JPH0516537B2 - - Google Patents
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- JPH0516537B2 JPH0516537B2 JP58182408A JP18240883A JPH0516537B2 JP H0516537 B2 JPH0516537 B2 JP H0516537B2 JP 58182408 A JP58182408 A JP 58182408A JP 18240883 A JP18240883 A JP 18240883A JP H0516537 B2 JPH0516537 B2 JP H0516537B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- drain
- capacitor
- sit
- source
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/21—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H10F30/28—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices being characterised by field-effect operation, e.g. junction field-effect phototransistors
- H10F30/285—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices being characterised by field-effect operation, e.g. junction field-effect phototransistors the devices having PN homojunction gates
- H10F30/2863—Field-effect phototransistors having PN homojunction gates
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は静電誘導トランジスタの光検出器及び
その信号検出に関するもので特に微弱光検出用に
使用されるものである。
その信号検出に関するもので特に微弱光検出用に
使用されるものである。
静電誘導トランジスタ(以下SITと云う)を用
いた光電変換装置は高感度、高速、という特徴が
あり、種々のデバイス構造が提案されているが、
その代表的構造は特許第1444883号(特公昭62−
50992号)、特開昭58−93386号に示されている。
このような種々な構造を有するSIT光電変換装置
の動作方法としては、SITのゲート部分にキヤパ
シタ領域を設け、光によつて発生されたキヤリア
のうちの一方をこのゲートキヤパシタ部分に蓄積
させ、ゲート部分の電位変化に併なうチヤンネル
部分の電位変化によつてSITのソース・ドレイン
間のインピーダンスが変化することから、ソー
ス・ドレイン間を流れる電流を検出する方法が最
も一般的なものとして、特開昭58−93386号に示
されている。ゲート部分にキヤパシタ領域を設け
る構造に対し、ソースもしくはドレイン領域にキ
ヤパシタ領域を設けるSIT光電変換装置の提案も
なされている。第1図、a,b,cにそれぞれ、
ドレイン、ソース、ゲート部分にキヤパシタ領域
を設けたSIT光電変換装置の例を示す。
いた光電変換装置は高感度、高速、という特徴が
あり、種々のデバイス構造が提案されているが、
その代表的構造は特許第1444883号(特公昭62−
50992号)、特開昭58−93386号に示されている。
このような種々な構造を有するSIT光電変換装置
の動作方法としては、SITのゲート部分にキヤパ
シタ領域を設け、光によつて発生されたキヤリア
のうちの一方をこのゲートキヤパシタ部分に蓄積
させ、ゲート部分の電位変化に併なうチヤンネル
部分の電位変化によつてSITのソース・ドレイン
間のインピーダンスが変化することから、ソー
ス・ドレイン間を流れる電流を検出する方法が最
も一般的なものとして、特開昭58−93386号に示
されている。ゲート部分にキヤパシタ領域を設け
る構造に対し、ソースもしくはドレイン領域にキ
ヤパシタ領域を設けるSIT光電変換装置の提案も
なされている。第1図、a,b,cにそれぞれ、
ドレイン、ソース、ゲート部分にキヤパシタ領域
を設けたSIT光電変換装置の例を示す。
第1図においてキヤパシタ1は光によつて発生
したキヤリアを光情膜として蓄積させる部分であ
り、aの例ではドレイン領域、bの例ではソース
領域、cの例ではゲート領域にキヤパシタ1が接
続されている。2は静電誘導トランジスタを示
し、3,4,5はそれぞれ、ゲート、ドレイン、
ソース端子を示す。第1図a,bの例では光出力
信号は端子4,5間の容量性結合電流を検出して
おり、第1図cの例では端子4,5間の直流電流
を検出する。本発明の先行例としては、第1図c
が最も近いため、更に第2図においてこの動作を
詳しく説明する。
したキヤリアを光情膜として蓄積させる部分であ
り、aの例ではドレイン領域、bの例ではソース
領域、cの例ではゲート領域にキヤパシタ1が接
続されている。2は静電誘導トランジスタを示
し、3,4,5はそれぞれ、ゲート、ドレイン、
ソース端子を示す。第1図a,bの例では光出力
信号は端子4,5間の容量性結合電流を検出して
おり、第1図cの例では端子4,5間の直流電流
を検出する。本発明の先行例としては、第1図c
が最も近いため、更に第2図においてこの動作を
詳しく説明する。
第2図は、本発明の先行例として最も近い動作
の静電誘導トランジスタを用いた光検出器の動作
説明図であり、第2図aはその動作回路、第2図
bは動作波形を示している。第2図aにおいて、
22は光検出用SITであり、23はゲートキヤパ
シタ(値をCGとする)21を介したゲート端子
を示し、24はドレイン端子であり、スイツチン
グ手段27を介して、負荷抵抗28及びドレイン
バイアス電圧29に接続されている。20は出力
端子である。25はソー端子であり、接地電位に
なされている。SITに光入力hν26が連続的に照
射される場合を考える。ゲートパルスφGが時刻t1
においてゲート端子23に印加されると、ゲート
キヤパシタ21の値CGとSITの入力インピーダン
スの容量性分割により、SIT22のゲート23′
に電圧が加わり、SIT22のゲート領域に蓄積さ
れたゲートの多数キヤリアをSIT22のチヤンネ
ルへ注入し、ゲートパルスφGが切れると、ゲー
トの電位は一定の負の電位レベル−Vgとなる。
この状態で光が照射されると、光によつて発生し
たキヤリアのうちゲートの多数キヤリアと同じ種
類のキヤリアはゲート部分23′に蓄積されるた
めゲートの電位は−Vgから正方向に上昇してく
る。その上昇の程度は光強度に依存し、第2図b
中のゲート電位の動作波形に示されるように、光
強度が強ければ強い程、初期ゲートレベルの−
Vgから短い時定数でOレベルに戻ることになる。
一定の時間(すなわち、これが光積分時間TLIに
相当するが)経過後、時刻t2において読み出しパ
ルスφSを読み出し用スイツチング素子に加える
と、負荷抵抗28を通してドレインバイアス電圧
29から読み出し信号電流が流れる。この電流は
SIT22のドレイン端子24とソース端子25を
流れる直流電流であり、SIT22の−特性そ
のものを反映した電流であり、ドレイン・ソース
間のインピーダンスが流れる直流電流の値を決定
している。一旦パルスφSによつて読み出した後
は、時刻tでゲートパルスφGを加えることによ
つてSIT22のゲート部分23′の電位を再び−
Vgのレベルに戻すことでリフレツシユが行なわ
れる。第2図の従来例の動作は光によつて発生し
たキヤリアのうちゲートと同一の多数キヤリアは
ゲート領域に蓄積されており、光信号の検出は
SIT22のドレイン・ソース間の直流電流を検出
する方式である。
の静電誘導トランジスタを用いた光検出器の動作
説明図であり、第2図aはその動作回路、第2図
bは動作波形を示している。第2図aにおいて、
22は光検出用SITであり、23はゲートキヤパ
シタ(値をCGとする)21を介したゲート端子
を示し、24はドレイン端子であり、スイツチン
グ手段27を介して、負荷抵抗28及びドレイン
バイアス電圧29に接続されている。20は出力
端子である。25はソー端子であり、接地電位に
なされている。SITに光入力hν26が連続的に照
射される場合を考える。ゲートパルスφGが時刻t1
においてゲート端子23に印加されると、ゲート
キヤパシタ21の値CGとSITの入力インピーダン
スの容量性分割により、SIT22のゲート23′
に電圧が加わり、SIT22のゲート領域に蓄積さ
れたゲートの多数キヤリアをSIT22のチヤンネ
ルへ注入し、ゲートパルスφGが切れると、ゲー
