JPH0645621A - 光検知装置 - Google Patents
光検知装置Info
- Publication number
- JPH0645621A JPH0645621A JP4217233A JP21723392A JPH0645621A JP H0645621 A JPH0645621 A JP H0645621A JP 4217233 A JP4217233 A JP 4217233A JP 21723392 A JP21723392 A JP 21723392A JP H0645621 A JPH0645621 A JP H0645621A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- magnetic field
- receiving layer
- carriers
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ノイズの少ない光検知装置を得る。
【構成】 光伝導型の受光素子の受光層に対し、電極間
を流れるキャリアのうち信号に寄与する少数キャリアが
ホール電界により上記受光層表面から遠ざかるように磁
場を印加する手段を備えた。 【効果】 キャリアの受光層表面での非発光再結合がな
くなり、信号ノイズを低減できる。
を流れるキャリアのうち信号に寄与する少数キャリアが
ホール電界により上記受光層表面から遠ざかるように磁
場を印加する手段を備えた。 【効果】 キャリアの受光層表面での非発光再結合がな
くなり、信号ノイズを低減できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は光検知装置に関し、と
くに信号ノイズを低減できる光検知装置に関するもので
ある。
くに信号ノイズを低減できる光検知装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】図5は従来の光伝導型の赤外線検知装置
の構造を示す斜視図である。図において、7はカドミウ
ムテルル(CdTe)基板である。カドミウム水銀テル
ル(CdHgTe)受光層6は基板7上に配置される。
受光層6上の素子両端部分には電極メタル5a,5bが
設けられ、各電極メタル5a,5bにはそれぞれリード
ワイヤ4a,4bが接続される。ここで、受光層の導伝
型はp型,n型のいずれであってもよいが、CdHgT
eでは十分なキャリア濃度のp型半導体層を得にくいの
で、一般にn型CdHgTeを受光層として用いてい
る。また、図6は図5の光伝導型赤外線検知装置の赤外
線検知動作を説明するための図である。
の構造を示す斜視図である。図において、7はカドミウ
ムテルル(CdTe)基板である。カドミウム水銀テル
ル(CdHgTe)受光層6は基板7上に配置される。
受光層6上の素子両端部分には電極メタル5a,5bが
設けられ、各電極メタル5a,5bにはそれぞれリード
ワイヤ4a,4bが接続される。ここで、受光層の導伝
型はp型,n型のいずれであってもよいが、CdHgT
eでは十分なキャリア濃度のp型半導体層を得にくいの
で、一般にn型CdHgTeを受光層として用いてい
る。また、図6は図5の光伝導型赤外線検知装置の赤外
線検知動作を説明するための図である。
【0003】次に動作について説明する。図6(a) に示
すように、リードワイヤ4a,4bを介して電極メタル
5a,5b間にバイアス電圧を印加し、この状態で赤外
線検知動作を行なう。ここで、この光伝導型赤外線検知
装置では、受光層6として、狭いバンドギャップ(0.1
〜0.2eV 程度)を有するCdHgTe等の化合物半導体
が用いられているので、図6(b) に示すように、これよ
りも大きなエネルギーを持つ赤外線10が入射すると、
受光層6中に過剰キャリア(図では正孔)が発生する。
この過剰キャリアによる素子の電気伝導度の変化を信号
として取り出すことにより、赤外線検知を行なうことが
できる。
すように、リードワイヤ4a,4bを介して電極メタル
5a,5b間にバイアス電圧を印加し、この状態で赤外
線検知動作を行なう。ここで、この光伝導型赤外線検知
装置では、受光層6として、狭いバンドギャップ(0.1
〜0.2eV 程度)を有するCdHgTe等の化合物半導体
が用いられているので、図6(b) に示すように、これよ
りも大きなエネルギーを持つ赤外線10が入射すると、
受光層6中に過剰キャリア(図では正孔)が発生する。
この過剰キャリアによる素子の電気伝導度の変化を信号
として取り出すことにより、赤外線検知を行なうことが
できる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の赤外線検知装置
は以上のように構成されているので、励起されたキャリ
アの一部が図6(b) 中の矢印11に示すように受光層表
面に達することにより、受光層表面で非発光再結合を起
こし、信号のノイズになるという問題点があった。
は以上のように構成されているので、励起されたキャリ
アの一部が図6(b) 中の矢印11に示すように受光層表
