞれ第４図及び第５図に示す。
沸点７５℃／１．５mmHg 〔α〕Ｄ ２３−１５．１°(c＝0.470,CHCl3) 元素分析(C10H20O3) 赤外線吸収スペクトル(neat) (+)-(1a)と同じ。１ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3) (+)-(1a)と同じ。
参考例 以下に(-)-インビクトライド(b)の合成例を挙げる。
(+)-２，４−ジメチル−３−テトラヒドロピラニルオキ
シ−１−ヘプタノール(7)の合成 (+)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ル２００mg（１．０６mmol）をテトラヒドロフラン４ml
に溶解し、これにジヒドロピラン１３４mg（１．５９mm
ol）及びピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート１mg
を加え、常温にて一晩反応させた。ＴＬＣから原料が未
だ残存していることが認められたので、更に、ピリジニ
ウム−ｐ−トルエンスルホネート５mg及び塩化メチレン
３mlを加え、室温にて一晩反応させた。これをエーテル
抽出して、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで、食
塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濾
過、濃縮して、粗製(+)-２，４−ジメチル−３−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−１−ヘプタン酸メチル(6)３５
０mgを得た。
シ−１−ヘプタノール(7)の合成 (+)-３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルヘプタン酸メチ
ル２００mg（１．０６mmol）をテトラヒドロフラン４ml
に溶解し、これにジヒドロピラン１３４mg（１．５９mm
ol）及びピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート１mg
を加え、常温にて一晩反応させた。ＴＬＣから原料が未
だ残存していることが認められたので、更に、ピリジニ
ウム−ｐ−トルエンスルホネート５mg及び塩化メチレン
３mlを加え、室温にて一晩反応させた。これをエーテル
抽出して、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで、食
塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濾
過、濃縮して、粗製(+)-２，４−ジメチル−３−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−１−ヘプタン酸メチル(6)３５
０mgを得た。
この粗製反応生成物(6)３５０mgをエーテル３５mlに溶
解し、氷冷下に水素化リチウムアルミニウム８０mg
（２．１２mmol）を加えた。常温にて３時間反応させた
後、水０．１ml、１０％水酸化ナトリウム水溶液、次い
で、水０．３mlを加えた。析出物を濾過し、濃縮し、ク
ロマトグラフイー（ワコーゲルＣ−２００（１０ｇ）、
ヘキサン−エーテル）にて精製して、(+)-２，４−ジメ
チル−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−ヘプタノ
ール(7)２６０mg（収率９６．９％）を得た。
解し、氷冷下に水素化リチウムアルミニウム８０mg
（２．１２mmol）を加えた。常温にて３時間反応させた
後、水０．１ml、１０％水酸化ナトリウム水溶液、次い
で、水０．３mlを加えた。析出物を濾過し、濃縮し、ク
ロマトグラフイー（ワコーゲルＣ−２００（１０ｇ）、
ヘキサン−エーテル）にて精製して、(+)-２，４−ジメ
チル−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−ヘプタノ
ール(7)２６０mg（収率９６．９％）を得た。
２，４−ジメチル−１−ヨード−３−テトラヒドロピラ
ニルオキシヘプタン(9)の合成 前記化合物(7)２３０mg（０．９４３mmol）をピリジン
２mlに溶解し、氷冷下に塩化ｐ−トルエンスルホニル２
７０mg（１．４１mmol）を加えた。氷冷下に３時間反応
させた後、３℃にて一晩放置した。これを水中に投入
し、エーテルにて抽出し、このエーテル層を１Ｎ塩酸、
飽和硫酸銅水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
及び食塩水の順序にて洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。これを濾過、濃縮し、粗製トシレート(8)３３０m