トの電位は一定の負の電位レベル−Vgとなる。
この状態で光が照射されると、光によつて発生し
たキヤリアのうちゲートの多数キヤリアと同じ種
類のキヤリアはゲート部分23′に蓄積されるた
めゲートの電位は−Vgから正方向に上昇してく
る。その上昇の程度は光強度に依存し、第2図b
中のゲート電位の動作波形に示されるように、光
強度が強ければ強い程、初期ゲートレベルの−
Vgから短い時定数でOレベルに戻ることになる。
一定の時間(すなわち、これが光積分時間TLIに
相当するが)経過後、時刻t2において読み出しパ
ルスφSを読み出し用スイツチング素子に加える
と、負荷抵抗28を通してドレインバイアス電圧
29から読み出し信号電流が流れる。この電流は
SIT22のドレイン端子24とソース端子25を
流れる直流電流であり、SIT22の−特性そ
のものを反映した電流であり、ドレイン・ソース
間のインピーダンスが流れる直流電流の値を決定
している。一旦パルスφSによつて読み出した後
は、時刻tでゲートパルスφGを加えることによ
つてSIT22のゲート部分23′の電位を再び−
Vgのレベルに戻すことでリフレツシユが行なわ
れる。第2図の従来例の動作は光によつて発生し
たキヤリアのうちゲートと同一の多数キヤリアは
ゲート領域に蓄積されており、光信号の検出は
SIT22のドレイン・ソース間の直流電流を検出
する方式である。
上述の如く第2図に示した方式は光情報として
のキヤリアをSIT22のゲートに蓄積させ、信号
検出はドレイン24、ソース25間を流れる直流
電流を検出する方式である。この直流電流は、ド
レインバイアス電圧29及び負荷抵抗28から決
まる負荷直線をSIT22のドレインバイアス電圧
とドレイン電流の関係を示す特性上にて引いた時
の交点で決まる動作点に従つて決定されるわけで
あり、この電流−電圧特性のゲート電圧に相当す
るパラメータを決定するものが、初期負バイアス
ゲート−Vgと光強度で決まるゲート電位の上昇
分である。しかるにこのような直流電流を検出す
る方式において、消費電力を低減させるためにダ
イナミツクなパルス動作を行なわせることは常套
的な手段であり、第2図が一例であつたわけであ
るが、本発明者らはここで新たな問題を見出し
た。これは、第2図のVoutの読み出し波形に示
されるような、スパイクが発生することである。
この原因はSIT22が内部容量として持つドレイ
ン・ソース間容量CDS90が光検出時間内におい
て放電するために起こることが確認された。この
CDS90の放電分が、読み出しパルスφSが入つた
ことで、電源29から負荷抵抗28を通して充電
されるため、スパイク状の充電電流成分がまず現
われて、その後SIT22のドレイン24、ソース
25間を流れる直流成分が現われるわけである。
このスパイク成分は特にSIT22が高インピーダ
ンス状態のときに顕著に現われる。このようなス
パイク成分は直流電流を検出するようなタイプの
光検出方式ではスパイクノイズとして作用し、出
力信号のS/Nに悪い影響を与える。このスパイ
ク成分の原因はSIT22を通してのCDS90の放
電にあつたわけであるが、スパイク成分を除去す
る手段としては、信号分が直流であることから、
低域通過フイルタを通すことで、分離することが
可能である。しかるに本発明者らは、このスパイ
ク成分の中味を分析し、ノーマリオン型SIT、
just−pinched−off SIT、ノーマリオフSIT等
の、種々な−特性を示すSITについて第2図
に示された従来型直流電流検出方式に与える影響
を調べた結果このスパイク成分が光強度依存性を
持つことを見出しSTI光検出器の新しい信号検出
方法となりうることを見出した。
のキヤリアをSIT22のゲートに蓄積させ、信号
検出はドレイン24、ソース25間を流れる直流
電流を検出する方式である。この直流電流は、ド
レインバイアス電圧29及び負荷抵抗28から決
まる負荷直線をSIT22のドレインバイアス電圧
とドレイン電流の関係を示す特性上にて引いた時
の交点で決まる動作点に従つて決定されるわけで
あり、この電流−電圧特性のゲート電圧に相当す
るパラメータを決定するものが、初期負バイアス
ゲート−Vgと光強度で決まるゲート電位の上昇
分である。しかるにこのような直流電流を検出す
る方式において、消費電力を低減させるためにダ
イナミツクなパルス動作を行なわせることは常套
的な手段であり、第2図が一例であつたわけであ
るが、本発明者らはここで新たな問題を見出し
た。これは、第2図のVoutの読み出し波形に示
されるような、スパイクが発生することである。
この原因はSIT22が内部容量として持つドレイ
ン・ソース間容量CDS90が光検出時間内におい
て放電するために起こることが確認された。この
CDS90の放電分が、読み出しパルスφSが入つた
ことで、電源29から負荷抵抗28を通して充電
されるため、スパイク状の充電電流成分がまず現
われて、その後SIT22のドレイン24、ソース
25間を流れる直流成分が現われるわけである。
このスパイク成分は特にSIT22が高インピーダ
ンス状態のときに顕著に現われる。このようなス
パイク成分は直流電流を検出するようなタイプの
光検出方式ではスパイクノイズとして作用し、出
力信号のS/Nに悪い影響を与える。このスパイ
ク成分の原因はSIT22を通してのCDS90の放
電にあつたわけであるが、スパイク成分を除去す
る手段としては、信号分が直流であることから、
低域通過フイルタを通すことで、分離することが
可能である。しかるに本発明者らは、このスパイ
ク成分の中味を分析し、ノーマリオン型SIT、
just−pinched−off SIT、ノーマリオフSIT等
の、種々な−特性を示すSITについて第2図
に示された従来型直流電流検出方式に与える影響
を調べた結果このスパイク成分が光強度依存性を
持つことを見出しSTI光検出器の新しい信号検出
方法となりうることを見出した。
本発明の目的の一つはSIT光検出器の信号読み
出し方法において従来型直流電流検出方式とは別
の新しい信号検出方法を提供することである。
出し方法において従来型直流電流検出方式とは別
の新しい信号検出方法を提供することである。
本発明の目的をさらに具体的に述べると、光検
出状態において、光情報が蓄積されるキヤパシタ
をSIT本体とは別のドレイン・ソース間キヤパシ
タとし、受光部分であるSITと光情報の蓄積部分
である上記キヤパシタを別にすることによつて、
光積分方式による微弱光検出、広ダイナミツクレ
ンジな光検出器を提供することである。
出状態において、光情報が蓄積されるキヤパシタ
をSIT本体とは別のドレイン・ソース間キヤパシ
タとし、受光部分であるSITと光情報の蓄積部分
である上記キヤパシタを別にすることによつて、
光積分方式による微弱光検出、広ダイナミツクレ
ンジな光検出器を提供することである。
上記目的以外に、本発明によるSIT光検出器の
信号読み出し方法を利用する簡単な構成の露出計
を提供することも本発明の目的の一つである。
信号読み出し方法を利用する簡単な構成の露出計
を提供することも本発明の目的の一つである。
更に上記のような目的を実現するためにドレイ
ン・ソース間に接続されるキヤパシタの値をデバ
イスの出力インピーダンスの容量性成分の値より
も大きく選ばれたことを特徴とするSIT光検出器
の構成そのものを提供することも目的の一つであ
る。
ン・ソース間に接続されるキヤパシタの値をデバ
イスの出力インピーダンスの容量性成分の値より
も大きく選ばれたことを特徴とするSIT光検出器
の構成そのものを提供することも目的の一つであ
る。
更にSITの出力特性に応じて適当なゲート抵
抗、ゲートバイアスの組み合わせ、もしくはゲー
トキヤパシタ、ゲートパルス印加手段の組み合わ
せからなるゲート回路を持つた上記記載のSIT光
検出器の構成を提供することも目的の一つであ
る。
抗、ゲートバイアスの組み合わせ、もしくはゲー
トキヤパシタ、ゲートパルス印加手段の組み合わ
せからなるゲート回路を持つた上記記載のSIT光
検出器の構成を提供することも目的の一つであ
る。
本発明の構成として<発明の目的>をどのよう
な技術手段で達成したかを概括的に述べる。SIT
に光が照射されると、主としてチヤンネル内の空
乏化された領域内において電子・正孔対が生成さ
れるが、このキヤリアのうち、ゲートの多数キヤ
リアと同一のキヤリアはゲートに蓄積され、他の
キヤリアはソースもしくはドレイン領域へ流れ去
る。ゲートに過剰に蓄積されたキヤリアはゲート
電位を上昇させるため、SITのチヤンネル内に暗
状態において生じていた電位障壁の高さを下げる
働きをする。チヤンネル内の電位障壁高さが下が
つてくると、SITのソース・ドレイン間のコンダ
クタンスが大きくなるから、光強度に応じた出力
電流が流れることになる。ここでもし、ドレイ
ン・ソース間に一定の値CSOの外部キヤパシタン
スが接続され、このキヤパシタンスに外部電源か
らスイツチ素子を介して一定の電圧を充電させた
状態を初期状態として、ここで光が照射されつづ