面に達することにより、受光層表面で非発光再結合を起
こし、信号のノイズになるという問題点があった。
【0005】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ノイズの少ない光検知装置を得
ることを目的とする。
ためになされたもので、ノイズの少ない光検知装置を得
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係る光検知装
置は、受光層に対し、上記電極間を流れるキャリアのう
ち信号に寄与する少数キャリアが一定の大きさのホール
電界により上記受光層表面から遠ざかるように静磁場を
印加するようにしたものである。
置は、受光層に対し、上記電極間を流れるキャリアのう
ち信号に寄与する少数キャリアが一定の大きさのホール
電界により上記受光層表面から遠ざかるように静磁場を
印加するようにしたものである。
【0007】また、この発明に係る光検知装置は、上記
静磁場に代えて、少数キャリアを受光層表面から遠ざけ
るホール電界の大きさが周期的に変化するように振動磁
場を印加するようにしたものである。
静磁場に代えて、少数キャリアを受光層表面から遠ざけ
るホール電界の大きさが周期的に変化するように振動磁
場を印加するようにしたものである。
【0008】
【作用】この発明においては、静磁場を印加することに
より、受光層内部で発生したキャリアのうち信号に寄与
する少数キャリアを表面から遠ざけるようにしたので、
キャリアの受光層表面での非発光再結合を抑えることが
でき、信号ノイズを低減できる。
より、受光層内部で発生したキャリアのうち信号に寄与
する少数キャリアを表面から遠ざけるようにしたので、
キャリアの受光層表面での非発光再結合を抑えることが
でき、信号ノイズを低減できる。
【0009】また、この発明においては、少数キャリア
を受光層表面から遠ざけるホール電界の大きさが周期的
に変化するように振動磁場を印加するようにしたので、
電気信号成分のみに上記振動磁場に対応した周波数を持
たせることができ、この周波数の信号のみを選択的に検
出することにより、周波数を持たないノイズ成分が除去
された信号を得ることができる。
を受光層表面から遠ざけるホール電界の大きさが周期的
に変化するように振動磁場を印加するようにしたので、
電気信号成分のみに上記振動磁場に対応した周波数を持
たせることができ、この周波数の信号のみを選択的に検
出することにより、周波数を持たないノイズ成分が除去
された信号を得ることができる。
【0010】
【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。 (実施例1)図1は本発明の第1の実施例による光検知
装置である赤外線検知装置を示す図であり、図におい
て、図4と同一符号は同一又は相当部分である。また1
は電流を流す方向、2は図示しない磁場印加手段により
印加される磁場の方向、3は電流と磁場のホール(Ha
ll)効果によって生ずる電界(ホール電界)の方向で
ある。
る。 (実施例1)図1は本発明の第1の実施例による光検知
装置である赤外線検知装置を示す図であり、図におい
て、図4と同一符号は同一又は相当部分である。また1
は電流を流す方向、2は図示しない磁場印加手段により
印加される磁場の方向、3は電流と磁場のホール(Ha
ll)効果によって生ずる電界(ホール電界)の方向で
ある。
【0011】図2は本実施例の動作を説明するための図
であり、図2(a) は磁場を印加しない状態での赤外線入
射時の様子、図2(b) は磁場を印加した状態での赤外線
入射時の様子をそれぞれ示す。図において、図1と同一
符号は同一又は相当部分であり、10は赤外線入射光で
ある。
であり、図2(a) は磁場を印加しない状態での赤外線入
射時の様子、図2(b) は磁場を印加した状態での赤外線
入射時の様子をそれぞれ示す。図において、図1と同一
符号は同一又は相当部分であり、10は赤外線入射光で
ある。
【0012】従来例と同様、リードワイヤ4a,4bを
介して電極メタル5a,5b間にバイアス電圧を印加
し、この状態で赤外線検知動作を行なう。受光層6を構
成する材料のバンドギャップよりも大きなエネルギーを
持つ赤外線10が入射すると、受光層6中に過剰キャリ
ア(図では正孔)が発生する。図2(a) に示す、磁場を
印加しない状態では、発生したキャリアは、受光層6全
体に広がっている。従って、この状態では、図6(b) に
示したように、発生したキャリアの一部は受光層表面に
到達し、ここで非発光再結合を起こし、信号ノイズを発
生する。一方、本実施例では、図示しない磁場印加手段
により、矢印2に示す方向の磁場を印加しているので、
矢印3に示す方向のホール電界が発生し、受光層6中の
キャリアのうちの信号に寄与する少数キャリア(ここで
は正孔)はこのホール電界により、図2(b) に示すよう
に、受光層表面から遠ざけられる。
介して電極メタル5a,5b間にバイアス電圧を印加
し、この状態で赤外線検知動作を行なう。受光層6を構
