JPH0647233A - ハロゲン系排ガスの処理方法 - Google Patents
ハロゲン系排ガスの処理方法Info
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- JPH0647233A JPH0647233A JP4173739A JP17373992A JPH0647233A JP H0647233 A JPH0647233 A JP H0647233A JP 4173739 A JP4173739 A JP 4173739A JP 17373992 A JP17373992 A JP 17373992A JP H0647233 A JPH0647233 A JP H0647233A
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- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 title claims abstract description 19
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 title abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 abstract 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 abstract 1
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体製造工程のドライエッチング工程から
排出されるハロゲン系ガスからハロゲン及びハロゲン系
化合物を除去する方法を提供する。 【構成】 ４００mmφのアクリル製容器に、７〜１６メ
ッシュの平均孔径９Åのシリケートを５０mmの高さに充
填し、夫々１％の濃度のＳｉＦ4 ，Ｆ2 ，ＨＣｌ，Ｃｌ
2 ，ＨＢｒ，Ｂｒ2 ，ＣＣｌ4 を含有するＮ2 ガスを
０．３リットル／分の流速で流した。夫々のガスが破過
するまでの、シリケート１リットル当りのガスの流量
（ｌ）は、夫々１９，６０，４７，２０，５３，３１及
び１２リットルであった。 【効果】 平均孔径９Åのゼオライトは、上記ハロゲン
系ガスをまんべんなく吸着することができた。
排出されるハロゲン系ガスからハロゲン及びハロゲン系
化合物を除去する方法を提供する。 【構成】 ４００mmφのアクリル製容器に、７〜１６メ
ッシュの平均孔径９Åのシリケートを５０mmの高さに充
填し、夫々１％の濃度のＳｉＦ4 ，Ｆ2 ，ＨＣｌ，Ｃｌ
2 ，ＨＢｒ，Ｂｒ2 ，ＣＣｌ4 を含有するＮ2 ガスを
０．３リットル／分の流速で流した。夫々のガスが破過
するまでの、シリケート１リットル当りのガスの流量
（ｌ）は、夫々１９，６０，４７，２０，５３，３１及
び１２リットルであった。 【効果】 平均孔径９Åのゼオライトは、上記ハロゲン
系ガスをまんべんなく吸着することができた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン系化合物を含
有する排ガスの処理方法に係り、特に、半導体製造工業
におけるドライエッチング工程等から排出されるハロゲ
ン系化合物を含有する排ガス（以下、ハロゲン系排ガス
という）からハロゲンを除去して無害化する方法に関す
る。
有する排ガスの処理方法に係り、特に、半導体製造工業
におけるドライエッチング工程等から排出されるハロゲ
ン系化合物を含有する排ガス（以下、ハロゲン系排ガス
という）からハロゲンを除去して無害化する方法に関す
る。
【０００２】従来、半導体製造工程におけるドライエッ
チング工程から発生するハロゲン系排ガスの処理方法の
うち、吸着剤を用いる方法としては、活性炭を用いる方
法（特開昭５８−１２２０２５号公報）、アルカリ剤を
用いる方法（特開昭６２−４２７２７号公報）或いは活
性炭とゼオライト及び／又はアルミナとソーダライムを
組合わせたものを用いる方法（特開昭６２−２８９２２
２号公報）等が知られている。
チング工程から発生するハロゲン系排ガスの処理方法の
うち、吸着剤を用いる方法としては、活性炭を用いる方
法（特開昭５８−１２２０２５号公報）、アルカリ剤を
用いる方法（特開昭６２−４２７２７号公報）或いは活
性炭とゼオライト及び／又はアルミナとソーダライムを
組合わせたものを用いる方法（特開昭６２−２８９２２
２号公報）等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来法で用いられ
る吸着剤のうち、活性炭は各種成分をまんべんなく吸着
するので広く用いられているが、ＨＣｌやＳｉＦ4 等の
特定の成分については除去能力が低く、またアルカリ剤
はＣＯ2 等の共存成分により消耗されてしまい目的を充
分に果たせない。このため、活性炭にアルミナ及び／又
はゼオライトとソーダライムを組み合わせる方法が提案
されており、イオウ化合物や真空ポンプオイルを活性炭
で、フッ素化合物をアルミナ等で、塩化水素等をソーダ
ライムで除去すると言われているが、この方法では排ガ
ス組成に応じて３種類の処理剤の配合比を変更しなけれ
ば効果がなく、汎用的ではない。
る吸着剤のうち、活性炭は各種成分をまんべんなく吸着
するので広く用いられているが、ＨＣｌやＳｉＦ4 等の
特定の成分については除去能力が低く、またアルカリ剤
はＣＯ2 等の共存成分により消耗されてしまい目的を充