gを得た。
ニルオキシヘプタン(9)の合成 前記化合物(7)２３０mg（０．９４３mmol）をピリジン
２mlに溶解し、氷冷下に塩化ｐ−トルエンスルホニル２
７０mg（１．４１mmol）を加えた。氷冷下に３時間反応
させた後、３℃にて一晩放置した。これを水中に投入
し、エーテルにて抽出し、このエーテル層を１Ｎ塩酸、
飽和硫酸銅水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
及び食塩水の順序にて洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。これを濾過、濃縮し、粗製トシレート(8)３３０m
gを得た。
この粗製トシレート(8)３３０mgを乾燥ジメチルホルム
アミド３mlに溶解し、炭酸水素ナトリウム１７０mg（２
mmol）とヨウ化ナトリウム２１２mg（１．４１mmol）を
加え、室温にて３日間、更に、５０〜６０℃の温度にて
１日間反応させた。この後、反応混合物を水中に投入
し、ベンゼン抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥した。これを濾過、濃縮し、クロマトグラフイ
ー（ワコ−ゲルＣ−２００（１０ｇ）、ヘキサン−エー
テル）にて精製して、２，４−ジメチル−ヨード−３−
テトラヒドロピラニルオキシヘプタン(9)１７０mg（(7)
からの収率５０．９％）を得た。
アミド３mlに溶解し、炭酸水素ナトリウム１７０mg（２
mmol）とヨウ化ナトリウム２１２mg（１．４１mmol）を
加え、室温にて３日間、更に、５０〜６０℃の温度にて
１日間反応させた。この後、反応混合物を水中に投入
し、ベンゼン抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥した。これを濾過、濃縮し、クロマトグラフイ
ー（ワコ−ゲルＣ−２００（１０ｇ）、ヘキサン−エー
テル）にて精製して、２，４−ジメチル−ヨード−３−
テトラヒドロピラニルオキシヘプタン(9)１７０mg（(7)
からの収率５０．９％）を得た。
１−（５′−テトラヒドロピラニルオキシ−２′，
４′，６′−トリメチルノナノイル）−２−ヒドロキシ
メチルピロジン(10)の合成 ジイソプロピルアミン１９９mg（１．９７mmol）を乾燥
テトラヒドロフラン２．５mlに溶解し、窒素雰囲気下に
ｎ−ブチルリチウム（１．６５Ｎヘキサン溶液）０．７
９５mlを１℃の温度にて滴下し、更に、１℃で４５分間
反応させた。これに(S)−(-)−プロリノールプロミオン
アミド６８．７mg（０．４３８mmol）及び乾燥テトラヒ
ドロフラン０．５mlを１℃で滴下し、室温にて１時間反
応させた。これに乾燥ヘキサメチルリン酸アミド０．２
ml（１．１５mmol）を滴下し、−１００℃に冷却した。
次に、(9)１１２mg（０．２９２mmol）を乾燥テトラヒ
ドロフラン０．５mlに溶解し、−１００℃で２分間で滴
下し、−１００℃で１１時間反応させた後、更に−８０
℃にて４日間放置した。これに水を加え、エーテルにて
抽出し、１Ｎ塩酸及び食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。濾過、濃縮した後、クロマトグラフ
イー（ワコーゲルＣ−２００（３ｇ）、ヘキサン−エー
テル−メタノール）にて精製して、(10)９７．０mg（収
率８６．６％）を得た。
４′，６′−トリメチルノナノイル）−２−ヒドロキシ
メチルピロジン(10)の合成 ジイソプロピルアミン１９９mg（１．９７mmol）を乾燥
テトラヒドロフラン２．５mlに溶解し、窒素雰囲気下に
ｎ−ブチルリチウム（１．６５Ｎヘキサン溶液）０．７
９５mlを１℃の温度にて滴下し、更に、１℃で４５分間
反応させた。これに(S)−(-)−プロリノールプロミオン
アミド６８．７mg（０．４３８mmol）及び乾燥テトラヒ
ドロフラン０．５mlを１℃で滴下し、室温にて１時間反
応させた。これに乾燥ヘキサメチルリン酸アミド０．２
ml（１．１５mmol）を滴下し、−１００℃に冷却した。
次に、(9)１１２mg（０．２９２mmol）を乾燥テトラヒ
ドロフラン０．５mlに溶解し、−１００℃で２分間で滴
下し、−１００℃で１１時間反応させた後、更に−８０
℃にて４日間放置した。これに水を加え、エーテルにて
抽出し、１Ｎ塩酸及び食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。濾過、濃縮した後、クロマトグラフ
イー（ワコーゲルＣ−２００（３ｇ）、ヘキサン−エー
テル−メタノール）にて精製して、(10)９７．０mg（収
率８６．６％）を得た。
(-)-インビトクライド(b)の合成 上記化合物(10)９０mg（０．２３４mmol）及び１Ｎ塩酸
を混合し、２時間還流させた。これにクロロホルムを加