成する材料のバンドギャップよりも大きなエネルギーを
持つ赤外線10が入射すると、受光層6中に過剰キャリ
ア(図では正孔)が発生する。図2(a) に示す、磁場を
印加しない状態では、発生したキャリアは、受光層6全
体に広がっている。従って、この状態では、図6(b) に
示したように、発生したキャリアの一部は受光層表面に
到達し、ここで非発光再結合を起こし、信号ノイズを発
生する。一方、本実施例では、図示しない磁場印加手段
により、矢印2に示す方向の磁場を印加しているので、
矢印3に示す方向のホール電界が発生し、受光層6中の
キャリアのうちの信号に寄与する少数キャリア(ここで
は正孔)はこのホール電界により、図2(b) に示すよう
に、受光層表面から遠ざけられる。
【0013】これにより、本実施例では、受光層表面に
到達して非発光再結合を起こすキャリアを大幅に低減す
ることができ、信号ノイズの少ない光検知装置を実現す
ることができる。
到達して非発光再結合を起こすキャリアを大幅に低減す
ることができ、信号ノイズの少ない光検知装置を実現す
ることができる。
【0014】(実施例2)図3(a) は本発明の第2の実
施例による光検知装置である赤外線検知装置を示す図で
あり、図において、図1と同一符号は同一又は相当部分
である。また2′は図示しない磁場印加手段により印加
される振動磁場の方向である。また図3(b) は図3(a)
で印加する振動磁場の大きさの変化の一例示す波形図で
あり、図3(c) は図3(b) に示す振動磁場を印加したと
きに検出される電圧信号を示す波形図である。
施例による光検知装置である赤外線検知装置を示す図で
あり、図において、図1と同一符号は同一又は相当部分
である。また2′は図示しない磁場印加手段により印加
される振動磁場の方向である。また図3(b) は図3(a)
で印加する振動磁場の大きさの変化の一例示す波形図で
あり、図3(c) は図3(b) に示す振動磁場を印加したと
きに検出される電圧信号を示す波形図である。
【0015】また、図4は本実施例の動作を説明するた
めの図であり、図4(a) は図3(b),(c) に示すt1 の
タイミングでの状態、図4(b) は図3(b) ,(c) に示す
t2のタイミングでの状態、図4(c) は図3(b) ,(c)
に示すt3 のタイミングでの状態をそれぞれ示す。な
お、図において、図2と同一符号は同一又は相当部分で
ある。
めの図であり、図4(a) は図3(b),(c) に示すt1 の
タイミングでの状態、図4(b) は図3(b) ,(c) に示す
t2のタイミングでの状態、図4(c) は図3(b) ,(c)
に示すt3 のタイミングでの状態をそれぞれ示す。な
お、図において、図2と同一符号は同一又は相当部分で
ある。
【0016】本実施例は上記第1の実施例と同様の構成
において、印加する磁場を振動磁場としたものである。
磁場の大きさが負であるときは、磁場の方向は上記第1
の実施例のときとは逆向きとなるため、t1 のタイミン
グでは図4(a) に示すように、ホール電界は少数キャリ
アを受光層表面に近づける向きに発生する。t2 のタイ
ミングでは磁場の大きさは0であるので、図4(b) に示
すようにキャリアは受光層全体に広がった状態となる。
t3 のタイミングでは第1の実施例のときと同じ向きの
ホール電界が発生し、図4(c) に示すように少数キャリ
アは受光層表面から遠ざけられる。ここで、図4(a) 及
び図4(c) の状態ではキャリアの層厚方向の広がりが小
さくなり、図4(b) の状態ではキャリアの層厚方向の広
がりが大きくなるので、検出される信号電圧は、図3
(c) に示すように図4(a) 及び図4(c) の状態(タイミ
ングt1 ,t3 )で高く、図4(b) の状態(タイミング
t2)で低くなる。振動磁場の印加により、図4(a) 〜
図4(c) の状態を繰り返すことにより、検出される信号
電圧が、振動磁場の周波数に対応した(振動磁場の2倍
の)周波数をもつこととなる。従って、ロックインアン
プ等を用いて振動磁場の2倍の周波数の信号のみを選択
して検出することにより、周波数を持たないノイズ成分
が除去された信号を得ることができる。
において、印加する磁場を振動磁場としたものである。
磁場の大きさが負であるときは、磁場の方向は上記第1
の実施例のときとは逆向きとなるため、t1 のタイミン
グでは図4(a) に示すように、ホール電界は少数キャリ
アを受光層表面に近づける向きに発生する。t2 のタイ
ミングでは磁場の大きさは0であるので、図4(b) に示
すようにキャリアは受光層全体に広がった状態となる。
t3 のタイミングでは第1の実施例のときと同じ向きの
ホール電界が発生し、図4(c) に示すように少数キャリ
アは受光層表面から遠ざけられる。ここで、図4(a) 及
び図4(c) の状態ではキャリアの層厚方向の広がりが小
さくなり、図4(b) の状態ではキャリアの層厚方向の広
がりが大きくなるので、検出される信号電圧は、図3
(c) に示すように図4(a) 及び図4(c) の状態(タイミ