けたとすると、上述の如く、SIT内では、光によ
つて生じたキヤリアのうちの一方がゲート領域に
蓄積されて、チヤンネル中の電位障壁高さが低下
するため、SITのソース・ドレイン間のコンダク
タンスが上昇し、一旦CSOに充電された一定の電
圧の放電が始まる。放電電流はSITを通して流れ
るため、外部キヤパシタCSOの電圧低下分は、光
強度と光照射時間の関数となる。この光の効果に
より放電されたキヤパシタCSOへ、外部電源から
スイツチ素子を介して一定の電圧を再度、充電さ
せるときに流れる充電電流は、主としてCSOと負
荷抵抗RLの時定数をもつたスパインク状の電流
として外部負荷抵抗RLの両端で検出される。上
記の説明が、本発明に係るSIT光検出器の信号読
み出し方法の概要であるが、光検出素子としての
SITの特性によつて種々なゲート回路の構成が可
能である。例えば、光照射されない、暗状態にお
いて、零ゲートバイアス時のドレイン・ソース間
電流の流れが10-12A以下のSITにおいては、オー
プンゲート状態の二端子動作とするか、もしくは
一定のゲート抵抗RGを介してゲートに順方向の
バイアスを加え、光強度と照射時間に応じてチヤ
ンネル内の電位障壁高さを下げてやる動作とする
こともある。あるいは暗状態において、零ゲート
バイアス時のドレイン・ソース間電流の流れが
10-12〜10-8A程度のSITにおいては、オープンゲ
ート状態の二端子動作もしくは一定のゲート抵抗
RGをゲート端子と接地電位との間に短絡させる
こともある。また、暗状態において、零ゲートバ
イアス時のドレイン・ソース間電流の流れが
10-8A以上のSITにおいてはゲートには一定のゲ
ート抵抗を介して逆バイアス電圧を加え、光強度
と照射時間に応じてチヤンネル内の電位障壁高さ
を上げてやる動作とすることもある。またSITの
ゲートに外部キヤパシタを接続し、ゲートパルス
を一定の周期で加えて、ゲートに蓄積されるキヤ
リアをリフレツシユするような手段を備えた上記
SIT光検出器の構成とすることもある。さらに、
暗状態における出力を除去するために2つの特性
のそろつたSIT光検出器を並べ上記ゲートパルス
及びスイツチ素子の読み出しパルスのタイミング
を同期させ、一方にのみ光照射を加え互いの出力
スパイクの差信号を取り出すような構成部分を備
えた露出計を構成することもできる。
な技術手段で達成したかを概括的に述べる。SIT
に光が照射されると、主としてチヤンネル内の空
乏化された領域内において電子・正孔対が生成さ
れるが、このキヤリアのうち、ゲートの多数キヤ
リアと同一のキヤリアはゲートに蓄積され、他の
キヤリアはソースもしくはドレイン領域へ流れ去
る。ゲートに過剰に蓄積されたキヤリアはゲート
電位を上昇させるため、SITのチヤンネル内に暗
状態において生じていた電位障壁の高さを下げる
働きをする。チヤンネル内の電位障壁高さが下が
つてくると、SITのソース・ドレイン間のコンダ
クタンスが大きくなるから、光強度に応じた出力
電流が流れることになる。ここでもし、ドレイ
ン・ソース間に一定の値CSOの外部キヤパシタン
スが接続され、このキヤパシタンスに外部電源か
らスイツチ素子を介して一定の電圧を充電させた
状態を初期状態として、ここで光が照射されつづ
けたとすると、上述の如く、SIT内では、光によ
つて生じたキヤリアのうちの一方がゲート領域に
蓄積されて、チヤンネル中の電位障壁高さが低下
するため、SITのソース・ドレイン間のコンダク
タンスが上昇し、一旦CSOに充電された一定の電
圧の放電が始まる。放電電流はSITを通して流れ
るため、外部キヤパシタCSOの電圧低下分は、光
強度と光照射時間の関数となる。この光の効果に
より放電されたキヤパシタCSOへ、外部電源から
スイツチ素子を介して一定の電圧を再度、充電さ
せるときに流れる充電電流は、主としてCSOと負
荷抵抗RLの時定数をもつたスパインク状の電流
として外部負荷抵抗RLの両端で検出される。上
記の説明が、本発明に係るSIT光検出器の信号読
み出し方法の概要であるが、光検出素子としての
SITの特性によつて種々なゲート回路の構成が可
能である。例えば、光照射されない、暗状態にお
いて、零ゲートバイアス時のドレイン・ソース間
電流の流れが10-12A以下のSITにおいては、オー
プンゲート状態の二端子動作とするか、もしくは
一定のゲート抵抗RGを介してゲートに順方向の
バイアスを加え、光強度と照射時間に応じてチヤ
ンネル内の電位障壁高さを下げてやる動作とする
こともある。あるいは暗状態において、零ゲート
バイアス時のドレイン・ソース間電流の流れが
10-12〜10-8A程度のSITにおいては、オープンゲ
ート状態の二端子動作もしくは一定のゲート抵抗
RGをゲート端子と接地電位との間に短絡させる
こともある。また、暗状態において、零ゲートバ
イアス時のドレイン・ソース間電流の流れが
10-8A以上のSITにおいてはゲートには一定のゲ
ート抵抗を介して逆バイアス電圧を加え、光強度
と照射時間に応じてチヤンネル内の電位障壁高さ
を上げてやる動作とすることもある。またSITの
ゲートに外部キヤパシタを接続し、ゲートパルス
を一定の周期で加えて、ゲートに蓄積されるキヤ
リアをリフレツシユするような手段を備えた上記
SIT光検出器の構成とすることもある。さらに、
暗状態における出力を除去するために2つの特性
のそろつたSIT光検出器を並べ上記ゲートパルス
及びスイツチ素子の読み出しパルスのタイミング
を同期させ、一方にのみ光照射を加え互いの出力
スパイクの差信号を取り出すような構成部分を備
えた露出計を構成することもできる。
以下図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。第3図は本発明の実施例を示す。第3図aに
おいてSIT32は平面ゲート構造のSITであり、
n+基板301はドレイン、n+領域304はソー
ス領域である。p+ゲート領域303にはゲート
電極33、ゲート負荷抵抗290を介して逆バイ
アス電圧280が加えられている。チヤンネル領
域302はn-(p-、i)の高抵抗領域であり、主
としてこの部分の空乏層内において、光入力hν
36によつてキヤリアが発生する。ソース端子3
5及びドレイン端子34間には外部ドレイン・ソ
ース間キヤパシタCSO300が接続されており、
ドレイン端子34はスイツチ用MOSトランジス
タ37を介して負荷抵抗RL38及びドレインバ
イアス電源39に接続されている。第3図bは第
3図aのSITのドレイン領域301とソース領域
304を逆にした倒立型構成のSITを用いる例で
ある。すなわち、第3図bにおいてn+領域30
1はソース領域であり、n+領域304はドレイ
ン領域となつている。他の各部分は第3図aと同
様である。第3図a,bにおいて光はともにデバ
イスの表面側に照射されているため、第3図aの
正立型SITでは特にp+(303)n-(302)n+(301)接
合からなるpinダイオードの受光感度が大きく
SITの光検出に寄与し、第3図bの倒立型SITで
は、特にp+(303)n-(302)n+(304)接合からな
るpinダイオードの受光感度が大きくSITの光検
出に寄与している。第3図a,bに示した平面ゲ
ート構造のSIT32は、一例であつて、他の埋め
込みゲート構造のSIT、切り込みゲート構造の
SITであつても良い。チヤンネル内の電位障壁を
制御するためのゲートの少なくとも一部分がpn
接合ゲートで形成されているSITであれば縦型で
も横型構造であつても良く、また正立動作でも、
倒立動作でも本発明の一般性は失なわれない。第
3図bの倒立動作では、表面n+領域304がド
レイン領域として動作するため、ドレインバイア
ス電圧39の効果で、p+ゲート303とn+ドレ
イン304の近傍側の空乏層幅が正立時に比べ広
がつており、実質的な短波長感度の上昇の割合が
大きいと云える。
る。第3図は本発明の実施例を示す。第3図aに
おいてSIT32は平面ゲート構造のSITであり、
n+基板301はドレイン、n+領域304はソー
ス領域である。p+ゲート領域303にはゲート
電極33、ゲート負荷抵抗290を介して逆バイ
アス電圧280が加えられている。チヤンネル領
域302はn-(p-、i)の高抵抗領域であり、主
としてこの部分の空乏層内において、光入力hν
36によつてキヤリアが発生する。ソース端子3
5及びドレイン端子34間には外部ドレイン・ソ
ース間キヤパシタCSO300が接続されており、
ドレイン端子34はスイツチ用MOSトランジス
タ37を介して負荷抵抗RL38及びドレインバ
イアス電源39に接続されている。第3図bは第
3図aのSITのドレイン領域301とソース領域
304を逆にした倒立型構成のSITを用いる例で
ある。すなわち、第3図bにおいてn+領域30
1はソース領域であり、n+領域304はドレイ
ン領域となつている。他の各部分は第3図aと同
様である。第3図a,bにおいて光はともにデバ
イスの表面側に照射されているため、第3図aの
正立型SITでは特にp+(303)n-(302)n+(301)接