分に果たせない。このため、活性炭にアルミナ及び／又
はゼオライトとソーダライムを組み合わせる方法が提案
されており、イオウ化合物や真空ポンプオイルを活性炭
で、フッ素化合物をアルミナ等で、塩化水素等をソーダ
ライムで除去すると言われているが、この方法では排ガ
ス組成に応じて３種類の処理剤の配合比を変更しなけれ
ば効果がなく、汎用的ではない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、半導体製
造工程のエッチング工程から排出される排ガス中には主
としてハロゲン及びその誘導体が含まれているので、こ
れらの成分を除去しうる吸着剤について種々検討を行っ
たところ、９Å以上の平均孔径を有するゼオライトが該
エッチング工程で排出される排ガス中のハロゲン及びハ
ロゲン化合物を広く吸着しうることを見出だし、本発明
をなすに至った。
造工程のエッチング工程から排出される排ガス中には主
としてハロゲン及びその誘導体が含まれているので、こ
れらの成分を除去しうる吸着剤について種々検討を行っ
たところ、９Å以上の平均孔径を有するゼオライトが該
エッチング工程で排出される排ガス中のハロゲン及びハ
ロゲン化合物を広く吸着しうることを見出だし、本発明
をなすに至った。
【０００５】
【実施例】以下、本発明の実施例を記載するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０００６】実施例１及び比較例１〜４ ４０mmφのアクリル製容器に層高５０mmになるように処
理剤を充てんし、常温で、Ｎ2 ガスで希釈した表１に示
すハロゲン系ガスをそれぞれ０．３リットル／分の流速
で流した。入口ガス濃度はいずれも１％とした。出口側
で対象ガスが検出されるまで（許容濃度レベル）処理を
行い、それまでに導入した各ガスの容積と処理剤の充て
ん量から処理容量を求め比較した。処理剤はいずれも市
販品を用い、形状は粒状で粒径は７〜１６メッシュとし
た。結果を表１に示す。
理剤を充てんし、常温で、Ｎ2 ガスで希釈した表１に示
すハロゲン系ガスをそれぞれ０．３リットル／分の流速
で流した。入口ガス濃度はいずれも１％とした。出口側
で対象ガスが検出されるまで（許容濃度レベル）処理を
行い、それまでに導入した各ガスの容積と処理剤の充て
ん量から処理容量を求め比較した。処理剤はいずれも市
販品を用い、形状は粒状で粒径は７〜１６メッシュとし
た。結果を表１に示す。
【０００７】
【表１】
【０００８】表１に示されるように、活性炭は各種のガ
スを良く吸着するが、ＳｉＦ4 やＨＣｌの吸着量が小さ
く、消石灰はＢｒ2 やＣＣｌ4 は殆んど除去できず、ア
ルミナゲルはフッ素系ガスの除去にしか利用できない。
スを良く吸着するが、ＳｉＦ4 やＨＣｌの吸着量が小さ
く、消石灰はＢｒ2 やＣＣｌ4 は殆んど除去できず、ア
ルミナゲルはフッ素系ガスの除去にしか利用できない。
【０００９】これに対し、平均孔径９Å以上のゼオライ
トは活性炭よりも汎用性が大で１つの処理剤で各種のハ
ロゲン及びハロゲン化合物を含有しているガスからこれ
らのハロゲン及びハロゲン化合物を除去することができ
る。なお、同じゼオライトでも平均孔径４Åのものは表
１に示すハロゲン及びハロゲン化合物に対する吸着力が
小さく実用的ではない。
トは活性炭よりも汎用性が大で１つの処理剤で各種のハ
ロゲン及びハロゲン化合物を含有しているガスからこれ
らのハロゲン及びハロゲン化合物を除去することができ
る。なお、同じゼオライトでも平均孔径４Åのものは表
１に示すハロゲン及びハロゲン化合物に対する吸着力が
小さく実用的ではない。
【００１０】その理由は、平均孔径の小さいゼオライト
はハロゲン及びハロゲン化合物を物理的に吸着できず、
ゼオライト表面での吸着或いは反応が主体となるためこ
れらのガスの除去効率が悪いものと解される。
はハロゲン及びハロゲン化合物を物理的に吸着できず、
ゼオライト表面での吸着或いは反応が主体となるためこ
れらのガスの除去効率が悪いものと解される。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、性状の異なる複数のハ
ロゲン系ガスが同時に排出されてもいずれも有効に除去
でき、しかも処理容量が大きく、長時間にわたって処理
剤を交換する必要がない。
ロゲン系ガスが同時に排出されてもいずれも有効に除去
でき、しかも処理容量が大きく、長時間にわたって処理
剤を交換する必要がない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 洋一 東京都港区港南１丁目６番27号 荏原イン フィルコ株式会社内 (72)発明者 京谷 敬史 東京都港区港南１丁目６番27号 荏原イン フィルコ株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 ハロゲン系排ガスを平均孔径９Å以上の
ゼオライトに接触させることを特徴とするハロゲン系排
ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4173739A JPH0647233A (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | ハロゲン系排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4173739A JPH0647233A (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | ハロゲン系排ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0647233A true JPH0647233A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=15966233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4173739A Pending JPH0647233A (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | ハロゲン系排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0647233A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5720797A (en) * | 1996-12-18 | 1998-02-24 | Alliedsignal Inc. | Process for recovering sulfur hexafluoride |
| US5843208A (en) * | 1997-07-24 | 1998-12-01 | Alliedsignal Inc. | Process for recovering sulfur hexafluoride |
| JP2015502241A (ja) * | 2011-09-29 | 2015-01-22 | ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニーＪｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ Ｐｕｂｌｉｃｌｉｍｉｔｅｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 精製方法 |
| JP2015182927A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 住友精化株式会社 | 塩化水素精製方法および塩化水素精製装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61153190A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-11 | Kenkichi Murakami | 排水排気の浄化装置 |
| JPS63291624A (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 | Showa Denko Kk | ガリウム・ヒ素ウェハ−のドライエッチング排ガスの処理方法 |
-
1992
- 1992-06-09 JP JP4173739A patent/JPH0647233A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61153190A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-11 | Kenkichi Murakami | 排水排気の浄化装置 |
| JPS63291624A (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 | Showa Denko Kk | ガリウム・ヒ素ウェハ−のドライエッチング排ガスの処理方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5720797A (en) * | 1996-12-18 | 1998-02-24 | Alliedsignal Inc. | Process for recovering sulfur hexafluoride |
| US5843208A (en) * | 1997-07-24 | 1998-12-01 | Alliedsignal Inc. | Process for recovering sulfur hexafluoride |
| JP2015502241A (ja) * | 2011-09-29 | 2015-01-22 | ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニーＪｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ Ｐｕｂｌｉｃｌｉｍｉｔｅｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 精製方法 |
| US10252211B2 (en) | 2011-09-29 | 2019-04-09 | Johnson Matthey Public Limited Company | Purification process |
| JP2015182927A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 住友精化株式会社 | 塩化水素精製方法および塩化水素精製装置 |
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