ングt1 ,t3 )で高く、図4(b) の状態(タイミング
t2)で低くなる。振動磁場の印加により、図4(a) 〜
図4(c) の状態を繰り返すことにより、検出される信号
電圧が、振動磁場の周波数に対応した(振動磁場の2倍
の)周波数をもつこととなる。従って、ロックインアン
プ等を用いて振動磁場の2倍の周波数の信号のみを選択
して検出することにより、周波数を持たないノイズ成分
が除去された信号を得ることができる。
【0017】なお、上記第2の実施例では、印加する振
動磁場が、0を中心として正負の両側に変化する正弦波
形をもつものとしたが、印加する振動磁場の変化のしか
たはこれに限るものではなく、例えば、極小値が0とな
る正弦波形とした場合は、図4(b) と図4(c) の状態を
繰り返すことになるので、検出される信号電圧は振動磁
場の極大値で最も高く、極小値でもっとも低い、振動磁
場と同一の周波数の信号となる。従って、ロックインア
ンプ等を用いて振動磁場と同一の周波数の信号のみを選
択して検出することにより、上記と同様の効果を奏す
る。
動磁場が、0を中心として正負の両側に変化する正弦波
形をもつものとしたが、印加する振動磁場の変化のしか
たはこれに限るものではなく、例えば、極小値が0とな
る正弦波形とした場合は、図4(b) と図4(c) の状態を
繰り返すことになるので、検出される信号電圧は振動磁
場の極大値で最も高く、極小値でもっとも低い、振動磁
場と同一の周波数の信号となる。従って、ロックインア
ンプ等を用いて振動磁場と同一の周波数の信号のみを選
択して検出することにより、上記と同様の効果を奏す
る。
【0018】また、上記第1,第2の実施例はいずれも
受光層としてCdHgTeを用いた赤外線検知装置につ
いて示したが、受光層としてCdHgTeと異なるバン
ドギャップの材料を用いることにより、そのバンドギャ
ップに応じた光を検出できる光検出装置を作製できるこ
とは言うまでもない。
受光層としてCdHgTeを用いた赤外線検知装置につ
いて示したが、受光層としてCdHgTeと異なるバン
ドギャップの材料を用いることにより、そのバンドギャ
ップに応じた光を検出できる光検出装置を作製できるこ
とは言うまでもない。
【0019】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、静磁
場を印加することにより、受光層内部で発生したキャリ
アのうち信号に寄与する少数キャリアを表面から遠ざけ
るようにしたので、キャリアの受光層表面での非発光再
結合がなくなり、信号ノイズを低減できる効果がある。
場を印加することにより、受光層内部で発生したキャリ
アのうち信号に寄与する少数キャリアを表面から遠ざけ
るようにしたので、キャリアの受光層表面での非発光再
結合がなくなり、信号ノイズを低減できる効果がある。
【0020】また、この発明によれば、少数キャリアを
受光層表面から遠ざけるホール電界の大きさが周期的に
変化するように振動磁場を印加するようにしたので、電
気信号成分のみに上記振動磁場と同一周波数を持たせる
ことができ、この周波数の信号のみを選択的に検出する
ことにより、周波数を持たないノイズ成分が除去された
信号を得ることができる効果がある。
受光層表面から遠ざけるホール電界の大きさが周期的に
変化するように振動磁場を印加するようにしたので、電
気信号成分のみに上記振動磁場と同一周波数を持たせる
ことができ、この周波数の信号のみを選択的に検出する
ことにより、周波数を持たないノイズ成分が除去された
信号を得ることができる効果がある。
【図1】この発明の第1の実施例による光検知装置を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図2】図1の実施例の動作を説明するための図であ
る。
る。
【図3】この発明の第2の実施例による光検知装置を説
明するための図である。
明するための図である。
【図4】図3の実施例の動作を説明するための図であ
る。
る。
【図5】従来の光検知装置を示す斜視図である。
【図6】従来の光検知装置の動作を説明するための図で
ある。
ある。
1 電流注入方向 2 印加磁場方向 3 ホール電界の方向 4a,4b リードワイヤ 5a,5b 金属メタル 6 CdHgTe受光層 7 CdTe基板
Claims (3)
- 【請求項1】 光の入射によって増大するキャリアの量
に応じてその電気伝導度が変化する受光層と、該受光層
に電流を注入するための一対の電極とを有し、該受光層
の電気伝導度の変化を検知することにより光検知を行な
う光伝導型光検知装置において、 上記受光層に対し、上記電極間を流れるキャリアのうち
信号に寄与する少数キャリアがホール電界により上記受
光層表面から遠ざかるように磁場を印加する手段を備え
たことを特徴とする光検知装置。 - 【請求項2】 上記磁場印加手段は、上記ホール電界の
大きさが一定となる静磁場を発生するものであることを
特徴とする請求項1記載の光検知装置。 - 【請求項3】 上記磁場印加手段は、上記ホール電界の