合からなるpinダイオードの受光感度が大きく
SITの光検出に寄与し、第3図bの倒立型SITで
は、特にp+(303)n-(302)n+(304)接合からな
るpinダイオードの受光感度が大きくSITの光検
出に寄与している。第3図a,bに示した平面ゲ
ート構造のSIT32は、一例であつて、他の埋め
込みゲート構造のSIT、切り込みゲート構造の
SITであつても良い。チヤンネル内の電位障壁を
制御するためのゲートの少なくとも一部分がpn
接合ゲートで形成されているSITであれば縦型で
も横型構造であつても良く、また正立動作でも、
倒立動作でも本発明の一般性は失なわれない。第
3図bの倒立動作では、表面n+領域304がド
レイン領域として動作するため、ドレインバイア
ス電圧39の効果で、p+ゲート303とn+ドレ
イン304の近傍側の空乏層幅が正立時に比べ広
がつており、実質的な短波長感度の上昇の割合が
大きいと云える。
次に第3図bの動作方法を例にして、第3図c
を参照しながら本発明のSIT光検出器の信号読み
出し方法について説明する。第3図cには第3図
bに示したものと同じ動作回路と、暗状態及び光
検出状態におけるSIT部分のチヤンネル内のソー
ス・ドレイン方向で切つた面と、その面に垂直な
ゲート部分を横に切つた面内における充満帯と伝
導帯のバンド構造の様子が示されている。点線A
が光検状態のバンド構造であり、実線Bが暗状態
のバンド構造に対応している。点線Aの光検出状
態におけるn+領域304の伝導帯のレベルと、
実線Bに示した暗状態における伝導帯のレベルの
差Cは、本発明のSIT光検出器の特徴である外部
ドレイン・ソース間容量CSO300が放電した電
圧に対応している。第3図cにおいて容量CSO3
00の放電電流はIch、充電電流はIdcで示されて
いる。まず初期状態として、容量CSO300がス
イツチング素子37の導通により一定電圧が充電
された状態から考える。このときのSITの表面n+
領域304はCSO300が充電されていることか
ら、基板n+領域301に比べて、CSO300の充
電電圧に相当した正のバイアス電圧がかかつた状
態となつている。SIT内部のバンド構造は実線に
示された通りである。SITのゲートには負荷抵抗
290を介して逆バイアス電圧280が印加され
ている例であるから、そのバイアス回路で決まる
分だけチヤンネル内の電位障壁高さは持ち上がつ
ている。このような初期状態から光hν36が照
射されると、チヤンネル内の空乏化されている部
分で、光励起による電子・正孔対が生成される。
第3図cにおいて白丸(〇)が正孔、黒丸(●)
が電子を示している。表面n+領域304に正の
バイアス電圧が加わるという例であるから表面側
に空乏層領域が広がつている様子が示されてい
る。ここで発生した電子・正孔対のうち電子は主
として表面n+領域304と基板n+領域301に
蓄積されるが、正孔は、チヤンネル内のSITの真
性ゲートG※近傍に蓄積されるのではなくて、ゲ
ート領域303に蓄積されることになる。ゲート
回路へ流入して行く正孔電流をIpphとして示し
てある。このゲート回路へ流入する正孔電流Ipp
hによつて、ゲート抵抗RGの両端でRGIpphなる
電圧変化が生じ、従つて、ゲートの電位変化を生
じせしめることになり、点線で示されるようにゲ
ート部分及びチヤンネル部分のバンド構造が変化
する、このことは、ソース・ドレイン方向で見る
と、n+領域301からチヤンネルへ電位障壁を
越えて注入される電子の数が圧倒的にゲート領域
303からソース301へ拡散する正孔の数に比
べて大きくなることを意味する。これは、ソース
301から見た電位障壁高さはゲート303の電
位変化によつて追随して変わるため、わずかな電
位障壁高さの低下も圧倒的な注入電子数の増加に
つながるのに対して、ゲート領域303からソー
ス領域301へ正孔が拡散するには、(ゲート3
03とソース301の間の拡散電位)+(ゲートバ
イアスによる上昇分)という高い電位障壁が存在
するからである。一旦、チヤンネルへ電位障壁を
越えて注入された電子は、n+領域304へ向け
てドリフト走行し、n+領域304に蓄積される
ことになる。n+領域304にはキヤパシタCSOが
存在するから従つてn+領域304の電位も上昇
し、光検出時を示す点線Aのようなバンド構造に
移行する。このことは一旦充電されたCSO300
が放電することを意味しており、従つて、再度ス
イツチ用MOSトランジスタ37をゲートパルス
φSによつて導通させるとCSO300の再充電が行
なわれ、電源39から負荷抵抗38を通してCSO
300の充電電流Ichが流れる。このときソー
ス・ドレイン方向のチヤンネルのバンド構造も再
び実線Bのようになり、出力信号は負荷抵抗38
の両端の電圧スパイクとして検出されるわけであ
る。読み出し信号の時定数は負荷抵抗RL38と
CSO300の積R C程度であり、一方、ゲート
に流入する正孔の失われる時定数は、ゲートの負
荷抵抗RG290とゲートの持つ内部容量の程度
である。もしゲートがオープン状態である場合に
は、ゲートの持つ内部容量と、内部のリーク抵抗
にて決まる時定数となる。
を参照しながら本発明のSIT光検出器の信号読み
出し方法について説明する。第3図cには第3図
bに示したものと同じ動作回路と、暗状態及び光
検出状態におけるSIT部分のチヤンネル内のソー
ス・ドレイン方向で切つた面と、その面に垂直な
ゲート部分を横に切つた面内における充満帯と伝
導帯のバンド構造の様子が示されている。点線A
が光検状態のバンド構造であり、実線Bが暗状態
のバンド構造に対応している。点線Aの光検出状
態におけるn+領域304の伝導帯のレベルと、
実線Bに示した暗状態における伝導帯のレベルの
差Cは、本発明のSIT光検出器の特徴である外部
ドレイン・ソース間容量CSO300が放電した電
圧に対応している。第3図cにおいて容量CSO3
00の放電電流はIch、充電電流はIdcで示されて
いる。まず初期状態として、容量CSO300がス
イツチング素子37の導通により一定電圧が充電
された状態から考える。このときのSITの表面n+
領域304はCSO300が充電されていることか
ら、基板n+領域301に比べて、CSO300の充
電電圧に相当した正のバイアス電圧がかかつた状
態となつている。SIT内部のバンド構造は実線に
示された通りである。SITのゲートには負荷抵抗
290を介して逆バイアス電圧280が印加され
ている例であるから、そのバイアス回路で決まる
分だけチヤンネル内の電位障壁高さは持ち上がつ
ている。このような初期状態から光hν36が照
射されると、チヤンネル内の空乏化されている部
分で、光励起による電子・正孔対が生成される。
第3図cにおいて白丸(〇)が正孔、黒丸(●)
が電子を示している。表面n+領域304に正の
バイアス電圧が加わるという例であるから表面側
に空乏層領域が広がつている様子が示されてい
る。ここで発生した電子・正孔対のうち電子は主
として表面n+領域304と基板n+領域301に
蓄積されるが、正孔は、チヤンネル内のSITの真
性ゲートG※近傍に蓄積されるのではなくて、ゲ
ート領域303に蓄積されることになる。ゲート
回路へ流入して行く正孔電流をIpphとして示し
てある。このゲート回路へ流入する正孔電流Ipp
hによつて、ゲート抵抗RGの両端でRGIpphなる
電圧変化が生じ、従つて、ゲートの電位変化を生
じせしめることになり、点線で示されるようにゲ
ート部分及びチヤンネル部分のバンド構造が変化
する、このことは、ソース・ドレイン方向で見る
と、n+領域301からチヤンネルへ電位障壁を
越えて注入される電子の数が圧倒的にゲート領域
303からソース301へ拡散する正孔の数に比
べて大きくなることを意味する。これは、ソース
301から見た電位障壁高さはゲート303の電
位変化によつて追随して変わるため、わずかな電
位障壁高さの低下も圧倒的な注入電子数の増加に
つながるのに対して、ゲート領域303からソー
ス領域301へ正孔が拡散するには、(ゲート3
03とソース301の間の拡散電位)+(ゲートバ
イアスによる上昇分)という高い電位障壁が存在
するからである。一旦、チヤンネルへ電位障壁を
越えて注入された電子は、n+領域304へ向け
てドリフト走行し、n+領域304に蓄積される
ことになる。n+領域304にはキヤパシタCSOが
存在するから従つてn+領域304の電位も上昇
し、光検出時を示す点線Aのようなバンド構造に
移行する。このことは一旦充電されたCSO300
が放電することを意味しており、従つて、再度ス
イツチ用MOSトランジスタ37をゲートパルス
φSによつて導通させるとCSO300の再充電が行
なわれ、電源39から負荷抵抗38を通してCSO
300の充電電流Ichが流れる。このときソー
ス・ドレイン方向のチヤンネルのバンド構造も再
び実線Bのようになり、出力信号は負荷抵抗38
の両端の電圧スパイクとして検出されるわけであ
る。読み出し信号の時定数は負荷抵抗RL38と
CSO300の積R C程度であり、一方、ゲート
に流入する正孔の失われる時定数は、ゲートの負
荷抵抗RG290とゲートの持つ内部容量の程度
である。もしゲートがオープン状態である場合に
は、ゲートの持つ内部容量と、内部のリーク抵抗
にて決まる時定数となる。
第3図cで説明した本発明によるSIT光検出器
の信号読み出し方法を用いると従来のバイポーラ
トランジスタに比べて特に1(μW/cm2)以下の
光に対して高感度、広ダイナミツクレンジな特性
が得られている。ドレイン・ソース間キヤパシタ
CSOの値としては、SIT内部のドレイン・ソース
間キヤパシタCdsの値では不十分であり、Cdsの10
倍以上であることが望ましいことが実験的に確認
されている。
の信号読み出し方法を用いると従来のバイポーラ
トランジスタに比べて特に1(μW/cm2)以下の
光に対して高感度、広ダイナミツクレンジな特性
が得られている。ドレイン・ソース間キヤパシタ
CSOの値としては、SIT内部のドレイン・ソース
間キヤパシタCdsの値では不十分であり、Cdsの10
倍以上であることが望ましいことが実験的に確認
されている。
以上の説明から明らかな如く、本発明による
SIT光検出器の信号読み出し方法は、SITの持つ
高相互コンダクタンス性を利用しており、微弱な
光を短時間照射するだけで、SITが反応してSIT
のソースから電子が注入されるというような特性
を利用して、受光部分と、その増幅された光信号
を蓄積するドレイン・ソース間キヤパシタ部分と
別々に構成されていることも大きな特徴である。
SITが高感度、高相互コンダクタンスであるが故
に、本発明のような光検出方法が、利点を発揮す
るのであつて、バイポーラトランジスタによる同
様の動作では、はるかに特性が悪い。データを示
しながらこのことは後述する。
SIT光検出器の信号読み出し方法は、SITの持つ
高相互コンダクタンス性を利用しており、微弱な
光を短時間照射するだけで、SITが反応してSIT
のソースから電子が注入されるというような特性
を利用して、受光部分と、その増幅された光信号
を蓄積するドレイン・ソース間キヤパシタ部分と
別々に構成されていることも大きな特徴である。
SITが高感度、高相互コンダクタンスであるが故
に、本発明のような光検出方法が、利点を発揮す
るのであつて、バイポーラトランジスタによる同
様の動作では、はるかに特性が悪い。データを示
しながらこのことは後述する。
第4図a乃至dには、本発明に係るSIT光検出
器の実施例として、考えられうる回路例を全て示
してある。第4図のSITは前述の如く、平面ゲー
トのSITであつても、埋め込みゲートのSITであ
つても、また切り込みゲートのSITであつても良
く、更に縦型でも横型でも良く、また正立動作で
も倒立動作であつてもよい。ソース・ドレイン間
のチヤンネル中に電流を制御する電位障壁が存在
し、その電位障壁高さがドレイン・ソース間電
圧、もしくはゲート電圧によつて制御され、ドレ
イン・ソース間電流は、ゲート電圧及びドレイ
ン・ソース間電圧に対して、主として指数関数的
変化をするデバイスであればよい。電位障壁高さ
を制御するゲートの構造はpn接合ゲートがゲー
トのうちの少なくとも一部分に存在すればよい。
例えば、分割ゲートのSITにおいて、片方のゲー
トはMISゲートとして、他方のゲートがpn接合
というふうにである。第4図aはゲート43がオ
ープン状態でのSIT42を受光素子としており、
光情報はキヤパシタ400にSIT42を通して流
れた放電量として蓄積される。キヤパシタ400
はドレイン端子44とソース端子45の間に接続
され、その値は、SIT42の出力インピーダンス
の容量性成分の値より10倍以上大きくとつてあ
る。スイツチ素子47を導通させることで、負荷
抵抗48の両端には電源49からのキヤパシタ4
00への充電電流が流れ、出力端子40において
信号が検出される。第8図、第9図において具体
的なデータとともに動作は詳しく説明する。
器の実施例として、考えられうる回路例を全て示
してある。第4図のSITは前述の如く、平面ゲー
トのSITであつても、埋め込みゲートのSITであ
つても、また切り込みゲートのSITであつても良
く、更に縦型でも横型でも良く、また正立動作で
も倒立動作であつてもよい。ソース・ドレイン間
のチヤンネル中に電流を制御する電位障壁が存在
し、その電位障壁高さがドレイン・ソース間電
圧、もしくはゲート電圧によつて制御され、ドレ
イン・ソース間電流は、ゲート電圧及びドレイ
ン・ソース間電圧に対して、主として指数関数的
変化をするデバイスであればよい。電位障壁高さ
を制御するゲートの構造はpn接合ゲートがゲー
トのうちの少なくとも一部分に存在すればよい。
例えば、分割ゲートのSITにおいて、片方のゲー
トはMISゲートとして、他方のゲートがpn接合
というふうにである。第4図aはゲート43がオ
ープン状態でのSIT42を受光素子としており、
光情報はキヤパシタ400にSIT42を通して流
れた放電量として蓄積される。キヤパシタ400
はドレイン端子44とソース端子45の間に接続
され、その値は、SIT42の出力インピーダンス
の容量性成分の値より10倍以上大きくとつてあ
る。スイツチ素子47を導通させることで、負荷
抵抗48の両端には電源49からのキヤパシタ4
00への充電電流が流れ、出力端子40において
信号が検出される。第8図、第9図において具体
的なデータとともに動作は詳しく説明する。
第4図bはSIT42のゲート端子にゲート容量
41を接続した回路例であり、端子43から、ゲ
ートパルスφGを印加することで、SITのゲート部
分に過剰に蓄積されている光情報としてのキヤリ
アをリフレツシユする機能が備わつている。キヤ
パシタ400の放電量を検出する動作は第4図a
と同様であるが、ゲートパルスφGとスイツチ素
子47のゲートパルスφSのタイミングによつて、
高速な動作を行なわせることが可能である。第6
図において、具体的な動作は説明する。
41を接続した回路例であり、端子43から、ゲ
ートパルスφGを印加することで、SITのゲート部
分に過剰に蓄積されている光情報としてのキヤリ
アをリフレツシユする機能が備わつている。キヤ
パシタ400の放電量を検出する動作は第4図a
と同様であるが、ゲートパルスφGとスイツチ素
子47のゲートパルスφSのタイミングによつて、
高速な動作を行なわせることが可能である。第6
図において、具体的な動作は説明する。
第4図cはSIT42のゲート端子43に負荷抵
抗402及び逆バイアス電圧403を印加する例
であり、キヤパシタ400の放電量を検出する点
は第4図aと同様である。二端子の動作となつて
いる。第5図において具体的動作は説明する。
抗402及び逆バイアス電圧403を印加する例
であり、キヤパシタ400の放電量を検出する点
は第4図aと同様である。二端子の動作となつて
いる。第5図において具体的動作は説明する。
第4図dはSIT42のゲート端子43に負荷抵
抗402及び順方向バイアス電圧404を印加す
る例であり、キヤパシタ400の放電量を検出す
る点は第4図aと同様である。第4図a,cと同
様の二端子動作となつている。
抗402及び順方向バイアス電圧404を印加す
る例であり、キヤパシタ400の放電量を検出す
る点は第4図aと同様である。第4図a,cと同
様の二端子動作となつている。
第4図a乃至dに用いられるSITは、特性上、
暗状態において、ゲートバイアス零Vの時に、ド
レイン・ソース間に流れる電流値を目安として選
ぶことができる。ゲートオープン状態で使用する
第4図aの回路に用いるSITとして、上記電流値
は10-8A以下であることが望ましい。これは通常
ノーマリオフのSITと呼ばれる。もしも10-8A以
上流れるSTIを第4図aの回路で動作させたとす
ると、出力信号の中に暗状態で流れるドレイン・
ソース間電流の影響を反映する光疑似信号が含ま
れることになり、この場合には第4図cのような
動作回路を用いた方がよい。あるいは第4図bの
動作回路を用いることもできる。すなわちゲート
パルスφGの効果で、ゲート領域を負に帯電させ
た状態をリフレツシユ状態とすることで、10-8A
以下に零ゲートバイアス時に流れる電流値を押え
るわけである。従つて、第4図cは10-8A以上の
電流値を目安とすることで選ぶことができる。一
方、第4図dはゲート43に順方向バイアス10
4を加える例であるが、ゲート43に加わる順方
向電圧は、0.1〜0.8V程度の範囲に含まれる。上
記の電流値の目安としては10-12A程度であり、
10-12A以下の場合には、順方向バイアスは、ゲ
ート43の点で0.1〜0.8Vの範囲に含まれている。
暗状態において、ゲートバイアス零Vの時に、ド
レイン・ソース間に流れる電流値を目安として選
ぶことができる。ゲートオープン状態で使用する
第4図aの回路に用いるSITとして、上記電流値
は10-8A以下であることが望ましい。これは通常
ノーマリオフのSITと呼ばれる。もしも10-8A以
上流れるSTIを第4図aの回路で動作させたとす
ると、出力信号の中に暗状態で流れるドレイン・
ソース間電流の影響を反映する光疑似信号が含ま
れることになり、この場合には第4図cのような
動作回路を用いた方がよい。あるいは第4図bの
動作回路を用いることもできる。すなわちゲート
パルスφGの効果で、ゲート領域を負に帯電させ
た状態をリフレツシユ状態とすることで、10-8A
以下に零ゲートバイアス時に流れる電流値を押え
るわけである。従つて、第4図cは10-8A以上の
電流値を目安とすることで選ぶことができる。一
方、第4図dはゲート43に順方向バイアス10
4を加える例であるが、ゲート43に加わる順方
向電圧は、0.1〜0.8V程度の範囲に含まれる。上
記の電流値の目安としては10-12A程度であり、
10-12A以下の場合には、順方向バイアスは、ゲ
ート43の点で0.1〜0.8Vの範囲に含まれている。
第5図は、第3図において説明した実施例及び
動作原理をもとに、第4図cの動作回路を用いた
具体的動作を説明する図面である。第5図aは動
作回路を示し、SIT52のドレイン54、ソース
55間には光情報蓄積用キヤパシタCSO500が
接続されており、スイツチ素子57のゲートパル
スφSのオン・オフによつてキヤパシタCSO500
の充電を電源VDD59から負荷抵抗RL58を通し
て行なうことで出力信号Voutを得ている。ゲー
ト端子53には負荷抵抗502を介して逆バイア
ス電圧VG503が加えられており、これらによ
つて、暗状態で流れる電流を抑止している。光入
力hν56が連続光の場合を考える。読み出し動
作波形を第5図bに示す。第5図bにはスイツチ
素子57のゲートパルスφSのタイミングと、その
時に出力端子50に現れる出力信号が示されてい
る。ゲートパルスφSのタイミングの周期が光積分
時間TLTに対応している。第5図cはゲートパル
スφSと出力波形の拡大図を示す。φSの立上がり時
及び立下がり時に発生しているスパイクはスイツ
チ素子57のゲートと出力端子50間の容量を通
して現れる微分波形である。出力波形A,B,
C,Dはそれぞれ連続的に照射している光の強度
が弱い場合から、次第に強くなつた場合に対応し
ており、出力信号波形の時定数は負荷抵抗58の
値RLと蓄積用キヤパシタ500の値CSOの積程度
である。第5図の動作では、ゲートパルスφSの周
期を調節することで光積分時間TLIを調節してい
る。
動作原理をもとに、第4図cの動作回路を用いた
具体的動作を説明する図面である。第5図aは動
作回路を示し、SIT52のドレイン54、ソース
55間には光情報蓄積用キヤパシタCSO500が
接続されており、スイツチ素子57のゲートパル
スφSのオン・オフによつてキヤパシタCSO500
の充電を電源VDD59から負荷抵抗RL58を通し
て行なうことで出力信号Voutを得ている。ゲー
ト端子53には負荷抵抗502を介して逆バイア
ス電圧VG503が加えられており、これらによ
つて、暗状態で流れる電流を抑止している。光入
力hν56が連続光の場合を考える。読み出し動
作波形を第5図bに示す。第5図bにはスイツチ
素子57のゲートパルスφSのタイミングと、その
時に出力端子50に現れる出力信号が示されてい
る。ゲートパルスφSのタイミングの周期が光積分
時間TLTに対応している。第5図cはゲートパル
スφSと出力波形の拡大図を示す。φSの立上がり時
及び立下がり時に発生しているスパイクはスイツ
チ素子57のゲートと出力端子50間の容量を通
して現れる微分波形である。出力波形A,B,
C,Dはそれぞれ連続的に照射している光の強度
が弱い場合から、次第に強くなつた場合に対応し
ており、出力信号波形の時定数は負荷抵抗58の
値RLと蓄積用キヤパシタ500の値CSOの積程度
である。第5図の動作では、ゲートパルスφSの周
期を調節することで光積分時間TLIを調節してい
る。
第6図はSIT62のゲートにキヤパシタCG61
を接続し、ゲート端子63よりゲートパルスφG
を印加する機能を持つた動作を示している。SIT
62のドレイン64及びソース65間には光情報
蓄積用のキヤパシタCSO600が接続されており、
スイツチ素子67のゲートパルスφSのタイミング
で、電源69から負荷抵抗RL68を通して流れ
るCSO600の充電電流を検出している。ゲート
パルスφGをゲートキヤパシタ61を通してゲー
ト領域に加えることで、ゲート領域に蓄積された
光によつて発生したキヤリアをリフレツシユす
る。この状態を初期状態として光照射を行なうと
ゲートには再びキヤリアが蓄積されはじめ、ドレ
イン・ソース間のチヤンネル中の電位障壁の高さ
は、下がつてくる。ドレイン・ソース間のコンダ
クタンスが上がつてくるわけであり、CSO600
に溜つた電荷は放電を始める。次に一定の時間経
過後、スイツチ素子67のゲートパルスφSを加え
ると、電源VDD69より、CSO600へ充電電流が
流れる。この充電電流を出力端子60で検出した
波形の一例は第6図bにφG及びφSとともに示さ
れている通りである。この動作の場合、ゲートパ
ルスφGによりSIT62のゲートに蓄積されるキヤ
リアをリフレツシユする機能を具備しているた
め、リフレツシユのタイミングを速くすることで
高速読み出しができる。光積分時間TLIは第6図
bに示すようにゲートパルスφGとスイツチ素子
のゲートパルスφSの時間間隔で決定される。
を接続し、ゲート端子63よりゲートパルスφG
を印加する機能を持つた動作を示している。SIT
62のドレイン64及びソース65間には光情報
蓄積用のキヤパシタCSO600が接続されており、
スイツチ素子67のゲートパルスφSのタイミング
で、電源69から負荷抵抗RL68を通して流れ
るCSO600の充電電流を検出している。ゲート
パルスφGをゲートキヤパシタ61を通してゲー
ト領域に加えることで、ゲート領域に蓄積された
光によつて発生したキヤリアをリフレツシユす
る。この状態を初期状態として光照射を行なうと
ゲートには再びキヤリアが蓄積されはじめ、ドレ
イン・ソース間のチヤンネル中の電位障壁の高さ
は、下がつてくる。ドレイン・ソース間のコンダ
クタンスが上がつてくるわけであり、CSO600
に溜つた電荷は放電を始める。次に一定の時間経
過後、スイツチ素子67のゲートパルスφSを加え
ると、電源VDD69より、CSO600へ充電電流が
流れる。この充電電流を出力端子60で検出した
波形の一例は第6図bにφG及びφSとともに示さ
れている通りである。この動作の場合、ゲートパ
ルスφGによりSIT62のゲートに蓄積されるキヤ
リアをリフレツシユする機能を具備しているた
め、リフレツシユのタイミングを速くすることで
高速読み出しができる。光積分時間TLIは第6図
bに示すようにゲートパルスφGとスイツチ素子
のゲートパルスφSの時間間隔で決定される。
第7図は、第4図b及び第6図において説明し
たような、SITのゲート部分にキヤパシタを設
け、ゲートに蓄積されたキヤリアをリフレツシユ
する機能を具備した本発明に係るSIT光検出器の
信号読み出し時に、光信号分に含まれる暗電流信
号成分を除去するための信号読み出し回路の一例
である。特性の同じSIT72及び82を並べ、値
の同じドレイン74,84、ソース75,85間
キヤパシタCSO700,800を接続し、ゲート
キヤパシタ71及び81の値も等しく選び、スイ
ツチ素子77及び87も同じ特性のものが接続さ
れている。更に負荷抵抗78,88も同一の値、
ドレインバイアス電圧79及び89も同一の値に
選ばれている。直流成分除去用のコンデンサ91
及び92もほぼ等しい値に選ばれている。90の
点線部分に示されたSIT光検出器は光入力hνを受
光する役割を持ち、別のSIT光検出器部分には光
を遮蔽するためにシヤツタ等が設けられている。
これら特性の揃つたSIT光検出器を並べておくこ
とで、一方は光を検出し、他方は内部から発生す
る雑音等のみを出力するようにしてある。一方、
キヤパシタ71及び81に加えるべきリフレツシ
ユ用ゲートパルスφGは、共通のゲート端子73
から両者同時に加えられるようになされており、
信号読み出し用スイツチMOSトランジスタ77
及び87のゲートパルスφSも同時に両者に加えら
れるようになされている。従つて、φG及びφSに
よつて発生されるスイツチングスパイク等のノイ
ズ分は、差動増幅器900の出力端子1000に
おいては除去されることになる。第7図に示され
たSIT光検出器の個々の動作は第6図と同様であ
り、またキヤパシタCSO700,800の値も
SIT72,82の持つ内部ドレイン・ソース間キ
ヤパシタの値の10倍以上に選ばれることが望まし
い。
たような、SITのゲート部分にキヤパシタを設
け、ゲートに蓄積されたキヤリアをリフレツシユ
する機能を具備した本発明に係るSIT光検出器の
信号読み出し時に、光信号分に含まれる暗電流信
号成分を除去するための信号読み出し回路の一例
である。特性の同じSIT72及び82を並べ、値
の同じドレイン74,84、ソース75,85間
キヤパシタCSO700,800を接続し、ゲート
キヤパシタ71及び81の値も等しく選び、スイ
ツチ素子77及び87も同じ特性のものが接続さ
れている。更に負荷抵抗78,88も同一の値、
ドレインバイアス電圧79及び89も同一の値に
選ばれている。直流成分除去用のコンデンサ91
及び92もほぼ等しい値に選ばれている。90の
点線部分に示されたSIT光検出器は光入力hνを受
光する役割を持ち、別のSIT光検出器部分には光
を遮蔽するためにシヤツタ等が設けられている。
これら特性の揃つたSIT光検出器を並べておくこ
とで、一方は光を検出し、他方は内部から発生す
る雑音等のみを出力するようにしてある。一方、
キヤパシタ71及び81に加えるべきリフレツシ
ユ用ゲートパルスφGは、共通のゲート端子73
から両者同時に加えられるようになされており、
信号読み出し用スイツチMOSトランジスタ77
及び87のゲートパルスφSも同時に両者に加えら
れるようになされている。従つて、φG及びφSに
よつて発生されるスイツチングスパイク等のノイ
ズ分は、差動増幅器900の出力端子1000に
おいては除去されることになる。第7図に示され
たSIT光検出器の個々の動作は第6図と同様であ
り、またキヤパシタCSO700,800の値も
SIT72,82の持つ内部ドレイン・ソース間キ
ヤパシタの値の10倍以上に選ばれることが望まし
い。
本発明に係るSIT光検出器の信号読み出し方法
を、具体的に行なわせた場合の実験結果の一例を
第8図及び第9図に示す。
を、具体的に行なわせた場合の実験結果の一例を
第8図及び第9図に示す。
SITの構造は第3図a中に示した平面ゲートの
SITでありn-層302の厚さは約5μm、不純物密
度は2〜3×1013cm-3であり、p+ゲート303の
間隔はマスク上で6μmである。p+ゲート303
の拡散深さは3μmであり、不純物密度は1×1019
cm- 3以上で、ボロンの拡散源を用いている。全体
のデバイス寸法は50μm×50μmであり、ソース
の全長は120μmである。このような構造のSITの
ドレイン・ソース間にCSOなるキヤパシタを接続
し、スイツチMOSトランジスタを介して負荷抵
抗1kΩ及びバイアス電源1Vに接続してある。こ
のSITは、暗状態において、室温で、零ゲートバ
イアス時にドレイン・ソース間には3.6×10-8(A)
の電流が検出される。このSITを第4図aにおい
て示したオープンゲート状態で光検出させた例が
第8図である。第8図の縦軸は暗出力電圧を差引
いた出力電圧であり、横軸は光強度を示してい
る。パラメータとして、光積分時間TLI及びドレ
イン・ソース間に接続したキヤパシタCSOをそれ
ぞれTLI=20μsec、1msec、5msec及びCSO=
OpF(内部容量のみ)、10pF、100pFの値で選ばれ
ている。実験に用いたSITの出力インピーダンス
の容量性成分は10pF以下である。第8図から明
らかなように、本発明に係るSIT光検出器の信号
検出方法ではCSO100pFの方がCSO=OpFもしく
は10pFの結果よりも微弱光感度が良好であり、
またダイナミツクレンジも広い。
SITでありn-層302の厚さは約5μm、不純物密
度は2〜3×1013cm-3であり、p+ゲート303の
間隔はマスク上で6μmである。p+ゲート303
の拡散深さは3μmであり、不純物密度は1×1019
cm- 3以上で、ボロンの拡散源を用いている。全体
のデバイス寸法は50μm×50μmであり、ソース
の全長は120μmである。このような構造のSITの
ドレイン・ソース間にCSOなるキヤパシタを接続
し、スイツチMOSトランジスタを介して負荷抵
抗1kΩ及びバイアス電源1Vに接続してある。こ
のSITは、暗状態において、室温で、零ゲートバ
イアス時にドレイン・ソース間には3.6×10-8(A)
の電流が検出される。このSITを第4図aにおい
て示したオープンゲート状態で光検出させた例が
第8図である。第8図の縦軸は暗出力電圧を差引
いた出力電圧であり、横軸は光強度を示してい
る。パラメータとして、光積分時間TLI及びドレ
イン・ソース間に接続したキヤパシタCSOをそれ
ぞれTLI=20μsec、1msec、5msec及びCSO=
OpF(内部容量のみ)、10pF、100pFの値で選ばれ
ている。実験に用いたSITの出力インピーダンス
の容量性成分は10pF以下である。第8図から明
らかなように、本発明に係るSIT光検出器の信号
検出方法ではCSO100pFの方がCSO=OpFもしく
は10pFの結果よりも微弱光感度が良好であり、
またダイナミツクレンジも広い。
第9図は、本発明に係るSIT光検出器の信号検
出方法を、同一寸法のバイポーラトランジスタと
SITで比較した例である。SITは第8図のSITと
同一である。ドレイン・ソース間に接続したキヤ
パシタCSOの値としては100pFと1000pFの二通り
で比較した。SITの方が微弱光感度が明らかに良
好であり、ダイナミツクレンジも広い。第9図か
ら明らかな如く本発明に係る信号検出方法は、単
純に従来のバイポーラトランジスタに応用するこ
ともできるが、SIT光検出器において、応用した
方が、遥かに効果の上がる信号検出方法である。
出方法を、同一寸法のバイポーラトランジスタと
SITで比較した例である。SITは第8図のSITと
同一である。ドレイン・ソース間に接続したキヤ
パシタCSOの値としては100pFと1000pFの二通り
で比較した。SITの方が微弱光感度が明らかに良
好であり、ダイナミツクレンジも広い。第9図か
ら明らかな如く本発明に係る信号検出方法は、単
純に従来のバイポーラトランジスタに応用するこ
ともできるが、SIT光検出器において、応用した
方が、遥かに効果の上がる信号検出方法である。
本発明は、微弱光検出に向き、また高ダイナミ
ツクレンジな光検出方法をSIT光検出器において
見出したものであり、露出計、原子吸光分析装
置、あるいは星の光の検出等への応用分野があ
る。本発明に係るSIT光検出器の材質はSi、Ge
のみならず、GaAs、InP、InGaAsP等の−
族の二元系、三元系、四元系の化合物半導体を用
いてもよいことは勿論である。また光検出部分の
SITは、縦型、横型、正立型、倒立型のいずれで
も良く、ゲートの構造も、一部分にチヤンネルの
電位を制御するためのpn接合ゲートを含んでい
る限り、平面ゲート、切り込みゲート、埋め込み
ゲート、MISゲートのいずれでもよいことも、勿
論である。
ツクレンジな光検出方法をSIT光検出器において
見出したものであり、露出計、原子吸光分析装
置、あるいは星の光の検出等への応用分野があ
る。本発明に係るSIT光検出器の材質はSi、Ge
のみならず、GaAs、InP、InGaAsP等の−
族の二元系、三元系、四元系の化合物半導体を用
いてもよいことは勿論である。また光検出部分の
SITは、縦型、横型、正立型、倒立型のいずれで
も良く、ゲートの構造も、一部分にチヤンネルの
電位を制御するためのpn接合ゲートを含んでい
る限り、平面ゲート、切り込みゲート、埋め込み
ゲート、MISゲートのいずれでもよいことも、勿
論である。
第1図a乃至cは従来のSIT光検出器のSIT部
分の回路例で、aはドレインにコンデンサがある
例、bはソースにコンデンサがある例、cはゲー
トにコンデンサを持つ例、第2図は従来のSIT光
検出器の信号読み出し方法の具体例であり、aは
動作回路、bは動作波形を示し、本発明に最も関
連があるものについての説明図、第3図は本発明
の実施例をa,bに示し、cは動作原理の説明
図、第4図は本発明の実施例に係る回路であり、
aはゲートオープン状態の場合、bはゲートにキ
ヤパシタを有する場合、cはゲートに負荷抵抗と
逆バイアス電圧を有する場合、dはゲートに負荷
抵抗と順バイアス電圧を有する場合、第5図は第
4図cに示した動作回路の具体的動作をaは回
路、bは動作波形、cは出力波形の拡大波形を用
いて示したもの、第6図は第4図bに示した動作
回路の具体的動作をaは回路、bは動作波形を示
す図、第7図は本発明に係るSIT光検出器を用い
て差動出力を得るための回路の一例であり、露出
計等への応用に用いられるもの、第8図及び第9
図は本発明に係るSIT光検出器の実験結果を示す
図である。 30,40,50,60……出力端子、32,
42,52,62,72,82……SIT、33…
…ゲート電極、34……ドレイン端子もしくはソ
ース端子、35……ソース端子もしくはドレイン
端子、36,46,56,66,76……光入
力、37,47,57,67,77,87……ス
イツチ素子、38,48,58,68,78,8
8……負荷抵抗、39,49,59,69,7
9,89……ドレインバイアス電源、41,6
1,71,81……ゲートキヤパシタ、43,5
3,63,73……ゲート端子、44,54,6
4,74,84……ドレイン端子、45,55,
65,75,85……ソース端子、90……光を
受光する方のSIT光検出器、91,92……直流
除去用キヤパシタ、280,403,503……
逆方向ゲートバイアス電源、290,402,5