え、室温にて１時間撹拌した後、クロロホルム層を分取
し、水層を更にクロロホルムにて抽出した。すべてのク
ロロホルム層を集め、これを硫酸マグネシウム上で乾燥
し、濾過、濃縮した。クロマトグラフイー（ワコーゲル
Ｃ−２００（２ｇ）、ヘキサン−エーテル）にて精製し
て、(-)-インビトクライド(b)２７．７mg（収率５９．
８％）を得た。
を混合し、２時間還流させた。これにクロロホルムを加
え、室温にて１時間撹拌した後、クロロホルム層を分取
し、水層を更にクロロホルムにて抽出した。すべてのク
ロロホルム層を集め、これを硫酸マグネシウム上で乾燥
し、濾過、濃縮した。クロマトグラフイー（ワコーゲル
Ｃ−２００（２ｇ）、ヘキサン−エーテル）にて精製し
て、(-)-インビトクライド(b)２７．７mg（収率５９．
８％）を得た。
元素分析(C12H22O2) 赤外線吸収スペクトル(neat) 2960(s),2930(s),2870(m),1740(s),1460(m),1380(m),13
30(w),1235(m),1195(s),1150(m),1120(m),1090(m),1020
(m),990(m),720(w).1 H−核磁気共鳴スペクトル（400MHz,CDCl3） 0.903(3H,t,J＝7.5Hz),0.914(3H,d,J＝6.8Hz),1.219(3
H,d,J＝6.8Hz),1.25-1.51(4H,m),1.65-1.74(3H,m),1.86
-2.05(1H,m),2.58-2.70(1H,m),3.900(1H,d,d→q,J＝2H
z,J＝10Hz).1 H−核磁気共鳴スペクトル（400MHz,C6D6) 0.456(3H,d,J＝6.8Hz),0.814(3H,d,J＝6.5Hz),0.870(3
H,t,J＝7.2Hz),0.989(1H,ddd,J＝7Hz,8Hz,13.5Hz),1.06
8-(3H,d,J＝7Hz),1.096-1.300(3H,m),1.318-1.443(3H,
m),1.508(1H,dddq,J＝7.5Hz,J＝7.5Hz,J＝10Hz,J＝7H
z),2.040(1H,ddq,J＝8Hz,J＝9Hz,J＝7Hz),3.442(1H,dd,
J＝0.8Hz,J＝10Hz).１３ Ｃ−核磁気共鳴スペクトル（100MHz,CDCl3） 12.349,14.164,16.622,17.697,20.465,28.436,32.558,3
3.693,35.484,36.140,85.737,176.682. ガスクロマトグラフイー（Carbowax20M,0.2mm x25m,120
℃→140℃，３℃／min.,He0.7ml/min.） Rt9.66min.（98.2％），ジアステレオマー9.1min.（1.5
％），10.1min.（0.3％）． 〔α〕Ｄ ２７−105°(c＝0.29,CHCl3)（液体クロマトグ
ラフイー分取前はαＤ ２７−88.4°(c＝0.925,CHCl3) (+)-インビトクライド(b)の合成 (-)-(1b)を用いることによつて、同様にして、(-)-イン
ビトクライド(b)を得た。
30(w),1235(m),1195(s),1150(m),1120(m),1090(m),1020
(m),990(m),720(w).1 H−核磁気共鳴スペクトル（400MHz,CDCl3） 0.903(3H,t,J＝7.5Hz),0.914(3H,d,J＝6.8Hz),1.219(3
H,d,J＝6.8Hz),1.25-1.51(4H,m),1.65-1.74(3H,m),1.86
-2.05(1H,m),2.58-2.70(1H,m),3.900(1H,d,d→q,J＝2H
z,J＝10Hz).1 H−核磁気共鳴スペクトル（400MHz,C6D6) 0.456(3H,d,J＝6.8Hz),0.814(3H,d,J＝6.5Hz),0.870(3
H,t,J＝7.2Hz),0.989(1H,ddd,J＝7Hz,8Hz,13.5Hz),1.06
8-(3H,d,J＝7Hz),1.096-1.300(3H,m),1.318-1.443(3H,
m),1.508(1H,dddq,J＝7.5Hz,J＝7.5Hz,J＝10Hz,J＝7H
z),2.040(1H,ddq,J＝8Hz,J＝9Hz,J＝7Hz),3.442(1H,dd,
J＝0.8Hz,J＝10Hz).１３ Ｃ−核磁気共鳴スペクトル（100MHz,CDCl3） 12.349,14.164,16.622,17.697,20.465,28.436,32.558,3
3.693,35.484,36.140,85.737,176.682. ガスクロマトグラフイー（Carbowax20M,0.2mm x25m,120
℃→140℃，３℃／min.,He0.7ml/min.） Rt9.66min.（98.2％），ジアステレオマー9.1min.（1.5