大きさが周期的に変化する振動磁場を発生するものであ
ることを特徴とする請求項1記載の光検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4217233A JPH0645621A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 光検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4217233A JPH0645621A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 光検知装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0645621A true JPH0645621A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16700939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4217233A Pending JPH0645621A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 光検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645621A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114609808A (zh) * | 2020-12-08 | 2022-06-10 | 军事科学院系统工程研究院网络信息研究所 | 基于二维层状材料薄膜的芯片集成电光信号转换方法 |
-
1992
- 1992-07-22 JP JP4217233A patent/JPH0645621A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114609808A (zh) * | 2020-12-08 | 2022-06-10 | 军事科学院系统工程研究院网络信息研究所 | 基于二维层状材料薄膜的芯片集成电光信号转换方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4242695A (en) | Low dark current photo-semiconductor device | |
| JPS61120466A (ja) | 半導体光検出素子 | |
| US5047622A (en) | Long wavelength infrared detector with heterojunction | |
| US4649409A (en) | Photoelectric transducer element | |
| JPH0429372A (ja) | 半導体光検出装置 | |
| JPH0645621A (ja) | 光検知装置 | |
| KR20020005990A (ko) | 반도체 장치 | |
| JP2860028B2 (ja) | 紫外線検知装置及びその製造方法 | |
| Kolodny et al. | Two-dimensional effects in intrinsic photoconductive infrared detectors | |
| Paul et al. | A novel method of optical detection using a capacitive device | |
| US3466448A (en) | Double injection photodetector having n+-p-p+ | |
| JPS62293680A (ja) | 半導体放射線検出素子 | |
| JPH02241064A (ja) | 半導体受光素子 | |
| JP2860027B2 (ja) | 紫外線検知装置の製造方法 | |
| Todorovic et al. | Theory of photoacoustic effect in metal-semiconductor system | |
| JP2637476B2 (ja) | 半導体受光素子 | |
| SU1104607A1 (ru) | Координатно-чувствительный фоторезистор (его варианты) | |
| JPH0648732B2 (ja) | 光起電力型赤外線検知器 | |
| JPS5846069B2 (ja) | 赤外線用電荷転送装置 | |
| JPH0516537B2 (ja) | ||
| JPH0770745B2 (ja) | 光電変換半導体装置駆動方法 | |
| JPH0342878A (ja) | 半導体位置検出素子 | |
| JPH0472682A (ja) | 光電変換装置 | |
| JPS61185977A (ja) | 光検出器 | |
| JPS63305568A (ja) | 光検出器 |