02……ゲート負荷抵抗、300,400,50
0,600,700,800……ドレイン・ソー
ス間に接続するキヤパシタ、301……n+基板
でドレインもしくはソース領域となる、302…
…n-(もしくはp-、τ)高抵抗チヤンネル、30
3……p+ゲート領域、304……n+ソース領域、
404……順方向ゲートバイアス電源、900…
…差動増幅器、1000……差動出力端子。
分の回路例で、aはドレインにコンデンサがある
例、bはソースにコンデンサがある例、cはゲー
トにコンデンサを持つ例、第2図は従来のSIT光
検出器の信号読み出し方法の具体例であり、aは
動作回路、bは動作波形を示し、本発明に最も関
連があるものについての説明図、第3図は本発明
の実施例をa,bに示し、cは動作原理の説明
図、第4図は本発明の実施例に係る回路であり、
aはゲートオープン状態の場合、bはゲートにキ
ヤパシタを有する場合、cはゲートに負荷抵抗と
逆バイアス電圧を有する場合、dはゲートに負荷
抵抗と順バイアス電圧を有する場合、第5図は第
4図cに示した動作回路の具体的動作をaは回
路、bは動作波形、cは出力波形の拡大波形を用
いて示したもの、第6図は第4図bに示した動作
回路の具体的動作をaは回路、bは動作波形を示
す図、第7図は本発明に係るSIT光検出器を用い
て差動出力を得るための回路の一例であり、露出
計等への応用に用いられるもの、第8図及び第9
図は本発明に係るSIT光検出器の実験結果を示す
図である。 30,40,50,60……出力端子、32,
42,52,62,72,82……SIT、33…
…ゲート電極、34……ドレイン端子もしくはソ
ース端子、35……ソース端子もしくはドレイン
端子、36,46,56,66,76……光入
力、37,47,57,67,77,87……ス
イツチ素子、38,48,58,68,78,8
8……負荷抵抗、39,49,59,69,7
9,89……ドレインバイアス電源、41,6
1,71,81……ゲートキヤパシタ、43,5
3,63,73……ゲート端子、44,54,6
4,74,84……ドレイン端子、45,55,
65,75,85……ソース端子、90……光を
受光する方のSIT光検出器、91,92……直流
除去用キヤパシタ、280,403,503……
逆方向ゲートバイアス電源、290,402,5
02……ゲート負荷抵抗、300,400,50
0,600,700,800……ドレイン・ソー
ス間に接続するキヤパシタ、301……n+基板
でドレインもしくはソース領域となる、302…
…n-(もしくはp-、τ)高抵抗チヤンネル、30
3……p+ゲート領域、304……n+ソース領域、
404……順方向ゲートバイアス電源、900…
…差動増幅器、1000……差動出力端子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 静電誘導トランジスタのドレイン・ソース間
にキヤパシタが接続され、前記キヤパシタの値は
前記静電誘導トランジスタの出力インピーダンス
の容量成分よりも大きく選ばれ、ソースは接地電
位になされ、かつドレインはスイツチ素子を介し
て出力端子に接続され、前記出力端子には負荷抵
抗を介して接地電位との間にドレインバイアス電
圧が印加されているようになされたことを特徴と
する光検出器。 2 前記静電誘導トランジスタのゲートは浮遊電
位となされていることを特徴とする前記特許請求
の範囲第1項記載の光検出器。 3 前記静電誘導トランジスタのゲートに負荷抵
抗を介して順方向の一定ゲートバイアス電圧が印
加されているようになされていることを特徴とす
る前記特許請求の範囲第1項記載の光検出器。 4 前記静電誘導トランジスタのゲートに負荷抵
抗を介して逆方向の一定ゲートバイアス電圧が印
加されているようになされていることを特徴とす
る前記特許請求の範囲第1項記載の光検出器。 5 前記静電誘導トランジスタのゲートはキヤパ
シタを介してゲートパルス印加手段に接続されて
いることを特徴とする前記特許請求の範囲第1項
記載の光検出器。 6 前記ドレイン・ソース間に接続されるキヤパ
シタの値が、前記静電誘導トランジスタの出力イ
ンピーダンスの容量性成分の値の10倍以上になさ
れていることを特徴とする前記特許請求の範囲第
1項記載の光検出器。 7 前記特許請求の範囲第1項乃至第6項のいず
れか一項に記載の光検出器において、該静電誘導
トランジスタのドレイン・ソース間に接続された
キヤパシタの放電量を、ドレインに接続されたス
イツチ素子を介して再充電することによつて検出
することを特徴とする光検出器。 8 特性の同じ二つの静電誘導トランジスタの一
方は光を検出するための窓を有し、他方は光を遮
蔽するための手段を有し、両静電誘導トランジス
タのゲートには同じ値のゲートキヤパシタが接続
され、このキヤパシタを介して両静電誘導トラン
ジスタのゲートは、ゲートパルスφGの印加手段
に共通に接続されており、両静電誘導トランジス
タのドレイン端子は、各々、スイツチ素子を介し
て同じ値の負荷抵抗及びドレインバイアス電源に
接続されていて、かつ前記負荷抵抗の降下電圧は
同じ値の直流カツト用コンデンサを介して差動増
幅器入力され、前記二つの静電誘導トランジスタ
の光信号分と暗電流信号分の差信号が該差動増幅
器の出力端子に取り出されるようになされた構成
の光検出器において前記二つの静電誘導トランジ
スタのドレイン・ソース間には同じ値の光信号及
び暗電流信号の蓄積用キヤパシタが接続され、前
記キヤパシタの値は前記静電誘導トランジスタの
出力インピーダンスの容量成分よりも大きく選ば
れ、該信号の読み出しは二つのスイツチ素子のゲ
ートに同時にアドレスされる読み出しアドレスパ
レスのφSにより行われ、両静電誘導トランジスタ
のゲートに蓄積されるキヤリアのリフレツシユ動
作はφGによつて行われることを特徴とする光検
出器。 9 前記特許請求の範囲第8項記載の光検出器に
おいて、該静電誘導トランジスタのドレイン・ソ
ース間に接続されたキヤパシタの放電量を、ドレ
インに接続されたスイツチ素子を介して再充電す
ることによつて検出することを特徴とする光検出
器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182408A JPS6071920A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 光検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182408A JPS6071920A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 光検出器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6071920A JPS6071920A (ja) | 1985-04-23 |
| JPH0516537B2 true JPH0516537B2 (ja) | 1993-03-04 |
Family
ID=16117772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58182408A Granted JPS6071920A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 光検出器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6071920A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4462293B2 (ja) * | 2007-06-01 | 2010-05-12 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置、電子機器及び前記液晶表示装置の照光手段の明るさを制御する方法 |
| FR2983296B1 (fr) * | 2011-11-29 | 2013-12-27 | Soc Fr Detecteurs Infrarouges Sofradir | Dispositif de detection de rayonnement a etendue d'illumination amelioree |
| CN107615495B (zh) * | 2015-05-28 | 2019-05-03 | 日本电信电话株式会社 | 光接收元件和光学集成电路 |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP58182408A patent/JPS6071920A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6071920A (ja) | 1985-04-23 |
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