％），10.1min.（0.3％）． 〔α〕Ｄ ２７−105°(c＝0.29,CHCl3)（液体クロマトグ
ラフイー分取前はαＤ ２７−88.4°(c＝0.925,CHCl3) (+)-インビトクライド(b)の合成 (-)-(1b)を用いることによつて、同様にして、(-)-イン
ビトクライド(b)を得た。
〔α〕Ｄ ２２＋101°(c＝0.615,CHCl3) 元素分析(C12H22O2)
第１図、第２図及び第３図は、それぞれ（2S,3S,4R)-
(+)-２，４−ジメチル−３−ヘプタン酸メチル(1a)の赤
外線吸収スペクトル、プロトン核磁気共鳴スペクトル及
び１３Ｃ核磁気共鳴スペクトルを示し、第４図及び第５
図は、それぞれ（2R,3R,4S)-(-)-２，４−ジメチル−３
−ヘプタン酸メチル(1b)の赤外線吸収スペクトル及びプ
ロトン核磁気共鳴スペクトルを示す。
(+)-２，４−ジメチル−３−ヘプタン酸メチル(1a)の赤
外線吸収スペクトル、プロトン核磁気共鳴スペクトル及
び１３Ｃ核磁気共鳴スペクトルを示し、第４図及び第５
図は、それぞれ（2R,3R,4S)-(-)-２，４−ジメチル−３
−ヘプタン酸メチル(1b)の赤外線吸収スペクトル及びプ
ロトン核磁気共鳴スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【請求項１】構造式 （但し、２，３及び４位の立体配置は、（2S,3S,4R）又
は（2R,3R,4S）である。） で表わされる光学活性ヒドロキシエステル。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61164417A JPH0645571B2 (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 新規光学活性ヒドロキシエステル |
| US07/222,673 US4864056A (en) | 1986-07-11 | 1988-07-21 | Optically active hydroxy esters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61164417A JPH0645571B2 (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 新規光学活性ヒドロキシエステル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6322055A JPS6322055A (ja) | 1988-01-29 |
| JPH0645571B2 true JPH0645571B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=15792751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61164417A Expired - Fee Related JPH0645571B2 (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 新規光学活性ヒドロキシエステル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4864056A (ja) |
| JP (1) | JPH0645571B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3227030B2 (ja) * | 1993-06-10 | 2001-11-12 | 日東電工株式会社 | 生理活性δ−ラクトンの合成方法 |
| GB0519171D0 (en) * | 2005-09-21 | 2005-10-26 | Givaudan Sa | Organic compounds |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP61164417A patent/JPH0645571B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-07-21 US US07/222,673 patent/US4864056A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔｒ．，ｖｏｌ．５５，Ｐ．２０９４６ｉ（１９６１） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4864056A (en) | 1989-09-05 |
| JPS6322055A (ja) | 1988-01-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |